專利名稱：動態(tài)控制存儲器中讀/寫磁頭的浮動狀態(tài)和高度的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在旋轉(zhuǎn)或活動存儲介質(zhì)上保存信息或數(shù)據(jù)的硬盤驅(qū)動器或磁帶記錄器。更具體地說，本發(fā)明涉及當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁盤在磁頭下旋轉(zhuǎn)或者當(dāng)活動磁帶在磁頭下移動時(shí)，動態(tài)控制讀/寫磁頭的浮動狀態(tài)的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中已知的磁盤存儲器包括空氣支承(air-bearing)浮動塊。浮動塊本身安裝在所謂的懸臂上，所述懸臂實(shí)質(zhì)上起負(fù)載梁的作用，包括剛性部分和彈性部分，其中彈性部分產(chǎn)生把浮動塊推向或推離記錄介質(zhì)的壓力，從而利用一定的必要壓力，把其上安裝電磁換能器的浮動塊推向記錄介質(zhì)或者拉離記錄介質(zhì)。
從而當(dāng)記錄介質(zhì)，例如磁記錄盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，施加在浮動塊上的負(fù)載和由于氣流的緣故施加在浮動塊的空氣支承表面上的氣墊作用力相互平衡，從而，浮動塊以很小的間隙(所謂的“浮動高度”)浮動在記錄介質(zhì)之上。
在旋轉(zhuǎn)的磁硬盤上方支承讀/寫磁頭的浮動塊的浮動高度目前在20納米的范圍之內(nèi)，并且未來很可能會降低。在目前已知的硬盤裝置中，浮動高度實(shí)質(zhì)上由浮動塊的空氣支承表面和磁頭萬向節(jié)組件的具體設(shè)計(jì)確定。但是，由于制造公差的緣故，對于相同類型的不同裝置來說，存在幾納米之內(nèi)的浮動高度的變化。這些公差顯著影響硬盤的讀寫特性。
已知兩組不同類型的現(xiàn)有磁頭懸掛機(jī)制。在第一組磁頭懸掛機(jī)制中，在懸臂的彈性部分上形成的薄膜(可由于薄膜自身的內(nèi)部應(yīng)力而擴(kuò)展或者收縮)使彈性部分，從而使懸臂彎曲，從而改變讀/寫磁頭在盤面上的浮動高度。
但是，懸臂朝著盤面的彎曲增大了與浮動塊的氣動升力反向作用的彈力。
現(xiàn)有技術(shù)中，已提出壓電薄膜或者雙金屬片作為彎曲懸臂的換能器。例如在美國專利No.5825590，“Magnetic Head SuspensionMechanism with a Thin Film Thereon For Creating a Bent Portion ofa Vibration Absorbing Portion”(轉(zhuǎn)讓給日本的富士通公司)中，以及在美國專利No.5377058，“Fly Height Servo Control ofRead/Write Head Suspension”(轉(zhuǎn)讓給紐約州的IBM公司)中公開了屬于上面提及的第一組的方法。
另一組現(xiàn)有方法提供懸臂的彈性壓力和/或彎曲形狀的一次性靜態(tài)調(diào)整。在日本摘要通報(bào)JP 5189906 A中，提出在浮動型磁頭的生產(chǎn)中，通過向懸臂的彈性部分傳遞熱能，并且調(diào)整彈性壓力，把浮動塊的浮動量設(shè)置成微小并且精確的量值。通過用激光束輻照彈性部件，并且依據(jù)不連續(xù)的彈性壓力調(diào)整，沿彈性部件的滾軋方向設(shè)置彎曲量，從而完成熱量施加。在設(shè)置彎曲量之后，浮動塊被安裝在懸臂上。
根據(jù)在日本摘要通報(bào)JP 63281283 A中公開的另一種靜態(tài)方法，彈性部件由諸如形狀記憶合金之類的超彈性材料制成，形狀記憶合金允許彈性部件的初始形狀有幾分彎曲。初始形狀被變形，直到近似平行于盤面為止。由于只有彈性部件由超彈性材料制成，可確保面內(nèi)剛性，另外使彈性常數(shù)降至最小。
使用換能器元件的上述方法存在這種元件在懸臂上需要更大面積的問題，這會使例如懸臂的小型化更加復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種控制讀/寫磁頭在活動存儲介質(zhì)，例如旋轉(zhuǎn)的磁性硬盤或者磁帶記錄器的磁帶上方的浮動高度的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備允許進(jìn)行主動和/或動態(tài)浮動高度調(diào)整，或者，尤其是在磁帶記錄器的情況下，允許調(diào)整讀/寫磁頭的支承壓力。
另一目的是提供允許把單個(gè)存儲器，尤其是硬盤驅(qū)動器的浮動高度精確設(shè)置成規(guī)定值，以便滿足制造公差的方法和設(shè)備。
另一目的是提供允許補(bǔ)償硬盤驅(qū)動器中的壓力變化和/或硬盤驅(qū)動器或磁帶存儲器中空氣支承表面的污染的方法和設(shè)備。
本發(fā)明的又一目的是提供一種控制讀/寫磁頭在旋轉(zhuǎn)磁性硬盤或者磁帶存儲器的活動磁帶上方的橫搖、俯仰和扭轉(zhuǎn)的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備允許對這些參數(shù)進(jìn)行主動校準(zhǔn)或調(diào)整。
上述目的由獨(dú)立權(quán)利要求的特征實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選實(shí)施例是從屬權(quán)利要求的主題。
構(gòu)成本發(fā)明基礎(chǔ)的原理是影響或者改變懸架的彈性常數(shù)，從而影響前面提及的兩個(gè)反向力的平衡狀態(tài)，其中一個(gè)力起源于浮動塊的空氣支承表面下的氣墊，導(dǎo)致升力或沉降力，另一個(gè)力由懸架本身的彈力提供。通過干擾作用力的平衡狀態(tài)，可按照可控方式改變讀/寫磁頭的浮動高度。通過彈性常數(shù)的可控變化，可精確調(diào)整浮動高度。
和前面描述的現(xiàn)有方法相反，本發(fā)明提供被動以及主動機(jī)制，其中僅僅通過改變彈性常數(shù)k實(shí)現(xiàn)讀/寫磁頭的動作，而不是象現(xiàn)有方法那樣利用主動撓曲ΔX來實(shí)現(xiàn)讀/寫磁頭的動作，F(xiàn)＝k-ΔX。和通過提供彎曲力或彎曲動量主動撓曲懸架的現(xiàn)有方法相反，根據(jù)本發(fā)明，僅僅是由于作用于浮動塊的機(jī)械作用力的新平衡的結(jié)果，懸架被彎曲。除了該彎曲之外，或取代該彎曲，通過局部改變由懸架材料的彈性模量賦予的彈性常數(shù)，還可局部彎曲或者甚至皺折懸架。
于是，本發(fā)明能夠僅僅通過(主動)適當(dāng)改變彈性常數(shù)，調(diào)整不正確的克負(fù)載(gramload)或者改變克負(fù)載。這可在磁盤存儲器的制造過程中在懸架連同讀/寫磁頭已被裝配到存儲器上之后已經(jīng)完成，或者可作為主動調(diào)整手段，在HDD工作過程中完成。
另外，可在懸架上很小的區(qū)域中實(shí)現(xiàn)提出的動作方案，從而能夠?qū)崿F(xiàn)懸臂的進(jìn)一步小型化。
存在測量磁頭的浮動高度的若干方法和系統(tǒng)，例如在掃描探針顯微傳感器中使用的，并在美國專利5527110(Abraham等)“Methodand Apparatus fbr Detecting Asperities on Magnetic Disks usingThermal Proximity Imaging”中舉例說明的近程熱傳感技術(shù)。由于在磁盤存儲器的工作過程中，硬盤的旋轉(zhuǎn)速度幾乎恒定，因此對于浮動塊的指定設(shè)計(jì)，尤其是空氣支承面的形狀的指定設(shè)計(jì)來說，升力或沉降力幾乎恒定，從而允許不正確克負(fù)載的一次性調(diào)整。另外，可在制造過程中設(shè)置特定的浮動高度。
除了通過改變彈性常數(shù)靜態(tài)調(diào)整彈力之外，也可實(shí)現(xiàn)主動或者動態(tài)浮動高度調(diào)整，以便確保良好的讀寫性能，尤其是下面的旋轉(zhuǎn)存儲系統(tǒng)的操作性能。
于是，通過磁盤的高速旋轉(zhuǎn)，整個(gè)磁盤存儲器在工作過程中通常會改變其溫度。這也會升高懸臂的溫度和磁盤存放殼體內(nèi)的氣溫。懸臂的不同溫度會導(dǎo)致彈力的改變，從而導(dǎo)致磁頭的浮動高度的相應(yīng)變化。氣壓的變化或者空氣支承面的污染會影響浮動塊下的空氣流動，從而影響驅(qū)動浮動塊的升力。本發(fā)明可動態(tài)調(diào)整影響浮動高度的所有這些效應(yīng)。于是，例如在HDD的低和高性能模式下，可據(jù)此調(diào)整硬盤的旋轉(zhuǎn)速度的變化及其對讀/寫磁頭的浮動高度的影響。
其它環(huán)境參數(shù)可以是材料隨著磁盤工作時(shí)間的退化，于是為了實(shí)現(xiàn)硬盤的可靠性，必須校正所述材料退化，以便保持最佳的浮動高度。
本發(fā)明還允許動態(tài)設(shè)置特定的浮動高度，以便只在讀/寫磁頭對磁盤進(jìn)行讀或?qū)懖僮鞯倪^程中，使讀/寫磁頭保持在最小的浮動高度。當(dāng)不存在讀或?qū)懺L問時(shí)(這約占硬盤旋轉(zhuǎn)時(shí)間的90％)，可使讀/寫磁頭從最小浮動高度后撤，以便提高硬盤的機(jī)械耐久性。從而，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)讀/寫磁頭的動態(tài)兩級或者多級操作。
應(yīng)用本發(fā)明的另一技術(shù)領(lǐng)域是未來的可能需要不同但是確定的浮動高度，以便實(shí)現(xiàn)諸如存儲密度之類的理想性能的讀寫過程。例如，可能更方便在很小的浮動高度下寫入磁位，同時(shí)仍然可以在較高的浮動高度下讀位。尤其是在尋道過程中，在較高的浮動高度下，可以足夠的分辨率讀取伺服模式。這會減少尋道時(shí)間。通過主動控制浮動高度，可實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，并且還可增加硬盤的壽命。
于是，改變浮動高度能夠把讀/寫磁頭放置在一種停放位置，在所述停放位置，讀/寫磁頭得到保護(hù)免受損害，從而能防震。另外，當(dāng)浮動塊遠(yuǎn)離盤面時(shí)，浮動塊和盤面之間的空氣摩擦力降低，其結(jié)果是降低了旋轉(zhuǎn)硬盤所需的功耗。
本發(fā)明的另一應(yīng)用領(lǐng)域是在諸如膝上型計(jì)算機(jī)、移動電話機(jī)之類的便攜裝置中磁盤存儲器的使用，通過降低磁盤的轉(zhuǎn)速，可用于降低功耗。磁盤轉(zhuǎn)速的降低對空氣支承力有影響，于是會導(dǎo)致浮動高度的變化，從而改變磁盤存儲器的性能。
在第一實(shí)施例中，通過局部改變懸臂的材料溫度，實(shí)現(xiàn)可變的懸架彈性常數(shù)。這樣的溫度變化可由布置在懸臂上的小型加熱器，例如布置在懸臂表面上的薄膜或者厚膜結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)。這種層結(jié)構(gòu)尤其可根據(jù)溫度改變彈性常數(shù)，改變這種層結(jié)構(gòu)的彈性特性會導(dǎo)致懸臂的彎曲的變化，從而導(dǎo)致讀/寫磁頭的浮動高度的變化。
根據(jù)另一實(shí)施例，通過把大塊材料(bulk material)或者材料層用于懸臂，或者使用具有磁彈性效應(yīng)的相應(yīng)輔助層，也可實(shí)現(xiàn)彈性特性的變化，所謂磁彈性效應(yīng)，是指材料的彈性常數(shù)取決于磁化強(qiáng)度。磁化強(qiáng)度可由作用于磁敏層的外加磁場或者內(nèi)部施加磁場控制。內(nèi)部磁場源可由布置在磁敏材料之下或者之上或者附近的第二硬磁層，或者通過添加作為感應(yīng)元件的小型線圈，從而產(chǎn)生磁場來實(shí)現(xiàn)。這樣的磁性層也可用于偏置磁彈性效應(yīng)或者使磁彈性效應(yīng)線性化。使用磁彈性層或材料的優(yōu)點(diǎn)在于由于磁彈性效應(yīng)是準(zhǔn)靜態(tài)效應(yīng)，因此在存儲器中不需要持續(xù)不斷的功耗。
值得注意的是可對每個(gè)浮動塊/硬盤組合體單獨(dú)實(shí)現(xiàn)前述原理，并且前述原理不依賴于下面的磁盤存儲器的特性。此外，前述原理并不局限于磁性硬盤存儲器，還可應(yīng)用于其它目前及未來的基于旋轉(zhuǎn)盤的存儲器，例如光盤等等。


下面將參考附圖，借助實(shí)施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。
圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的懸臂的透視圖；圖2是圖解說明作為本發(fā)明的基礎(chǔ)的氣墊機(jī)制的懸臂的示意圖；圖3a-3d是本發(fā)明的不同實(shí)施例的示意圖；圖4a-4c是圖解說明橫搖擺、俯仰和扭轉(zhuǎn)的定義的示意圖；圖5a-5d是本發(fā)明的不同實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖1中，表示了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的懸臂100，所述懸臂100公開于美國專利No.5377058中，它包括浮動懸浮體110和讀/寫磁頭120。讀/寫磁頭120安裝在浮動塊125上。借助導(dǎo)線160實(shí)現(xiàn)包括一個(gè)或多個(gè)信號線的磁頭120的供電。在其對側(cè)，利用安裝法蘭130把懸臂100安裝在硬盤驅(qū)動器(未示出)的馬達(dá)法蘭上。
壓電薄膜140粘結(jié)在懸臂100上。通過導(dǎo)線150對薄膜140施加浮動高度校正電壓。通過施加校正電壓，薄膜140在懸臂00的平面中擴(kuò)展，由于薄膜140和懸臂100之間的粘附，對懸臂100產(chǎn)生彎曲力，迫使懸臂100沿其縱軸和橫軸方向彎曲。
懸臂100朝著盤面的彎曲(未示出)增大了推斥氣動升力的彈力，所述氣動升力分別作用于讀/寫磁頭120或者浮動塊125，從而使磁頭120更接近于盤面浮動。從而，利用校正電壓調(diào)整了浮動高度。
圖2是帶有在磁性硬盤的盤面上滑動的浮動塊的懸臂的示意側(cè)視圖。當(dāng)磁性硬盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，布置在浮動塊下的氣墊沿離開硬盤或者朝向硬盤的方向施加作用力。在作用力Fa和彈力Fs平衡的情況下，磁頭在平衡浮動高度(FH)下在旋轉(zhuǎn)的硬盤上浮動。
根據(jù)本發(fā)明，懸臂包括布置在懸臂表面上的材料或者一層材料，彈性常數(shù)隨材料的諸如溫度之類的物理性質(zhì)，或者隨通過它的磁通量，或者隨施加的電壓，而發(fā)生較大變化。一次近似的彈力Fs可被寫為Fs＝k×l，k是材料的彈性常數(shù)，l是懸臂的縱向或橫向撓度。根據(jù)本發(fā)明，通過改變彈性常數(shù)k而改變彈力F。從而，按一級近似，在F＝常數(shù)的情況下，變化Dk導(dǎo)致?lián)隙鹊淖兓疍1。
現(xiàn)在參見圖2，該圖描述了尤其包括浮動塊210的磁頭浮動塊組件200，所述浮動塊210位于距離硬盤表面220一定距離的位置，以便圖解說明構(gòu)成本發(fā)明基礎(chǔ)的氣墊概念。下面，浮動高度(FH)定義為浮動塊和盤面220之間的最小距離。浮動塊210相對于盤面的空間方向和彎曲形狀可由俯仰角和拱度值230表征。由于盤面220和浮動塊210之間的相對移動(由用箭頭240描述的硬盤的旋轉(zhuǎn)方向確定)的緣故，形成特定的氣流250，根據(jù)傾斜角α，所述氣流250導(dǎo)致起因于空氣支承面260上的氣墊的作用力，所述空氣支承面包括到盤面220的最小距離FH。
浮動塊210或者磁頭的浮動高度(FH)完全由前述浮動特性確定，即浮動塊空氣動力學(xué)產(chǎn)生的升力和沉降力，和懸臂280借助其把浮動塊210推向盤面260的彈力。
圖3a-3c描述了根據(jù)本發(fā)明的懸臂的不同實(shí)施例。
現(xiàn)在參見圖3a，第一實(shí)施例包括懸臂300，懸臂300包括或者由彈性常數(shù)的彈性模量DE相對于DT有較大梯度的大塊材料組成，這里DT是懸臂300的整體溫度。懸臂300由厚度為d1的彈性部分310和厚度為d2的剛性部分320組成。在懸臂300的自由端，利用粘合劑327把浮動塊325安裝在懸臂300、310上。浮動塊325的下表面到硬盤329的上表面的距離為FH。
懸臂300尤其包括布置在大塊材料的特殊的彈敏(elasto-sensitive)部分340上的加熱部件330，所述彈敏部分340由交叉線突出顯示，并且具有高的彈性模量梯度。
本實(shí)施例中，加熱部件330被實(shí)現(xiàn)成纏繞懸臂的電阻絲?；蛘撸訜岵考?30可被實(shí)現(xiàn)成沿彈敏部件340布置在一面或者兩面上的薄層或者厚層電阻材料。流經(jīng)供電導(dǎo)線350的電流IC使彈敏材料340的溫度升高，于是使材料340的彈性常數(shù)降低。
和起源于浮動塊325之下的氣墊效應(yīng)(參見圖2)的恒力Fa一起，懸臂300的彎曲曲率也將降低，從而增大浮動塊325在盤面329上的浮動高度FH。
圖3b中描述的本發(fā)明的另一實(shí)施例包括布置在懸臂410上，并且厚度為dlayer的彈敏層400，而不是大塊材料。根據(jù)厚度dlayer和dbulk之間的差值，層400的彈性常數(shù)的變化也會導(dǎo)致懸臂410的彎曲曲率的變化。
該實(shí)施例還包括加熱部件420，本實(shí)施例中，加熱部件420被實(shí)現(xiàn)成回紋形電阻絲420。供電導(dǎo)線430提供的流經(jīng)電阻絲420的電流主要加熱層400，從而導(dǎo)致層400的彈性常數(shù)的變化。由于所謂的“被動雙金屬效應(yīng)”，即層400的作用于懸臂410的彎曲動力的降低，這還會導(dǎo)致懸臂410的彎曲曲率的變化。這種結(jié)構(gòu)中，起因于雙金屬效應(yīng)和彈性效應(yīng)的致動作用可能具有相反的符號?？蛇x擇通過改變溫度表現(xiàn)出“零致動作用”的材料?；蛘?，可選擇具有高彈性效應(yīng)的材料，這種材料過度補(bǔ)償雙金屬致動作用。
這里要強(qiáng)調(diào)的是彎曲曲線的變化方向，從而浮動高度的變化方向取決于該兩層系統(tǒng)的內(nèi)應(yīng)力的符號，從而當(dāng)升高溫度時(shí)，可增大或減小浮動高度。
圖3c表示在懸臂510上布置磁彈性材料層500的實(shí)施例。借助磁場改變層500的彈性模量，利用位于層500上部的纏繞呈平線圈形狀或者圍繞懸臂纏繞的導(dǎo)線，產(chǎn)生所述磁場。借助供電導(dǎo)線530為線圈導(dǎo)線520供電。
圖3d表示在懸臂的磁彈性部分上方，或者非常接近所述磁彈性部分，或者在所述磁彈性部分附近放置硬磁層(HL)的實(shí)施例。硬磁層的磁化確定懸臂的磁彈性部分的磁化方向，從而確定其彈性性質(zhì)。借助外加磁場，甚至在HDD之外施加的磁場，可轉(zhuǎn)換HL的磁化，或者利用通過布置在HL上方的小型感應(yīng)元件的短電流脈沖，可設(shè)置HL的磁化。在外加磁場或者電流脈沖之后，HL中的磁化沿所需的方向旋轉(zhuǎn)，于是確定層500的彈性性質(zhì)?？梢酝ㄟ^只利用磁彈性部分設(shè)計(jì)本實(shí)施例，所述磁彈性部件本身是硬磁材料。
圖4a是磁性硬盤600的盤面上滑動的上浮動塊620和下浮動塊640的后部的沿縱軸的示意視圖。當(dāng)硬盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，浮動塊下的氣墊沿離開硬盤或朝向硬盤的方向施加作用力。如圖所示，浮動塊620、640可平行于盤面(零橫搖)或者與盤面成一定的角度。
圖4b是在磁性硬盤600的盤面上滑動的上浮動塊620和下浮動塊640的示意側(cè)視圖。當(dāng)磁性硬盤轉(zhuǎn)動時(shí)，浮動塊下的氣墊沿離開硬盤或朝向硬盤的方向施加作用力。如圖所示，浮動塊620、640的ABS可平行于盤面(零俯仰)或者與盤面成一定的角度。
圖4c是在磁性硬盤600的盤面上滑動的下浮動塊640的示意側(cè)視圖。如圖所示，浮動塊可沿著縱軸被扭轉(zhuǎn)。
在來自德國專利申請DE 19603192 A1的圖6的圖5a中，描述了帶有浮動塊24的懸臂21a的前部。利用浮動塊24附近的U形狹縫31和32以及直縫33和34修改懸臂。這樣，形成H形磁頭安裝區(qū)，同時(shí)橋接部分36、38和39形成似kardanic懸掛系統(tǒng)。該懸掛系統(tǒng)具有非理想kardanic的缺點(diǎn)。如果沒有很好地安裝浮動塊，則僅僅利用氣墊壓力，彎曲或扭轉(zhuǎn)橋接部分所需的作用力會阻止磁頭把浮動塊準(zhǔn)確對準(zhǔn)盤面。
圖5b表示了圖5a的系統(tǒng)的變型，橋接部分710和720或者橋接部分的各個(gè)部分730、740、750、760由布置在橋接部分表面上的材料或者一層材料構(gòu)成，彈性常數(shù)隨著材料的物理性質(zhì)比如溫度或者通過它的磁通量而發(fā)生較大變化，如同前已針對懸臂說明的那樣。通過有選擇地改變橋接部分的彈性常數(shù)，可校正浮動塊的安裝公差，從而調(diào)整橫搖、俯仰或扭轉(zhuǎn)。
圖5c表示了本發(fā)明的利用由交叉的橋接部分710和720構(gòu)成的另一似kardanic懸掛系統(tǒng)的不同實(shí)施例。
圖5a-5c中描述的系統(tǒng)存在橋接部分相互耦接的缺點(diǎn)。從而不能保持橫搖和俯仰的單獨(dú)適應(yīng)。
圖5d表示了具有分離軸(decoupled axis)的懸掛系統(tǒng)。橋接部分710a、710b和720或者橋接部分的各個(gè)部分770、780、790由布置在橋接部分的表面上的材料或者一層材料構(gòu)成，彈性常數(shù)隨著材料的物理性質(zhì)發(fā)生較大變化。
權(quán)利要求
1.一種控制位于磁盤存儲器的旋轉(zhuǎn)盤面或者磁帶記錄或磁帶存儲器的活動磁帶附近，并安裝在懸臂上的讀/寫磁頭的浮動高度的方法，所述懸臂的彈力具有一彈性常數(shù)，把磁頭活動懸掛在盤面或者磁帶上方，并以該彈力作用于磁頭，對抗作用在磁頭上的氣動升力，其特征在于改變至少部分懸臂的彈性常數(shù)，從而調(diào)整浮動高度和/或磁頭的橫搖角和/或俯仰角。
2.按照權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于至少局部改變懸臂的溫度。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于改變施加在至少部分懸臂上的磁場和/或至少部分懸臂的磁化，或者改變至少部分懸臂中的電場。
4.存儲或測試裝置，包括活動的存儲介質(zhì)和位于存儲介質(zhì)附近從而限定一浮動高度并且安裝在懸臂上的讀/寫磁頭，所述懸臂用于把磁頭活動懸掛在存儲介質(zhì)上方，并且以一彈力對抗作用在磁頭上的氣動升力而推動磁頭，其特征在于其至少一部分包括具有與參數(shù)相關(guān)的彈性常數(shù)的材料的懸臂，和依據(jù)所述參數(shù)控制彈性參數(shù)，從而調(diào)整磁頭的浮動高度的裝置。
5.存儲或測試裝置，包括活動的存儲介質(zhì)和位于存儲介質(zhì)附近從而限定一浮動高度并安裝在懸臂上的讀/寫磁頭，所述懸臂用于把磁頭活動懸掛在存儲介質(zhì)上方，并且以一彈力對抗作用在磁頭上的氣動升力而推動磁頭，其特征在于其至少一部分包括具有與參數(shù)相關(guān)的彈性常數(shù)的材料的懸臂，和依據(jù)所述參數(shù)控制彈性參數(shù)，從而調(diào)整磁頭的橫搖、扭轉(zhuǎn)和俯仰的裝置。
6.按照權(quán)利要求4或5所述的裝置，其特征在于所述材料是熱敏材料，所述參數(shù)是溫度，并/或所述材料是磁敏材料，所述參數(shù)是磁場的強(qiáng)度。
7.按照權(quán)利要求4-6任一所述的裝置，其特征在于至少懸臂的彎曲部分包括具有和參數(shù)相關(guān)的彈性常數(shù)的大塊材料。
8.按照權(quán)利要求4-6任一所述的裝置，其特征在于至少部分懸臂包括具有和參數(shù)相關(guān)的彈性參數(shù)的一層材料。
9.按照權(quán)利要求4-8任一所述的裝置，其特征在于所述材料的所述彈性常數(shù)不均勻分布。
10.按照權(quán)利要求4-9任一所述的裝置，其特征在于所述材料的所述彈性常數(shù)的靈敏度基本上在懸臂軸線的縱向或橫向上較高。
11.存儲或測試裝置的懸掛系統(tǒng)，所述存儲或測試裝置包括活動的存儲介質(zhì)和位于存儲介質(zhì)附近從而限定一浮動高度并安裝在懸臂上的讀/寫磁頭，所述懸臂用于把磁頭活動懸掛在存儲介質(zhì)上方，并且以一彈力對抗作用在磁頭上的氣動升力而推動磁頭，其特征在于至少部分懸臂包括具有和參數(shù)相關(guān)的彈性常數(shù)的材料。
12.按照權(quán)利要求11所述的懸掛系統(tǒng)，其特征在于利用所述參數(shù)作用于所述材料的裝置。
13.按照權(quán)利要求11或12所述的懸掛系統(tǒng)，其特征在于懸臂包括具有和參數(shù)相關(guān)的彈性常數(shù)的大塊材料。
14.按照權(quán)利要求11或12所述的懸掛系統(tǒng)，其特征在于至少部分懸臂包括具有和參數(shù)相關(guān)的彈性參數(shù)的一層材料。
全文摘要
磁盤存儲器的懸臂(300)具有厚度為d
文檔編號G11B7/12GK1447971SQ01814380
公開日2003年10月8日 申請日期2001年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月29日
發(fā)明者魯?shù)细瘛·伯杰, 安德萊斯·迪策爾, 弗里德里奇·弗雷施曼 申請人:國際商業(yè)機(jī)器公司