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      磁頭和具備該磁頭的磁記錄裝置的制作方法

      文檔序號:6751279閱讀:219來源:國知局
      專利名稱:磁頭和具備該磁頭的磁記錄裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及磁頭和具備該磁頭的磁記錄裝置。
      該磁記錄裝置中,在底板上以轉(zhuǎn)動自在地設(shè)置了多片圓盤狀的磁盤,在這些磁盤的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)纫詫τ谏鲜龃疟P(磁記錄媒體)自由地相對移動的方式設(shè)置了磁頭,分別經(jīng)細(xì)長的三角板狀的承載梁和臂在支柱上支撐了這些多個(gè)磁頭,在底板上以轉(zhuǎn)動自在的方式支撐了該支柱。在這樣的磁記錄裝置中,其結(jié)構(gòu)是這樣的通過上述支柱轉(zhuǎn)動,磁頭對于磁盤來說在其半徑方向上相對移動,或是能讀出磁盤上的所希望的位置的磁信息,或是能在磁盤上的所希望的位置上寫入磁信息。
      圖9是示出使CSS(接觸開始停止contact start stop)方式的磁頭的媒體對向面一側(cè)朝向上側(cè)的狀態(tài)的立體圖,

      圖10是從媒體對向面一側(cè)看該磁頭的俯視圖。
      該磁頭102以由非磁性體構(gòu)成的板狀的滑動器本體111和在該滑動器本體111的一個(gè)端部一側(cè)設(shè)置的具有線圈部的磁心112為主體來構(gòu)成。
      在磁頭102的滑動器本體111中,將與設(shè)置上述線圈部的一個(gè)端部一側(cè)相反一側(cè)的端部一側(cè)定為磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)方向上流側(cè)的引導(dǎo)側(cè)113,將設(shè)置上述線圈部的一個(gè)端部一側(cè)定為旋轉(zhuǎn)方向下流側(cè)的尾側(cè)115。
      此外,在滑動器本體111的尾側(cè)115的寬度方向的中央部上形成了中心基座部125,在該中心基座部125中埋入了上述的磁心112。在該中心基座部125的兩側(cè)且在滑動器本體111的尾側(cè)115的兩端部上分別形成了側(cè)基座部126。在現(xiàn)有的磁頭102中,由于主要用中心基座部125來控制浮起量,故使該中心基座部125的大小(記錄媒體一側(cè)的面積)比各側(cè)基座部126大。側(cè)基座部126、126起到中心基座部125的輔助的作用,是為了防止搖擺(滑動器本體的寬度方向)方向的不穩(wěn)而設(shè)置的。
      此外,中心基座部125具有埋入了磁心112的第1后方空氣軸承面125a和其高度形成得比第1后方空氣軸承面125a的高度低的前方臺階面125b,通過設(shè)置這樣的前方臺階面125b,在磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)中,空氣流從前方臺階面125b經(jīng)過前壁面125c平穩(wěn)地流到第1后方空氣軸承面125a上而對第1后方空氣軸承面125a起作用,在第1后方空氣軸承面125a上產(chǎn)生大的正壓。
      此外,各側(cè)基座部126具有第2后方空氣軸承面126a和其高度形成得比第2后方空氣軸承面126a的高度低的前方臺階面126b。
      此外,在滑動器本體111的引導(dǎo)側(cè)113的端部上形成中心導(dǎo)軌部121,進(jìn)而,在該滑動器本體111上形成了從中心導(dǎo)軌部121的兩端部起朝向尾側(cè)115延伸的側(cè)導(dǎo)軌部122、123。此外,中心導(dǎo)軌部121具有前方空氣軸承面121a、其高度形成得比前方空氣軸承面121a的高度低的前方臺階面121b和從該前方臺階面121b的兩端部起朝向尾側(cè)115延伸的側(cè)方臺階面121c。使側(cè)導(dǎo)軌部122、123的高度與中心導(dǎo)軌部121的前方空氣軸承面121a的高度相同。使中心導(dǎo)軌部121的前方空氣軸承面121a、中心基座部125的第1后方空氣軸承面125a和側(cè)基座部126的第2后方空氣軸承面126a的高度相同。在前方臺階面121b的兩端形成了其高度比前方空氣軸承面121a的高度高的一對防止吸附基座129。此外,在各側(cè)方臺階面121c上也形成了其高度比前方空氣軸承面121a的高度高的一對防止吸附基座130。
      此外,在側(cè)導(dǎo)軌部122、123之間的媒體對向面111a上形成了多對其高度比側(cè)導(dǎo)軌部122、123的高度高的防止吸附基座131。
      在上述的結(jié)構(gòu)的磁頭102中,如果如圖11中所示那樣伴隨磁記錄媒體100的旋轉(zhuǎn)而發(fā)生空氣流A,則該空氣流A從引導(dǎo)側(cè)113流到滑動器本體111的媒體對向面一側(cè),對中心導(dǎo)軌部121的前方空氣軸承面121a起作用,其結(jié)果,前方空氣軸承面121a受到正壓。再者,空氣流A對側(cè)基座部126、126的第2后方空氣軸承面126a、126a、中心基座部125的第1后方空氣軸承面125a起作用,其結(jié)果,在第1和第2后方空氣軸承面126a、126a、125a中,由于受到正壓,故由此從磁記錄媒體100的表面或背面起以浮起方式移動,在以浮起方式移動的狀態(tài)下構(gòu)成為或是能利用磁心112讀出磁記錄媒體100的磁信息,或是能對磁記錄媒體100寫入磁信息。再有,在圖11中,符號B是磁記錄媒體100的旋轉(zhuǎn)方向。
      但是,在現(xiàn)有的磁頭102中,如果氣壓下降,則如用圖11的二點(diǎn)劃線所示那樣,滑動器本體111的浮起量下降,由此,磁心112與磁記錄媒體100之間的間隙H減小,存在磁心112與磁記錄媒體100接觸、磁心112的性能變壞的可能性,這一點(diǎn)成為問題。特別是,在圖9和圖10中示出的結(jié)構(gòu)的磁頭102中,為了作成對埋入了磁心112的中心基座部125施加的正壓力為最高的結(jié)構(gòu),對于氣壓的變動來說,中心基座部125容易受到最大的影響。在使磁頭102接近于磁記錄媒體100之后轉(zhuǎn)移到浮起移動的姿態(tài)的加載時(shí)或使磁頭102轉(zhuǎn)移到磁記錄媒體100的外側(cè)的搜索時(shí),在磁記錄媒體100的旋轉(zhuǎn)數(shù)的變動或來自外部的沖擊或負(fù)載起作用的情況下,容易產(chǎn)生這樣的問題。
      為了解決上述課題,本發(fā)明的磁頭是在相對于被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的磁記錄媒體朝向媒體對向面以浮起方式移動的滑動器本體中具備進(jìn)行磁信息的記錄或重放的磁心而構(gòu)成的磁頭滑動器,在上述滑動器本體的媒體對向面上設(shè)置滑動器本體浮起用的中心基座部、側(cè)基座部、中心導(dǎo)軌部和側(cè)導(dǎo)軌部,在上述滑動器本體中將上述磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)方向上流側(cè)定為引導(dǎo)側(cè),將旋轉(zhuǎn)方向下流側(cè)定為尾側(cè),在上述中心基座部中具備上述磁心,在上述滑動器本體的媒體對向面的尾側(cè)的端部中央部上形成該中心基座部,在從上述中心基座部起偏向引導(dǎo)側(cè)的寬度方向的兩端部上分別形成上述側(cè)基座部,上述兩側(cè)基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積的合計(jì)值比上述中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積大,在上述各側(cè)基座部中,至少在引導(dǎo)側(cè)形成了其高度比其它的部分的高度低的前方臺階面。
      按照這樣的結(jié)構(gòu)的磁頭,由于能作成由伴隨磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)發(fā)生的空氣流產(chǎn)生的正壓力為最高的場所為側(cè)基座部附近的結(jié)構(gòu),在加載時(shí)或搜索時(shí)或來自外部的沖擊或負(fù)載起作用而氣壓下降了的情況下,對于氣壓的變動來說受到最大的影響的部分為側(cè)基座部,由于以該側(cè)基座部為支點(diǎn)浮起量下降故具備磁心的中心基座部對于氣壓的變動來說幾乎不受到影響,可減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙的對于氣壓變化的影響,可防止磁心與磁記錄媒體接觸。
      本發(fā)明的磁頭與現(xiàn)有的磁頭的作用的差異如下所述。
      在圖9至圖10中示出的現(xiàn)有的磁頭中,將中心基座部形成得比側(cè)基座部大,而且,由于該中心基座部在引導(dǎo)側(cè)形成了前方臺階面,故中心基座部的與媒體對向一側(cè)的面(第1后方空氣軸承面)比側(cè)基座部的與媒體對向一側(cè)的面(第2后方空氣軸承面)受到大的正壓。
      與此不同,在本發(fā)明的磁頭中,通過使上述兩側(cè)基座部的與媒體對向一側(cè)的面的面積的合計(jì)值比上述中心基座部的與媒體對向一側(cè)的面的面積大,由于中心基座部的與媒體對向一側(cè)的面(第1后方空氣軸承面)因空氣流受到的作用比側(cè)基座部小,故該中心基座部的與媒體對向一側(cè)的面受到的正壓力變小,另一方面,兩側(cè)基座部的與媒體對向一側(cè)的面與中心基座部相比因空氣流受到的作用大,而且,由于在引導(dǎo)側(cè)存在前方臺階面,由于空氣流從該前方臺階面起平緩地流到與媒體對向一側(cè)的面(第2后方空氣軸承面),故在該與媒體對向一側(cè)的面上產(chǎn)生大的正壓、即浮力。
      在本發(fā)明的磁頭中,關(guān)于上述中心基座部,最好至少在引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面上沒有形成臺階。通過這樣做,由于中心基座部的引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面成為峭立的壁面,故空氣流沿該峭立的壁面流動,由于中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面(第1后方空氣軸承面)因上述空氣流受到的作用變小,故該中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面受到的正壓力減小。
      此外,在本發(fā)明的磁頭中,上述兩側(cè)基座部中的至少一方的側(cè)基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積可比上述中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積大。
      此外,在本發(fā)明的磁頭中,如果將上述中心基座部中具備的磁心與上述側(cè)基座部的距離定為L2,則滿足0μm<L2≤150μm的關(guān)系這一點(diǎn)能減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于氣壓變化所受到的影響,在這一點(diǎn)上是較為理想的,更為理想的是,滿足50μm≤L2≤100μm的關(guān)系這一點(diǎn)除了上述的效果外,能減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)數(shù)的變化所受到的影響,在這一點(diǎn)上是所希望的。
      此外,本發(fā)明的磁記錄裝置的特征在于,具備前面的任一種結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的磁頭;被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的磁記錄媒體;使上述磁頭在上述磁記錄媒體的徑向移動用的支撐機(jī)構(gòu);以及在上述磁記錄媒體的外周部側(cè)或內(nèi)周部側(cè)設(shè)置的磁頭的退避部。
      這樣,如果是具備本發(fā)明的磁頭的磁記錄裝置,則可防止在磁頭中具備的磁心與磁記錄媒體接觸而受到損傷,此外,即使假定來自外部的沖擊或負(fù)載起作用,也可防止磁記錄媒體因浮起移動中的磁頭而受到損傷。
      圖2是從媒體對向面一側(cè)看圖1中示出的磁頭時(shí)的俯視圖。
      圖3是示出裝載了圖1的磁頭時(shí)的狀態(tài)和氣壓下降時(shí)的狀態(tài)的側(cè)面示意圖。
      圖4是示出安裝了本發(fā)明的磁頭的磁記錄媒體的一例的立體圖。
      圖5是示出氣壓下降時(shí)的實(shí)施例的磁頭的側(cè)基座部的位置和磁心與磁盤之間的間隙的變化量的關(guān)系的圖。
      圖6是示出氣壓下降時(shí)的比較例的磁頭的側(cè)基座部的位置和磁心與磁盤之間的間隙的變化量的關(guān)系的圖。
      圖7是示出減少了磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)時(shí)的實(shí)施例的磁頭的側(cè)基座部的位置和磁心與磁盤之間的間隙的變化量的關(guān)系的圖。
      圖8是示出減少了磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)時(shí)的比較例的磁頭的側(cè)基座部的位置和磁心與磁盤之間的間隙的變化量的關(guān)系的圖。
      圖9是示出在磁記錄裝置中安裝的現(xiàn)有的磁頭的立體圖。
      圖10是從媒體對向面一側(cè)看圖9中示出的磁頭時(shí)的俯視圖。
      圖11是示出裝載了圖9的磁頭時(shí)的狀態(tài)和氣壓下降時(shí)的狀態(tài)的側(cè)面示意圖。
      圖1是示出將本發(fā)明的磁頭應(yīng)用于CSS(接觸開始停止contact startstop)方式或L/UL方式(裝載/卸載方式)的磁頭的實(shí)施形態(tài)的立體圖,圖2是從媒體對向面一側(cè)看該磁頭的俯視圖,將該實(shí)施形態(tài)的磁頭H1安裝在圖4中示出的L/UL方式(裝載/卸載方式)的磁記錄裝置中來使用。
      圖4中示出的磁記錄裝置J中,在底板2上以轉(zhuǎn)動自在的方式設(shè)置了多片(在圖面上是2片)被涂敷了磁性膜的圓盤狀的磁盤,在這些磁盤1的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)纫詫τ诖疟P1(磁記錄媒體)自由地相對移動的方式設(shè)置了磁頭H1,通過被稱為撓性電路板的圖示省略的安裝基板分別經(jīng)細(xì)長的三角板狀的承載梁3和臂4在支柱5上支撐了這些多個(gè)磁頭H1,在底板2上以轉(zhuǎn)動自在的方式支撐了該支柱5而構(gòu)成。
      在底板2的上面一側(cè)在上下隔開規(guī)定的間隔的狀態(tài)下堆疊2片磁盤1,以通過磁盤1的中心的旋轉(zhuǎn)軸為中心,以轉(zhuǎn)動自在的方式在該軸周圍支撐了該磁盤1。再有,在磁盤1的中心部的旋轉(zhuǎn)軸的下部一側(cè)設(shè)置了圖示省略的扁平型的主軸電機(jī),利用該主軸電機(jī)對磁盤1進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。
      再有,實(shí)際上通過與圖4中示出的磁記錄裝置J的上面一側(cè)密接地設(shè)置圖示省略的頂蓋構(gòu)件,將底板2作成封閉結(jié)構(gòu)(經(jīng)過濾器而具有空氣的出入口的結(jié)構(gòu))以供實(shí)際的使用,但圖4中只示出了磁記錄裝置J的內(nèi)部結(jié)構(gòu)而省略了該頂蓋構(gòu)件。此外,在磁盤1的表面和背面上設(shè)置了磁性層,在該磁性層中,在圓周方向上形成了微細(xì)寬度的磁道,將磁頭H1構(gòu)成為在磁盤1的半徑方向上移動,在作為目的的磁道間自由地移動。
      即,在圖4中示出的結(jié)構(gòu)中,通過支柱5轉(zhuǎn)動,磁頭H1對于磁盤來說在其半徑方向上相對移動,構(gòu)成為或是能讀出磁盤1上的所希望的位置的磁信息,或是能在磁盤1上的所希望的位置上寫入磁信息。
      再有,在圖4中示出的支柱5的支撐結(jié)構(gòu)中,支柱5以與磁盤1的旋轉(zhuǎn)軸平行地配置的旋轉(zhuǎn)軸6為中心轉(zhuǎn)動,同時(shí)通過磁頭H1在磁盤1上(或下)移動到其半徑方向的規(guī)定的位置上來實(shí)現(xiàn)磁頭H1的移動。再者,將圖4中示出的支柱5的驅(qū)動結(jié)構(gòu)作成組合了音圈8與磁鐵9的音圈電機(jī)結(jié)構(gòu),可實(shí)現(xiàn)磁頭H1的微細(xì)的位置移動。
      此外,設(shè)置了利用臂4的轉(zhuǎn)動使磁頭H1到達(dá)磁盤1的最外周部的部分的側(cè)方的退避部7。該退避部7具有面對磁盤1的上面一側(cè)或下面一側(cè)的支撐板7a,在磁盤1停止旋轉(zhuǎn)時(shí),磁頭H1沿這些支撐板7a的在磁記錄媒體一側(cè)形成的斜面退避到支撐板7a上。
      在此,如果詳細(xì)地?cái)⑹霰緦?shí)施形態(tài)的磁頭H1的結(jié)構(gòu),則圖1是示出使磁頭H1的底面一側(cè)(媒體對向面一側(cè))朝向了上側(cè)的狀態(tài)的圖,該磁頭H1以用Al2O3-TiC等的硬質(zhì)的非磁性體的陶瓷材料構(gòu)成的板狀的滑動器本體11和在該滑動器本體11的一個(gè)端部一側(cè)設(shè)置的具有線圈部的磁心12作為主體來構(gòu)成。
      在磁頭H1的滑動器本體11中,將與設(shè)置上述線圈部的一個(gè)端部一側(cè)相反一側(cè)的端部一側(cè)定為磁盤1的旋轉(zhuǎn)方向上流側(cè)的引導(dǎo)側(cè)13,將設(shè)置上述線圈部的一個(gè)端部一側(cè)定為旋轉(zhuǎn)方向下流側(cè)的尾側(cè)15。
      在磁心12中具備在尾側(cè)按順序?qū)盈B了的MR頭(讀出頭)和電感頭(寫入頭)。
      此外,在滑動器本體11的尾側(cè)15的端部中央部(尾側(cè)的寬度方向中央部)上形成了大致三角柱狀的中心基座部25。在該中心基座部25的引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面(壁面)25c上沒有形成臺階,該中心基座部25的與媒體對向的一側(cè)的面成為第1后方空氣軸承面25a,在該第1后方空氣軸承面25a中埋入了上述的磁心12。
      在從該中心基座部25起偏向引導(dǎo)側(cè)的寬度方向的寬度方向的兩端部上分別形成多角柱狀的側(cè)基座部26。此外,各側(cè)基座部26具有第2后方空氣軸承面26a和在該引導(dǎo)側(cè)設(shè)置的前方臺階面26b。將該前方臺階面26b的高度形成得比第2后方空氣軸承面26a的高度低。第2后方空氣軸承面26a的高度與第1后方空氣軸承面25a的高度相同。
      側(cè)基座部26、26的與媒體對向的一側(cè)的面的面積的合計(jì)值(兩第2后方空氣軸承面26a的面積的合計(jì)值)比中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a面積大。
      此外,特別是在本實(shí)施形態(tài)中,各側(cè)基座部26的與媒體對向的一側(cè)的面的面積(第2后方空氣軸承面26a的面積)比中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a面積大。
      此外,在本實(shí)施形態(tài)的磁頭H1中,如圖2中所示,在將中心基座部25中具備的磁心12的中央部(上述讀出頭的引導(dǎo)側(cè)的面)與一方的側(cè)基座部26的距離定為L2時(shí),最好將中心基座部25、側(cè)基座部26形成為滿足0μm<L2≤150μm的關(guān)系。如果上述的距離L2為上述的范圍外,則在氣壓下降了的情況下,磁心與磁盤之間的間隙H過分小,存在磁心與磁盤接觸、受到損傷的可能性。
      此外,上述的距離L2滿足50μm≤L2≤100μm的關(guān)系則更為理想。如果上述的距離L2為上述的范圍內(nèi),則可進(jìn)一步減小磁心12與磁盤1之間的間隙H的對于氣壓變化受到的影響,此外可減小磁心12與磁盤1之間的間隙H對于磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)的變化所受到的影響,可進(jìn)一步提高磁心12的防止性能變壞的效果。
      此外,在滑動器本體11的引導(dǎo)側(cè)13的端部上朝向?qū)挾萕1的方向形成中心導(dǎo)軌部21,進(jìn)而,在該滑動器本體11上形成了從中心導(dǎo)軌部21的兩端部起朝向尾側(cè)15延伸的側(cè)導(dǎo)軌部22、23。
      此外,中心導(dǎo)軌部21具有前方空氣軸承面21a、前方臺階面21b和從該前方臺階面21b的兩端部起朝向尾側(cè)15延伸的側(cè)方臺階面21c。前方臺階面21b的高度形成得比前方空氣軸承面21a的高度低,前方臺階面21b的高度與側(cè)方臺階面21c的高度相同。
      使側(cè)導(dǎo)軌部22、23的高度與中心導(dǎo)軌部21的前方空氣軸承面21a的高度相同,即,使側(cè)導(dǎo)軌部22、23與前方空氣軸承面21a在同一個(gè)面上。此外,使這些中心導(dǎo)軌部21的前方空氣軸承面21a、側(cè)導(dǎo)軌部22、23、中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a和各側(cè)基座部26的第2后方空氣軸承面26a的高度相同。
      在前方臺階面21b的寬度W1的方向的兩端形成了其高度比前方空氣軸承面21a的高度高的一對防止吸附基座29。該防止吸附基座29是為了避免在滑動器本體11定位于盤面上時(shí)前方臺階面21b與盤面接觸而設(shè)置的。
      此外,在前方空氣軸承面21a的寬度W1的方向的兩端形成了其高度比前方空氣軸承面21a的高度高的一對防止吸附基座30。該防止吸附基座30是為了避免在滑動器本體11定位于盤面上時(shí)前方空氣軸承面21a與盤面接觸而設(shè)置的。
      此外,在側(cè)導(dǎo)軌部22、23之間的媒體對向面11a上形成了多對(在圖面上是2對)其高度比側(cè)導(dǎo)軌部22、23的高度高的防止吸附基座31。該防止吸附基座31是為了避免在滑動器本體11定位于盤面上時(shí)側(cè)導(dǎo)軌部22、23或第2后方空氣軸承面26a或第1后方空氣軸承面25a與盤面接觸而設(shè)置的。
      在上述的結(jié)構(gòu)的磁頭102中,如果如圖3中所示那樣伴隨磁記錄媒體100的旋轉(zhuǎn)而發(fā)生空氣流A,則該空氣流A從引導(dǎo)側(cè)13流入滑動器本體11的媒體對向面一側(cè),進(jìn)而該空氣流A從中心導(dǎo)軌部21的前方臺階面21b經(jīng)過前壁面(側(cè)面)21d作用于前方空氣軸承面21a,其結(jié)果,前方空氣軸承面21a受到正壓,發(fā)生浮力。此外,由于形成了側(cè)導(dǎo)軌部22、23,故防止了從寬度方向的兩側(cè)迂回經(jīng)過中心導(dǎo)軌部21的空氣流侵入到中心導(dǎo)軌部21的背面一側(cè),沿前方空氣軸承面21a流動的空氣流A在通過中心導(dǎo)軌部21的同時(shí)在磁盤面垂直方向上擴(kuò)展,其結(jié)果,生成負(fù)壓。通過該負(fù)壓與浮力相平衡,規(guī)定了滑動器本體的浮起量。
      再者,空氣流A從側(cè)基座部26、26的前方臺階面26b、26b經(jīng)過前壁面(側(cè)面)26c作用于第2后方空氣軸承面26a、26a,此外,雖然空氣流A作用于中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a,但如上所述,通過使側(cè)基座部26、26的與媒體對向的面(第2后方空氣軸承面26a、26a)的面積的合計(jì)值比中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a的面積大,由于中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a因空氣流A受到的作用比側(cè)基座部26小,故該中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a受到的正壓變小。
      另一方面,側(cè)基座部26、26的第2后方空氣軸承面26a、26a與中心基座部25相比因空氣流A受到的作用變大,而且,由于在各側(cè)基座部26上在引導(dǎo)側(cè)有前方臺階面26b,由于空氣流A從該前方臺階面26b、26b平緩地流到第2后方空氣軸承面26a、26a上,故第2后方空氣軸承面26a、26a受到最大的正壓,即產(chǎn)生大的浮力。在此,第2后方空氣軸承面26a、26a受到的正壓比前方空氣軸承面21a受到的正壓大。
      此外,由于在中心基座部25中在引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面25c上沒有形成臺階,故中心基座部25的引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面25c成為峭立的壁面,故空氣流沿該峭立的壁面流動,由于中心基座部25的第1后方空氣軸承面25a因空氣流A受到的作用變小,故該第1后方空氣軸承面25a受到的正壓力減小。
      由此,從磁盤1的表面或背面起以浮起方式移動,在以浮起方式移動的狀態(tài)下構(gòu)成為或是能利用磁心12讀出磁盤1的磁信息,或是能對磁盤1寫入磁信息。
      按照本實(shí)施形態(tài)的磁頭H1,由于能作成由伴隨磁盤1的旋轉(zhuǎn)發(fā)生的空氣流A產(chǎn)生的正壓力為最高的場所為側(cè)基座部26、26附近的結(jié)構(gòu),在加載時(shí)或搜索時(shí)或來自外部的沖擊或負(fù)載起作用而氣壓下降了的情況下,對于氣壓的變動來說受到最大的影響的部分為側(cè)基座部26、26,如圖3中所示,由于以該側(cè)基座部26、26為支點(diǎn),浮起量下降,故具備磁心12的中心基座部25對于氣壓的變動來說幾乎不受到影響,可減小磁心12與磁盤之間的間隙H的對于氣壓變化的影響,可防止磁心12與磁盤1接觸。
      此外,具備本實(shí)施形態(tài)的磁頭H1的磁記錄裝置J可防止在磁頭H1中具備的磁心12與磁盤1接觸而受到損傷,即使假定來自外部的沖擊或負(fù)載起作用,也可防止磁盤1因浮起移動中的磁頭H1而受到損傷。
      再有,在本實(shí)施形態(tài)中,說明了中心基座部25在引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面上沒有形成臺階的情況,但也可形成臺階,此時(shí)的臺階面的高度最好比側(cè)基座部26的前方臺階面26b的高度高。
      以下,上面本發(fā)明的實(shí)施例。
      (實(shí)施例)將變更了側(cè)基座部26的位置的圖1和圖2的磁頭H1安裝在圖4的磁記錄裝置上,研究了變更了氣壓時(shí)的磁心與磁盤之間的間隙H的變化量。在圖5中示出其結(jié)果。在此,作為滑動器本體11,使用了由Al2O3-TiC構(gòu)成的滑動器本體。該滑動器本體11的長度L1為1.241mm、寬度W1為1mm、厚度為0.3mm。關(guān)于側(cè)基座部26的位置,使中心基座部25中具備的磁心12的中央部(上述讀出頭的引導(dǎo)側(cè)的面)的離尾側(cè)15的距離L3定為38μm,是恒定的,在-38μm至200μm的范圍內(nèi)變更了該磁心12的中央部與一方的側(cè)基座部26的距離L2。此外,關(guān)于在此的氣壓的變更,從與高度為OK英尺(0m)時(shí)有關(guān)的氣壓變更為與10K英尺(3048m)時(shí)有關(guān)的氣壓。圖5中,虛線①是與高度為OK英尺(0m)時(shí)有關(guān)的氣壓時(shí)的間隙H,此時(shí),將間隙量定為基準(zhǔn)值的0nm。
      此外,將變更了側(cè)基座部26的位置的圖1和圖2的磁頭H1安裝在圖4的磁記錄裝置上,研究了將磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)從7200rpm變更為5400rpm時(shí)的磁心與磁盤之間的間隙H的變化量。在圖7中示出其結(jié)果。圖7中,虛線③是磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)為7200rpm時(shí)的間隙H,此時(shí),將間隙量定為基準(zhǔn)值的0nm。
      再有,在圖5和圖7中,◆表示在磁盤1的最內(nèi)周上使磁頭H1浮起時(shí)的值,■表示在磁盤1的最外周上使磁頭H1浮起時(shí)的值。
      (比較例)將變更了側(cè)基座部126的位置的圖9和圖10的現(xiàn)有的磁頭(比較例)102安裝在圖4的磁記錄裝置上,與上述實(shí)施例1同樣地研究了變更了氣壓時(shí)的磁心與磁盤之間的間隙H的變化量。在圖6中示出其結(jié)果。在此,作為滑動器本體111,使用了由Al12O3-TiC構(gòu)成的滑動器本體。該滑動器本體111的長度L1為1.1241mm、寬度W1為1mm、厚度為0.3mm。關(guān)于側(cè)基座部126的位置,使中心基座部125中具備的磁心112的中央部(上述讀出頭的引導(dǎo)側(cè)的面)的離尾側(cè)115的距離L3定為38μm,是恒定的,在0μm至200μm的范圍內(nèi)變更了該磁心112的中央部與一方的側(cè)基座部126的距離L2。圖6中,虛線②是與高度為OK英尺(0m)時(shí)有關(guān)的氣壓時(shí)的間隙H,此時(shí),將間隙量定為基準(zhǔn)值的0nm。
      此外,將變更了側(cè)基座部126的位置的圖9和圖10的磁頭102安裝在圖4的磁記錄裝置上,研究了將磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)從71200rpm變更為5400rpm時(shí)的磁心與磁盤之間的間隙H的變化量。在圖8中示出其結(jié)果。圖7中,虛線④是磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)為7200rpm時(shí)的間隙H,此時(shí),將間隙量定為基準(zhǔn)值的0nm。
      再有,在圖6和圖8中,◆表示在磁盤1的最內(nèi)周上使磁頭H1浮起時(shí)的值,■表示在磁盤1的最外周上使磁頭H1浮起時(shí)的值。
      從圖5和圖6中示出的結(jié)果可知,在使中心基座部的大小比側(cè)基座部大的比較例的磁頭中,由于氣壓的下降的緣故,間隙H下降了4nm至5nm,即使變更側(cè)基座部126的位置L2,也可得到同樣的趨勢,此外,即使變更使磁頭102浮起的位置,也可得到上述同樣的趨勢。
      與此不同,在使中心基座部的大小比側(cè)基座部小的實(shí)施例的磁頭中,如果使側(cè)基座部26的距離L2比0μm大且在150μm以下的范圍內(nèi),則可知因氣壓的下降引起的間隙H的下降量比比較例的下降量小。
      從圖7和圖8中示出的結(jié)果可知,在使中心基座部的大小比側(cè)基座部大的比較例的磁頭中,即使磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)下降,間隙H也下降約1nm,即使變更側(cè)基座部126的位置L2,也可得到同樣的趨勢,此外,即使變更使磁頭102浮起的位置,也可得到上述同樣的趨勢。
      與此不同,在使中心基座部的大小比側(cè)基座部小的實(shí)施例的磁頭中,如果使側(cè)基座部26的距離L2為50μm以上且在150μm以下的范圍內(nèi),則可知能使因磁盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)的下降引起的間隙H的下降量為約1nm以下。因而,在實(shí)施例的磁頭中,通過滿足50μm≤L2≤100μm的關(guān)系,可減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于氣壓變化所受到的影響,而可減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)數(shù)的變化所受到的影響。
      如以上已說明的那樣,按照本發(fā)明的磁頭,在滑動器本體對于磁記錄媒體以浮起方式移動的情況下,可減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于氣壓變化所受到的影響,可防止磁心與磁記錄媒體接觸。
      權(quán)利要求
      1.一種磁頭,是在相對于被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的磁記錄媒體朝向媒體對向面以浮起方式移動的滑動器本體中具備進(jìn)行磁信息的記錄或重放的磁心而構(gòu)成的磁頭滑動器,在所述滑動器本體的媒體對向面上設(shè)置滑動器本體浮起用的中心基座部、側(cè)基座部、中心導(dǎo)軌部和側(cè)導(dǎo)軌部,在所述滑動器本體中將所述磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)方向上流側(cè)定為引導(dǎo)側(cè),將旋轉(zhuǎn)方向下流側(cè)定為尾側(cè),在所述中心基座部上具備所述磁心,該中心基座部形成在所述滑動器本體的媒體對向面的尾側(cè)的端部中央部上,在從所述中心基座部起偏向引導(dǎo)側(cè)的寬度方向的兩端部上分別形成所述側(cè)基座部,所述兩側(cè)基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積之和大于所述中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積,所述各側(cè)基座部,至少在引導(dǎo)側(cè)形成有高度比其它部分低的前方臺階面。
      2.如權(quán)利要求1中所述的磁頭,其特征在于在所述中心基座部中,至少在引導(dǎo)側(cè)的側(cè)面上沒有形成臺階。
      3.如權(quán)利要求1中所述的磁頭,其特征在于所述兩側(cè)基座部中的至少一方的側(cè)基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積比所述中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積大。
      4.如權(quán)利要求1中所述的磁頭,其特征在于如果將所述中心基座部中具備的磁心與所述側(cè)基座部的距離定為L2,則滿足0μm<L2≤150μm的關(guān)系。
      5.如權(quán)利要求1中所述的磁頭,其特征在于如果將所述中心基座部中具備的磁心與所述側(cè)基座部的距離定為L2,則滿足50μm≤L2≤100μm的關(guān)系。
      6.一種磁記錄裝置,具備磁頭,該磁頭是在相對于被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的磁記錄媒體朝向媒體對向面以浮起方式移動的滑動器本體中具備進(jìn)行磁信息的記錄或重放的磁心而構(gòu)成的磁頭滑動器,在所述滑動器本體的媒體對向面上設(shè)置滑動器本體浮起用的中心基座部、側(cè)基座部、中心導(dǎo)軌部和側(cè)導(dǎo)軌部,在所述滑動器本體中將所述磁記錄媒體的旋轉(zhuǎn)方向上流側(cè)定為引導(dǎo)側(cè),將旋轉(zhuǎn)方向下流側(cè)定為尾側(cè),在所述中心基座部中具備所述磁心,在所述滑動器本體的媒體對向面的尾側(cè)的端部中央部上形成該中心基座部,在從所述中心基座部起偏向引導(dǎo)側(cè)的寬度方向的兩端部上分別形成所述側(cè)基座部,所述兩側(cè)基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積之和比所述中心基座部的與媒體對向的一側(cè)的面的面積大,在所述各側(cè)基座部中,至少在引導(dǎo)側(cè)形成有高度比其它部分低的前方臺階面;被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的磁記錄媒體;使所述磁頭沿所述磁記錄媒體的徑向移動用的支撐機(jī)構(gòu);以及設(shè)置在所述磁記錄媒體的外周部側(cè)或內(nèi)周部側(cè)的磁頭的退避部。
      全文摘要
      一種磁頭(H1),在滑動器本體(11)的媒體對向面(11a)的尾側(cè)(15)的端部中央部上形成具備磁心(12)的中心基座部(25),在從中心基座部(25)起偏向引導(dǎo)側(cè)(13)的寬度方向的兩端部上分別形成側(cè)基座部(26、26),兩側(cè)基座部(26、26)的與媒體對向的一側(cè)的面(26a、26a)的面積的合計(jì)值比中心基座部(25)的與媒體對向的一側(cè)的面(25a)的面積大,在各側(cè)基座部(26)中,在引導(dǎo)側(cè)(13)形成了其高度比其它的部分的高度低的前方臺階面(26b)。從而在滑動器相對于磁記錄媒體以浮起方式移動的情況下,可減小磁心與磁記錄媒體之間的間隙對于氣壓變化所受到的影響,可防止磁心與磁記錄媒體接觸。
      文檔編號G11B5/60GK1455392SQ0312869
      公開日2003年11月12日 申請日期2003年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月1日
      發(fā)明者上田淳生, 近藤康之 申請人:阿爾卑斯電氣株式會社
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