專利名稱：光盤裝置、聚焦值校正方法以及光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對于光盤記錄和重放數(shù)據(jù)的光盤裝置，特別涉及能在短期間內(nèi)、精度好地校正聚焦值，并具有良好的記錄／重放特性的光盤裝置。本發(fā)明還涉及在短期間內(nèi)、精度好地校正聚焦值的聚焦值校正方法。本發(fā)明還涉及光盤。
在對于光盤、記錄和重放數(shù)據(jù)的光盤裝置的領(lǐng)域中，已經(jīng)大量地使用光盤(CDscompact disks)。近來，具有大容量并能高速率傳輸數(shù)據(jù)的數(shù)字通用光盤(DVDsdigital versatile disks)開始用作記錄活動(dòng)圖像的媒體。此外，作為記錄／重放用光盤，磁光盤(MOMagneto-Optical)、相位轉(zhuǎn)換光盤(PDsPhase-Change Disks)和DVD-RAMs已經(jīng)實(shí)際地用作為記錄／重放用光盤。
隨著微處理技術(shù)的進(jìn)展，前述各種光盤不僅能記錄和重放文本數(shù)據(jù)，而且能記錄和重放聲音數(shù)據(jù)、靜止圖像數(shù)據(jù)和活動(dòng)圖像數(shù)據(jù)。開發(fā)具有足夠大的存儲(chǔ)各種數(shù)據(jù)的容量并能改變數(shù)據(jù)傳輸速率的光盤系統(tǒng)的需求增加。
為了增加光盤系統(tǒng)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)容量，一般地對于光盤減小在記錄和重放數(shù)據(jù)動(dòng)作中光點(diǎn)的大小，從而對于光盤高密度地記錄數(shù)據(jù)。光點(diǎn)的大小a由下式表示。
a=α×λ／NA其中，α是由光束強(qiáng)度分布決定的常數(shù)，λ是光束的波長，NA是光盤系統(tǒng)中物鏡的孔徑。
如果光盤系統(tǒng)具有發(fā)射短波長光束的半導(dǎo)體激光器并且物鏡具有大的NA的值，則在光盤的表面上能形成小的光點(diǎn)。如果這樣，那么系統(tǒng)能在光盤上高密度地記錄數(shù)據(jù)，并能具有大的存儲(chǔ)容量。
但是，如果用這種方法使光點(diǎn)變小，則聚焦深度變淺。也就是說，散焦的容差(即聚焦誤差)將不可避免地減小。聚焦深度通常用下式表示。
d∝λ／(NA)2也就是說，光束的波長越短，NA越大，焦點(diǎn)深度越淺。在對于光盤高密度地記錄和重放數(shù)據(jù)的光盤裝置中，對在物鏡的聚焦深度內(nèi)的光盤的記錄表面的位置，應(yīng)該進(jìn)行高精度的聚焦控制。
在聚焦控制中發(fā)生焦點(diǎn)偏移的原因很多，這可能起因于在伺服控制時(shí)穩(wěn)定狀態(tài)的偏移沒有完全被消除，可能起因于光盤襯底厚度的不同，也可能起因于由于光盤裝置中溫度上升而發(fā)生偏移變化使伺服目標(biāo)值變化。
在這些焦點(diǎn)偏移的原因中，由聚焦干擾因素的尺寸和增益決定穩(wěn)定狀態(tài)的偏移。在大部分高密度數(shù)據(jù)記錄／重放的場合，干擾(例如光盤的變形)減小并且聚焦干擾因素增加，因此，使穩(wěn)定狀態(tài)的偏移最小化。為了減小由于光盤襯底厚度的不同而產(chǎn)生的焦點(diǎn)偏移從而提高聚焦精度，可以按照ROM部分的抖動(dòng)(jitter)值對聚焦自動(dòng)地進(jìn)行調(diào)節(jié)。按照將光盤插入到光盤裝置中時(shí)檢測的抖動(dòng)值，將聚焦偏置改變成各種值，并選擇其中最希望的一個(gè)。
當(dāng)光盤裝置動(dòng)作時(shí)，難以除去在光盤裝置中由于溫度提高的偏移變化。為了除去光盤裝置動(dòng)作時(shí)的偏移變化，必須在短期間內(nèi)用簡單的裝置檢測偏移的變化，從而將聚焦移動(dòng)到最佳點(diǎn)上。但是，實(shí)際上在光盤裝置動(dòng)作時(shí)在短期間內(nèi)用簡單的裝置檢測偏移的變化是困難的。
本發(fā)明鑒于前述問題，其第1個(gè)目的在于提供一種光盤裝置，這種光盤裝置能在短期間內(nèi)精確地校正聚焦值并具有良好的記錄／重放特征。其第2個(gè)目的在于提供一種聚焦值校正方法，這種方法能用于光盤裝置以校正聚焦值。其第3個(gè)目的在于提供一種光盤，校正方法能對這種光盤校正聚焦值。
為達(dá)到第1個(gè)目的，本發(fā)明的光盤裝置，對具有信號(hào)記錄表面的光盤，記錄和重放數(shù)據(jù)，所述光盤裝置包括光頭裝置，所述光頭裝置將光點(diǎn)照射在光盤的信號(hào)記錄面上，聚焦控制裝置，所述聚焦控制裝置控制光頭裝置的聚焦處理，使所述光盤的信號(hào)記錄面位于所述光頭裝置照射的光點(diǎn)的聚焦距離內(nèi)，評價(jià)函數(shù)生成裝置，所述評價(jià)函數(shù)生成裝置根據(jù)所述光頭裝置由所述光盤的反射光生成的信號(hào)，生成用于校正在聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值的評價(jià)函數(shù)，控制裝置，所述控制裝置在由評價(jià)函數(shù)生成裝置生成的評價(jià)函數(shù)最小或者最大的位置設(shè)定初始聚焦值，同時(shí)在偏移這種初始聚焦值設(shè)定的位置，設(shè)置觀察點(diǎn)，并對應(yīng)于在所述觀察點(diǎn)上的評價(jià)函數(shù)的變化，校正所述初始聚焦值。
為達(dá)到第2個(gè)目的，本發(fā)明的聚焦值校正方法，用于在聚焦控制中使光盤的信號(hào)記錄面位于光頭照射在光盤上的光點(diǎn)的聚焦深度內(nèi)，所述方法包括下述步驟所述光頭裝置由所述光盤的反射光生成的信號(hào)生成評價(jià)函數(shù)，在用于校正設(shè)置在聚焦控制裝置中的聚焦值的評價(jià)函數(shù)最小或者最大的位置上，設(shè)定初始聚焦值的步驟，在偏移這種初始聚焦值設(shè)定的位置，設(shè)置觀察點(diǎn)，并在所述觀察點(diǎn)上，取得第1評價(jià)函數(shù)的步驟，判斷校正進(jìn)行所述聚焦控制的聚焦值的定時(shí)的步驟，在觀察點(diǎn)用判斷的定時(shí)取得第2評價(jià)函數(shù)的步驟，對應(yīng)于第1評價(jià)函數(shù)和第2評價(jià)函數(shù)的差，校正所述初始聚焦值。
為達(dá)到第3個(gè)目的，本發(fā)明的光盤，具有信號(hào)記錄面，在聚焦控制中使光盤的信號(hào)記錄面位于光頭照射在光盤上的光點(diǎn)的聚焦深度內(nèi)，其特征在于，所述光盤包括在信號(hào)記錄面上的伺服區(qū)域，和在伺服區(qū)域規(guī)定的部分設(shè)置的評價(jià)函數(shù)記錄區(qū)域，所述評價(jià)函數(shù)記錄區(qū)域用于記錄在聚焦控制中用于校正聚焦值的評價(jià)函數(shù)。
如前所述，將聚焦值校正成可靠聚焦控制的觀察點(diǎn)偏離最優(yōu)點(diǎn)，因此，能在短期間內(nèi)精確地校正聚焦值。因此，本發(fā)明的光盤裝置具有良好的記錄／重放特性。


圖1表示本發(fā)明的光盤裝置的方框圖。
圖2表示光盤裝置的主要部分的方框圖。
圖3表示對于光盤，光盤裝置記錄和重放數(shù)據(jù)的說明圖。
圖4表示用于說明光盤裝置動(dòng)作的流程圖。
圖5表示用于說明聚焦值設(shè)定和觀察點(diǎn)關(guān)系的評價(jià)函數(shù)特性圖。
圖6表示用于說明當(dāng)溫度上升時(shí)，最佳聚焦點(diǎn)和觀察點(diǎn)如何運(yùn)動(dòng)的評價(jià)函數(shù)特性圖。
圖7表示用于說明當(dāng)溫度下降時(shí)，最佳聚焦點(diǎn)和觀察點(diǎn)如何運(yùn)動(dòng)的評價(jià)函數(shù)特性圖。
下面，參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說明。如圖1所示，本實(shí)施形態(tài)的具有光頭2的光盤裝置，是對于光盤1的信號(hào)記錄面記錄和重放數(shù)據(jù)的光盤裝置。
這種光盤裝置除光頭2外，還包括矩陣電路3，PLL電路4，評價(jià)函數(shù)生成電路5，控制器6和伺服電路7。矩陣電路3對于光頭2的輸出，生成各種出錯(cuò)信號(hào)。PLL電路4由矩陣電路3生成的RF重放信號(hào)，生成系統(tǒng)時(shí)鐘信號(hào)。將系統(tǒng)時(shí)鐘信號(hào)提供給評價(jià)函數(shù)生成電路5。評價(jià)函數(shù)生成電路5由PLL電路4產(chǎn)生的抖動(dòng)(jitter)，生成評價(jià)函數(shù)(后面詳細(xì)地描述)?？刂破?按照評價(jià)函數(shù)生成電路5生成的評價(jià)函數(shù)，對伺服電路7進(jìn)行控制。伺服電路7在控制器6的控制下，如后詳細(xì)描述地進(jìn)行聚焦控制。
這種光盤裝置還包括接口電路8，ECC電路9，調(diào)制器10和記錄波形控制電路11。接口電路8將ECC電路連接到外部主計(jì)算機(jī)(未圖示)。ECC電路9通過接口電路8接收從外部主計(jì)算機(jī)來的命令和數(shù)據(jù)，并將數(shù)據(jù)校正碼加在數(shù)據(jù)上。調(diào)制器10對ECC電路9的輸出進(jìn)行解調(diào)。記錄波形控制電路11將由調(diào)制器10輸出的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成適當(dāng)幅度的記錄信號(hào)。將這種記錄信號(hào)提供給光頭2，并按照記錄信號(hào)的波形在光盤1上記錄標(biāo)記。
這種光盤裝置還包括波形均衡電路12，數(shù)據(jù)提取電路13和解調(diào)器14。波形均衡電路12對由矩陣電路3提供的RF信號(hào)的波形進(jìn)行均衡。數(shù)據(jù)提取電路13由波形均衡電路12的輸出提取2值化數(shù)據(jù)。解調(diào)器14對由數(shù)據(jù)提取電路13輸出的2值化數(shù)據(jù)進(jìn)行解調(diào)。
為了將數(shù)據(jù)記錄在光盤1上，ECC電路9通過接口電路8從外部主計(jì)算機(jī)接收命令和數(shù)據(jù)，并將數(shù)據(jù)校正碼加在數(shù)據(jù)上。將ECC電路9的輸出提供給調(diào)制器10。調(diào)制器10對來自ECC電路9的數(shù)據(jù)輸出進(jìn)行調(diào)制。將調(diào)制的數(shù)據(jù)提供給將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成適當(dāng)幅度的記錄信號(hào)控制電路11。將記錄信號(hào)提供給光頭2。光頭2生成具有相應(yīng)于記錄信號(hào)波形強(qiáng)度的激光束。光頭2照射激光束，這種激光束照射在光盤1上，因此，數(shù)據(jù)被記錄在光盤1上。
為了從光盤1重放數(shù)據(jù)，波形均衡電路12對由矩陣電路3提供的RF信號(hào)的波形進(jìn)行均衡。數(shù)據(jù)提取電路13由波形均衡電路12的輸出提取2值化數(shù)據(jù)。解調(diào)器14對由數(shù)據(jù)提取電路13輸出的2值化數(shù)據(jù)進(jìn)行解調(diào)。如果由于光盤1的記錄面有缺陷，則ECC電路9對讀出錯(cuò)誤進(jìn)行校正。通過接口電路8將校正后的2值化數(shù)據(jù)提供給外部主計(jì)算機(jī)。
伺服電路7接收來自矩陣電路3的各種出錯(cuò)信號(hào)。按照這種出錯(cuò)信號(hào)，伺服電路7進(jìn)行聚焦控制、跟蹤控制和線程(thread)控制等，因此能使光點(diǎn)精確地位于光盤1上。本發(fā)明適用于使光盤1的記錄面位于與光頭2一起使用的物鏡的聚焦深度內(nèi)的聚焦控制。由伺服電路7達(dá)到的伺服控制受到光盤裝置中由于溫度上升引起的偏移變化的影響。
下面，對在光盤裝置中校正伺服電路7中的初始聚焦值進(jìn)行說明。
首先，評價(jià)函數(shù)生成電路5由矩陣電路3的信號(hào)生成評價(jià)函數(shù)，這種矩陣電路3由光盤1返回的并由光頭2檢測到的光束生成。更確切地說，評價(jià)函數(shù)生成電路5在由矩陣電路3提供的RF信號(hào)生成系統(tǒng)時(shí)鐘信號(hào)時(shí)由PLL電路4產(chǎn)生的抖動(dòng)(jitter)生成評價(jià)函數(shù)。生成的評價(jià)函數(shù)用于聚焦控制。評價(jià)函數(shù)生成電路5除PLL電路4產(chǎn)生的抖動(dòng)外，也可以由RF信號(hào)的幅度生成評價(jià)函數(shù)。由控制器6讀出生成的評價(jià)函數(shù)。
控制器6基于本發(fā)明的聚焦值校正方法，校正聚焦值。在這種方法(下面詳細(xì)地描述)中，在評價(jià)函數(shù)最小點(diǎn)上設(shè)定初始聚焦值，并在偏移設(shè)置初始聚焦值的點(diǎn)上設(shè)置觀察點(diǎn)?？刂破?對初始聚焦值進(jìn)行校正。然后，按照在觀察點(diǎn)評價(jià)函數(shù)的變化，設(shè)定伺服電路7。
伺服電路7使用由控制器6校正的聚焦值，完成聚焦控制。圖2示出了伺服電路7及其外圍電路。如圖2所示，將校正后的聚焦值由控制器6提供給伺服電路7的比較電路15。將聚焦出錯(cuò)信號(hào)由矩陣電路3提供給比較電路15。比較電路15對聚焦出錯(cuò)信號(hào)與聚焦值進(jìn)行比較，發(fā)現(xiàn)聚焦出錯(cuò)與聚焦值的差。比較電路15通過驅(qū)動(dòng)放大器16將驅(qū)動(dòng)信號(hào)提供給線圈2a，直到聚焦出錯(cuò)與聚焦值的差為0為止。因此，在光頭2進(jìn)行聚焦控制。
下面，參照圖3對光盤1進(jìn)行說明。如圖3所示，光盤1包括記錄區(qū)域21，ROM區(qū)域22和在其記錄面上的4個(gè)凹坑區(qū)域23。每個(gè)凹坑區(qū)域23包括扇區(qū)標(biāo)記(SM)區(qū)域24，VFO區(qū)域25，段首(PApreamble)區(qū)域26，地址標(biāo)記(AM)區(qū)域27，地址ID數(shù)據(jù)(ID)區(qū)域28和聚焦調(diào)節(jié)(FA)區(qū)域29。記錄在SM區(qū)域24中的扇區(qū)標(biāo)記達(dá)到通常的凹坑地址。VFO區(qū)域用于完成PLL數(shù)據(jù)提取。地址數(shù)據(jù)設(shè)計(jì)成光道的位置，并在光盤1上記錄聚焦調(diào)節(jié)中使用的隨機(jī)數(shù)。但是，也可以不記錄隨機(jī)數(shù)，地址數(shù)據(jù)也可以用于達(dá)到聚焦調(diào)節(jié)。ROM區(qū)域22和凹坑區(qū)域23按照線性密度、光道間距等光學(xué)上是等效的。當(dāng)光盤1在箭頭30的方向上旋轉(zhuǎn)時(shí)，在光盤1上形成的從光頭2發(fā)射的激光束的光點(diǎn)，在箭頭31的方向上并在每個(gè)凹坑區(qū)域23上移動(dòng)。
光道數(shù)按照能容易讀出的模式記載在SM區(qū)域24中。VFO區(qū)域25用于實(shí)現(xiàn)PLL操作，以防止在ID區(qū)域28中同步。PA區(qū)域26是所謂的“保護(hù)區(qū)域”。AM區(qū)域27按照PLL操作，指出緊接著ID區(qū)域28。ID區(qū)域28對于在1個(gè)磁道中記錄磁道數(shù)、扇區(qū)數(shù)和其它數(shù)據(jù)是必須的。
FA區(qū)域29用于設(shè)置在光盤裝置中進(jìn)行聚焦控制的聚焦值。例如用隨機(jī)載波(carrier)模式記載在FA區(qū)域29中。評價(jià)函數(shù)生成電路5用隨機(jī)載波(carrier)模式計(jì)量PLL電路4產(chǎn)生的不抖動(dòng)(jitter)。在ID區(qū)域28的結(jié)束處，開始聚焦改變操作，并用隨機(jī)載波(carrier)模式計(jì)量這種不抖動(dòng)(jitter)。
如圖3所示，將4個(gè)凹坑區(qū)域23排列成十字狀。因此，光盤裝置4次執(zhí)行聚焦控制，每1次光盤1旋轉(zhuǎn)1次。
下面，參照圖4的流程圖對光盤裝置對于光盤1進(jìn)行聚焦控制進(jìn)行說明。流程圖示出了校正聚焦值設(shè)定的順序，或者按照本發(fā)明的聚焦值校正方法。控制器6實(shí)施聚焦值校正方法。
在步驟S1中，將光盤1插入到光盤裝置中。在步驟S2中，將光頭2移動(dòng)到ROM區(qū)域22，即光盤1的最內(nèi)周光道上。例如，用登山法校正聚焦值，使得評價(jià)函數(shù)成為直小。
如前所述，由PLL電路4產(chǎn)生的不抖動(dòng)(jitter)生成評價(jià)函數(shù)。作為替代，評價(jià)函數(shù)也可以是對于由最小標(biāo)記幅度的散焦程度2次函數(shù)地變化，并且對于散焦是充分敏感的。在步驟S3中，設(shè)定初始聚焦值fb。同時(shí)如圖5所示，設(shè)定觀察點(diǎn)f0。觀察點(diǎn)f0在其前后伺服系統(tǒng)操作穩(wěn)定并且盡可能偏移初始聚焦值fb。將聚焦值設(shè)定在觀察點(diǎn)f0，因此，在觀察點(diǎn)f0取得評價(jià)函數(shù)F(f0)。將評價(jià)函數(shù)F(f0)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。
然后，使用初始聚焦值fb。在步驟S4中，光盤裝置在光盤1上記錄數(shù)據(jù)或者從光盤1重放數(shù)據(jù)。在步驟S5中，確定數(shù)據(jù)是否完全記錄或者重放。如果確定數(shù)據(jù)還沒有完全被記錄或者重放，則將聚焦值暫時(shí)移位到每個(gè)凹坑區(qū)域23的聚焦調(diào)節(jié)(FA)區(qū)域29中的觀察點(diǎn)f0上，因?yàn)樘峁┰谛D(zhuǎn)的光盤1上，所以周期地出現(xiàn)。因此，在這時(shí)取得評價(jià)函數(shù)F’(f0)。這個(gè)評價(jià)函數(shù)F’(f0)可以大于前面取得的評價(jià)函數(shù)F(f0)，即F’(f0)＞F(f0)在這種情況下，評價(jià)函數(shù)F’(f0)表示包含例如在光盤裝置中溫度上升產(chǎn)生的偏移。也就是說，評價(jià)函數(shù)經(jīng)過了顯著地變化。因此，將初始聚焦值fb變化成聚焦值f’b，因此，聚焦值再次設(shè)定在最佳點(diǎn)上。這時(shí)，將觀察點(diǎn)f0設(shè)置在新的f’0上，f’0定義如下f’0=f0+(f’b-fb)
評價(jià)函數(shù)F’(f0)也可以小于前面取得的評價(jià)函數(shù)F(f0)，即F’(f0)＜F(f0)在這種情況下，評價(jià)函數(shù)F’(f0)表示在光盤裝置中溫度降低。也就是說，如圖7所示，初始聚焦值fb按照函數(shù)F’(f0)＜函數(shù)和F(f0)的差的絕對值，變化成聚焦值f’b。
如前所述，本發(fā)明的聚焦值校正方法由于僅僅在1個(gè)觀察點(diǎn)計(jì)量評價(jià)函數(shù)在幅度和方向上包含在聚焦值中的偏移，所以能校正伺服目標(biāo)值的變化。因?yàn)樵u價(jià)函數(shù)在觀察點(diǎn)最小，所以即使光頭2正在光盤1上記錄數(shù)據(jù)或者從光盤1上重放數(shù)據(jù)，也因?yàn)楣獗P1具有凹坑區(qū)域23，所以能校正聚焦值。因此，在數(shù)據(jù)記錄動(dòng)作和數(shù)據(jù)重放動(dòng)作時(shí)，能可靠地使散焦最小化。這能使光盤裝置對于光盤高密度地記錄和重放數(shù)據(jù)。
可以在每1次光盤旋轉(zhuǎn)規(guī)定的次數(shù)時(shí)校正用于聚焦控制的聚焦值。也可以當(dāng)光盤裝置的溫度變化預(yù)先確定的值時(shí)校正聚焦值。也可以在規(guī)定的時(shí)間間隔校正聚焦值。根據(jù)光盤1的旋轉(zhuǎn)次數(shù)，或者根據(jù)光盤裝置中的溫度變化，或者根據(jù)經(jīng)過的時(shí)間，CPU6決定校正聚焦值的定時(shí)。
權(quán)利要求
1．一種光盤裝置，對具有信號(hào)記錄表面的光盤，記錄和重放數(shù)據(jù)，其特征在于，包括光頭裝置，所述光頭裝置將光點(diǎn)照射在光盤的信號(hào)記錄面上，聚焦控制裝置，所述聚焦控制裝置控制光頭裝置的聚焦處理，使所述光盤的信號(hào)記錄面位于所述光頭裝置照射的光點(diǎn)的聚焦距離內(nèi)，評價(jià)函數(shù)生成裝置，所述評價(jià)函數(shù)生成裝置根據(jù)所述光頭裝置由所述光盤的反射光生成的信號(hào)，生成用于校正在聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值的評價(jià)函數(shù)，控制裝置，所述控制裝置在由評價(jià)函數(shù)生成裝置生成的評價(jià)函數(shù)最小或者最大的位置設(shè)定初始聚焦值，同時(shí)在偏移這種初始聚焦值設(shè)定的位置，設(shè)置觀察點(diǎn)，并對應(yīng)于在所述觀察點(diǎn)上的評價(jià)函數(shù)的變化，校正所述初始聚焦值。
2．如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，所述評價(jià)函數(shù)生成裝置生成對于散焦程度成二次函數(shù)變化的評價(jià)函數(shù)，控制裝置在評價(jià)函數(shù)最小的點(diǎn)設(shè)定初始聚焦值。
3．如權(quán)利要求2所述的光盤裝置，其特征在于，所述控制裝置與觀察點(diǎn)的評價(jià)函數(shù)正比地增加初始聚焦值。
4．如權(quán)利要求2所述的光盤裝置，其特征在于，所述控制裝置與觀察點(diǎn)的評價(jià)函數(shù)正比地減少初始聚焦值。
5．如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，所述光盤每旋轉(zhuǎn)規(guī)定的次數(shù)，所述控制裝置就校正在所述聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值。
6．如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，所述控制裝置每次對于規(guī)定的溫度變化值，校正所述聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值。
7．如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，所述控制裝置用規(guī)定的時(shí)間間隔，校正所述聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值。
8．如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，所述控制裝置按照從光盤返回的光，校正所述聚焦控制裝置中設(shè)定的聚焦值。
9．一種聚焦值校正方法，用于在聚焦控制中使光盤的信號(hào)記錄面位于光頭照射在光盤上的光點(diǎn)的聚焦深度內(nèi)，其特征在于，所述方法包括下述步驟所述光頭裝置由所述光盤的反射光生成的信號(hào)生成評價(jià)函數(shù)，在用于校正設(shè)置在聚焦控制裝置中的聚焦值的評價(jià)函數(shù)最小或者最大的位置上，設(shè)定初始聚焦值的步驟，在偏移這種初始聚焦值設(shè)定的位置，設(shè)置觀察點(diǎn)，并在所述觀察點(diǎn)上，取得第1評價(jià)函數(shù)的步驟，判斷校正進(jìn)行所述聚焦控制的聚焦值的定時(shí)的步驟，在觀察點(diǎn)用判斷的定時(shí)取得第2評價(jià)函數(shù)的步驟，對應(yīng)于第1評價(jià)函數(shù)和第2評價(jià)函數(shù)的差，校正所述初始聚焦值。
10．一種光盤，具有信號(hào)記錄面，在聚焦控制中使光盤的信號(hào)記錄面位于光頭照射在光盤上的光點(diǎn)的聚焦深度內(nèi)，其特征在于，所述光盤包括在信號(hào)記錄面上的伺服區(qū)域，和在伺服區(qū)域規(guī)定的部分設(shè)置的評價(jià)函數(shù)記錄區(qū)域，所述評價(jià)函數(shù)記錄區(qū)域用于記錄在聚焦控制中用于校正聚焦值的評價(jià)函數(shù)。
11．如權(quán)利要求10所述的光盤，其特征在于，在所述評價(jià)函數(shù)記錄區(qū)域中用凹坑的形式記錄生成評價(jià)函數(shù)的數(shù)據(jù)。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種光盤裝置、聚焦值校正方法以及光盤。光頭2和矩陣電路3從光盤1的返回光生成信號(hào)。評價(jià)函數(shù)生成電路5由光盤1重放的信號(hào)生成評價(jià)函數(shù)。控制器6在評價(jià)函數(shù)最小的點(diǎn)設(shè)定初始聚焦值。在伺服電路7中設(shè)定初始聚焦值?？刂破?在偏離設(shè)定初始聚焦值的點(diǎn)處,設(shè)定觀察點(diǎn)?？刂破?校正在伺服電路7中設(shè)定的初始聚焦值。
文檔編號(hào)G11B7/085GK1291771SQ0012709
公開日2001年4月18日 申請日期2000年9月15日 優(yōu)先權(quán)日1999年9月16日
發(fā)明者松本義典 申請人:索尼株式會(huì)社