專利名稱:光拾波裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種對CD等光盤讀取信息的光拾波裝置。更具體地,本發(fā)明涉及一種光拾波裝置的跟蹤線圈和對磁體配置的改進(jìn)。本發(fā)明頁涉及一種對用于將固定物鏡的透鏡夾具保持在磁性中立裝置用的磁性彈簧的改進(jìn)。
以往技術(shù)的光拾波裝置900如
圖10和圖11所示,包括相對外殼901以中心軸902為中心可回轉(zhuǎn)支撐,同時(shí)具有包含物鏡903在內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的被驅(qū)動(dòng)部904;裝在被驅(qū)動(dòng)部904上的聚焦線圈905及跟蹤線圈906;裝在外殼901上、以與各跟蹤線圈906對向的磁體907。外殼901的一部分作為軛鐵被設(shè)置在被驅(qū)動(dòng)部904的內(nèi)側(cè),在其與磁體907之間形成平行磁通。
再有,各跟蹤線圈906在被驅(qū)動(dòng)部904的側(cè)面被卷成矩形形狀,沿著中心902的一邊(以下稱驅(qū)動(dòng)邊)設(shè)置908,使其位于平行磁通之中。在此,考慮到光拾波裝置900的小型化等的因素,將所有跟蹤線圈906設(shè)置在物鏡903的反向側(cè),以使其夾住中心軸902。
在光拾波裝置900中,可藉由對跟蹤線圈906通電產(chǎn)生使被驅(qū)動(dòng)部904回轉(zhuǎn)的力,進(jìn)行跟蹤動(dòng)作。
然而,在上述光拾波裝置中,由于各跟蹤線圈906相對中心軸902非點(diǎn)對稱狀配置,因此在跟蹤動(dòng)作時(shí),一方的跟蹤線圈906一旦接近磁鐵907,則另一方的跟蹤線圈906就會遠(yuǎn)離磁鐵907。即,在跟蹤動(dòng)作時(shí),每個(gè)跟蹤線圈906相對于磁鐵907的位置關(guān)系是不一樣的。由此,也造成各個(gè)跟蹤線圈906磁性回路不一致。
與驅(qū)動(dòng)邊908對向的逆向通電的對向邊909有時(shí)還會受到來自磁體907漏磁的影響,由此極易產(chǎn)生如圖12所示的高頻區(qū)域相位紊亂的現(xiàn)象。
另外,在上述光拾波裝置900中,用于將被驅(qū)動(dòng)部904保持在磁性中立位置的磁性彈簧可由磁體907和與該磁體907磁場強(qiáng)度變化的區(qū)域相對峙的磁性片910構(gòu)成。
由于磁體907均衡磁化,因此,一般來說,必須將磁性片910配置在與磁體907外周邊緣相對峙的位置。
然而,磁體通常尺寸很大,往往在與其外周邊緣對峙的位置上不能確保安裝磁性片的空間。特別是,在磁體上的聚焦方向外周邊緣配置磁性片時(shí),因在光記錄媒體一側(cè)沒有空間,所以不得不在光記錄媒體反向側(cè)的磁體外周邊緣對峙的位置上配置磁性片。其結(jié)果,由于光拾波裝置的厚度是由與磁體的外周邊緣對峙的磁性片所占據(jù)的聚焦方向的尺寸來決定的,因此不利于裝置厚度的薄型化。
為此,本發(fā)明目的在于提供一種光拾波裝置,所述光拾波裝置在跟蹤動(dòng)作時(shí)可防止各個(gè)跟蹤線圈與磁體相對的位置關(guān)系不一樣,同時(shí),可防止與跟蹤線圈驅(qū)動(dòng)邊對向的邊受到漏磁影響。
本發(fā)明另一個(gè)目的在于在光拾波裝置中,提供一種不妨礙其薄型化、將透鏡夾具保持在磁性中空位置用的磁性彈簧。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明第1技術(shù)方案的光拾波裝置包括具有包含物鏡在內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的被驅(qū)動(dòng)部和,由沿光軸方向驅(qū)動(dòng)被驅(qū)動(dòng)部的聚焦線圈、沿與光軸正交方向驅(qū)動(dòng)的跟蹤線圈及磁體所構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)裝置;將跟蹤線圈相對中心軸作點(diǎn)對稱狀配置,同時(shí),將磁體配置在僅在跟蹤方向上產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的2條線圈邊中的一條線圈邊上形成交鏈磁通的位置上。
從而,由于將跟蹤線圈相對中心軸點(diǎn)對稱狀配置,因此,在被驅(qū)動(dòng)部回轉(zhuǎn)時(shí),各個(gè)跟蹤線圈相對磁體產(chǎn)生相同動(dòng)作。由此,使得各個(gè)跟蹤線圈的磁性回路一致,可相互抵消由各個(gè)跟蹤線圈產(chǎn)生的多余的力,因而,即使是在高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩。
又,由于在跟蹤方向上產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的1條線圈邊(驅(qū)動(dòng)邊)上交鏈磁通,驅(qū)動(dòng)邊以外的邊不會受到來自磁體漏磁的影響,可防止對跟蹤動(dòng)作造成影響。藉此,可防止該光拾波裝置在跟蹤動(dòng)作時(shí)產(chǎn)生高頻區(qū)域的相位紊亂。
本發(fā)明的第2技術(shù)方案是,在技術(shù)方案1的光拾波裝置中,將磁體相對跟蹤線圈作斜向配置。由此,因?yàn)榇磐ǚ较蚺c被驅(qū)動(dòng)部的回轉(zhuǎn)方向正交,所以可使通電后跟蹤線圈產(chǎn)生的力達(dá)到最大。
又,本發(fā)明的第3技術(shù)方案是,在技術(shù)方案1或2所述的光拾波裝置中,使相互對向夾住跟蹤線圈的磁體的磁極為同一極。由此,因?yàn)榇磐ǚ较驗(yàn)辄c(diǎn)對稱狀,所以,在各個(gè)跟蹤線圈驅(qū)動(dòng)邊的通電方向一致時(shí),可使各個(gè)跟蹤線圈產(chǎn)生的力作用于相同的回轉(zhuǎn)方向來驅(qū)動(dòng)被驅(qū)動(dòng)部回轉(zhuǎn)。
又,本發(fā)明的第4技術(shù)方案是,在技術(shù)方案1至3之任一項(xiàng)所述的光拾波裝置中,設(shè)有2個(gè)跟蹤線圈。由此,因?yàn)閷⒏櫨€圈的個(gè)數(shù)減少到最低限度,實(shí)現(xiàn)了可動(dòng)部的輕量化,所以可提高高速隨動(dòng)性。
又,本發(fā)明的第5、第6、第7技術(shù)方案是,在設(shè)有保持物鏡的透鏡夾具、使所述透鏡夾具沿著跟蹤方向及聚焦方向移動(dòng)的磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、以及將所述透鏡夾具保持在磁性中立位置的磁性彈簧的光拾波裝置中,所述磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述磁性彈簧構(gòu)成如下首先,所述磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括一對跟蹤線圈,聚焦線圈,及在與所述跟蹤線圈之間及與所述聚焦線圈之間形成磁性回路的一對磁體。所述一對跟蹤線圈和所述一對磁體分別相對所述透鏡保持架上的跟蹤方向的回轉(zhuǎn)中心線作點(diǎn)對稱狀配置,在各個(gè)跟蹤線圈上的繞線方向相互呈180度反轉(zhuǎn)的第1繞線部分和第2繞線部分中,在一方的繞線部分上設(shè)定所述磁體與所述跟蹤線圈的相對位置,以使所述磁體形成交鏈磁通。
又,所述磁性彈簧由磁性片和與該磁性片對峙的所述磁體構(gòu)成,在所述磁體上,在將所述磁性片可移動(dòng)的范圍投影到所述磁體上的區(qū)域內(nèi),形成了磁場強(qiáng)度變化的部分,所述磁性片與該部分對峙。
這里,所述磁體具有第1磁化部分和與該第1磁化部分磁化程度不一樣的第2磁化部分,并可作成這樣的結(jié)構(gòu)利用這些磁化部分形成所述磁場強(qiáng)度變化的部分。
所述磁體也可采用如下結(jié)構(gòu)在均衡磁化的同時(shí),在投影到所述磁體上的區(qū)域內(nèi)形成缺口或通孔,由該缺口或通孔形成所述磁場強(qiáng)度變化的部分。
在本發(fā)明的光拾波裝置中,由于在投影到磁體上的區(qū)域內(nèi)形成了磁場強(qiáng)度變化的部分,所以,可在所述投影至該磁體上的區(qū)域中配置磁性片。藉此,可確保在與磁體外周邊緣對峙配置磁性片時(shí)的設(shè)置空間,又不用擔(dān)心會增加裝置的厚度尺寸。
圖1為表示本發(fā)明的光拾波裝置一實(shí)施形態(tài)的俯視圖。
圖2為表示光拾波裝置的俯視圖。
圖3為表示跟蹤線圈繞線狀態(tài)的示意圖。
圖4為表示光拾波裝置又一實(shí)施形態(tài)的俯視圖。
圖5為表示光拾波裝置跟蹤動(dòng)作時(shí)的相位差及其S/N比的頻率特性曲線圖。
圖6(A)、(B)分別為適用于本發(fā)明的光拾波裝置概略俯視圖和概略側(cè)視圖。
圖6(C)表示磁體、磁性片以及缺口位置關(guān)系。
圖8為表示圖6的光拾波裝置變形例的分解軸側(cè)圖。
圖9為表示適用于本發(fā)明的光拾波裝置另一例的概略俯視圖和概略側(cè)視圖。
圖10為表示傳統(tǒng)式光拾波裝置的俯視圖。
圖11為表示傳統(tǒng)式光拾波裝置的分解組裝圖。
圖12表示傳統(tǒng)式光拾波裝置跟蹤動(dòng)作時(shí)的相位差及其S/N比的頻率特性曲線圖。
下面,按照附圖所述的實(shí)施形態(tài)一例詳細(xì)說明本發(fā)明的結(jié)構(gòu)。圖1至圖3表示本發(fā)明的光拾波裝置1的一個(gè)實(shí)施形態(tài)。光拾波裝置1包括具有包含物鏡2在內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的被驅(qū)動(dòng)部3,由沿光軸L方向驅(qū)動(dòng)被驅(qū)動(dòng)部3的聚焦線圈4,在與光軸L正交方向驅(qū)動(dòng)的跟蹤線圈5和磁體6的驅(qū)動(dòng)裝置7。將跟蹤線圈5相對中心軸10點(diǎn)對稱狀配置,同時(shí),將磁體6配置在僅在跟蹤方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的2條線圈邊8、14中的一條線圈邊(以下,稱驅(qū)動(dòng)邊)上產(chǎn)生交鏈磁通的位置上。為此,因?yàn)閷⒏櫨€圈5相對中心軸10點(diǎn)對稱配置,所以,在被驅(qū)動(dòng)部3回轉(zhuǎn)時(shí),各個(gè)跟蹤線圈5相對磁體6產(chǎn)生相同動(dòng)作。藉此,各個(gè)跟蹤線圈5的磁性回路一致,可相互抵消由各個(gè)跟蹤線圈5產(chǎn)生的多余的力,即使在高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩。而且,可均衡、圓滑而又高精度地進(jìn)行被驅(qū)動(dòng)部3的跟蹤動(dòng)作,可防止相位紊亂。另外,由于只有驅(qū)動(dòng)邊8交鏈磁通,因此除了驅(qū)動(dòng)邊以外的邊、例如相對驅(qū)動(dòng)邊8逆向通電的對向邊14不會受到來自磁體6的漏磁影響,可防止對跟蹤動(dòng)作造成影響。
被驅(qū)動(dòng)部3相對外殼9由中心軸10作可回轉(zhuǎn)的支撐。外殼9的局部作為軛鐵13被設(shè)置在被驅(qū)動(dòng)部3的內(nèi)側(cè),在與磁體6之間形成平行磁通。
磁體6相對跟蹤線圈5作斜向配置,即,磁體6的磁通方向相對跟蹤線圈5的中心線作斜向配置。由于可將磁通方向與被驅(qū)動(dòng)部3的回轉(zhuǎn)方向正交,因此可使通電后的跟蹤線圈5產(chǎn)生的力達(dá)到最大,提高跟蹤動(dòng)作的效率。
又,相互對向夾住跟蹤線圈5的磁體6的磁極為同一極。由于可將磁通方向相對中心軸10呈點(diǎn)對稱狀,因此可在將各個(gè)跟蹤線圈5的驅(qū)動(dòng)邊8的通電方向作成一致時(shí),可使各個(gè)跟蹤線圈5的驅(qū)動(dòng)邊8產(chǎn)生的力作用于相同的回轉(zhuǎn)方向,藉此,可相互抵消各跟蹤線圈5產(chǎn)生的多余的力,即使是高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩。
聚焦線圈4和跟蹤線圈5卷繞、形成在被驅(qū)動(dòng)部3上。具體地說,如圖3所示,相對于在被驅(qū)動(dòng)部3的兩側(cè)部所形成的卷繞部11,用連續(xù)的1根線圈繞成2個(gè)跟蹤線圈5。藉此,可使各個(gè)跟蹤線圈5的驅(qū)動(dòng)邊8的通電方向一致。
在光拾波裝置1中,設(shè)有2個(gè)跟蹤線圈5、5。由此,由于可實(shí)現(xiàn)被驅(qū)動(dòng)部3的輕量化,因此可提高高速隨動(dòng)性。
又,聚焦線圈4是將與光軸L平行的線作為中心卷繞在被驅(qū)動(dòng)部3上。在光拾波裝置1中,由于聚焦動(dòng)作用的磁體與跟蹤動(dòng)作用的磁體是共用的,因此可減少磁體6的設(shè)置數(shù),實(shí)現(xiàn)輕量化。
在本實(shí)施形態(tài)中,各線圈4、5是直接卷繞在被驅(qū)動(dòng)部3上。但并不限于此,例如也可將形成線圈4、5的軟件印刷回路基板和腐蝕性線圈或者各自組裝而成的線圈本體貼附在被驅(qū)動(dòng)部3上。
對光拾波裝置1的配置跟蹤線圈5和磁性6以外的結(jié)構(gòu)不作限定,也可采用已知的或者新開發(fā)的結(jié)構(gòu)。
下面說明上述光拾波裝置1的跟蹤動(dòng)作。在啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置7,向跟蹤線圈5通電后,在與驅(qū)動(dòng)邊8平行的磁場之間產(chǎn)生力,使被驅(qū)動(dòng)部3回轉(zhuǎn)。由此可進(jìn)行跟蹤動(dòng)作。由于跟蹤線圈5相對中心軸10點(diǎn)對稱狀配置,都相對于磁體6產(chǎn)生相同動(dòng)作,因此,可相互抵消各個(gè)跟蹤線圈5產(chǎn)生的多余的力,即使是高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩,又由于相對驅(qū)動(dòng)邊8逆向通電的對向邊14不會受到漏磁影響,故可防止高頻區(qū)域的相位紊亂。并且,將跟蹤線圈5減少至2個(gè),實(shí)現(xiàn)了可動(dòng)部分的輕量化,因此可提高高速隨動(dòng)性。
上述實(shí)施形態(tài)是適用于本發(fā)明的1個(gè)較佳的實(shí)施例。但不限于此,在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)可采用各種變形例,例如,在上述實(shí)施形態(tài)中是用1根線繞成2個(gè)跟蹤線圈5的,但并不限于此,也可用2根線各自形成,分別進(jìn)行通電。此時(shí),通過將跟蹤線圈5點(diǎn)對稱狀配置,即使是高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩。
又,在本實(shí)施形態(tài)中是將各個(gè)磁體6相對跟蹤線圈5斜向配置,但并不限于此,例如,也可將圖4所示的各個(gè)磁體6配置成只有跟蹤線圈5的驅(qū)動(dòng)邊8交鏈磁通即可,對其方向性不作限定。通過這種方法配置磁體6,因跟蹤線圈5的對向邊14不會受到漏磁影響,故可防止高頻區(qū)域的相位紊亂。
又,在本實(shí)施形態(tài)中是設(shè)置了2個(gè)跟蹤線圈5,但并不作限定,也可設(shè)置3個(gè)以上。無論哪一種場合,只要將跟蹤線圈5相對中心軸10呈點(diǎn)對稱狀配置,并只在驅(qū)動(dòng)邊8交鏈磁通的位置上配置磁體6,就可在高頻區(qū)域獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩,可防止相位紊亂。
又,在本實(shí)施形態(tài)中是將相互對向夾住跟蹤線圈5的磁體6的磁極形成同一極,但并不作限定,也可將這些磁體6的磁極設(shè)置成反向極。此時(shí),通過向一方的跟蹤線圈5的通電方向設(shè)置成與上述實(shí)施形態(tài)相反的方向,也同樣能進(jìn)行跟蹤動(dòng)作。
實(shí)施例利用配置成圖1至圖3所示的點(diǎn)對稱狀的具有跟蹤線圈5的本發(fā)明的光拾波裝置1,對跟蹤動(dòng)作時(shí)的相位差及其S/N比的頻率特性作了測定。其結(jié)果詳見圖5。
比較例利用配置成圖10和圖11所示的非點(diǎn)對稱狀的具有跟蹤線圈906的傳統(tǒng)式光拾波裝置900,對跟蹤動(dòng)作時(shí)的相位差及其S/N比的頻率特性作了測定。其結(jié)果詳見圖12。
通過圖5與圖12的比較可以看出,利用點(diǎn)對稱配置的光拾波5的場合要比利用非點(diǎn)對稱配置的跟蹤線圈906的場合更能抑制高頻區(qū)域的振動(dòng)。即,采用本發(fā)明的光拾波裝置1,可防止跟蹤動(dòng)作時(shí)的高頻區(qū)域產(chǎn)生的相位紊亂。
下面,參照圖紙,就磁性彈簧的改良介紹適用于本發(fā)明的光拾波裝置的圖6(a)、(b)分別為本例的光拾波裝置的概略俯視圖和概略側(cè)視圖,圖7為該光拾波裝置的分解軸側(cè)圖。本例的光拾波裝置101采用滑動(dòng)擺動(dòng)型結(jié)構(gòu),并組裝有沿跟蹤方向和聚焦方向向驅(qū)動(dòng)物鏡的磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
詳細(xì)地說,本例的光拾波裝置101具有外殼102,在其中央設(shè)有垂直立起狀的中心軸(滑動(dòng)軸)103,形成有夾住中心軸(滑動(dòng)軸)103、在點(diǎn)對稱的位置上將外殼的一部分垂直立起后形成的一對外軛鐵104、105。又,在該外軛鐵104、105的內(nèi)側(cè)位置上,形成有夾住中心軸(滑動(dòng)軸)103、在點(diǎn)對稱位置上將外殼的局部垂直立起后形成的一對內(nèi)軛鐵106、107。
作為保持物鏡108的被驅(qū)動(dòng)部的透鏡夾具109在沿著滑動(dòng)軸軸線F的方向(聚焦方向)滑動(dòng)自如的同時(shí),以該軸F為中心沿回轉(zhuǎn)方向(跟蹤方向)回轉(zhuǎn)自如地受中心軸(滑動(dòng)軸)103支撐。在透鏡109上形成供內(nèi)軛鐵106、107穿通的通孔109a、109b。
磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括裝在被驅(qū)動(dòng)部即透鏡夾具109外周面上的一對跟蹤線圈111、112,裝在透鏡夾具109上的聚焦本圈121以及裝在外殼側(cè)的跟蹤·聚焦兼用的一對磁體131、132。跟蹤線圈111、112粘接固定在透鏡夾具109外周面形成的一對線圈安裝面109c、109d上,相對軸線F,即透鏡的回轉(zhuǎn)中心線呈點(diǎn)對稱狀配置。聚焦線圈121裝在透鏡夾具109上,將一對內(nèi)軛鐵106、107圍住。一對磁體131、132粘接固定在外軛鐵104、105的內(nèi)側(cè)面上,相對回轉(zhuǎn)中心線L呈點(diǎn)對稱狀配置。
各個(gè)跟蹤線圈111、112與相對應(yīng)的各個(gè)磁體131、132的相互位置關(guān)系規(guī)定如下。即,在各個(gè)跟蹤線圈111、112上的繞線方向相互180度反轉(zhuǎn)的第1繞線部分111a、112a與第2繞線部分111b、112b中,只有在一方的繞線部分111a、112a上磁體131、132交鏈磁通。
這里,本例的光拾波裝置101組裝有搭載在被驅(qū)動(dòng)部即透鏡夾具109上的、將透鏡108保持在磁性中立位置用的磁性彈簧140a、140b。本例的磁性彈簧140a由一方的磁體131和裝在透鏡夾具109上的磁性片141構(gòu)成。同樣,本例的磁性彈簧140b由一方的磁體132和裝在透鏡109上的磁性片142構(gòu)成。本例的磁體131、132通過使一定厚度的長方向形狀的磁性體均衡磁化后,將與跟蹤線圈111、112對峙的內(nèi)側(cè)面的一方磁極形成例如N極,在另一方的外側(cè)面上將另一方磁極形成例如S極。
又,在磁體131、132的中心開設(shè)圓形通孔131a、132a,藉由這些圓形通孔131a、132a的形成,在磁體131、132上,在磁性片141、142可移動(dòng)的范圍投影到磁體131、132上的區(qū)域(在磁性片141上如圖6(b)中斜線所示的區(qū)域)A內(nèi),形成了磁場強(qiáng)度變化的部分。另外,在磁性片142上,形成與圖6(b)相同的投影到磁體上的域A。磁性片141(142)被配置在如此形成的與磁場強(qiáng)度最大變化的部分相對峙的位置上。在本例中,就是配置在與圓形通孔131a(132a)對峙的位置上。
在以上結(jié)構(gòu)的本例的光拾波裝置101中,將跟蹤線圈111、112相對軸線F點(diǎn)對稱狀配置,磁體131、132也同樣呈點(diǎn)對稱狀配置。由此,即使在透鏡夾具109沿跟蹤方向回轉(zhuǎn)的場合下,一方的跟蹤線圈111與磁體131的相對位置關(guān)系以及另一方的跟蹤線圈112與磁體132的相對位置關(guān)系均能保持在相互同一的狀態(tài)。并且,只有在跟蹤線圈111、112的一方繞線部分111a、112a上產(chǎn)生磁體131、132的交鏈磁通。
其結(jié)果,由于在被驅(qū)動(dòng)部即透鏡夾具109回轉(zhuǎn)時(shí),可相互抵消各個(gè)跟蹤線圈111、112產(chǎn)生的多余的力,因此,即使在高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩,又由于各個(gè)跟蹤線圈111、112上的通電方向相反的繞線部分111b、112b不會受到來自磁體131、132的漏磁影響,故可防止高頻區(qū)域的相位紊亂。
再有,本例的光拾波裝置101的磁性彈簧140a、140b在投影到磁體131、132上的區(qū)域A中形成磁場強(qiáng)度變化的部分,在與該變化最大的部分對峙的位置設(shè)有磁性片141、142。由于不需要將磁性片141、142與磁體131、132外周邊緣部分對峙,因此,就沒有必要在與透鏡夾具109上的磁體131、132外周邊緣對峙的部分確保磁性片設(shè)置空間。特別是可以解決在將磁性片配置在位于磁體131、132聚焦方向F的上下外周邊緣時(shí)增大裝置尺寸這一問題。
在本例中,是將磁性彈簧140a、140b配置在兩側(cè),向圖1的左右、上下方向均等施力,故可防止動(dòng)作引起的相位紊亂,但磁性彈簧也可設(shè)置在某一側(cè)上。
其次,為了改變投影到磁體131、132上的區(qū)域A中的磁場強(qiáng)度,也可不用通孔,而是如圖6(c)和圖8的磁體131A、132A那樣,在其聚焦方向中段的位置上形成沿橫向切開的圓弧狀缺口131b、132b。在此場合,只要將作為通用零件的另一方磁體132A相對軸線F呈點(diǎn)對稱狀配置即可。
另外,也可不采用磁體131、132均衡磁化的結(jié)構(gòu),而是局部性地使磁化程度變化,來改變投影到磁體上的區(qū)域A中的磁場強(qiáng)度。
圖9(a)、(b)表示適用于本發(fā)明的鋼絲吊架(跟蹤線圈ire suspension)方式的光拾波裝置。在圖示的光拾波裝置151中,保持物鏡152的被驅(qū)動(dòng)部即透鏡夾具153由左右一對鋼絲吊架154、155支撐可沿聚焦方向F和跟蹤方向T移動(dòng)。沿跟蹤方向和聚焦方向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由二對跟蹤線圈161、162和171、172;跟蹤·聚焦合用的一對磁體181、182以及聚焦線圈191構(gòu)成。
在此場合,一對跟蹤線圈161、162相對透鏡夾具153跟蹤方向的回轉(zhuǎn)中心線呈點(diǎn)對稱狀配置,另一對跟蹤線圈171、172也同樣點(diǎn)對稱狀配置,一對磁體181、182也是點(diǎn)對稱狀配置。在此基礎(chǔ)上,設(shè)定只能在跟蹤線圈161、171上的一方側(cè)的繞線部分161a、171a形成磁體181、182的交鏈磁通,同樣,只能在跟蹤線圈162、172上的一方側(cè)的繞線部分162a、172a形成磁體181、182的交鏈磁通。
磁性彈簧由磁體181以及裝在透鏡夾具153上的磁性片156構(gòu)成。本例也是在磁體181的中心開設(shè)通孔181a,形成磁場強(qiáng)度變化的部分,將磁性片156配置在與其變化最大部分對峙的位置上。
采用如此結(jié)構(gòu)的本例的光拾波裝置151,也可以獲得與圖6和圖7所示的光拾波裝置101相同的效果。
以上對作為磁場強(qiáng)度變化部分的通孔或缺口作了說明,但不作限定,只要能使磁場強(qiáng)度變化,例如也可在磁體上形成凸部。
另外,實(shí)施例對通孔、缺口的大小和形狀不作限定,只要能形成磁場強(qiáng)度變化即可。
從以上說明中可以看出,采用本發(fā)明的光拾波裝置,由于將跟蹤線圈相對中心軸點(diǎn)對稱狀配置,在被驅(qū)動(dòng)部回轉(zhuǎn)時(shí),各個(gè)跟蹤線圈相對磁體產(chǎn)生相同動(dòng)作,因此,可使各個(gè)跟蹤線圈的磁性回路一致,相互抵消各個(gè)跟蹤線圈產(chǎn)生的多余的力,即使在高頻區(qū)域也能獲得穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩。
又由于只能在跟蹤方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的1條線圈邊(驅(qū)動(dòng)邊)上形成交鏈磁通,除了驅(qū)動(dòng)邊以外的邊不會受到來自磁體的漏磁影響,可防止對跟蹤動(dòng)作造成影響,因此,可防止該光拾波裝置在跟蹤動(dòng)作時(shí)高頻區(qū)域的相位紊亂。
又,采用本發(fā)明的光拾波裝置,由于磁通方向與被驅(qū)動(dòng)部的回轉(zhuǎn)方向正交,因此,可使通電后的跟蹤線圈產(chǎn)生的力達(dá)到最大,提高跟蹤動(dòng)作的效率。
又,采用本發(fā)明的光拾波裝置,由于磁通方向呈點(diǎn)對稱狀,因此,可在各個(gè)跟蹤線圈驅(qū)動(dòng)邊的通電方向相同時(shí),各個(gè)跟蹤線圈產(chǎn)生的力作用于同一回轉(zhuǎn)方向來使被驅(qū)動(dòng)部回轉(zhuǎn)。
又,采用本發(fā)明的光拾波裝置,由于可將跟蹤線圈的個(gè)數(shù)減少到最低限度,實(shí)現(xiàn)可動(dòng)部的輕量化,因此可提高高速隨動(dòng)性,從而可適應(yīng)近年來光盤信息讀取的高速化。
再有,本發(fā)明的光拾波裝置是將磁體和跟蹤線圈相對透鏡夾具跟蹤方向的回轉(zhuǎn)中心線點(diǎn)對稱狀配置,只能在跟蹤線圈上的向一方繞線的繞線部分形成磁體的交鏈磁通,將透鏡夾具保持在磁性中立位置用的磁性彈簧由上述磁體和磁性片構(gòu)成,所述磁體在將所述磁性片可移動(dòng)的范圍投影到所述磁體上的區(qū)域內(nèi),形成磁場強(qiáng)度變化的部分,將磁性片配置在與該變化部分對峙的位置。
從而,采用本發(fā)明,與采用將磁性片與磁體外周邊緣對峙狀配置的磁性彈簧結(jié)構(gòu)相比,可簡單地確保磁性片的設(shè)置空間,對裝置薄型化極為有利。并且,由于磁體與磁性片間的磁性回路設(shè)置簡單,因此便于選擇磁性片有形狀,安裝作業(yè)也很簡單。
權(quán)利要求
1.一種光拾波裝置,其特征在于,光拾波裝置包括具有包含物鏡在內(nèi)光學(xué)系統(tǒng)的被驅(qū)動(dòng)部,由沿光軸方向驅(qū)動(dòng)所述被驅(qū)動(dòng)部的聚焦線圈、與光軸正交方向驅(qū)動(dòng)的跟蹤線圈和磁體構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)裝置將所述跟蹤線圈相對中心軸呈點(diǎn)對稱狀配置,同時(shí),將所述磁體配置在僅在跟蹤方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的2條線圈邊中的一條線圈邊形成交鏈磁通的位置上。
2.如權(quán)利要求1所述的光拾波裝置,其特征在于,將所述磁體相對所述跟蹤線圈斜向配置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光拾波裝置,其特征在于,相互對向夾住所述跟蹤線圈的所述磁體的磁極為同一極。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的光拾波裝置,其特征在于,所述裝置具有2個(gè)所述跟蹤線圈。
5.一種光拾波裝置,所述裝置包括保持物鏡的透鏡夾具,沿著跟蹤方向和聚焦方向移動(dòng)所述透鏡夾具的磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),將所述透鏡夾具保持在磁性中立位置的磁性彈簧,其特征在于,所述磁性驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有一對跟蹤線圈、聚焦線圈以及在與所述跟蹤線圈之間和與所述聚焦線圈之間形成磁性回路的一對磁體;所述一對跟蹤線圈和所述一對磁體分別相對所述透鏡夾具上的跟蹤方向的回轉(zhuǎn)中心線呈點(diǎn)對稱狀配置;設(shè)定所述磁體與所述跟蹤線圈的相互位置,以使在各個(gè)跟蹤線圈上的繞線方向相互呈180度反轉(zhuǎn)的第1繞線部分和第2繞線部分中,只有在一方的繞線部分上所述磁體形成交鏈磁通;所述磁性彈簧由磁性片以及與該磁性片對峙的所述磁體構(gòu)成;所述磁體在將所述磁性片可移動(dòng)的范圍投影到所述磁體上的區(qū)域內(nèi),形成磁場強(qiáng)度變化的部分;所述磁性片與該部分對峙。
6.如權(quán)利要求5所述的光拾波裝置,其特征在于,所述磁體具有第1磁化部分以及與該第1磁化部分磁化程度不一樣的第2磁化部分,由這些磁化部分形成所述磁場強(qiáng)度變化的部分。
7.如權(quán)利要求5所述的光拾波裝置,其特征在于,所述磁體被均衡磁化,并在投影到所述磁體上的區(qū)域內(nèi)形成缺口或通孔,由該缺口或通孔來形成所述磁場強(qiáng)度變化的部分。
全文摘要
一種光拾波裝置,包括:具有包含物鏡在內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的被驅(qū)動(dòng)部以及由沿光軸方向驅(qū)動(dòng)所述被驅(qū)動(dòng)部的聚焦線圈、與光軸正交方向驅(qū)動(dòng)的跟蹤線圈和磁體構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)裝置,所述跟蹤線圈相對中心軸呈點(diǎn)對稱狀配置,所述磁體配置在跟蹤方向產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的2條線圈邊中的只有一條線圈邊形成交鏈磁通的位置,通過對跟蹤線圈和磁體的配置以及對磁性彈簧的改良,可獲得高頻區(qū)域穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)力矩,防止跟蹤動(dòng)作時(shí)的相位紊亂,并可使裝置薄型化。
文檔編號G11B7/09GK1297227SQ0013170
公開日2001年5月30日 申請日期2000年9月27日 優(yōu)先權(quán)日1999年9月27日
發(fā)明者小澤健, 石川政幸, 鐮田亨 申請人:株式會社三協(xié)精機(jī)制作所