專利名稱：磁帶加工裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于用于信息記錄/重現(xiàn)的磁帶的技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及在磁帶的制造工藝中，制造即使高速輸送磁帶，也不會(huì)發(fā)生打滑，并且翹曲小的磁帶的磁帶加工裝置。
用于信息記錄/重現(xiàn)的磁帶，例如用于DAT或DDS的磁帶，基本上由PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)等膠片形成的基礎(chǔ)層，在基礎(chǔ)層的一面上形成的磁性體層，為了提高輸送穩(wěn)定性和強(qiáng)度而在基礎(chǔ)層的磁性體層的反面上形成的背層等構(gòu)成。
在這樣的磁帶制造工藝中，磁帶一面縱向輸送，一面進(jìn)行利用縱切剪機(jī)剪斷或利用托板刀刃清掃表面等各種處理，卷繞在輪芯等上成為盤狀或盒狀，然后送到下一工序或客戶處，但是近年來，為了提高生產(chǎn)率，在各工序(托板機(jī)或卷繞機(jī)等制造裝置)上都有使磁帶的輸送速度高速化的傾向。
磁帶的輸送一般是將磁帶卷掛在輸帶輥上，通過旋轉(zhuǎn)輸帶輥而進(jìn)行。
但是，如果提高磁帶的輸送速度，則有時(shí)會(huì)在托板機(jī)等制造裝置中卷入空氣，使磁帶在輸帶輥等處浮起來，由此而造成磁帶打滑，無法進(jìn)行正常的輸送。
其結(jié)果會(huì)造成的磁帶與輸帶輥、導(dǎo)輥、托板刀刃等相碰或者不適當(dāng)?shù)亟佑|，發(fā)生磁帶或磁帶邊緣折疊、磁性體層等磨損或剝離等磁帶的損傷，所得到的磁帶無法作為產(chǎn)品使用。另外，在磁帶的制造裝置中，根據(jù)需要而安裝有測(cè)定磁帶長度的輥(檢尺輥)，但如果磁帶在這里打滑，就會(huì)在磁帶長度的測(cè)定上產(chǎn)生誤差，從而造成無法進(jìn)行恰當(dāng)?shù)纳a(chǎn)管理的問題。
因此，為較好地適應(yīng)所要求的生產(chǎn)效率、而在制造磁帶時(shí)使磁帶輸送速度高速化就會(huì)變得困難。
另外，作為磁帶具有的其它的問題點(diǎn)，磁帶橫向的卷曲(彎曲)、即所謂的翹曲廣為人知。
翹曲主要是由磁性體層和背層上使用的粘合劑的收縮率的不同而產(chǎn)生的，如果發(fā)生翹曲，則作為產(chǎn)品的磁帶的外觀質(zhì)量就會(huì)降低，并有可能會(huì)造成磁帶與記錄頭或讀取頭的接觸不良，從而產(chǎn)生記錄誤差或讀取誤差。另外，會(huì)產(chǎn)生磁帶的邊緣容易造成損傷，耐久性降低等各種各樣的問題。
因此，本發(fā)明的目的即為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題而提供一種磁帶加工裝置，該裝置在托板機(jī)或卷繞機(jī)等磁帶制造裝置上，能夠穩(wěn)定地提供即使磁帶的輸送速度高速化，也不會(huì)在輸帶輥等處發(fā)生磁帶打滑，并且翹曲程度小的具有優(yōu)良特性的的磁帶。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種磁帶加工裝置，其特征是，配置著射出可見光區(qū)的激光以及紫外光區(qū)的激光中的至少一種的光源；將從所述光源射出的激光入射到指定加工位置的光學(xué)系統(tǒng)；在位于上述加工位置上，以使磁帶的背層朝向上述激光光路的上游一側(cè)的狀態(tài)在縱向上輸送磁帶的輸送機(jī)構(gòu)；和在與磁帶的輸送方向垂直相交的方向上具有旋轉(zhuǎn)軸，根據(jù)磁帶的輸送速度而自由旋轉(zhuǎn)的由透光性材料構(gòu)成的圓管構(gòu)件，即在激光光路上設(shè)置有透過上述激光的一部分、遮斷其余部分的激光、形成激光圖案的圖案形成機(jī)構(gòu)的導(dǎo)輥；將從上述光學(xué)系統(tǒng)入射到上述導(dǎo)輥的圓管內(nèi)側(cè)的激光朝向上述導(dǎo)輥的外側(cè)，使之通過上述圖案形成機(jī)構(gòu)，依靠通過上述圖案形成機(jī)構(gòu)而形成圖案的激光在上述加工位置處加工磁帶。
在這時(shí)，上述圖案形成機(jī)構(gòu)，最好設(shè)置在導(dǎo)輥的內(nèi)圓周面或者外圓周面上，并且上述圖案形成機(jī)構(gòu)，最好是從下列之中選擇構(gòu)成的，即根據(jù)施于磁帶的加工圖案而開孔的金屬圓筒、以及根據(jù)施于磁帶的加工圖案而開孔的金屬薄膜、以及根據(jù)施于磁帶的加工圖案而形成圖案復(fù)制到膠片上的遮光性膜、以及對(duì)于磁帶加工圖案中的非加工部分，使激光分散的在上述導(dǎo)輥的內(nèi)圓周面上形成的粗面化的處理面。
此時(shí)，在上述圖案形成機(jī)構(gòu)設(shè)置于上述導(dǎo)輥的外圓周面上的情況下，上述導(dǎo)輥的外圓周面被透光性材料涂覆是理想的。
另外，上述導(dǎo)輥上卷掛著磁帶，上述導(dǎo)輥的外圓周面與磁帶的背層相接觸，或者上述導(dǎo)輥不與磁帶的背層相接觸，上述導(dǎo)輥的外圓周面位于磁帶附近、與磁帶的背層相對(duì)是理想的。
并且，最好設(shè)置有除去上述導(dǎo)輥的外圓周面上的污垢的清潔裝置。
另外，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，所述光源為將488nm或515nm的氬(離子)激光，YAG激光由SHG元件進(jìn)行波長變換形成的532nm的激光的光源。
另外，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，所述光學(xué)系統(tǒng)配置了波束擴(kuò)展器，將由光源射出的激光的直徑擴(kuò)大15倍～20倍左右。
另外，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，由波束擴(kuò)展器擴(kuò)大直徑的激光，隨后入射到波束曲線成形器(下面稱為成形器)中，作為成形器，利用菲涅耳衍射進(jìn)行波束曲線的成形的、與激光同直徑的小孔或多眼透鏡。
另外，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，所述金屬薄膜被加工成規(guī)定的圖案，具有多個(gè)小孔，貼在導(dǎo)輥的外圓周面上，在其外側(cè)通過玻璃涂覆方法，真空鍍敷法或等離子體活性鍍敷法或噴濺法等，一邊旋轉(zhuǎn)導(dǎo)輥一邊進(jìn)行涂覆。然后，利用金剛石砂輪等研磨涂覆表面。
本發(fā)明還提供一種磁帶加工裝置，其特征是，具有在側(cè)面上形成具有規(guī)定圖案的透光部分以及遮光部分的自由旋轉(zhuǎn)的中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒，以軸線為中心旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，將平面狀的激光入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面并利用所述激光畫線的光學(xué)系統(tǒng)，一邊使磁帶處于位于入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面上透過透光部分的激光的光路上并且設(shè)定于不與所述轉(zhuǎn)筒接觸的位置上的加工位置處，一邊使背層朝向所述轉(zhuǎn)筒一側(cè)并與所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)方向一致地縱向輸送磁帶的輸送裝置。
另外，在所述加工位置與轉(zhuǎn)筒之間，具有透鏡光學(xué)系統(tǒng)為好。
還有，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，加工轉(zhuǎn)筒與加工位置W的間距g最好為0.3mm～15mm。
還有，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，所述透鏡光學(xué)系統(tǒng)在橫向上調(diào)整透鏡光學(xué)系統(tǒng)的放大率，或者也可以根據(jù)在橫向上形成的各加工線段(虛線狀的加工)各自設(shè)置透鏡光學(xué)系統(tǒng)。
本發(fā)明還提供一種磁帶加工裝置，其特征是，配置著在側(cè)面上具有多個(gè)貫通孔的自由旋轉(zhuǎn)的中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒，和以軸線為中心旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，和將平面狀的激光入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面并利用所述激光畫線的光學(xué)系統(tǒng)，和一邊使磁帶處于設(shè)定在入射到所述內(nèi)側(cè)面上并通過所述貫通孔的激光的光路上的加工位置處，一邊以將背層朝向所述轉(zhuǎn)筒一側(cè)的狀態(tài)與所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)方向一致縱向輸送磁帶的輸送裝置，和使所述轉(zhuǎn)筒內(nèi)部與外部產(chǎn)生壓力差的差壓產(chǎn)生機(jī)構(gòu)。
又，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，在轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部，通過中心軸引入空氣，相對(duì)于外部處于加壓狀態(tài)。
又，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體可以接觸，也可以不接觸。
又，在上述本發(fā)明的磁帶加工裝置中，在加工轉(zhuǎn)筒的轉(zhuǎn)筒本體中引入空氣，在內(nèi)部加壓使空氣向外部噴出，也可以將中心軸連接在抽氣泵或吸引用鼓風(fēng)機(jī)等排氣機(jī)構(gòu)上，相對(duì)于外部對(duì)轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部進(jìn)行減壓，從外部吸引空氣，或者進(jìn)而通過代替吸引室，設(shè)置送風(fēng)機(jī)構(gòu)，向轉(zhuǎn)筒本體外部送風(fēng)，將加工產(chǎn)生的、附著在貫通孔上的加工渣滓吸引到轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部。
下面對(duì)附圖進(jìn)行簡單說明。


圖1(a)以及(b)，為表示利用本發(fā)明的磁帶加工裝置加工的一例磁帶的背層的示意圖。
圖2為本發(fā)明的一例磁帶加工裝置的示意圖。
圖3(a)為圖2中所示的磁帶加工裝置的一例的Ⅱ-Ⅱ’處的截面圖，(b)為表示由本發(fā)明的磁帶加工裝置的圖案形成機(jī)構(gòu)形成的一例掩模圖案的展開圖。
圖4為本發(fā)明的其它例磁帶加工裝置的示意圖。
圖5(a)以及(b)為說明本發(fā)明的磁帶加工裝置的其它例導(dǎo)輥的說明圖。
圖6(A)為表示從磁帶的橫向所見的本發(fā)明的另一例磁帶加工裝置的示意圖，(B)為表示從同一磁帶T的縱向所見的示意圖，(C)為表示同一裝置的加工轉(zhuǎn)筒的概略示意圖。
圖7為本發(fā)明的另一其它例磁帶加工裝置的示意圖。
圖8(A)為表示從磁帶的橫向所見的本發(fā)明的再另一例磁帶加工裝置的示意圖，(B)為表示從同一磁帶T的縱向所見的示意圖。
圖9表示圖8(A)的a-a處的概略截面圖。
圖10為本發(fā)明的再另一例磁帶加工裝置的光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。
圖中，10－加工裝置，12－光源，16,24－反射鏡，18－波束擴(kuò)展器，20－波束曲線成形器，22－平面束波束形成機(jī)構(gòu)，26－學(xué)系統(tǒng)，28,30－輸帶輥，32－輸送機(jī)構(gòu)，34－掩模圖案，35－金屬薄膜，36,46,48－導(dǎo)輥，38－導(dǎo)向支承臺(tái)，40－小孔，41,42－托板，44－金屬圓筒。
110－加工裝置，112－光源，114—(平面束狀激光)成形器，116－加工轉(zhuǎn)筒，118－帶輸送裝置，120－潔裝置，122－反射鏡，124－轉(zhuǎn)筒本體，124a－貫通孔，126－支承構(gòu)件，128—保持構(gòu)件，130－導(dǎo)輥，132－托板，134－固定構(gòu)件，136－透鏡光學(xué)系統(tǒng)。
210－加工裝置，212－光源，214－(平面束狀激光)成形器，216－加工轉(zhuǎn)筒，218－磁帶輸送裝置，220－吸引室，222－反射鏡，224－轉(zhuǎn)筒本體，226－中心軸，226a,226b－孔，228－塊，228a－凹部，228－連通孔，230－圓筒，230a－貫通孔，232(232a,232b,232c)，250－圓板，234(234a,234b,234c)－軸承，240－保持構(gòu)件，242(242a,242b)－托板，244－固定板，254－轉(zhuǎn)筒。
下面，以所附圖中表示的適當(dāng)?shù)膶?shí)施例為基礎(chǔ)，對(duì)有關(guān)本發(fā)明的磁帶加工裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。
利用本發(fā)明的磁帶加工裝置(下面稱為加工裝置)加工的磁帶，在由PET或芳族聚酰胺樹脂等構(gòu)成的基礎(chǔ)層(基礎(chǔ)膠片)的一面上具有磁性體層，在基礎(chǔ)層的另一面上具有背層(背面涂層)，或者并具有覆蓋涂層(保護(hù)層)或底涂層，為具有一般的層狀構(gòu)造的磁帶，利用本發(fā)明的加工裝置進(jìn)行加工，在背層上形成有凹部。
在圖1中，示意地表示了利用本發(fā)明的加工裝置加工的，在背層上形成有凹部的磁帶的背層的一例。
圖1(a)中所表示的例為在磁帶縱向上斷續(xù)地進(jìn)行背層的加工，設(shè)置有加工線A的例。另外，本發(fā)明的加工裝置并可以形成由圖1(a)中所示的加工線之外的、如圖1(b)中所示的那樣，在磁帶縱向上按照固定間距周期進(jìn)行背層加工的加工點(diǎn)B構(gòu)成的所希望得到的圖形。
另外，并不特別局限于這樣的凹部的形狀(截面形狀)，例如，可以舉出矩形、三角形、半圓形(弓形)等。這樣的形狀可以由加工背層的激光的波束光點(diǎn)強(qiáng)度分布來調(diào)整。
另外，對(duì)于凹部的深度也不特別限制，根據(jù)磁帶的強(qiáng)度等適當(dāng)設(shè)定即可，為了得到良好的效果，希望凹部的深度在0.1μm以上，特別是在0.2μmm以上為好。
并且，對(duì)于凹部的尺寸(線寬度)或形成密度也不特別限制，根據(jù)磁帶的強(qiáng)度或?qū)挾?尺寸)適當(dāng)設(shè)定即可，例如在寬度為0.5in的磁帶上，如圖1(a)和(b)所示的那樣，延展在縱向上形成加工線段或加工點(diǎn)的情況下，希望形成寬度為3μm～10μm左右，在磁帶橫向有幾根(個(gè))～100根(個(gè))左右的加工線段或加工點(diǎn)為好。
在背層上具有如圖1(a)所示的那樣的凹部的磁帶，即使高速輸送(移動(dòng))，也很少由磁帶卷入空氣，另外即使在卷入空氣的情況下，也可以由加工線適當(dāng)排除。因此，即使在托板機(jī)等磁帶制造裝置上高速輸送磁帶，磁帶也不會(huì)在輸帶輥等處浮起來造成打滑，沒有由此而引起的損傷或輸送長度的誤差，所以能夠高速正確地進(jìn)行磁帶輸送，在進(jìn)行適當(dāng)?shù)厣a(chǎn)管理的情況下，可以穩(wěn)定地高效率地制造適當(dāng)質(zhì)量的磁帶。另外，由于在卷取時(shí)，能夠適當(dāng)排除磁帶之間的空氣，在卷成盒狀或盤狀時(shí)，其卷成的形態(tài)也很美觀。
并且，圖1(a)或(b)中所示的背層有凹部的磁帶，其翹曲也比以前的磁帶少，由翹曲而引起的外觀質(zhì)量降低、與磁頭接觸不良、磁帶邊緣的損傷等，也比以前的磁帶大幅度減少。
并且，雖然通過在背層形成凹部，而能夠降低翹曲程度的理由尚不明確，但可認(rèn)為由于由上述粘合劑的收縮率差引起的在磁帶橫向上產(chǎn)生的應(yīng)力由凹部截?cái)?，在磁帶橫向上產(chǎn)生的力整體就會(huì)變小，其結(jié)果就可以防止翹曲變形。
圖2中表示了用于這種磁帶的加工的本發(fā)明的磁帶加工裝置的適宜的實(shí)施例加工裝置10的示意圖。
圖2中所示的加工裝置10，主要由光源12，配置著反射鏡16、波束擴(kuò)展器18、波束曲線成形器20、平面束狀激光形成機(jī)構(gòu)22以及在將在后面說明的圓管狀的導(dǎo)輥36的內(nèi)圓周面內(nèi)側(cè)配置的反射鏡24(參照?qǐng)D3(a))的光學(xué)系統(tǒng)26，具有輸帶輥28以及30的輸送機(jī)構(gòu)32，具有形成掩模圖案34的金屬薄膜35、卷掛磁帶T、可以繞中心軸自由旋轉(zhuǎn)的圓管狀的導(dǎo)輥36，和清除導(dǎo)輥36的外圓周面上的污垢的清潔裝置37構(gòu)成。
并且，圖2中所示的加工裝置10，為進(jìn)行圖1(b)中所示的磁帶T的加工的裝置，但在進(jìn)行圖1(a)所示的磁帶的加工的情況下也為同樣的構(gòu)造，僅將在后面說明的掩模圖案34有所不同。另外，在圖2中，為了明白地表示設(shè)置在導(dǎo)輥36上的掩模圖案34，而省略了磁帶T與導(dǎo)輥36相接觸的部分。
加工裝置10中，一面通過輸帶輥28以及30，使磁帶T在指定的加工位置W處，向縱向(圖中箭頭X方向)輸送(移動(dòng))，一面如圖3(a)中所示的那樣，利用光學(xué)系統(tǒng)26使激光入射到導(dǎo)輥36的內(nèi)圓周面內(nèi)側(cè)，通過反射鏡24入射到圓管內(nèi)圓周面的加工位置W處。在這里，磁帶T的背層與導(dǎo)輥36的外圓周面相接觸，朝向激光入射一側(cè)輸送，因此，利用透過導(dǎo)輥36形成圖案的激光加工磁帶T的背層，形成如前面所述的延展在磁帶T的縱向上的加工線或加工點(diǎn)。并且，在圖3(a)中，為了明確表示磁帶T和導(dǎo)輥36，磁帶T從導(dǎo)輥36的外圓周面上浮起來表示著。
光源12為射出加工磁帶T的背層的激光的光源。對(duì)光源12并沒有特別限制，只要是能夠射出具有可進(jìn)行背層加工的輸出功率的激光的光源，各種激光光源(激光振蕩器)都可以使用，最好是使用能夠射出紫外光區(qū)的激光以及可見光區(qū)的激光的至少一種的光源。在加工性方面，以波長短的激光為好，紫外光區(qū)的激光最好，但從成本、安全性、操作性等方面考慮，可見光區(qū)的激光為好。
具體可以舉出射出將488nm或515nm的氬(離子)激光，或者YAG激光由SHG(Second Harmonic Generation，二次諧波發(fā)生)元件進(jìn)行波長變換形成的532nm的激光的光源。
激光通過反射鏡16向規(guī)定方向上反射，然后，入射到波束擴(kuò)展器18中。
加工裝置10利用一束激光在磁帶T的背層上形成加工線或加工點(diǎn)(下面把二者統(tǒng)稱為加工點(diǎn)等)，但從效率方面看，希望在磁帶T的橫向全體區(qū)域內(nèi)能夠一次形成加工點(diǎn)等為好。但是，一般從光源12射出的激光的直徑為1mm左右，磁帶T比其要粗，如果就這樣的話，無法進(jìn)行橫向全體區(qū)域的加工。
因此，在加工裝置10中，配置了波束擴(kuò)展器18，將由光源12射出的激光的直徑擴(kuò)大。例如，光源12射出的激光的直徑為1mm，磁帶T的寬度為0.5in的情況下，將激光直徑擴(kuò)大15倍～20倍左右即可。
由波束擴(kuò)展器18擴(kuò)大直徑的激光，隨后入射到波束曲線成形器20(下面稱為成形器20)中。成形器20使激光的強(qiáng)度在全面的波束光點(diǎn)上大體上均勻，即使激光強(qiáng)度分布大體上均勻化。
由于以光源12射出的激光一般具有如高斯分布那樣的強(qiáng)度分布，因此將其分割來加工磁帶T，則加工點(diǎn)等的加工深度會(huì)因強(qiáng)度分布而在磁帶T的橫向位置上不同。因此，在圖示的例中，利用成形器20使激光的強(qiáng)度分布均勻，從而使形成的加工點(diǎn)等的深度均勻。
并且，作為成形器20，可以利用使用各種光學(xué)濾光器、菲涅耳衍射進(jìn)行波束曲線的成形的、與激光同直徑的小孔、多眼透鏡等。
導(dǎo)輥36由透光的玻璃材料構(gòu)成，支承在導(dǎo)向支承體38上。即導(dǎo)輥36通過導(dǎo)向支承體38以軸線(中心線)為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承，通過將在后面說明的磁帶T的移動(dòng)(或者通過另外設(shè)置的驅(qū)動(dòng)源旋轉(zhuǎn))，與磁帶無滑動(dòng)地旋轉(zhuǎn)。
本實(shí)施例的導(dǎo)輥36是由玻璃材料構(gòu)成的，但在本發(fā)明的磁帶加工裝置中，并不局限于此，也可以為透光性的、具有數(shù)百度的耐熱性的樹脂材料。
并且，圖3(a)表示了圖2中所示的Ⅱ-Ⅱ’處的圖線部分?jǐn)嗝鎴D，在圓管內(nèi)圓周面內(nèi)側(cè)，反射鏡24的反射面斜向上方45度的角度固定著。該反射鏡24，與導(dǎo)輥36一起以不旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)，按照眾所周知的方法固定著。
導(dǎo)輥36具有在圓管的外圓周面上形成掩模圖案34的金屬薄膜35，在其外側(cè)涂覆著玻璃層。
金屬薄膜35如圖3(b)中展開圖所示的那樣，被加工成規(guī)定的圖案，具有多個(gè)小孔40，貼在導(dǎo)輥36的外圓周面上，在其外側(cè)通過眾所周知的玻璃涂覆方法，例如真空鍍敷法或等離子體活性鍍敷法或噴濺法等，一邊旋轉(zhuǎn)導(dǎo)輥36一邊進(jìn)行涂覆。然后，利用金剛石砂輪等研磨涂覆表面。
這樣，通過粘貼形成掩模圖案34的金屬薄膜35，進(jìn)行玻璃涂敷，如后面說明的那樣，可以防止磁帶T在加工位置W處與導(dǎo)輥36的外圓周面相接觸，加工粉塵等進(jìn)入形成掩模圖案34的金屬薄膜35的小孔40中，而發(fā)生孔眼堵塞。如果導(dǎo)輥由不透光的金屬材料構(gòu)成，其外圓周面上設(shè)置多個(gè)小孔，形成掩模圖案的情況下，由于磁帶T的加工粉塵等造成小孔的孔眼堵塞，小孔被堵塞，對(duì)磁帶T加工時(shí)穩(wěn)定地形成規(guī)定的加工圖案造成困難，但如上所述的實(shí)施例那樣，由于圖案形成機(jī)構(gòu)金屬薄膜35不與磁帶T相接觸，導(dǎo)輥36的外圓周面由玻璃涂覆，所以不會(huì)發(fā)生孔眼堵塞，能夠穩(wěn)定地形成加工圖案。另外，通過研磨涂敷表面，可以防止由涂敷表面的凹凸而產(chǎn)生的光的散射，防止光強(qiáng)度降低。另外，也不會(huì)由涂敷表面的凹凸而使磁帶T的背層受額外的損傷。
形成掩模圖案34的金屬薄膜35，將由反射鏡24反射的透過導(dǎo)輥36的圓管的壁厚部分的激光，通過按照規(guī)定圖案穿孔的多個(gè)小孔40遮蔽，即使位于小孔40處的一部分激光通過，而遮斷其余部分，使激光形成規(guī)定圖案的形狀。
清潔裝置37為清除導(dǎo)輥36的外圓周面上的污垢的裝置，設(shè)置在與加工位置W相對(duì)的另一側(cè)。清潔裝置37，在以與導(dǎo)輥36的旋轉(zhuǎn)軸平行的旋轉(zhuǎn)軸為中心自由旋轉(zhuǎn)的圓筒表面上繞著無紡布，與導(dǎo)輥36的外圓周面相接觸。通過這樣，在加工磁帶T時(shí)，可以清除附著在導(dǎo)輥36的涂覆過的外圓周面上的加工粉塵，清除導(dǎo)輥36的外圓周面上的污垢，從而可以穩(wěn)定地進(jìn)行磁帶T的加工。
這種結(jié)構(gòu)的加工裝置10，從光源12射出激光，通過反射鏡16反射，利用波束擴(kuò)展器18，依據(jù)磁帶T的磁帶寬度，例如將激光直徑擴(kuò)大15倍～20倍。然后，為了不使加工點(diǎn)等的加工深度因磁帶T的橫向位置而不同，利用成形器20，使激光的強(qiáng)度在全面的波束光點(diǎn)上大體上均勻，即使激光的強(qiáng)度分布大體上均勻化。
然后，平面束狀激光形成機(jī)構(gòu)22將具有均勻的強(qiáng)度分布的激光轉(zhuǎn)換為在一個(gè)方向上延展的平面束狀激光S，通過固定在導(dǎo)輥36的內(nèi)圓周面上的反射鏡24反射，從導(dǎo)輥36的內(nèi)圓周面向著外圓周面照射。
在導(dǎo)輥36的外圓周面上，形成掩模圖案34的金屬薄膜35被玻璃涂覆并且在加工位置W處不與磁帶相接觸地被設(shè)置，平面束狀激光S通過金屬薄膜35上的多個(gè)小孔40，成為具有規(guī)定圖案的激光。
在導(dǎo)輥36的外圓周面上，磁帶T沿著導(dǎo)輥36卷掛，利用通過小孔40的激光在加工位置W處加工磁帶。
由于導(dǎo)輥36與通過輸帶輥28以及30以固定速度輸送的磁帶T無滑動(dòng)地旋轉(zhuǎn)，所以導(dǎo)輥36也隨磁帶T的輸送而一同旋轉(zhuǎn)，在磁帶T的背層上形成由與掩模圖案34相同的凹部的加工點(diǎn)等構(gòu)成的圖案。通過這樣就可以形成如圖1(b)所示的那樣的圖案。
要得到如圖1(a)所示的圖案的情況下，用加工成一定長度的線段狀的金屬薄膜代替掩模圖案34的小孔40即可，這樣，通過改變掩模圖案34可以改變加工圖案。
另外，上述實(shí)施例中，金屬薄膜35設(shè)置在導(dǎo)輥36的外圓周面上，但不一定必須設(shè)置在外圓周面上，也可以設(shè)置在內(nèi)圓周面上。在這種情況下，由于不會(huì)因磁帶T的加工粉塵而造成掩模圖案的孔眼堵塞，所以不必在內(nèi)圓周面上進(jìn)行玻璃涂覆。當(dāng)然也可以進(jìn)行玻璃涂覆。
另外，上述實(shí)施例的加工裝置10，為磁帶T與導(dǎo)輥36的外圓周面相接觸的構(gòu)造，但是如圖4中所示的那樣，也可以通過加工支承機(jī)構(gòu)藍(lán)寶石托板等支承托板41以及42將加工位置W固定在規(guī)定高度上，使導(dǎo)輥36脫離磁帶T，不與磁帶T相接觸，利用驅(qū)動(dòng)馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使之旋轉(zhuǎn)。
在這種情況下，由于金屬薄膜35在加工位置W上不與磁帶T直接接觸，因而可以在導(dǎo)輥36的外圓周面上設(shè)置金屬薄膜35，不進(jìn)行玻璃涂覆。當(dāng)然也可以將金屬薄膜35進(jìn)行玻璃涂覆。
另外，導(dǎo)輥36的旋轉(zhuǎn)速度不一定需要與磁帶T的輸送速度一致，也可以根據(jù)磁帶T的輸送速度，增大旋轉(zhuǎn)速度，在磁帶T的背層上形成將掩模圖案34在縱向上壓縮的圖案，另外，也可與之相反，降低導(dǎo)輥36的旋轉(zhuǎn)速度，在磁帶T的背層上形成將掩模圖案34在縱向上拉伸的圖案。在這種情況下，由于導(dǎo)輥36在加工位置W處不與磁帶T接觸，所以加工粉塵等很少附著在導(dǎo)輥35的外圓周面上，污垢很少。
另外，作為其它的實(shí)施例，也可以代替設(shè)置在導(dǎo)輥36的圓周面上的形成如圖3(b)那樣的掩模圖案34的金屬薄膜35，不改變光源12，光學(xué)系統(tǒng)26以及輸送機(jī)構(gòu)32，如圖3所示的那樣，為設(shè)置多個(gè)小孔40，在導(dǎo)輥46的內(nèi)圓周面上貼緊固定形成如圖3(b)那樣的掩模圖案34的金屬圓筒44的加工裝置。導(dǎo)輥46與導(dǎo)輥36同樣為透光性材料，如果是具有數(shù)百度的耐熱性的材料，可以為玻璃材料，也可以為樹脂材料。
在這種情況下，由于掩模圖案形成于導(dǎo)輥46的內(nèi)圓周面上，與設(shè)置在外圓周面上的情況相比，不需要進(jìn)行玻璃涂覆，可以很容易地制作導(dǎo)輥。
另外，也可以代替形成如圖3(b)那樣的掩模圖案34的金屬薄膜，在導(dǎo)輥36或46的外圓周面或內(nèi)圓周面上設(shè)置基于復(fù)制形成規(guī)定圖案的膠片的遮光性膜。該遮光性膜，例如可以通過紫外線激光等在具有含有遮光性材料的感光性圖案形成材料層的膠片上形成掩模圖案，通過將其在導(dǎo)輥36或46的外圓周面或內(nèi)圓周面上進(jìn)行膠片復(fù)制而得到，膠片復(fù)制方法采用眾所周知的方法即可，無特別限制。
在導(dǎo)輥36或46的外圓周面上進(jìn)行的膠片復(fù)制的情況下，最好進(jìn)行玻璃涂覆等涂覆處理，可以通過玻璃涂覆等消除掩模圖案的凸凹，能夠防止在加工時(shí)由于加工粉塵而造成孔眼堵塞。
并且，也可以代替設(shè)置在導(dǎo)輥46上的金屬圓筒44，如圖5(b)所示的那樣，在導(dǎo)輥48的內(nèi)圓周面上，根據(jù)加工磁帶T的圖案進(jìn)行粗面化處理，形成粗面化處理面50。也就是說，進(jìn)行粗面化處理，使在透過平面束狀激光S而在磁帶T上進(jìn)行加工的部分之外，平面束狀激光S在導(dǎo)輥48的內(nèi)圓周面上漫反射，使光分散。作為粗面化處理方法，例如可以通過眾所周知的噴砂法進(jìn)行。
導(dǎo)輥48，與導(dǎo)輥36或?qū)л?6同樣為透光性材料，如果是具有數(shù)百度的耐熱性的材料，可以為玻璃材料，也可以為脂材料。
按照這樣的結(jié)構(gòu)，不需要金屬薄膜35或金屬圓筒44或遮光性膜等，導(dǎo)輥的結(jié)構(gòu)及制作變得極其簡單。
并且，導(dǎo)輥為如圖4所示的實(shí)施例那樣，在加工位置W處，脫離開磁帶T不與之相接觸的構(gòu)造的情況下，可以不對(duì)金屬薄膜35或金屬圓筒44或基于膠片復(fù)制的遮光性膜或粗面化處理面50進(jìn)行玻璃涂覆處理而設(shè)置在導(dǎo)輥的外圓周面上，當(dāng)然也可以在外圓周面上進(jìn)行玻璃涂覆處理。
在圖6中，表示了制造具有上述圖1所示凹部的磁帶的本發(fā)明的另一例加工裝置的示意圖。并且在圖6中，(A)為表示從磁帶的橫向所見的該加工裝置的圖，(B)為表示從磁帶的縱向(輸送方向)所見的該加工裝置的圖，(C)為表示該加工裝置的加工轉(zhuǎn)筒116的概略示意圖。
圖示例的加工裝置110，基本上由光源112，平面束狀激光成形器114(兩者都在圖6(A)中省略)，加工轉(zhuǎn)筒116，磁帶輸送裝置118，清潔裝置120構(gòu)成。
光源112與上述光源12相同，為射出構(gòu)成加工磁帶T的背層的激光的激光束的光源。
從光源112射出的激光束，入射到平面束狀激光成形器114(下面稱為成形器114)中。
成形器114僅在一個(gè)方向上將激光束擴(kuò)大直徑(擴(kuò)散)，然后通過整形為平行光，使之成為平面狀的激光(下面稱為平面束光S)。成形器114以轉(zhuǎn)換成在加工轉(zhuǎn)筒116的半徑方向上畫線的平面束光S為好。另外，在圖示例中，作為更好的形態(tài)，平面束光S與磁帶T，相互位于面垂直相交的位置。
對(duì)于這樣的成形器114沒有特別限制，可以利用能夠?qū)⒓す馐D(zhuǎn)換為平面束光S的眾所周知的各種光學(xué)系統(tǒng)(光學(xué)元件)。具體可以舉出由圓柱透鏡或視準(zhǔn)透鏡組合的光學(xué)系統(tǒng)，由棒狀透鏡和圓柱透鏡(視準(zhǔn)透鏡)組合的光學(xué)系統(tǒng)等。
平面束光S，隨后從加工轉(zhuǎn)筒116的端面入射到內(nèi)部，通過配置在加工轉(zhuǎn)筒116內(nèi)部的反射鏡122反射，入射到加工轉(zhuǎn)筒116的內(nèi)側(cè)面上，在該內(nèi)側(cè)面畫出與加工轉(zhuǎn)筒116的軸線平行的線。也就是說，在圖示例的加工裝置110中，通過光源112，成形器114以及反射鏡122構(gòu)成本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)。
并且，反射鏡122利用由外部插入的撐桿保持等眾所周知的方法，相對(duì)于后面說明的加工轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124)的旋轉(zhuǎn)而固定著。另外，反射鏡122最好是相對(duì)于平面束光S的入射呈45°的角度配置，即平面束光S最好由反射鏡122反射90°，垂直入射到加工轉(zhuǎn)筒116的內(nèi)側(cè)面上。
加工轉(zhuǎn)筒116基本上由中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒本體124和支承構(gòu)件126構(gòu)成。并且，為了明確表示構(gòu)造，在圖6(C)中，將支承構(gòu)件126以虛線表示，并省略截面部分之外的貫通孔124。
轉(zhuǎn)筒本體124為至少平面束光S的入射一側(cè)的端面開放的圓筒。另外，支承構(gòu)件126通過軸承支承等眾所周知的手段，以軸線為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承轉(zhuǎn)筒本體124。
在轉(zhuǎn)筒本體124的側(cè)面上，形成多個(gè)貫通孔124a，將延展在圓周方向(磁帶T的輸送方向)的虛線在軸線方向(磁帶T的橫向)上排列成多個(gè)。因此，如圖6(C)所示的那樣，被反射鏡122反射入射到轉(zhuǎn)筒本體124的內(nèi)側(cè)面上的平面束光S在該內(nèi)側(cè)面上畫出與軸線平行的線條的同時(shí)，入射到該貫通孔124a中的部分，射出到轉(zhuǎn)筒本體124的外部，作為多束激光束入射到加工位置W(位于加工位置W處的磁帶T的背層)上。
另外，對(duì)于該貫通孔124a的形成圖案，不特別限制，根據(jù)目的物磁帶T(磁帶T的加工圖案)適當(dāng)設(shè)定即可。
這樣的加工轉(zhuǎn)筒116的轉(zhuǎn)筒本體124，在由支承構(gòu)件126支承的情況下，例如通過與外圓周面相接觸的輥、卷掛在外圓周上的皮帶等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(為簡化圖紙，省略圖示)，以軸線為中心旋轉(zhuǎn)。如上所述的那樣，由于反射鏡122相對(duì)于轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124)的旋轉(zhuǎn)而被固定，所以僅旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)筒本體124。
并且，轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在上述方法之外可以利用各種眾所周知的方法。例如，也可以在支承構(gòu)件126上設(shè)置轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源，旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)筒本體124。
另一方面，磁帶T一面通過磁帶輸送裝置118，使磁帶T背層朝向加工轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124的側(cè)面)位于加工位置W上，一面在縱向上輸送(輸送方向x與縱向一致，在規(guī)定方向上輸送)。另外，磁帶T的輸送方向與上述轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)方向一致。
磁帶輸送裝置118，由導(dǎo)輥130或使磁帶T處于規(guī)定位置的支承構(gòu)件128等，加上圖未示出的輸帶輥、復(fù)繞機(jī)、卷繞機(jī)等輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，帶擋邊的輥或冕狀輥等磁帶T的橫向位置限制機(jī)構(gòu)等構(gòu)成，為眾所周知的磁帶T的輸送裝置(移動(dòng)裝置)?；蛘咭部梢栽谵D(zhuǎn)筒本體124的端部上設(shè)置筋板或凸緣，將其兼作磁帶T的橫向位置限制機(jī)構(gòu)。
支承構(gòu)件128由在輸送方向上隔著加工位置W配置的2個(gè)托板132，和固定支承托板132的固定構(gòu)件134構(gòu)成。托板132，例如為側(cè)棱與橫向方向一致配置的三角柱狀的機(jī)構(gòu)，通過利用側(cè)棱從下方托起磁帶T而支承，將磁帶T支承在加工位置W(主要是光軸方向)上。
在本發(fā)明中，加工位置W設(shè)定在通過反射鏡122反射、在轉(zhuǎn)筒本體124的內(nèi)側(cè)面上畫出與軸線平行的線、通過轉(zhuǎn)筒本體124的貫通孔124a的平面束光S的光路上。另外，轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)方向，與磁帶T的輸送方向(縱向)一致。
換而言之，如果不利用加工轉(zhuǎn)筒116的轉(zhuǎn)筒本體124遮光，那么平面束光S就會(huì)在一邊通過磁帶輸送裝置118處于加工位置W處，一邊向縱向輸送的磁帶T的背層上，延展在橫向上畫線。
如上所述的那樣，在圖6示例的加工裝置10中，從光源112射出的、利用成形器114成形的平面束光S，從端面入射到轉(zhuǎn)筒本體124內(nèi)，通過反射鏡122反射，在轉(zhuǎn)筒本體24的內(nèi)側(cè)面上，畫出與軸線平行的線。
由于轉(zhuǎn)筒本體124以軸線為中心旋轉(zhuǎn)，所以在內(nèi)側(cè)面上畫線的平面束光S之中，入射到轉(zhuǎn)筒本體124的貫通孔124a的激光，就成為通過轉(zhuǎn)筒本體124的多束激光束，入射到加工位置W的磁帶T上，加工背層。即通過轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)，激光向背層的入射(=加工)被開/關(guān)。
另外，由于磁帶T利用磁帶輸送裝置118在縱向上輸送，所以在磁帶T的背層上，如圖1所示的那樣，在橫向上排列的、由加工線段a構(gòu)成的虛線狀的加工，就在縱向上連續(xù)進(jìn)行。
在這里，在本發(fā)明涉及的加工裝置110中，設(shè)定加工位置W，使磁帶T與加工轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124)處于不接觸的狀態(tài)。
在利用激光加工磁帶T的背層的本發(fā)明的加工裝置110中，是利用激光的熱量加工，以及利用激光引起的燒蝕(分解、游離)加工兩者復(fù)合發(fā)生，來加工背層。因而，通過這種加工，會(huì)產(chǎn)生加工渣滓(粉塵等)或有害氣體等。
然而，如果轉(zhuǎn)筒本體124與磁帶T呈接觸狀態(tài)進(jìn)行背層的加工，則加工渣滓會(huì)附著在轉(zhuǎn)筒本體124的表面(外側(cè)面)上，會(huì)發(fā)生堵塞貫通孔124a，或者附著的加工渣滓附著到磁帶T的其它部分上而弄臟等各種各樣的問題。
針對(duì)這一問題，根據(jù)本發(fā)明的加工裝置110，由于磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體124不接觸，所以可以適當(dāng)?shù)胤乐辜庸ぴ业雀街睫D(zhuǎn)筒本體124的表面上，從而能夠防止所述的貫通孔124a的堵塞等。
并且，一邊旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)筒本體124，一邊輸送磁帶T進(jìn)行背層的加工時(shí)，如果磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體124接觸，則轉(zhuǎn)筒本體124就會(huì)因磁帶T的加工而磨損。對(duì)于這一問題，基于二者不接觸的本發(fā)明，可以防止轉(zhuǎn)筒本體124的磨損，延長使用壽命。
另外，利用本發(fā)明的加工裝置110的磁帶T的加工，如上所述的那樣，為非常細(xì)微的加工，因此在磁帶T的輸送上要求有非常高的穩(wěn)定性和精度。如果磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體124接觸，則由于轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)阻力和摩擦，輸送速度和張力就會(huì)變化，而導(dǎo)致磁帶T的輸送穩(wěn)定性和精度降低。對(duì)于這一問題，基于二者不接觸的本發(fā)明，可以消除上述的問題，能夠高精度并且穩(wěn)定到進(jìn)行磁帶T的輸送，從而進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋硨蛹庸ぁ?br> 所以，根據(jù)本發(fā)明，能夠進(jìn)行適當(dāng)?shù)拇艓П硨拥募庸?，能夠長期穩(wěn)定地制造即使高速輸送也不發(fā)生打滑，翹曲程度小，具有優(yōu)良特性的磁帶。
在本發(fā)明的加工裝置110中，如圖6(B)中以間距g表示的，加工轉(zhuǎn)筒124與加工位置W(位于加工位置W處的磁帶T)的間距，無特別限制，只要二者不接觸即可。但是，如果二者的間距過窄，則無法充分獲得本發(fā)明的效果，與之相反，過寬則有可能無法利用光源112的輸出功率(激光強(qiáng)度)進(jìn)行適當(dāng)?shù)募庸ぁ?br> 因此，在本發(fā)明中，間距g最好為0.3mm～15mm，特別是最好為0.5mm～10mm。
在磁帶T不與轉(zhuǎn)筒本體124接觸的本發(fā)明中，磁帶T的輸送速度與轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)速度(圓周速度)可以一致，也可以不一致。兩個(gè)速度根據(jù)在磁帶T的背層上形成的加工圖案適當(dāng)設(shè)定即可。
另外，也可以通過調(diào)整轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)速度以及磁帶T的輸送速度中的至少一個(gè)(加工過程中也可)，改變或調(diào)整磁帶T的背層的加工圖案。
總之，為了按照目的圖案進(jìn)行適當(dāng)?shù)募庸?，有必要使磁帶T的輸送與轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)保持同步。
使兩者保持同步的方法沒有限制，可以利用各種眾所周知的方法。例如在驅(qū)動(dòng)源不同的情況下，磁帶T的主輸送輥(輸帶輥)與轉(zhuǎn)筒本體124的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源的同步以電動(dòng)方法得到即可，或者也可以將兩者的驅(qū)動(dòng)源合并為一個(gè)，利用減速比等得到同步。
在本發(fā)明的另一其它實(shí)施例中，如圖7所示的那樣，在加工轉(zhuǎn)筒116的轉(zhuǎn)筒本體124和加工位置W(位于加工位置W處的磁帶T)之間，設(shè)置著透鏡光學(xué)系統(tǒng)136，將從轉(zhuǎn)筒本體124的貫通孔124a射出的激光束收縮(聚光)入射到加工位置W(磁帶T)上。
根據(jù)本實(shí)施例，通過利用透鏡光學(xué)系統(tǒng)136進(jìn)行激光束的收縮，可以增大在轉(zhuǎn)筒本體124的側(cè)面上形成的貫通孔124a，所以能夠很容易地進(jìn)行轉(zhuǎn)筒本體124的加工，在設(shè)備成本等方面更加有利。并且，在本實(shí)施例中，當(dāng)然也具有如防止轉(zhuǎn)筒本體124或磁帶T的污染，轉(zhuǎn)筒本體124的磨損，磁帶T的穩(wěn)定輸送等如前所述的本發(fā)明的效果。
在本實(shí)施例中，透鏡光學(xué)系統(tǒng)136可以為一個(gè)或多個(gè)透鏡構(gòu)成的在加工位置W處將激光束成像的成像光學(xué)系統(tǒng)，也可以為由一個(gè)或多個(gè)透鏡構(gòu)成的在加工位置W處將激光束聚光的收縮光學(xué)系統(tǒng)。
另外，在轉(zhuǎn)筒本體124和加工位置W之間具有透鏡光學(xué)系統(tǒng)136的形態(tài)中，轉(zhuǎn)筒本體124和加工位置W的間距也無特別限制，根據(jù)透鏡光學(xué)系統(tǒng)136適當(dāng)設(shè)定即可。
并且，在平面束光S由反射鏡122反射，入射到加工位置W的圖示例的加工裝置中，入射到加工位置W的激光束的光路長度在磁帶T的橫向上因反射鏡122的角度而不同。
在這種情況下，可以在橫向上調(diào)整透鏡光學(xué)系統(tǒng)136的放大率，來進(jìn)行適當(dāng)?shù)募庸?，或者也可以根?jù)在橫向上形成的各加工線段A(虛線狀的加工)各自設(shè)置透鏡光學(xué)系統(tǒng)136。
如上所述的那樣，在利用基于激光的熱量或燒蝕加工背層的本發(fā)明的加工裝置中，有時(shí)會(huì)由于加工而產(chǎn)生加工渣滓或氣體等，污染操作環(huán)境或磁帶T等，產(chǎn)生各種各樣的問題。
為了消除這樣的問題，可以設(shè)置加工轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124)表面的清潔機(jī)構(gòu)，加工后的磁帶T的背層清潔機(jī)構(gòu)，氣體的吸引機(jī)構(gòu)等。并且，清潔機(jī)構(gòu)采用用于磁帶制造裝置或各種加工裝置的眾所周知的方法即可。
上面所說明的基于本發(fā)明的磁帶T的加工，如果是在形成背層之后進(jìn)行，則在磁帶制造工序的任意一工序進(jìn)行即可，例如可以在利用縱切剪機(jī)切出磁帶的成品寬度之前，也可以在其后。
上面就本發(fā)明的磁帶加工裝置進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施例，在不超出本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)，當(dāng)然可以進(jìn)行各種改良以及更改。
例如，圖示例為通過在加工轉(zhuǎn)筒116(轉(zhuǎn)筒本體124)的側(cè)面上形成貫通孔124a，實(shí)現(xiàn)入射到內(nèi)側(cè)面上的平面束光S的透過以及遮光(加工的開/關(guān))的例。但是，本發(fā)明并不局限于此，在加工轉(zhuǎn)筒側(cè)面上的透光部分以及遮光部分的形成方法，可以利用各種方法。
作為一例，可以在用光學(xué)玻璃等透光性材料形成加工轉(zhuǎn)筒的轉(zhuǎn)筒本體的同時(shí)，在轉(zhuǎn)筒本體的側(cè)面上，利用眾所周知的機(jī)構(gòu)形成透光以及遮光圖案(掩模圖案)，來實(shí)現(xiàn)入射到內(nèi)側(cè)面上的平面束光S的透過以及遮光。并且，作為圖案的形成方法，可舉例指出金屬薄膜的蒸鍍、印刷、膠片復(fù)制等方法。
在圖8中，表示了制造具有上述圖1所述凹部的磁帶的本發(fā)明的另一加工裝置的示意圖。并且在圖8中，(A)為表示從磁帶的橫向所見的該加工裝置的圖，(B)為表示從磁帶的縱向(輸送方向)所見的該加工裝置的圖。
圖示例的加工裝置210，基本上由光源212，平面束狀激光成形器214(兩者都在圖8(A)中省略)，加工轉(zhuǎn)筒216，磁帶輸送裝置218，吸引室220構(gòu)成。
另外，將在后面詳細(xì)說明，在加工轉(zhuǎn)筒216中，配置著反射鏡222。在圖示例的加工裝置210中，由光源212，平面束狀激光成形器214以及反射鏡222，構(gòu)成本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)。
光源212與上述光源12相同為射出構(gòu)成加工磁帶T的背層的激光的激光束的光源。
從光源212射出的激光束，入射到平面束狀激光成形器214(下面稱為成形器14)中。
成形器214與上述成形器114相似僅在一個(gè)方向上將激光束擴(kuò)大直徑(擴(kuò)散)，然后通過整形為平行光，使之成為平面狀的激光(下面稱為平面束光S)。成形器214以轉(zhuǎn)換成在加工轉(zhuǎn)筒216的半徑方向上畫線的平面束光S為好。另外，在圖示例中，作為更好的形態(tài)，平面束光S與磁帶T，相互位于面垂直相交的位置。
對(duì)于這樣的成形器214沒有特別限制，可以利用能夠?qū)⒓す馐D(zhuǎn)換為平面束光S的眾所周知的各種光學(xué)系統(tǒng)(光學(xué)元件)。具體可以舉出由圓柱透鏡或視準(zhǔn)透鏡組合的光學(xué)系統(tǒng)，由棒狀透鏡和圓柱透鏡(視準(zhǔn)透鏡)組合的光學(xué)系統(tǒng)等。
平面束光S，隨后從加工轉(zhuǎn)筒216的端面入射到內(nèi)部，通過配置在加工轉(zhuǎn)筒216內(nèi)部的反射鏡222反射，入射到加工轉(zhuǎn)筒216的內(nèi)側(cè)面上，在該內(nèi)側(cè)面畫出與加工轉(zhuǎn)筒216的軸線平行的線。
并且，反射鏡222利用固定在加工轉(zhuǎn)筒216的中心軸226上，或固定在外部的撐桿上等眾所周知的方法，相對(duì)于將在后面說明的轉(zhuǎn)筒216的旋轉(zhuǎn)而固定著。另外，反射鏡222最好是相對(duì)于平面光S的入射呈45°的角度配置，即平面光S最好由反射鏡222反射90°，垂直入射到加工轉(zhuǎn)筒216的內(nèi)側(cè)面上。
在圖9中，表示了加工轉(zhuǎn)筒216的概略截面圖(圖8(A)的a-a處)。
加工轉(zhuǎn)筒216，基本上是由中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒本體224，將轉(zhuǎn)筒本體224以軸線為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承的中心軸226，和配置在轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部的塊228構(gòu)成。
另外，如上所述的那樣，在加工轉(zhuǎn)筒216的轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部，固定著反射鏡22。
轉(zhuǎn)筒本體224用圓板232(232a以及232b)堵塞圓筒230的兩端面。
在圓筒230的側(cè)面上，形成有多個(gè)貫通孔230a，以將延展在圓周方向(磁帶T的輸送方向)上的虛線在軸線方向上形成多列。因此，如圖8所示的那樣，由反射鏡222反射而入射到轉(zhuǎn)筒本體224(圓筒230)的內(nèi)側(cè)面上的平面束光S在該內(nèi)側(cè)面上畫出與軸線平行的線的同時(shí)，入射到該貫通孔230a中的部分，成為激光束射出到轉(zhuǎn)筒本體24的外部。
另外，也可以根據(jù)該貫通孔230a的形成圖案調(diào)整磁帶T的加工圖案。
堵塞圓筒端面的圓板232在中心部位有開口部分。在圖示例的加工轉(zhuǎn)筒216中，通過在該該開口部分上，通過軸承234(234a以及234b)在中心軸226上自由旋轉(zhuǎn)地支承圓板232，以軸線為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承轉(zhuǎn)筒本體224 。
并且，構(gòu)成平面束光S的入射端面的圓板232a，由石英玻璃等可以透過平面束光S的、最好是光學(xué)特性優(yōu)良的材料形成。
或者根據(jù)圖10中所示的構(gòu)造，構(gòu)成入射端面的圓板也可以為環(huán)狀。
在圖10中所示的例中，為代替透光性的圓板232a，而采用了平面束光S的入射領(lǐng)域開口的環(huán)狀的圓板250的例。在該例中，具有將利用軸承234c自由旋轉(zhuǎn)地支承在中心軸226上的圓板232c和圓板250一起配置在挾著圓板232b的位置上，同時(shí)通過圓板232b和圓板232c堵塞圓筒252的兩端面，形成轉(zhuǎn)筒254的構(gòu)造。也就是說，該構(gòu)造構(gòu)成利用中心軸226以軸線為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承的轉(zhuǎn)筒254，通過利用該轉(zhuǎn)筒254保持轉(zhuǎn)筒本體224，以軸線為中心自由旋轉(zhuǎn)地支承轉(zhuǎn)筒本體224。
構(gòu)成轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)軸的中心軸226，為前端堵住的剛性的管子，在構(gòu)成轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部的領(lǐng)域上，形成有多個(gè)(圖示例為3個(gè))貫通側(cè)面的孔226a。
另外，中心軸226的另一端連接著壓氣機(jī)或鼓氣機(jī)等空氣引入機(jī)構(gòu)(差壓產(chǎn)生機(jī)構(gòu))。即在轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部，通過中心軸226引入空氣，相對(duì)于外部處于加壓狀態(tài)。如前面所述的那樣，由于在轉(zhuǎn)筒本體224的圓筒230中形成多個(gè)貫通孔230a，所以處于加壓狀態(tài)的轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部的空氣，從貫通孔230a噴出到外部。
并且，對(duì)于轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部和外部的壓力差(在后面將說明的具有塊228的情況下，指塊228的凹部228a形成的空間與外部的壓力差)并無特別限制，適當(dāng)設(shè)定為可以清除加工轉(zhuǎn)筒216的貫通孔230a上附著的加工渣滓等的壓力差即可。
在圖示例的加工裝置210中，作為令人滿意的實(shí)施例，在中心軸226上固定著塊228。
塊228為在被反射鏡222反射的平面束光S的反射方向的相反一側(cè)(即磁帶T的相反一側(cè))具有曲面的略呈半圓柱狀的構(gòu)件，在該曲面一側(cè)，具有凹部228a，與轉(zhuǎn)筒本體224的內(nèi)側(cè)面一起形成空間。
另外，塊228與轉(zhuǎn)筒本體224不接觸，構(gòu)造上不妨礙轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)，最好是塊228與轉(zhuǎn)筒本體224的內(nèi)側(cè)面一起，在轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部形成的空間凹部228a略呈氣密狀態(tài)。
該凹部228a形成的空間，與中心軸226的孔226a通過連通孔228b連通。因此，在圖示例中，通過從中心軸226供應(yīng)的空氣，使凹部228a形成的空間特別處于加壓狀態(tài)，轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)的空氣，主要從該空間，即位于與磁帶T相對(duì)的另一側(cè)的貫通孔230a噴出到外部。
并且，在圖示例中，作為令人滿意的實(shí)施例，在加工轉(zhuǎn)筒216內(nèi)的塊228(特別是凹部228形成的空間)的對(duì)面配置著具有開口的吸引室220。
吸引室220，其內(nèi)部(室構(gòu)成的空間)通過鼓風(fēng)機(jī)或抽氣泵減壓，從開口吸引外部的空氣，為眾所周知的吸引室。因此，從位于由上方的凹部228a形成的空間處的貫通孔230a噴出的空氣，通過吸引室220吸引，不會(huì)飛散。
并且，在本發(fā)明中，塊228以及吸引室220，為作為令人滿意的實(shí)施例配置的裝置，任意一個(gè)或者二者都沒有也可以。但是，考慮到從貫通孔230a噴出(或者吸引)的空氣對(duì)磁帶T的輸送等產(chǎn)生的影響，至少一種，特別是具有塊228為好。
這樣的加工轉(zhuǎn)筒216的轉(zhuǎn)筒本體224，例如通過與圓板232b的外圓周面相接觸的輥，卷掛在圓板232b的外圓周上的皮帶等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(為了簡化圖紙，故省略圖示)等，以中心軸226為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。
在這里，轉(zhuǎn)筒本體224通過軸承234支承在中心軸226上。另外，塊228固定在中心軸226上，反射鏡222通過眾所周知的機(jī)構(gòu)相對(duì)于加工轉(zhuǎn)筒216的旋轉(zhuǎn)固定著。因此，在加工轉(zhuǎn)筒216上旋轉(zhuǎn)的，僅為轉(zhuǎn)筒本體224。
并且，在磁帶T與加工轉(zhuǎn)筒216(轉(zhuǎn)筒本體224的圓筒230)相接觸，或者卷掛的情況下，也可以把磁帶T的移動(dòng)作為旋轉(zhuǎn)手段。
另一方面，在加工裝置210中，磁帶T一面通過磁帶輸送裝置218，以使磁帶T背層朝向加工轉(zhuǎn)筒216(轉(zhuǎn)筒本體224的側(cè)面)的狀態(tài)位于加工位置W上，一面在縱向上輸送(輸送方向x與縱向一致，在規(guī)定方向上輸送)。另外，磁帶T的輸送方向與上述轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)方向一致。
磁帶輸送裝置218，由使磁帶T處于規(guī)定位置的支承構(gòu)件240等，加上圖未示出的輸帶輥、復(fù)繞機(jī)、卷繞機(jī)等輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，帶擋邊的輥或冕狀輥等磁帶T的橫向位置限制機(jī)構(gòu)、導(dǎo)輥等構(gòu)成，為眾所周知的磁帶T的輸送裝置(移動(dòng)裝置)?；蛘咿D(zhuǎn)筒本體224的圓板232a以及232b也可以兼作磁帶T的橫向位置限制機(jī)構(gòu)。
支承構(gòu)件240由在磁帶T的輸送方向上挾著加工位置W配置的2個(gè)托板242，和固定支承托板242的固定構(gòu)件244構(gòu)成。托板242，例如為側(cè)棱與橫向方向一致配置的三角柱狀的機(jī)構(gòu)，通過利用側(cè)棱從下方托起磁帶T而支承，將磁帶T支承在加工位置W上。
在這里，加工位置W設(shè)定在通過反射鏡222反射、在轉(zhuǎn)筒本體224(圓筒230)的內(nèi)側(cè)面上畫出與軸線平行的線、通過轉(zhuǎn)筒本體224的貫通孔230a的平面束光S的光路上。另外，轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)方向，與磁帶T的輸送方向(縱向)一致。
換而言之，如果不利用加工轉(zhuǎn)筒216的圓筒230遮光，那么平面束光S就會(huì)在一邊通過磁帶輸送裝置218處于加工位置W處，一邊向縱向輸送的磁帶T的背層上，延展在橫向上畫線。
如上所述的那樣，在圖示例的加工裝置210中，從光源212射出的、利用成形器214成形的平面束光S，從透光性的圓板232a入射到轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)，通過反射鏡222反射，在轉(zhuǎn)筒本體224(圓筒230)的內(nèi)側(cè)面上，畫出與軸線平行的線。
在這里，由于轉(zhuǎn)筒本體224通過中心軸226以軸線為中心旋轉(zhuǎn)，所以在內(nèi)側(cè)面上畫線的平面束光S之中，入射到圓筒230的貫通孔230a的激光，通過圓筒230，入射到加工位置W的磁帶T上，加工背層。即通過轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)，激光向背層的入射(背層加工)被開/關(guān)。
另外，由于磁帶T利用磁帶輸送裝置218在縱向上輸送，所以在磁帶T的背層上，如圖1所示的那樣，在橫向上排列的、由加工線段A構(gòu)成的虛線狀的加工，就在縱向上連續(xù)進(jìn)行。
在這里，在利用激光加工背層的本發(fā)明的加工裝置中，通過背層加工，會(huì)產(chǎn)生加工渣滓(粉塵等)或有害氣體等。
這些加工渣滓的大部分，有時(shí)會(huì)附著在最接近磁帶T的轉(zhuǎn)筒本體224(圓筒230)的外側(cè)面上，堵塞加工磁帶T背層的平面束光S通過的貫通孔230a。
針對(duì)這一問題，本發(fā)明的加工裝置如前面說明的那樣，從中心軸226引入空氣，加壓于加工轉(zhuǎn)筒216的內(nèi)部使之與外部產(chǎn)生壓力差，從貫通孔230a噴出空氣。特別是在圖示例的加工裝置210中，作為令人滿意的實(shí)施例，設(shè)置塊228，僅增高與磁帶T相對(duì)的另一側(cè)的領(lǐng)域的壓力，并且利用吸引室220吸引與塊228相對(duì)的另一側(cè)的領(lǐng)域。
所以，由于即使在貫通孔230a上附著加工渣滓，也可以依靠從內(nèi)部噴出的空氣吹掉，所以不會(huì)堵塞貫通孔230a。另外，根據(jù)圖示例，由于在塊228的作用下，該空氣的噴出主要在沒有磁帶T的領(lǐng)域內(nèi)進(jìn)行，所以不會(huì)對(duì)磁帶T的輸送產(chǎn)生壞的影響。并且，由于從轉(zhuǎn)筒本體224噴出的空氣或加工渣滓由吸引室220吸引，所以加工渣滓等也不會(huì)向周圍飛散。
如前所述的那樣，在本發(fā)明的加工裝置中，磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體224可以接觸，也可以不接觸。
在這里，如圖示例那樣，在磁帶T不與轉(zhuǎn)筒本體224接觸的情況下，磁帶T的輸送速度與轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)速度(圓周速度)不一定需要一致?；蛘撸诓唤佑|的情況下，也可以通過調(diào)整轉(zhuǎn)筒本體224的旋轉(zhuǎn)速度或磁帶T的輸送速度(在加工過程中也可)，改變或調(diào)整磁帶T的背層的加工圖案。
并且，在磁帶T與轉(zhuǎn)筒本體224接觸的情況下，為了避免磁帶T損傷，兩速度最好保持一致。另外，在此時(shí)轉(zhuǎn)筒本體24也可以兼作將磁帶T保持在加工位置的保持機(jī)構(gòu)。
在上述的例中，在加工轉(zhuǎn)筒216的轉(zhuǎn)筒本體224中引入空氣，在內(nèi)部加壓使空氣向外部噴出，但本發(fā)明并不局限于此。
例如，也可以將中心軸226連接在抽氣泵或吸引用鼓風(fēng)機(jī)等排氣機(jī)構(gòu)(差壓產(chǎn)生機(jī)構(gòu))上，相對(duì)于外部對(duì)轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部進(jìn)行減壓，從外部吸引空氣，或者進(jìn)而通過代替吸引室220，設(shè)置送風(fēng)機(jī)構(gòu)，向轉(zhuǎn)筒本體224外部送風(fēng)，將加工產(chǎn)生的、附著在貫通孔230a上的加工渣滓吸引到轉(zhuǎn)筒本體224內(nèi)部。
并且，在此時(shí)加工轉(zhuǎn)筒216內(nèi)部和外部的差壓，與前面說明的例同樣適當(dāng)設(shè)定能夠除去附著在加工轉(zhuǎn)筒216的貫通孔230a上的加工渣滓的壓力差即可。
另外，在本發(fā)明的加工裝置中，并且也可以設(shè)置除去附著在轉(zhuǎn)筒本體224的外側(cè)面上的加工渣滓的膠粘帶等清潔機(jī)構(gòu)。
并且，為了防止加工渣滓或有害氣體對(duì)操作環(huán)境的污染，或者磁帶表面、背面的損傷或污損，加工位置W的下游處(磁帶T的輸送方向)，也可以設(shè)置清潔磁帶T的表面的膠粘帶等清潔裝置(等)，或吸引氣體的管道等。
上面所說明的基于本發(fā)明的磁帶T的加工，如果是在形成背層之后進(jìn)行，則在磁帶制造工序的任意一工序進(jìn)行即可，例如可以在利用縱切剪機(jī)切出磁帶的成品寬度之前，也可以在其后。
例如，在圖示例中，通過從中心軸226引入或吸引空氣，使加工轉(zhuǎn)筒216的內(nèi)部與外部產(chǎn)生壓力差，但本發(fā)明并不局限于此，例如也可以利用來自吸引室220的吸引(送風(fēng))，使加工轉(zhuǎn)筒216的內(nèi)部和外部產(chǎn)生壓力差。
上面就本發(fā)明的磁帶加工裝置進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施了例，在不越出本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)，當(dāng)然可以進(jìn)行各種改良以及更改。
如上面詳細(xì)說明的那樣，根據(jù)本發(fā)明的磁帶加工裝置，即使將輸送速度高速化也不會(huì)在輸帶輥等處發(fā)生打滑，因此可以得到能夠高速進(jìn)行正確的輸送，并且翹曲程度小，具有優(yōu)良特性的磁帶。并且，由于根據(jù)本發(fā)明的加工裝置，能夠防止背層加工所產(chǎn)生的加工渣滓附著在加工背層的激光透過的貫通孔上，所以能夠長期穩(wěn)定地適當(dāng)進(jìn)行磁帶的背層加工。
通過使用利用本發(fā)明的加工裝置制作的這樣的磁帶，能夠在托板機(jī)等磁帶制造裝置上高速正確地進(jìn)行磁帶輸送，這樣在適當(dāng)生產(chǎn)管理的條件下，能夠穩(wěn)定地高生產(chǎn)效率地制造無損傷的磁帶，并且卷成盒狀或盤狀時(shí)其形態(tài)美觀，并且可以防止由翹曲而引起的外觀質(zhì)量降低，與磁頭接觸不良，磁帶邊緣損傷等。
權(quán)利要求
1．一種磁帶加工裝置，其特征是，配置著射出可見光區(qū)的激光以及紫外光區(qū)的激光中的至少一種的光源；將從所述光源射出的激光入射到指定加工位置的光學(xué)系統(tǒng)；在位于所述加工位置上，以使磁帶的背層朝向所述激光光路的上游一側(cè)的狀態(tài)縱向輸送磁帶的輸送機(jī)構(gòu)；和在與磁帶的輸送方向垂直相交的方向上具有旋轉(zhuǎn)軸，根據(jù)磁帶的輸送速度而自由旋轉(zhuǎn)的由透光性材料構(gòu)成的圓管構(gòu)件，即在激光光路上設(shè)置有透過所述激光的一部分、遮斷其余部分的激光、形成激光圖案的圖案形成機(jī)構(gòu)的導(dǎo)輥；將從所述光學(xué)系統(tǒng)入射到所述導(dǎo)輥的圓管內(nèi)側(cè)的激光朝向所述導(dǎo)輥的外側(cè)，使之通過所述圖案形成機(jī)構(gòu)，依靠通過所述圖案形成機(jī)構(gòu)而形成圖案的激光在所述加工位置處加工磁帶。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁帶加工裝置，其特征在于所述光源為將488nm或515nm的氬(離子)激光，或者YAG激光由SHG元件進(jìn)行波長變換形成的532nm的激光的光源。
3．根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁帶加工裝置，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)配置了波束擴(kuò)展器，將由光源射出的激光的直徑擴(kuò)大15倍～20倍。
4．根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁帶加工裝置，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置波束曲線成形器，該成形器為利用菲涅耳衍射進(jìn)行波束曲線的成形的與激光同直徑的小孔。
5．根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁帶加工裝置，所述圖案形成機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述導(dǎo)輥的內(nèi)圓周面上或者外圓周面上。
6．根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁帶加工裝置，所述所述圖案形成機(jī)構(gòu)，是從下列之中選擇構(gòu)成的，即根據(jù)施于磁帶的加工圖案而開孔的金屬圓筒、和根據(jù)施于磁帶的加工圖案而開孔的金屬薄膜、和根據(jù)施于磁帶的加工圖案而形成圖案復(fù)制到膠片上的遮光性膜、和對(duì)于磁帶加工圖案中的非加工部分使激光分散的在所述導(dǎo)輥的內(nèi)圓周面上形成的粗面化的處理面。
7．根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的磁帶加工裝置，在所述圖案形成機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述導(dǎo)輥的外圓周面上的情況下，所述導(dǎo)輥的外圓周面被透光性材料涂覆。
8．根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁帶加工裝置，其特征在于所述金屬薄膜被加工成規(guī)定的圖案，具有多個(gè)小孔，貼在導(dǎo)輥的外圓周面上。
9．根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁帶加工裝置，其特征在于磁帶T與導(dǎo)輥的外圓周面通過支承托板將加工位置固定在規(guī)定高度上，使導(dǎo)輥脫離磁帶T，不與磁帶T相接觸，利用驅(qū)動(dòng)馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使之旋轉(zhuǎn)。
10．一種磁帶加工裝置，其特征是，具有一側(cè)面上形成具有規(guī)定圖案的透光部分以及遮光部分的自由旋轉(zhuǎn)的中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒，以軸線為中心旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，將平面狀的激光入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面并利用所述激光畫線的光學(xué)系統(tǒng)，一邊使磁帶處于位于入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面上透過透光部分的激光的光路上并且設(shè)定于不與所述轉(zhuǎn)筒接觸的位置上的加工位置處，一邊使背層朝向所述轉(zhuǎn)筒一側(cè)與所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)方向一致地縱向輸送磁帶的輸送裝置。
11．根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁帶加工裝置，其特征是，在所述加工位置與轉(zhuǎn)筒之間，具有透鏡光學(xué)系統(tǒng)。
12．根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁帶加工裝置，其特征在于加工轉(zhuǎn)筒與加工位置的間距g為0.3mm-15mm。
13．根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁帶加工裝置，其特征在于透鏡光學(xué)系統(tǒng)在橫向上調(diào)整透鏡光學(xué)系統(tǒng)的放大率，或者根據(jù)在橫向上形成的各加工線段各自設(shè)置透鏡光學(xué)系統(tǒng)。
14．一種磁帶加工裝置，其特征是，配置著在側(cè)面上具有多個(gè)貫通孔的自由旋轉(zhuǎn)的中空?qǐng)A筒狀的轉(zhuǎn)筒，和以軸線為中心旋轉(zhuǎn)所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，和將平面狀的激光入射到所述轉(zhuǎn)筒的內(nèi)側(cè)面并利用所述激光畫線的光學(xué)系統(tǒng)，和一邊使磁帶處于設(shè)定在入射到所述內(nèi)側(cè)面上并通過所述貫通孔的激光的光路上的加工位置處，一邊以將背層朝向所述轉(zhuǎn)筒一側(cè)的狀態(tài)與所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)方向一致縱向輸送磁帶的輸送裝置，和使所述轉(zhuǎn)筒內(nèi)部與外部產(chǎn)生壓力差的差壓產(chǎn)生機(jī)構(gòu)。
15．根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁帶加工裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn)筒在轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部，通過中心軸引入空氣，相對(duì)于外部處于加壓狀態(tài)。
16．根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁帶加工裝置，其特征在于將中心軸連接在抽氣泵或吸引用鼓風(fēng)機(jī)等排氣機(jī)構(gòu)上，相對(duì)于外部對(duì)轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部進(jìn)行減壓，從外部吸引空氣，或者設(shè)置送風(fēng)機(jī)構(gòu)，向轉(zhuǎn)筒本體外部送風(fēng)，將加工產(chǎn)生的、附著在貫通孔上的加工渣滓吸引到轉(zhuǎn)筒本體內(nèi)部。
全文摘要
一種磁帶加工裝置,配置著射出激光的光源,將激光入射到規(guī)定的加工位置的光學(xué)系統(tǒng),在加工位置上,使磁帶的背層朝向所述激光的光路的上游一側(cè),輸送磁帶的輸送機(jī)構(gòu),和在與磁帶輸送方向垂直相交的方向上具有旋轉(zhuǎn)軸、根據(jù)磁帶的輸送速度而自由旋轉(zhuǎn)的中空?qǐng)A管構(gòu)件。該裝置能夠穩(wěn)定地提供即使在磁帶制造裝置上,使磁帶的輸送速度高速化,也不會(huì)在輸帶輥等處發(fā)生磁帶打滑,并且翹曲程度小的具有優(yōu)良特性的磁帶。
文檔編號(hào)G11B5/84GK1300052SQ0012463
公開日2001年6月20日 申請(qǐng)日期2000年9月28日 優(yōu)先權(quán)日1999年10月6日
發(fā)明者鈴木久, 荒木實(shí) 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社