專利名稱：光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是有關(guān)DVD雙層盤片被檢測(cè)到聚焦誤差信號(hào)達(dá)到峰值時(shí)，便切換至閉回路控制系統(tǒng)，以有效增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
公知的DVD光盤片，如

圖1A及圖1B所示，通常分為單層DVD盤片(DVD5)10及雙層DVD盤片(DVD9)20兩種，其數(shù)據(jù)是存放于反射層中，而單層DVD盤片10只有一個(gè)反射層11，雙層DVD盤片20則具有兩個(gè)反射層，分別為第0層反射層21及第1層反射層22，因此，雙層DVD盤片20的數(shù)據(jù)容量為單層DVD盤片10的兩倍。
在此，先對(duì)光驅(qū)光學(xué)讀取頭的讀取原理加以說明，如圖2所示，激光二極管31是用來產(chǎn)生雷射光，此雷射光經(jīng)過分光器(beam splitter)32及物鏡(object lens)33后產(chǎn)生聚焦點(diǎn)34，由聚焦制動(dòng)器(focus actuator)35控制物鏡33做上下移動(dòng)，以改變聚焦點(diǎn)34的位置，該聚焦點(diǎn)34打在盤片后產(chǎn)生的反射光經(jīng)過該分光器32，將其導(dǎo)至光檢測(cè)器36上，并從該光檢測(cè)器36得到一些有用的光學(xué)信號(hào)，如聚焦誤差信號(hào)(focus error signal)或射頻信號(hào)(RFsignal)等。
一般而言，是采用開回路控制系統(tǒng)40或閉回路控制系統(tǒng)50來控制該聚焦制動(dòng)器35，如圖3A所示為一開回路控制系統(tǒng)40，使用者可根據(jù)需求發(fā)送控制命令至數(shù)字/模擬信號(hào)處理電路41，由該數(shù)字/模擬信號(hào)處理電路41產(chǎn)生控制信號(hào)，經(jīng)過驅(qū)動(dòng)電路42放大后，產(chǎn)生聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)直接驅(qū)動(dòng)該聚焦制動(dòng)器35，使得該物鏡33做上下移動(dòng)，此時(shí)可由該光檢測(cè)器36經(jīng)射頻放大器43截取出聚焦誤差信號(hào)，來代表聚焦點(diǎn)34與光盤片間的距離關(guān)系。
圖3B為一閉回路控制系統(tǒng)50，其與該開回路控制系統(tǒng)40近似，不同之處僅為將聚焦誤差信號(hào)回授至控制命令端，則該聚焦制動(dòng)器35將依聚焦誤差信號(hào)作上下微調(diào)，使得該聚焦點(diǎn)34準(zhǔn)確鎖定在反射層上。
另外，參閱圖4所示，對(duì)于單層DVD盤片10而言，如想得到盤片上的數(shù)據(jù)，必須將雷射光準(zhǔn)確而穩(wěn)定地聚焦鎖定于該反射層11上，為達(dá)到此目的，首先需利用開回路控制系統(tǒng)40使聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)(focus drive signal)輸出三角波61，并驅(qū)動(dòng)該物鏡33作上下尋找聚焦點(diǎn)34的動(dòng)作，當(dāng)雷射光的焦點(diǎn)跨過該反射層11時(shí)，聚焦誤差信號(hào)會(huì)產(chǎn)生一S型曲線62，此S型曲線62的中點(diǎn)即是最佳的聚焦點(diǎn)34，同時(shí)，射頻水平信號(hào)(RF level signal)接近最大值，若在此時(shí)將該開回路控制系統(tǒng)40切換至閉回路控制系統(tǒng)50，即可使雷射光準(zhǔn)確且穩(wěn)定聚焦至該反射層11上。
對(duì)于雙層DVD盤片20而言，數(shù)據(jù)因分別存放于該第0層反射層21及第1層反射層22中，為要讀取不同位置的數(shù)據(jù)，有時(shí)該聚焦點(diǎn)34必須從第0層反射層21跳至第1層反射層22，或是從第1層反射層22跳至第0層反射層21，而這種切換聚焦點(diǎn)34至不同層的過程稱為聚焦跳層(focus jump)，如圖5所示，是將光驅(qū)從第0層反射層21跳至第1層反射層22，當(dāng)聚焦跳層開始時(shí)，閉回路控制系統(tǒng)50先切換至開回路控制系統(tǒng)40，并使聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)輸出一聚焦上跳脈沖(focus kick pulse)71，等待T延遲時(shí)間72后，再輸出一聚焦中斷脈沖(focus break pulse)73，而聚焦上跳脈沖及聚焦中斷脈沖的時(shí)間間隔74、75及電壓大小76、77均須事先規(guī)劃調(diào)整好，調(diào)整合宜后，當(dāng)聚焦中斷脈沖73結(jié)束時(shí)，該聚焦點(diǎn)34將接近至該第1層反射層22，接著將開回路控制系統(tǒng)40切換至閉回路控制系統(tǒng)50，將使該聚焦點(diǎn)34穩(wěn)定鎖定在該第1層反射層22上。
但是，上述方法只適用于低倍速的光驅(qū)，而高倍速的光驅(qū)因高速轉(zhuǎn)動(dòng)盤片，盤片的晃動(dòng)會(huì)造成聚焦上的變異，以事先規(guī)劃調(diào)整開回路控制系統(tǒng)40的聚焦上跳脈沖71及聚焦中斷脈沖73，不見得可正好符合最佳的聚焦切入時(shí)機(jī)，反而只會(huì)造成聚焦跳層的不穩(wěn)定性。
由上可知，上述公知的聚焦跳層方法，在實(shí)際使用上，顯然具有不便與存在缺陷，而可待加以改善。
本發(fā)明的主要目的，在于提供一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，其可用于檢測(cè)聚焦誤差峰值，確保在某固定距離切入閉回路，以改進(jìn)聚焦跳層的穩(wěn)定性，從而改善公知技術(shù)中所存在的上述各項(xiàng)缺陷。
本發(fā)明的上述目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是將聚焦點(diǎn)由第0層反射層跳至第1層反射層，包括下列步驟(a)首先光驅(qū)處于閉回路控制系統(tǒng)，此時(shí)雷射光穩(wěn)定聚焦在該第0層反射層；(b)切換至開回路控制系統(tǒng)并輸出一聚焦上跳電壓，使得聚焦點(diǎn)開始遠(yuǎn)離第0層反射層，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往負(fù)向遞減；(c)當(dāng)聚焦點(diǎn)位于該第0層反射層及第1層反射層之間，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)開始往正向遞增，直到聚焦誤差為0；(d)當(dāng)聚焦點(diǎn)漸漸接近該第1層反射層，此時(shí)輸出一聚焦中斷電壓，以降低其速度；及(e)當(dāng)聚焦誤差達(dá)到正向峰值，便將開回路控制系統(tǒng)切換至閉回路控制系統(tǒng)，使得聚焦點(diǎn)穩(wěn)定鎖在第1層反射層上，以增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
同理，本發(fā)明的上述目的也可這樣實(shí)現(xiàn)一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是將聚焦點(diǎn)由第1層反射層跳至第0層反射層，包括下列步驟(a)首先光驅(qū)處于閉回路控制系統(tǒng)，此時(shí)雷射光穩(wěn)定聚焦在該第1層反射層；(b)切換至開回路控制系統(tǒng)并輸出一聚焦中斷電壓，使得聚焦點(diǎn)開始遠(yuǎn)離第1層反射層，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往正向遞增；
(c)當(dāng)聚焦點(diǎn)位于該第1層反射層及第0層反射層之間，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)開始往負(fù)向遞增，直到聚焦誤差為0；(d)當(dāng)聚焦點(diǎn)漸漸接近該第0層反射層，此時(shí)輸出一聚焦上跳電壓，以降低其速度；及(e)當(dāng)聚焦誤差達(dá)到負(fù)向峰值，便將開回路控制系統(tǒng)切換至閉回路控制系統(tǒng)，使得聚焦點(diǎn)穩(wěn)定鎖在第0層反射層上，以增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
下面結(jié)合實(shí)施例及其附圖，對(duì)本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及效果，作進(jìn)一步詳細(xì)說明，然而所示附圖僅提供參考與說明用，并非用來對(duì)本發(fā)明加以限制。
圖1A是公知的單層DVD盤片的剖面示意圖；圖1B是公知的雙層DVD盤片的剖面示意圖；圖2是公知的光驅(qū)光學(xué)讀取頭聚焦動(dòng)作示意圖；圖3A是公知的開回路控制系統(tǒng)方框圖；圖3B是公知的閉回路控制系統(tǒng)方框圖；圖4是公知的單層DVD盤片聚焦鎖定的信號(hào)圖；圖5是公知的雙層DVD盤片聚焦跳層鎖定的信號(hào)圖；圖6是本發(fā)明的聚焦跳層相對(duì)聚焦位置與信號(hào)間的關(guān)系圖。
請(qǐng)參閱圖6所示，本發(fā)明是一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是將聚焦點(diǎn)由第0層反射層跳至第1層反射層，其步驟為當(dāng)該物鏡33位于位置0與位置一之間，由于在閉回路控制系統(tǒng)50的狀態(tài)，則雷射光將穩(wěn)定聚焦在該第0層反射層21上；當(dāng)該物鏡33移至位置一時(shí)，將閉回路控制系統(tǒng)50切換至開回路控制系統(tǒng)40，并強(qiáng)迫輸出聚焦上跳電壓76，則聚焦點(diǎn)34將開始向上遠(yuǎn)離第0層反射層21，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往負(fù)向遞減；當(dāng)通過位置二，即離開第0層聚焦誤差線性區(qū)進(jìn)入非線性區(qū)，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)開始往正向遞增；當(dāng)該物鏡33移至位置三與位置五之間，此時(shí)由于該聚焦點(diǎn)34距離該第0層反射層21及第1層反射層22均太遠(yuǎn)，因此聚焦誤差為0；當(dāng)該物鏡33移至位置五與位置六之間，聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)輸出聚焦中斷電壓77，降低該物鏡33的上跳速度，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往正向遞增；當(dāng)該物鏡33到達(dá)位置六時(shí)，聚焦誤差達(dá)到正向峰值，此時(shí)聚焦誤差開始進(jìn)入第1層聚焦誤差線性區(qū)，此聚焦誤差信號(hào)可以表示為實(shí)際聚焦點(diǎn)34與第1層反射層22的距離，因此將開回路控制系統(tǒng)50切換至閉回路控制系統(tǒng)40，將使得聚焦點(diǎn)34穩(wěn)定鎖定在第1層反射層22上，而由位置七達(dá)到位置八。
據(jù)此，對(duì)于往上的聚焦跳層，在施以聚焦上跳電壓76后，開始檢查聚焦誤差信號(hào)，當(dāng)聚焦誤差信號(hào)到達(dá)正向峰值時(shí)，表示己進(jìn)入第1層聚焦誤差線性區(qū)，此時(shí)可馬上切換至閉回路控制系統(tǒng)50，通過該閉回路控制系統(tǒng)50的控制，可將聚焦點(diǎn)34順利切入并鎖定在第1層反射層22。
反之，若為往下的聚焦跳層，即聚焦點(diǎn)由第1層反射層22跳至第0層反射層21(圖略)，則在施以下踢中斷電壓77后，開始檢查聚焦誤差信號(hào)，當(dāng)聚焦誤差信號(hào)達(dá)到負(fù)向峰值時(shí)，表示己進(jìn)入第0層聚焦誤差線性區(qū)，此時(shí)，可馬上切換至閉回路控制系統(tǒng)50，通過該閉回路控制系統(tǒng)50將聚焦點(diǎn)34順利切入并鎖定在第0層反射層21。
以上所述，僅為本發(fā)明最佳之一的具體實(shí)施例的詳細(xì)說明與附圖，但是本發(fā)明的特征并不局限于此，其并非用以限制本發(fā)明，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求所確定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)，凡符合于本發(fā)明的構(gòu)思與其類似變化的實(shí)施例，均應(yīng)包含于本發(fā)明的范疇中，任何熟悉本技術(shù)的人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi)，可輕易思及的變化或修飾均涵蓋在本發(fā)明權(quán)利要求所確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是將聚焦點(diǎn)由第0層反射層跳至第1層反射層，包括下列步驟(a)首先光驅(qū)處于閉回路控制系統(tǒng)，此時(shí)雷射光穩(wěn)定聚焦在該第0層反射層；(b)切換至開回路控制系統(tǒng)并輸出一聚焦上跳電壓，使得聚焦點(diǎn)開始遠(yuǎn)離第0層反射層，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往負(fù)向遞減；(c)當(dāng)聚焦點(diǎn)位于該第0層反射層及第1層反射層之間，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)開始往正向遞增，直到聚焦誤差為0；(d)當(dāng)聚焦點(diǎn)漸漸接近該第1層反射層，此時(shí)輸出一聚焦中斷電壓，以降低其速度；及(e)當(dāng)聚焦誤差達(dá)到正向峰值，便將開回路控制系統(tǒng)切換至閉回路控制系統(tǒng)，使得聚焦點(diǎn)穩(wěn)定鎖在第1層反射層上，以增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
2.一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，是將聚焦點(diǎn)由第1層反射層跳至第0層反射層，包括下列步驟(a)首先光驅(qū)處于閉回路控制系統(tǒng)，此時(shí)雷射光穩(wěn)定聚焦在該第1層反射層；(b)切換至開回路控制系統(tǒng)并輸出一聚焦中斷電壓，使得聚焦點(diǎn)開始遠(yuǎn)離第1層反射層，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)往正向遞增；(c)當(dāng)聚焦點(diǎn)位于該第1層反射層及第0層反射層之間，此時(shí)聚焦誤差信號(hào)開始往負(fù)向遞增，直到聚焦誤差為0；(d)當(dāng)聚焦點(diǎn)漸漸接近該第0層反射層，此時(shí)輸出一聚焦上跳電壓，以降低其速度；及(e)當(dāng)聚焦誤差達(dá)到負(fù)向峰值，便將開回路控制系統(tǒng)切換至閉回路控制系統(tǒng)，使得聚焦點(diǎn)穩(wěn)定鎖在第0層反射層上，以增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
全文摘要
一種光驅(qū)的峰值檢測(cè)聚焦跳層方法，首先光驅(qū)處于閉回路控制系統(tǒng)，而雷射光穩(wěn)定聚焦在第0層反射層，此時(shí)切換至開回路控制系統(tǒng)并輸出一聚焦上跳電壓，則聚焦點(diǎn)會(huì)開始遠(yuǎn)離第0層反射層，使得聚焦誤差信號(hào)往負(fù)向遞減，當(dāng)聚焦點(diǎn)位于第0層反射層及第1層反射層之間時(shí)，聚焦誤差信號(hào)開始往正向遞增，直到聚焦誤差為0，此時(shí)聚焦點(diǎn)接近第1層反射層，便輸出一聚焦中斷電壓，以降低其速度，直到聚焦誤差達(dá)到正向峰值，便將開回路控制系統(tǒng)切換至閉回路控制系統(tǒng)，則可將聚焦點(diǎn)穩(wěn)定鎖在第1層反射層上，以增加聚焦跳層的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1391216SQ01129360
公開日2003年1月15日 申請(qǐng)日期2001年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月13日
發(fā)明者孫育弘 申請(qǐng)人:建興電子科技股份有限公司