Mam跳線膜層結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種電容觸摸屏的結構設計，更準確地說，尤其涉及一種電容觸摸屏的走線結構。
【背景技術】
[0002]電容觸摸屏金屬走線的保護工藝，包括全部的單面搭橋SITO和雙面走線DITO產(chǎn)品。SITO是Single ITO的簡稱。即菱型線路做法，XY軸都在玻璃的一面。DITO是Double ITO的簡稱。即兩面線路做法，XY軸分別布于玻璃上下兩層。但是金屬線裸露在空氣中，隨著時間的推移，觸摸屏功能逐漸失靈，一般做法是對金屬線進行顯影蝕刻?，F(xiàn)有電容屏的生產(chǎn)廠商的設計為:可視區(qū)(VA區(qū))為透明的氧化銦錫(ITO)，可視區(qū)以外的為金屬MAM走線，金屬線的線距越來越小，這種設計會產(chǎn)生如下問題，就是一旦金屬線斷開或者被劃傷就會產(chǎn)生廢品。而對金屬線進行蝕刻會加劇廢品的產(chǎn)生。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型提供一種MAM跳線膜層結構，要解決的技術問題在于該結構的連接及結構的設計。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是:所述膜層結構以玻璃基板為基礎，在玻璃基板上間隔的設有玻璃sensor圖案塊，兩塊玻璃sensor圖案塊之間通過設在其上方的MAM Jumper跨接，兩塊玻璃sensor圖案塊、MAM Jumper和玻璃基板圍成的空間填充為絕緣島，所述MAM Jumper上方和間隔填充有保護層，所述膜層結構的兩側在相對應的玻璃sensor圖案塊上分別設有導流的金屬走線。
[0005]進一步地，所述MAM Jumper均架在玻璃sensor圖案塊上方，且MAM Jumper的兩個觸點分別架在間隔的玻璃sensor圖案塊上。
[0006]進一步地，所述玻璃sensor圖案塊通過HCL和HN03來蝕刻圖案。
[0007]進一步地，所述MAMJumper和金屬走線通過H3P04和HN03蝕刻。
[0008]由上述對本實用新型結構的描述可知，和現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有如下優(yōu)點:本實用新型的設計使得即使金屬鉬鋁鉬走線有斷線的情況發(fā)生，其走線起到導通的作用，提高了產(chǎn)品的合格率，降低了金屬走線顯影蝕刻的工藝要求。
【附圖說明】
[0009]構成本申請的一部分的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型的不當限定。在附圖中:
[0010]圖1為本實用新型MAM跳線膜層結構的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011 ]以下結合附圖對本實用新型的實施例作進一步詳細說明。
[0012]第一實施例
[0013]參考圖1，MAM跳線膜層結構，膜層結構以玻璃基板I為基礎，在玻璃基板I上間隔的設有玻璃sensor圖案塊2，兩塊玻璃sensor圖案塊2之間通過設在其上方的MAM Jumper3跨接，兩塊玻璃sensor圖案塊2、MAM Jumper3和玻璃基板I圍成的空間填充為絕緣島4，MAMJumper3上方和間隔填充有保護層5，膜層結構的兩側在相對應的玻璃sensor圖案塊2上分別設有導流的金屬走線6。
[0014]MAM Jumper3均架在玻璃sensor圖案塊2上方，且MAM Jumper3的兩個觸點分別架在間隔的玻璃sensor圖案塊2上。
[0015]玻璃sensor圖案塊2通過HCL和HN03來蝕刻圖案。
[0016]MAM Jumper3和金屬走線6通過H3P04和HN03蝕刻。
[0017]以上僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.MAM跳線膜層結構，其特征在于:所述膜層結構以玻璃基板(I)為基礎，在玻璃基板(1)上間隔的設有玻璃sensor圖案塊(2)，兩塊玻璃sensor圖案塊(2)之間通過設在其上方的MAM Jumper(3)跨接，兩塊玻璃sensor圖案塊(2)、MAM Jumper(3)和玻璃基板(I)圍成的空間填充為絕緣島(4)，所述MAM Jumper(3)上方和間隔填充有保護層(5)，所述膜層結構的兩側在相對應的玻璃sensor圖案塊(2)上分別設有導流的金屬走線(6)。2.根據(jù)權利要求1所述的一種MAM跳線膜層結構，其特征在于:所述MAMJumper(3)均架在玻璃sensor圖案塊(2)上方，且MAM Jumper(3)的兩個觸點分別架在間隔的玻璃sensor圖案塊(2)上。3.根據(jù)權利要求1所述的一種MAM跳線膜層結構，其特征在于:所述玻璃sensor圖案塊(2)通過HCL和HN03來蝕刻圖案。4.根據(jù)權利要求1所述的一種MAM跳線膜層結構，其特征在于:所述MAMJumper(3)和金屬走線(6)通過H3P04和HN03蝕刻。
【專利摘要】本實用新型公開了MAM跳線膜層結構，其特征在于：所述膜層結構以玻璃基板為基礎，在玻璃基板上間隔的設有玻璃sensor圖案塊，兩塊玻璃sensor圖案塊之間通過設在其上方的MAM？Jumper跨接，兩塊玻璃sensor圖案塊、MAM？Jumper和玻璃基板圍成的空間填充為絕緣島，所述MAM？Jumper上方和間隔填充有保護層，所述膜層結構的兩側在相對應的玻璃sensor圖案塊上分別設有導流的金屬走線。本實用新型的設計使得即使金屬鉬鋁鉬走線有斷線的情況發(fā)生，其走線起到導通的作用，提高了產(chǎn)品的合格率，降低了金屬走線顯影蝕刻的工藝要求。
【IPC分類】G06F3/044
【公開號】CN205230011
【申請?zhí)枴緾N201521080471
【發(fā)明人】黃祖嘉
【申請人】莆田市佳創(chuàng)光電科技有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2015年12月23日