專利名稱：磁頭裝置、磁頭支承機構和磁記錄裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種磁頭裝置、磁頭支承機構和磁記錄裝置。具體地，本發(fā)明涉及一種具有改進的耐沖擊能力的磁頭裝置、磁頭支承機構和磁記錄裝置。
背景技術：
圖32示意性示出現(xiàn)有技術磁記錄裝置的輪廓。圖32中所示的磁記錄裝置101裝有一個用作可旋轉記錄媒體的磁盤102，和一個磁頭支承機構104，用于在磁盤102徑向方向移動一個在磁盤102上方浮動的磁頭103。在具有上述結構的磁記錄裝置101中，由磁頭103讀取提前寫在磁盤102表面上的伺服信號(即位置信息)，根據(jù)讀取的信息向設置于磁頭103相對端的一個可移動線圈105供電，從而在箭頭107所示的方向在磁路106中產(chǎn)生一個力。這樣將磁頭103移動到一個目標軌道(或者一個目標位置)。
圖33中示意性表示如何相對于磁盤設置磁頭裝置。如該圖中所示，在磁頭103的中間部分裝有一個負載梁108。負載梁108的一個端部緊固到一個基板109上，基板109與磁頭支承機構104連接。在負載梁108的另一個端部設有一個緊固到其上的滑塊110。此外，在負載梁108和基板109的邊界111處還裝有一個片簧部分。由該片簧部分產(chǎn)生的推力提供了滑塊110壓靠磁盤102的壓力負載(即所謂的負載壓力)。
但上述磁記錄裝置具有下面的問題。常規(guī)磁頭裝置的安裝結構是一個懸臂梁結構，基板109作為樞軸。因此如果例如在垂直方向(即磁盤102的厚度方向)向它施加沖擊，則產(chǎn)生以滑塊110作為質點的環(huán)繞基板109的旋轉力矩(或扭矩)。當旋轉力矩產(chǎn)生的力超過滑塊110的壓力負載時，滑塊110會從磁盤102的表面脫離一段時間，然后撞擊磁盤102的表面。這會損壞滑塊110自身，或者在磁盤102的表面上產(chǎn)生裂紋，從而損害已經(jīng)寫上的數(shù)據(jù)。
另一方面，這樣調節(jié)該裝置，由形成在負載梁108的跟部側端(即在與基板109的邊界處)的片簧部分產(chǎn)生環(huán)繞基板109的對于滑塊110的壓力負載。因此需要在負載梁108中形成具有不同性質的兩個不同的部分(即片簧部分和一個剛性本體部分)，即負載梁108的結構復雜。這是另一個問題。此外，形成片簧部分要求在負載梁上進行高精度彎曲加工，并在加工后檢測，這增加了制造工藝的數(shù)量。這也是一個問題。
已經(jīng)提出了多種技術來消除上述問題。例如，日本專利申請公開No.9-82052中公開了一種結構，設有一個從在其相對端安裝有一個滑塊的負載梁伸出的第二負載梁，和一個設在該第二負載梁上的加載部件，使由于沖擊產(chǎn)生的加速度中心與滑塊的旋轉中心相一致。
另一個文件，日本專利申請公開No.8-102159中公開了一種結構，其中懸伸部的一個自由端部可與設置于一個底座或蓋上的銷狀突起接觸。此外，日本專利申請公開No.2001-57032中公開了一種設有一個限制器的結構，該限制器成形為從一部分底座部分的伸出部，用于安裝一個懸伸部，以限制負載梁的可移動范圍，從而防止由于沖擊造成損壞。日本專利申請公開No.102159中公開的懸伸部適于起到與上述負載梁具有相似的作用的功能，于是能夠使裝設在其自由端的磁頭相對磁盤表面偏置。
但在日本專利申請公開No.9-82052中公開的結構中，施加到滑塊上的負載是由設置于負載梁中的一個彈簧偏壓而給出的。因此需要在負載梁上進行高精度彎曲加工。此外，由于在機構的中間部分存在一個彈簧機構，難以防止由于由施加到負載梁上的加速度產(chǎn)生的旋轉力矩而產(chǎn)生的取向改變。另一方面，日本專利申請公開No.8-102159中公開的結構僅提供了針對在磁頭裝置位于運送區(qū)域中的狀態(tài)下(即磁盤不工作的狀態(tài)下)施加的沖擊的對策，但沒有提供任何針對在磁頭裝置位于數(shù)據(jù)區(qū)域中的情況下(即磁盤工作的狀態(tài)下)施加的沖擊的對策。此外，在日本專利申請公開No.2001-57032中公開的結構中，除了裝設有用于限制負載梁的可移動范圍的限制器之外，施加到滑塊上的負載是由設置于負載梁中的彈簧偏壓所給的。因此如日本專利申請公開No.9-82052中所公開結構的情況那樣，需要在負載梁上進行高精度彎曲加工。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題作出的。本發(fā)明的目的是要提高在工作狀態(tài)和不工作狀態(tài)(或休止狀態(tài))磁記錄裝置的耐沖擊性，并提供一種磁頭裝置，磁頭支承機構和磁記錄裝置，其中能夠易于以高精度設置壓靠記錄媒體的壓力負載。
根據(jù)本發(fā)明的磁頭裝置、磁頭支承機構和磁記錄裝置是基于這樣一種概念開發(fā)的，即如果負載梁作為一整體看作為一個剛體，在負載梁和安裝部件之間裝設一彈簧結構，并通過支承作為平衡支點的負載梁的質心構成平衡結構，則即使在垂直方向施加沖擊，負載梁也不會圍繞平衡支點轉動，這與由彈簧懸掛重量的降低相組合有利于提高耐沖擊性。
根據(jù)本發(fā)明的磁頭裝置包括安裝有一滑塊的一負載梁，裝在負載梁上的一可彈性變形部分，使得圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，以及從負載梁突出的一突起，適于起到作為負載產(chǎn)生部分的作用，其中通過施加到突起頂部的壓力設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
根據(jù)本發(fā)明另一方式的磁頭裝置包括安裝有一滑塊的一負載梁，裝在負載梁上的一可彈性變形部分，以便圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，以及從負載梁突出的一突起，適于起到作為負載產(chǎn)生部分的作用，其中突起適與負載梁的一平衡支點重合，并且通過施加到突起頂部的壓力設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
根據(jù)本發(fā)明的更具體方式，提供了一種磁頭裝置，包括適于安裝在磁頭臂上的一基板，從基板延伸出的一負載梁，安裝到負載梁的滑塊，裝設在基板與負載梁之間的一可彈性變形部分，以便圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，以及從負載梁突出的一突起，適于起到作為負載產(chǎn)生部分的作用，其中突起適與負載梁的一平衡支點重合，壓力負載通過滑塊施加到記錄媒體表面，并且通過施加到突起頂部的壓力設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
上述從負載梁突出的突起最好適于設置圍繞所述突起的這樣一個限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到所述負載梁時，所述負載梁的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。此外，最好通過振動阻尼材料制成的靜重獲得平衡。靜重可由樹脂制成。負載梁也可由樹脂制成。在這種情形下，用于負載梁的樹脂最好是導電樹脂，使得負載梁與外部部件電接觸。另外一方式是，樹脂可具有在其上形成的導電涂層，使得負載梁將通過導電涂層與外部部件電接觸。
以在記錄媒體徑向方向上可擺動的方式支承的磁頭臂具有一加強板，按以下方式垂直安裝到磁頭臂上，即使得它在磁頭臂的擺動范圍內(nèi)不與記錄媒體發(fā)生干擾。
根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構包括一磁頭裝置，該裝置包含一基板和從基板延伸出的一負載梁，安裝在基板上的一磁頭臂，安裝在負載梁上的滑塊，一個裝設在基板與負載梁之間的可彈性變形部分，該可彈性變形部分是柔性的，以使圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，從負載梁突出的突起，適于作為負載產(chǎn)生部分，其中壓力負載通過滑塊施加到記錄媒體表面，并且由施加到突起頂部的壓力設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
根據(jù)本發(fā)明另一方式的磁頭支承機構包括一磁頭裝置，該裝置包含一基板和從基板延伸的一負載梁，安裝在基板的一磁頭臂，安裝在負載梁的滑塊，一個裝設在基板與負載梁之間的可彈性變形部分，該可彈性變形部分是柔性的，以便圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，從負載梁突出的一突起，適于作為負載產(chǎn)生部分，其中使突起適與負載梁的平衡支點重合，壓力負載通過滑塊施加到記錄媒體表面，并且由施加到突起頂部的壓力設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。最好使上述從負載梁突出的突起適于設置圍繞突起的這樣一個限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到所述負載梁時，所述負載梁的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。
此外，最好通過振動阻尼材料制成的靜重獲得平衡。靜重可由樹脂制成。負載梁也可由樹脂制成。在這種情形下，用于負載梁的樹脂最好是導電樹脂，使得負載梁與外部部件電接觸。另外，樹脂可具有在其上形成的導電涂層，使得負載梁將通過導電涂層與外部部件電接觸。
以在記錄媒體徑向方向上可擺動的方式支承的磁頭臂，具有一加強板，按以下方式垂直安裝到磁頭臂上，即使得它在磁頭臂的擺動范圍內(nèi)不與記錄媒體發(fā)生干擾。
根據(jù)本發(fā)明另一方式的磁頭支承機構包括一支承臂，可在記錄媒體徑向及垂直于記錄媒體記錄表面的方向以軸承部分為樞軸而擺動，在支承臂一端安裝在支承臂下表面的一磁頭，裝設在支承臂上用于向記錄媒體方向對支承臂給予偏置力的彈性裝置，以及從支承臂突出的適于與軸承部分點接觸的一突起，其中支承臂適于在與記錄媒體垂直方向上擺動，以突起部分頂部和軸承部分彼此接觸的一點為平衡支點。從臂突出的突起最好設置這樣一個圍繞突起的限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到支承臂時，突起附近中部分的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明，還提供了一種磁記錄裝置，裝有根據(jù)本發(fā)明上述方式任何之一的磁頭裝置或磁頭支承機構。
在以上說明中，術語“浮動結構”是指這樣一種結構，其中負載梁和基極不是由一剛體連接，使得能夠防止施加到基板的沖擊被直接傳送到負載梁。
根據(jù)上述的結構，在負載梁上裝設可彈性形變部分，負載梁上安裝有滑塊且負載梁的重量對于從負載梁突出的突起平衡。(可通過向負載梁在與滑塊位置相對的位置安裝靜重而獲得重量平衡)。使用上述結構，其中負載梁通過可彈性形變部分由浮動結構支承，進一步與負載梁可圍繞在其上形成突起形式的一支點擺動的結構相結合，即使向負載梁施加沖擊，也能夠防止圍繞突起(或負載產(chǎn)生部分)產(chǎn)生旋轉力。這樣，滑塊將不會由于這種旋轉力而從記錄媒體上脫離。因而，能夠防止滑塊與記錄媒體碰撞而損壞媒體，或防止磁頭裝置本身被沖擊損壞。進而，由于作為負載產(chǎn)生部分的突起是從負載梁上突出的，突起的頂部處于與外部部件點接觸。因而，施加到突起頂部的壓力將通過突起的展寬部分(即有加大的直徑的部分)分布或分散在負載梁上。因而，將不向負載梁的局部區(qū)域施加集中的負載，于是，能夠防止負載梁的變形。在裝備有根據(jù)本發(fā)明的磁頭裝置或磁頭支承機構的磁記錄裝置中，一般設置一極限沖擊值。當對應于極限值的沖擊通過突起施加到負載梁時，沖擊力將立即在圍繞突起的部分施加到負載梁(即突起的周圍部分)。在這種情形下，如果加大突起部分的直徑，接受沖擊的限制區(qū)域被加大，使得能夠降低由沖擊產(chǎn)生的應力。這樣，能夠把應力限制在只引起組成負載梁的材料彈性形變的范圍內(nèi)。因而，負載梁能夠保持穩(wěn)定性能而不會變形。就此來說，用于降低應力的手段(換言之，用于加大限制區(qū)域的手段)不限于突起的周圍部分的加大。通過形成多個突起或通過將加大突起部分及增加突起相組合可減小限制區(qū)域。
負載梁將圍繞彈性形變部分由施到在負載梁上形成的突起的外部壓力而轉動或擺動。因而，能夠通過調節(jié)旋轉量來設置(或確定)滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。由于壓力負載是由負載梁的旋轉量這樣確定的，因而能夠產(chǎn)生精確的壓力負載并抑制壓力負載中的變化。此外，由于不需要在負載梁上形成為向負載梁提供壓力負載的彈性彎曲，所以，能夠省略用于加工負載梁的高精度彎曲工藝或用于測量彈簧負載的檢查工藝。因而，顯然能夠簡化裝置的制造工藝。
使用負載梁通過可彈性變形部分連接到基板的結構，磁頭裝置能夠構成為浮動結構，而無需把整個的磁頭支承機構或整個的執(zhí)行機構(包括磁頭臂VCM等)構成為浮動結構。因而降低了裝在可彈性變形部分之下部分的重量或質量(即由彈簧懸掛的質量降低)。重量降低結果是提高了耐沖擊性。
此外，使用在磁頭臂上形成的突出面的結構，當負載梁上的突出面和突起彼此接觸時，負載梁圍繞可彈性變形部分旋轉對應于突起的高度的量。因而，通過控制突起的高度能夠獲得壓力負載而不會在各產(chǎn)品之間有變化。
可通過向負載梁添加靜重和/或形成用于降低重量的孔，使負載梁相對于突起重量平衡。當靜重加到負載梁時，最好使用諸如振動抑制鋼板等振動阻尼部件作為靜重。在這種情形下，能夠按需要降低負載梁的自然諧振頻率(所謂諧振點)的峰值。因而，可提高執(zhí)行機構的穩(wěn)定性。
在本發(fā)明中，負載梁可被設計為不需要具有彈性部分的一種結構，因而負載梁能夠由各種材料制成，換言之，負載梁的材料不限于傳統(tǒng)的金屬材料，諸如不銹鋼，負載梁可由樹脂制成。使用由樹脂制成的負載梁，與由金屬材料制成的傳統(tǒng)的負載梁相比能夠大大降低重量。換言之，可彈性變形部分之下裝設的部分的重量或質量隨著使用由樹脂制成的負載梁而降低(即由彈簧懸掛的質量降低)。重量的這一降低進而提高了耐沖擊性。
如果用于負載梁的樹脂是導電樹脂，則能夠使磁記錄裝置的負載梁、執(zhí)行機構和基底側的電位彼此相等。因而，能夠防止在負載梁上發(fā)生靜電放電。這樣，能夠防止靜電損壞磁頭裝置。通過在樹脂表面形成導電涂層而不是使用導電樹脂，也可實現(xiàn)相同的效果。就其低的體電阻而言，導電涂層最好是金屬涂層。顯然，導電樹脂與導電涂層的組合將實現(xiàn)更好的效果。
在磁記錄裝置中使用上述磁頭裝置或執(zhí)行機構，在工作狀態(tài)和不工作狀態(tài)，不論磁記錄裝置的尺寸如何，都能夠提高磁記錄裝置的耐沖擊性。因而，能夠提高磁記錄裝置的可靠性。
如果在安裝有磁頭和彈性裝置的支承臂的樞軸中心附近形成一突起，且使突起與一軸承點接觸，則將實現(xiàn)以突起作為平衡支點的一種平衡結構，于是即使在垂直方向施加了沖擊，也不會發(fā)生支承臂的擺動運動。因而，能夠提高耐沖擊性。于是，使用在支承臂上形成突起且突起的頂部適于與軸承部分點接觸的結構，防止了沖擊力的集中負載施加到支承臂，因而能夠防止支承臂的變形。此外，通過加大從支承臂突出的突起的直徑，或增加突起的數(shù)目，加大了接受沖擊的限制區(qū)域，因而能夠降低沖擊產(chǎn)生的應力。這樣，能夠將應力限制在只引起組成負載梁的材料的彈性變形的范圍內(nèi)。因而，負載梁能夠保持穩(wěn)定的性能而沒有變形。
應當理解，術語“磁頭裝置”是指包含滑塊和負載梁的磁頭萬向節(jié)組件(HGA)形式的裝置，同時術語“磁頭支承機構”是指包含磁頭裝置和磁頭臂(及基板)的結構。術語“基板”是指附加到磁頭臂的部分?；蹇梢允欠珠_的部件或整體形成。
從以下詳細的描述和附圖本發(fā)明其它的特征和目的將顯而易見。


圖1是一側視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的磁頭支承機構的操作原理。
圖2是一平面視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的磁頭支承機構的操作原理。
圖3是一透視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的磁頭支承機構的結構。
圖4是一分解透視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的磁頭支承機構的結構。
圖5是一側視圖，表示圍繞根據(jù)本發(fā)明第二實施例的磁頭支承機構的軸承的部分。
圖6是一平面視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭裝置的結構。
圖7是一圖示，表示如何由施加到突出面的壓力擺動負載梁。
圖8是一分解透視圖，表示磁頭裝置和磁頭臂如何彼此相連接。
圖9是一前視圖，表示通過向磁頭臂安裝磁頭裝置形成的磁頭支承機構。
圖10的圖示表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭裝置如何與記錄媒體組合，該圖表示組裝之前的狀態(tài)。
圖11的圖示表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭裝置如何與記錄媒體組合，該圖表示組裝之后的狀態(tài)。
圖12是一平面圖，表示裝有根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭或磁頭支承機構的磁記錄裝置。
圖13是沿圖12的線13-13所取的剖視圖。
圖14是一示意圖，表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭裝置的耐沖擊能力。
圖15是一分解視圖，表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭支承結構的一種改型。
圖16是一側視圖，表示安裝有加強板的臂組件。
圖17是一平面圖，表示安裝有加強板的臂組件。
圖18的圖示表示包含多個安裝有加強板的磁頭的臂組件。
圖19的圖示表示附加有加強板包含單個磁頭的臂組件。
圖20是表示磁頭支承機構的一側視圖。
圖21是表示磁頭支承機構部件的一分解視圖。
圖22是表示圖21部分的放大視圖。
圖23是表示磁頭臂和負載梁連接的透視圖。
圖24是一前視圖，表示組合在一起的磁頭裝置與磁頭臂。
圖25是后視圖，表示組合在一起的磁頭裝置與磁頭臂。
圖26的圖示表示使用沖壓加工形成突起的過程。
圖27的圖示表示通過使上沖模與下沖模適配以形成突起的過程。
圖28的圖示表示通過使上沖模與下沖模適配以形成突起的過程。
圖29的圖示表示通過蝕刻形成突起的過程。
圖30的圖示表示通過蝕刻形成突起的過程。
圖31的圖示表示通過蝕刻形成突起的過程。
圖32的圖示表示傳統(tǒng)的磁記錄裝置的輪廓。
圖33的圖示示意表示磁頭裝置如何與磁盤組合。
具體實施例方式
以下將參照附圖具體說明根據(jù)本發(fā)明的磁頭裝置，磁頭支承機構與磁記錄裝置的特定實施例。
(第一實施例)首先，將結合作為第一實施例的磁記錄裝置形式的例子，說明根據(jù)本發(fā)明磁頭支承機構的工作原理。
圖1是一側視圖，示意表示磁頭支承機構的整體結構，其用來表示根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構的工作原理。圖2是表示這一結構的平面圖。
參見圖1和2中所示的結構，支承臂2裝有具有磁轉換元件(未示出)的滑塊1?；瑝K1安裝在支承臂一端的下表面。如圖中所示，支承臂2在其另一端被固定在片簧件4的一個端部。片簧件4的另一端部通過彈簧固定件5固定在樞轉軸承11(圖2中未示出)。
這樣，支承臂2以彈性的方式通過片簧件4被支承在樞轉軸承11上。
支承臂2有一對突起11a和11b(后者在圖1中未示出)從其突出。突起11a和11b的頂部與樞轉軸承11在點Pa和Pb接觸，使得支承臂2的一端由片簧件4產(chǎn)生的彈性力偏向磁記錄媒體12，從而在每一接觸點Pa和Pb處產(chǎn)生壓縮應力。支承臂2的構成使其在不存在磁記錄媒體12時，由片簧件4的形變帶入由圖1中虛線所示的位置。
從支承臂2突出的突起11a和11b是這樣排布的，它們與支承臂2在垂直于支承臂在磁記錄媒體12的徑向方向擺動的中心軸的方向、垂直于支承臂2的縱向方向并通過擺動的中心軸的直線上接觸。
當磁記錄裝置工作時，即當滑塊1在磁記錄媒體12上浮動時，滑塊1上的負載由指向磁記錄媒體12方向的壓縮應力產(chǎn)生，支承臂2的突起11a和11b從樞轉軸承11接受該應力。
使用上述磁頭軸承機構的結構，能夠以高硬度的材料構成支承臂2。因而，在從樞轉軸承11到支承臂的突起11a和11b，以及從突起11a和11b到滑塊安裝在支承臂2的區(qū)域的所有區(qū)域，能夠用高硬度材料構成磁頭支承機構。
如果支承臂2由高硬度材料構成，能夠使支承臂2的諧振頻率很高。這時，不再產(chǎn)生傳統(tǒng)上相關的振動方式，因而不再需要穩(wěn)定操作。于是，支承臂2的擺動和定位能夠快速進行，故能夠提高磁記錄裝置的訪問速度。
在上述結構中，作為彈性裝置的片簧件4不是裝在支承臂2的結構中，而是作為分開的部件與支承臂2獨立裝設。因而，能夠通過改變片簧件4的厚度、材料或其它性質有選擇地確定強度和彈簧常數(shù)。
此外，能夠提供一穩(wěn)定的磁頭支承機構，該機構在受到外部沖擊時幾乎不會振動，即通過按其使用條件下的結構而設計磁頭支承機構，使得由片簧件4支承的部分的質心位置(例如在由音圈電機執(zhí)行擺動的情形下，支承臂2與音圈及附加在其上的音圈支架的質心位置)與支承臂2在磁記錄媒體12徑向擺動的軸線與支承臂2在垂直于記錄媒體12的記錄面方向的擺動軸線交叉點重合，換言之，該方式是，所述質心對于水平面的位置，與點Pa和Pb之間的線段的中點P基本上重合，在此樞轉軸承11與支承臂2的突起11a和11b彼此貼合(即如圖2所示，點P與點Pa之間的距離等于點P與點Pb之間的距離，即距離L)。雖然當滿足以上條件時，磁頭支承機構的耐沖擊性將最大化，但質心的位置實際上可能有某種程度的位移。
進而，如圖1中所示，當滑塊1由萬向節(jié)機構13通過在支承臂2一端的底面上形成的凹坑14支承時，能夠實現(xiàn)靈活的磁頭支承機構，該機構能夠在磁記錄裝置工作狀態(tài)下，跟隨的滑塊1在相對于磁記錄媒體12的滾動和顛簸方向的不希望振動。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構能夠滿足彼此沖突的要求，即滑塊1負載的增加，結構靈活性的提高和剛性的提高。這些要求的解決方案是作為功能彼此獨立的不同組件實現(xiàn)的。因而，能夠使磁頭支承機構的設計簡單，并能夠極大增加設計的自由度。
根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構，不需要用于形成片簧部分高精度的加工(諸如彎曲)。因而，與傳統(tǒng)的磁頭支承機構相比，該磁頭支承機構能夠易于生產(chǎn)。
以下，參照圖1和2說明根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構的操作。
如前所述，當磁記錄媒體12不工作時，滑塊1和磁記錄媒體12彼此接觸且不工作。當在記錄或復制操作中磁記錄媒體12開始旋轉時，滑塊1開始飛行且片簧件4變形，于是通過使支承臂2處于圖1中實線描繪的狀態(tài)進行磁記錄或復制，其中在磁頭與磁記錄媒體12之間保持一固定的間隙。
在這種情形下，由片簧部分生成的用于向圖1中虛線描繪的位置轉動支承臂2反作用力，給出施加到滑塊1的負載。
通過改變片簧件4的材料或厚度，支承臂2的突起11a和11b的高度，或作為支承臂2與片簧件4的連接部分的支承臂2與圖1中所示的點G之間的位置關系，能夠改變這一負載。
例如，使用由高硬度和大厚度材料制成的片簧件4，向滑塊1施加大的負載。此外，還能夠通過把支承臂2的突起11a和11b的高度加大，或如圖1所示通過使支承臂2與片簧件4連接位置G靠近點P，而向滑塊1施加大的負載。
(第二實施例)以下將作為第二實施例描述根據(jù)本發(fā)明的磁記錄裝置的磁頭支承機構，其中實現(xiàn)了結合第一實施例描述的操作原理。
圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構的一透視圖。圖4是表示該磁頭支承機構的一分解圖。圖5是表示圍繞該磁頭支承機構軸承部分的側視圖。
如圖3和4所示，磁頭支承機構9通過連接基本為環(huán)形的片簧件4與彈簧固定件5，并且連接片簧部分與支承臂2構成。支承臂2連接到安裝有音圈3的線圈支架8，使得支承臂2可在磁記錄媒體12徑向方向上擺動。這些部件與樞轉軸承11一起保持在軸承部分10和一螺帽6之間。
如圖5所示，磁頭支承機構9的整體通過其軸使用軸承部分10上的安裝螺紋件7固定到基板15上。
以下，將參照圖5對各部件如何彼此連接作出具體說明。首先，片簧件4的上表面與支承臂2的下表面在圖5的轉動軸右側部分連接。在左側部分，與樞轉軸承11的突緣11c一同，在軸承部分10與螺帽6之間固定片簧件4和彈簧固定件5。支承臂2構成為固定在線圈支架8上。
使用上述結構，使片簧件4變形彎曲到兩層中，使得實現(xiàn)支承臂被彈性支承的一種結構。
軸承部分10容納一軸承件，使得支承臂2能夠在磁記錄媒體徑向方向擺動(或在樞轉)，從而把裝在支承臂2一端下表面上的磁頭帶到希望的位置。
突起11a和11b是這樣裝設在支承臂2上的，即使得它們在垂直于軸承部分10軸向和垂直于支承臂縱向，并在磁記錄媒體徑向方向通過軸承部分樞軸運動中心的線上與樞轉軸承11接觸。
支承臂2的突起11a和11b裝設在相對于支承臂2縱向中心線對稱的位置。這對突起11a和11b適于與樞轉軸承11接觸(點接觸)，使得支承臂2被其反作用力向下壓。
此外，能夠提供一種在受到外部沖擊時幾乎沒有振動的穩(wěn)定的磁頭支承機構，這是通過按以下方式設計磁頭支承機構實現(xiàn)的，即由片簧部分支承的部分的質心位置(即帶有線圈和附加在其上的線圈支架的支承臂2的位置)，與點Pa和Pb之間線段的中點P重合，在該點樞轉軸承11和支承臂2的突起11a和11b彼此貼合(如圖2中所示，點P和點Pa之間的距離與點P和點Pb之間的距離相等，即距離L)。雖然當以上條件滿足時，磁頭支承機構的耐沖擊性將最大化，但質心的位置實際上有某種程度的位移。
此外，磁頭支承機構9可設計為考慮滑塊1及萬向節(jié)機構的重量，使得支承臂2與音圈3，線圈支架8，滑塊1及安裝在其上的萬向節(jié)機構的質心位置，將在水平面上與點P的位置基本重合。
參見各標號，支承臂2形成為由諸如不銹鋼(例如SUS304)金屬制成的整體部件，厚度為64μm。支承臂2可通過蝕刻或沖壓加工形成。
使用這種支承臂2，能夠將諧振頻率從傳統(tǒng)的支承臂中大約為2kHz提高到高達10kHz。因而，與傳統(tǒng)的裝置相比，能夠提供增加磁頭支承機構擺動速度并增加訪問速度的磁記錄裝置。
為了提高相對于縱向方向支承臂2的剛性，在圖3中所示的支承臂2的前端部分區(qū)域C中，在垂直于磁記錄媒體記錄面的方向形成高度為0.2mm的彎曲部分。
參見圖4，滑塊1由萬向節(jié)機構13通過一凹坑(未示出)支承，使得它能夠在滾動和顛簸方向傾斜?；瑝K1在其與磁記錄媒體12相對側裝有磁轉換元件。
彈簧固定件5作為由諸如不銹鋼(例如SUS304)厚度為0.1mm的金屬制成的部件形成。片簧件4作為由諸如不銹鋼(例如SUS304)厚度為0.38μm的金屬制成的部件形成。這些部件可通過蝕刻或沖壓加工生產(chǎn)。
線圈支架8作為由諸如鋁或PPS(聚苯硫醚)厚度為0.3mm的金屬制成的部件形成。當使用鋁時，線圈支架8可通過模鑄造或沖壓加工生產(chǎn)，而當使用PPS時，可通過已知的樹脂模塑法生產(chǎn)。
部件的結合可通過已知的方法諸如點焊，超聲波焊和激光焊等進行。
應當理解，在本發(fā)明中，對制造每一部件的過程或對于結合部件的過程沒有限制。
使用上述的結構，能夠提供一種磁頭支承機構，其中能夠實現(xiàn)結合第一實施例已描述的原理。
通過磁頭支承機構9的上述結構，支承臂2能夠以支承臂上的突起11a和11b為支點，在垂直于磁記錄媒體記錄面的方向自由擺動，即支承臂2能夠以在傳統(tǒng)結構中還不可能的新的方式操作。
具體來說，在傳統(tǒng)的CSS(接觸啟停)磁記錄裝置中，無法在上下方向自由移動支承臂2。于是，必須使CSS區(qū)域的表面比數(shù)據(jù)存儲區(qū)域的表面更粗糙，以防止當裝置不工作時滑塊附著在磁記錄媒體表面。然而，在根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構中，能夠使用某些已知的手段使支承臂2上下移動，并當磁記錄裝置不工作時，能夠保持支承臂稍微離開磁記錄媒體12。因而，對于在磁記錄媒體上的磁頭不必提供諸如CSS區(qū)域這樣的安全地帶。
另一方面，在使用L/UL(加載/卸載)系統(tǒng)的磁記錄裝置的情形下，通過使用根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構，當磁記錄裝置不工作時，還能夠保持支承臂2稍微離開磁記錄媒體12。因而，能夠把傳統(tǒng)裝置中為允許磁頭加載和卸載而提供的磁記錄媒體上的浪費的面積降低到最小。
雖然以上說明是針對使用磁頭的磁記錄裝置中磁頭支承機構的形式的本發(fā)明的一實施例的，但根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構還能夠用作為非接觸磁盤記錄/復制裝置的磁頭支承機構，諸如光盤裝置和磁光盤裝置等，以達到類似于上述的先進效果。
在上述的第一和第二實施例中，形成從支承臂2突出的所述突起11a和11b，并使其與作為軸承部分的一部件的板狀樞轉軸承11點接觸。這一結構與在樞轉軸承上提供突起部分的結構相比具有以下優(yōu)點。為了降低重量或就磁記錄裝置厚度方向空間限制而言，支承臂2一般使用薄板制成。因而，如果在樞轉軸承11上形成突起部分，則突起將與支承臂2點接觸，且沖擊力將集中在由薄板制成的支承臂上，使得能夠在支承臂中產(chǎn)生諸如變形這樣的缺陷。然而，在根據(jù)第一和第二實施例的結構中，在支承臂上提供突起部分，且突起部分是從支承臂突出的突起的形式。因而，支承臂限制區(qū)域增加。因而，沖擊力將由突起部分的周圍中的部分接受，使得應力將被降低，并能夠防止在支承臂中產(chǎn)生諸如變形之類的缺陷。
雖然在上述的實施例中，兩個突起11a和11b在支承臂的寬度方向并排形成，突起部分的數(shù)目不限于兩個，而是突起部分的數(shù)目可以增加。此外，突起部分的形狀可從半球形修改為例如半圓柱形。以增加限制區(qū)域。與此相關，在以下第三實施例的說明中將描述突起部分是如何形成的。
(第三實施例)
圖6是表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的磁頭裝置結構的平面視圖。如圖6所示，根據(jù)第三實施例的磁頭裝置20有一負載梁22，其外形如同一等腰三角形。在負載梁22的內(nèi)部，具有一基本板24，其功能是作為安裝在磁頭臂的安裝部分(這將在稍后說明)。
負載梁22可以通過沖壓或蝕刻一薄金屬板制成。更具體來說，薄金屬板是非磁性不銹鋼片(例如奧氏體不銹鋼片)。對應于等腰三角形兩個等邊的負載梁22的邊緣形成為彎曲部分26。通過以一定角度彎曲負載梁22的邊緣，或把邊緣彎曲為半球形(即半圓柱形)而形成每一彎曲部分26。通過提供彎曲部分26，能夠保證對于負載梁22縱向的剛性。
在右和左邊緣處形成的彎曲部分26之間負載梁22的中心處，形成一倒U形切口28(圖6中)。由切口28圍繞的舌片適作為上述的基板24。
基板24與負載梁22之間的邊界部分(即沿著圖1和2中線30的部分)作為可彈性變形部分起到懸臂片簧部分32的作用。從負載梁22的線30的上或下稍微偏移的位置，有一對從負載梁22突出的突起34。這樣，在基板24固定之后，在突起34的頂部受到磁頭裝置20的外部施加的壓力時，負載梁22能夠擺動或繞線30樞軸轉動。負載梁22響應壓力的施加的擺動示于圖7。
在負載梁22的末端部分(即圖6中上端部)，通過萬向節(jié)(未示出)安裝有一滑塊36(參見圖3)，其中組裝有用于執(zhí)行記錄媒體寫/讀的元件。
圖8是一分解圖，表示磁頭裝置與磁頭臂如何彼此相關組合。圖9是通過把磁頭裝置安裝到磁頭臂上形成的磁頭支承機構的一前視圖。
如圖8和9所示，在安裝了磁頭裝置20的磁頭臂38的末端部分，裝有一板安裝面40，基板24固定在其上。板安裝面的尺寸基本上與磁頭裝置20中的基板24的尺寸相同。磁頭臂38有一凹陷42形成在板安裝面40的外圍。凹陷42有足夠寬度以容納負載梁22的寬度，使得當磁頭裝置20與記錄媒體組合時，防止負載梁22的后端部分妨礙磁頭臂38。如果浮動狀態(tài)的磁頭裝置不阻礙加載，則凹陷42可省略。
在磁頭臂38的表面，在比板安裝面40更靠近末端的位置還裝有一對突出面44，適與突起34接觸。當基板24與板安裝面40對齊時，在負載梁22上形成的突起34與突出面44對齊，使得突出面壓靠突起的頂部。
磁頭臂38設有一中心孔46，其中容納軸承和線圈48以組成配置在中心孔46的后側的VCM(即音圈電機)。磁頭臂38能夠圍繞中心孔46擺動向線圈48提供電力。希望包含磁頭裝置20、磁頭臂38和音圈48的磁頭支承機構50相對于中心孔46是平衡的，以便盡量減小外部擾動的影響。
圖10和11是表示根據(jù)本實施例的磁頭裝置如何與記錄媒體組合的圖示。
如圖10中所示，根據(jù)第三實施例的磁頭裝置20通過點焊或其它安裝工藝首先固定到磁頭臂38。當磁頭裝置20固定到磁頭臂38時，突出面44對(圖10和11中未示出)壓靠負載梁22的突起34，以引起負載梁22擺動，使得滑塊36相對于記錄媒體52降低。這一過程中，負載梁22能夠擺動而不會被彎曲，因為由在兩邊緣處形成的彎曲部分26(圖10和11中未示出)保證了剛性。即使負載梁22由于突出面44施加的壓力而擺動，由于在安裝面40的后側(圖10和11中未示出)有在磁頭臂38上形成的凹陷42，負載梁22的后端不會妨礙磁頭臂38。(換言之，根據(jù)負載梁22的傾斜凹陷42應形成有足夠的深度以防止干擾)。因而，能夠防止由部件干擾產(chǎn)生灰塵。
如圖中所示，在磁頭固定到磁頭臂38之后，負載梁22借助于一夾具而擺動，使得滑塊36到達高于記錄媒體52表面的位置，并然后滑塊36落到(加載到)記錄媒體52的表面。圖11示出這一狀態(tài)的裝置。在圖6所示的狀態(tài)中，滿足以下的條件，其中A表示從產(chǎn)生負載的突起34的頂部到片簧與負載梁的結合部的距離，B表示從突起34的頂部到滑塊36的距離，F(xiàn)1表示片簧的上拉力，F(xiàn)2表示由記錄媒體52向滑塊36施加的反作用力(由于忽略變形可能有損失)F1·A＝F2·B(條件表達式1)換言之，由壓力產(chǎn)生的圍繞突起34的力矩等于由反作用產(chǎn)生的力矩。因而影響滑塊浮動特性的記錄媒體52的反作用力能夠通過調節(jié)突起34的高度來設置或調節(jié)。
圖12是一平面圖，表示裝有根據(jù)本發(fā)明的磁頭或磁頭支承機構的磁記錄裝置。圖13是沿圖12中線13-13所取一剖視圖。
這些圖中所示的磁記錄裝置的顯著特征在于磁頭支承結構50及其周邊結構，且裝置的其它部件諸如用于旋轉驅動記錄媒體52的主軸電機與傳統(tǒng)裝置相同。因而，具有改進的耐沖擊性的磁記錄裝置54，只是通過用磁頭支承結構50代替?zhèn)鹘y(tǒng)裝置的結構來實現(xiàn)。
圖14是一示意圖，表示根據(jù)第三實施例的磁頭裝置的耐沖擊性。
如圖14所示，磁頭臂38和負載梁22通過彈性可變形部分56連接，且磁頭臂38的突出面60受到負載梁22上的接觸部分58的壓力。磁頭裝置20的重量的相對于突起部分58平衡。如圖14所示，重量的平衡可通過調節(jié)負載梁22上可彈性變形部分56和/或負載梁22上在與滑塊36相對的位置附加的靜重62而實現(xiàn)。此外，如果靜重62由振動阻尼部件(或阻尼器)制成，則相對于磁頭裝置20能夠降低諧振的峰值，從而穩(wěn)定磁記錄裝置54的控制系統(tǒng)(用于定位等)。
由于磁頭裝置20相對于突起部分58的平衡的重量，即使沖擊以圖14所示的箭頭方向施加到該裝置，在負載梁22中也不會產(chǎn)生轉動力。這樣，當施加強力沖擊時，可防止滑塊36從記錄媒體52表面脫離。因而，能夠消除諸如滑塊36中組合的元件的損壞，或由與滑塊36的碰撞形成的記錄媒體52上的缺陷等不利的影響。
在根據(jù)這一實施例的裝置中，由于只有負載梁22和安裝在其上的部件(即滑塊36和靜重62)通過可彈性變形部分56構成為浮動結構，因而由彈簧懸掛在可彈性變形部分56下方的質量(即負載梁22與安裝在其上的總質量)將降低。設W是由可彈性變形部分56懸掛的負載梁22和安裝在其上的部分的質量，F(xiàn)s是由接觸部分58施加到負載梁22的壓力，且a是負載梁22及安裝在其上的部件中產(chǎn)生的沖擊加速度，則滿足以下關系Fs＝W·a(條件表達式2)本發(fā)明人通過計算估計出由本發(fā)明實現(xiàn)的耐沖擊性的改進程度。假設質量W＝30mg(毫克)及Fs＝120g(克)，則以上關系如下120＝0.03·a，因而a＝4000這意味著，只要沖擊加速度小于4000G，就能夠防止負載梁22脫離負載突起44，因而能夠防止滑塊36從記錄媒體脫離及與其碰撞。這樣，與傳統(tǒng)裝置相比能夠大大提高耐沖擊性。此外，根據(jù)本實施例的磁頭裝置20的耐沖擊性不依賴于磁頭臂長度，即它不依賴于記錄媒體52的尺寸。
負載梁22的材料不限于上述薄金屬板，也可使用其它材料，只要保證剛性即可。
本發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，樹脂也可用作為負載梁22的材料，代替?zhèn)鹘y(tǒng)上使用的不銹鋼金屬片薄板。樹脂用于負載梁22，由彈簧懸掛的質量將進一步降低，因而能夠進而改進耐沖擊性。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，就它們防止ESD(即靜電放電)能力來看，適用于負載梁22的樹脂是有導電性的液晶聚合物樹脂或PPS樹脂。希望這些樹脂的比體電阻小于105Ωcm。
如果在負載梁22注塑之后，通過電鍍等在其表面形成金屬涂層，使得其電位總保持與磁頭臂38的電位相等，甚至沒有導電性的樹脂也可有效使用。
圖15是一分解圖，表示根據(jù)第三實施例的磁頭裝置的一種改型。在圖15中，與上述實施例中有相同功能的部件標以相同的標號，并省略其說明。
在圖15所示的改型結構中，切口和彈簧部分的取向相反，且突起部分34在基板的滑塊側上形成為對負載梁橫向延伸部件，其間有彈簧部分以產(chǎn)生負載。在這種情形下，關于負載梁34的質心(或平衡支點)適與突起部分34重合。在這一結構中，只要滿足上述原理的條件，就可以提供必須的負載，且該結構對沖擊有良好的穩(wěn)定性。
如上所述，根據(jù)第三實施例的磁頭裝置、磁頭支承結構及磁記錄裝置具有改進的耐沖擊性，這不依賴于記錄媒體的尺寸或數(shù)目。
雖然實施例的上述說明是由CSS(接觸啟停)型磁記錄裝置54構成的，但本發(fā)明不限于該類型的裝置。本發(fā)明還可用于傾斜負載型的裝置，其中在負載梁22的末端裝有一翼片，當裝置不工作時允許滑塊從記錄媒體表面縮回。在傾斜負載型裝置中，當裝置不工作時，滑塊停泊在斜面上，使得滑塊和記錄媒體受到保護，而當裝置工作時，滑塊和記錄媒體受到根據(jù)該實施例的結構的保護。因而，能夠大大提高磁記錄裝置的可靠性。
如上所述，為了實現(xiàn)在磁記錄媒體上的尋道操作，必須對磁頭萬向節(jié)組件提供一支承件。稱作為臂的這一支承件，構成為從樞轉軸承部分朝向媒體方向延伸的一部件。就磁記錄裝置內(nèi)部空間需求來看，支承臂一般由鋁或不銹鋼片制成的薄板構成。然而，這種薄板沒有抵抗可能施加于它的沖擊的足夠的強度，因而當由沖擊產(chǎn)生加速度時，支承臂可能在其自由端變形。這有時引起安裝在臂末端的磁頭組件毀壞。為了解決這一問題向包含一個或多個磁頭臂的磁頭臂組件安裝加強板(多)，以提高臂抵抗沖擊加速度的強度。加強板安裝在磁頭臂組件非朝向記錄媒體的一側，使得加強板垂直于臂組件那側延伸。
如上所述，在該磁頭裝置中，負載梁的平衡支點適與在負載梁上形成的突起重合。通過這一特性，磁頭本身的耐沖擊性已經(jīng)有提高。提供安裝在臂上的加強板對臂構成一種肋結構。這樣，能夠防止當施加外部沖擊時磁頭裝置安裝部分發(fā)生變形。安裝有加強板70的臂72示于圖16到19。
上述的第三實施例中，在負載梁22上形成的突起34適與突出面44接觸。這一結構與在突出面上具有突起的結構相比具有以下優(yōu)點。
圖20到25是表示在負載梁上形成突起的優(yōu)點的圖示。圖20是磁頭支承機構的側視圖。圖21是表示磁頭支承機構部件的分解圖。圖22是表示圖21所示磁頭支承機構一部分的放大視圖。圖23是表示磁頭臂與負載梁如何結合的透視圖。圖24是表示組合在一起的磁頭裝置和磁頭臂的前視圖。圖25是表示組合在一起的磁頭裝置與磁頭臂的后視圖。
負載梁22由金屬(具體來說，是非磁性不銹鋼(奧氏體等)薄板)制成的薄板通過沖壓或蝕刻加工制成。在這種負載梁中，如果在板安裝面40上形成突起，則突起將與負載梁22點接觸，因而當施加沖擊力時，它將集中在由薄板制成的負載梁22上。因而，認為負載梁可能變形。然而，在第三實施例的結構中，突起34在負載梁22上是這樣形成的，它們是從負載梁22突出的。這樣，增加了負載梁的限制區(qū)域(參見圖20尺寸C)。于是，在突起的周邊受到?jīng)_擊力，使得應力降低，并能夠防止發(fā)生諸如負載梁22的變形等損壞。雖然在上述第三實施例中，負載梁22上形成的突起34是一半球形或棒形的，但突起的形狀不限于這些。換言之，突起34的數(shù)目可增加，或突起的形狀可從半球形修改為例如半圓柱形(參見圖21和22)，以便增加限制區(qū)域。
通過比較突起在磁頭臂上形成的情形與突起在負載梁上形成的情形，本發(fā)明人估計了按本發(fā)明預期的應力降低效果。根據(jù)由本發(fā)明人進行的模擬分析，假設每一突起有內(nèi)徑為0.1mm的半球形，板厚度為40μm，且施加到突起的負載為1gf，在突起形成在負載梁上的結構中最大應力為2.488E+007(N/m2)，而在突起形成在負載梁相對面上的結構中最大應力為1.1236E+008(N/m2)。即應力集中程度可降低大約22％。
以這一結果，應當能夠理解，當負載集中在突起貼合的點時，應力不是分布在大的面積上，而是集中在單個的位置。因而，當施加沖擊時，這一差別的結果是塑性變形區(qū)域的差別，因而確認了根據(jù)本發(fā)明結構的優(yōu)點。
以下將說明用于形成上述突起的過程。
圖26是表示使用沖壓加工形成突起的過程。如圖中所示，在用于在負載梁上形成突起34的過程中，首先通過蝕刻形成多個負載梁22的輪廓。然后其上已通過蝕刻形成有負載梁22輪廓的薄板74，安裝到下(或底)沖模76。下沖模76有在其上表面形成的上突部分80，用于形成突起34。上突部分80適與在上(頂)沖模78上形成的下凹部分82適配，其間是負載梁22以形成突起34。通過使上沖模78與下沖模76適配而形成突起34的過程示于圖27和28。使用這種沖壓工藝，通過改變上突部分80與下凹部分82的形狀，能夠根據(jù)要求形成各種形狀(例如半圓柱形)的突起34。
圖29到31是表示通過蝕刻形成突起的工藝過程。如這些圖中所示，上述的突起34不僅能夠通過沖壓加工形成，而且還能夠通過蝕刻形成。如圖29所示，在板上要形成每一突起34的位置處施加掩模。然后如圖30所示，通過蝕刻劑對板進行蝕刻，直到突起形成有預定的高度為止。在通過蝕刻形成突起的情形下，應當在蝕刻之前考慮在蝕刻之后要獲得的負載梁22適當?shù)暮穸葋泶_定板的厚度。當蝕刻已經(jīng)進行到突起34的高度時，清洗掉蝕刻劑停止蝕刻過程，去掉保持在突起34上的掩模84。一般來說，通過蝕刻形成的突起34有梯形，這種形狀也增加了負載梁22限制區(qū)域。因而，當對其施加沖擊時，能夠防止負載梁發(fā)生塑性變形。
雖然上述形成突起34的過程是結合負載梁22說明的，但這些過程也可用于支承臂。此外，突起34不僅可通過使用蝕刻劑的濕法蝕刻工藝形成，而且還可用于干法蝕刻工藝形成。
如上所述，在根據(jù)本發(fā)明的磁頭裝置中，在安裝有滑塊的負載梁上形成彈性可形變部分，從而圍繞彈性可形變部分形成允許負載梁擺動的浮動結構，作為負載產(chǎn)生部分的從負載梁突出的突起，適與圍繞負載梁的平衡支點重合，且滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載適于通過施加到突起頂部的壓力來設置。
此外，根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機構構成為這樣一種磁頭支承機構，具有裝有基板和從基板延伸的負載梁的磁頭裝置，安裝到基板的磁頭臂，柔性地裝設在基板與負載梁之間的可彈性變形部分，從而圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構，以及從作為載荷產(chǎn)生部分裝設的負載梁突出的一突起，其中突起適與負載梁的平衡支點重合。該磁頭支承機構適于通過安裝在負載梁的滑塊向記錄媒體施以壓力負載，滑塊的壓力負載是通過從磁頭臂施加到突起的頂部的壓力設置的。根據(jù)本發(fā)明另一方式的磁頭支承機構具有一個支承臂，該支承臂可在記錄媒體徑向及垂直于記錄媒體記錄面的方向以軸承部分為樞軸擺動，一個磁頭，在支承臂一端安裝在支承臂下表面，彈性裝置，裝設在支承臂上用于在朝向記錄媒體方向向支承臂施加偏壓，以及一突起，從支承臂突出適與軸承部分的一部件點接觸，其中支承臂適于在垂直于記錄面的方向擺動，以突起的頂部及軸承部分部件彼此接觸的點作為平衡支點。
使用上述結構，能夠提高耐沖擊性，并使得易于以高精度對記錄媒體設置壓力負載。因而，改進了磁記錄裝置的可靠性。此外，上述從負載梁或支承臂突出的突起增加了負載梁或支承臂上限制區(qū)域，于是能夠防止由沖擊引起的塑性形變。
權利要求
1.一種磁頭裝置，包括安裝有一滑塊的一負載梁；裝在所述負載梁上的一可彈性變形部分，使得圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構；以及從所述負載梁突出的一突起，適于起到負載產(chǎn)生部分的作用；其中所述滑塊對記錄媒體的壓力負載通過施加到所述突起頂部的壓力設置。
2.一種磁頭裝置，包括安裝有一滑塊的一負載梁，裝在所述負載梁上的一可彈性變形部分，以便圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構，以及從所述負載梁突出的一突起，適于起到負載產(chǎn)生部分的作用；其中所述突起適與所述負載梁的一平衡支點重合；并且通過施加到所述突起頂部的壓力來設置所述滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
3.一種磁頭裝置，包括適于安裝在磁頭臂上的一基板；從所述基板延伸出的一負載梁；安裝到所述負載梁的一滑塊；裝在所述基板與所述負載梁之間的一可彈性變形部分，以便圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構；從所述負載梁突出的一突起，適于起到負載產(chǎn)生部分的作用；其中所述突起適與所述負載梁的一平衡支點重合；壓力負載通過所述滑塊施加到記錄媒體的表面；并且通過施加到所述突起頂部的壓力來設置所述滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
4.根據(jù)權利要求1到3任何之一的磁頭裝置，其中從所述負載梁突出的所述突起，設置圍繞所述突起這樣一個限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到所述負載梁時，所述負載梁的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。
5.一種磁頭支承機構，包括磁頭裝置，該裝置包含一基板和從基板延伸出的一負載梁；安裝在所述基板的一磁頭臂；安裝在所述負載梁的一滑塊；裝在所述基板與所述負載梁之間的一可彈性變形部分，所述可彈性變形部分是柔性的，使得圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構；以及從所述負載梁突出的一突起，適于起到負載產(chǎn)生部分的作用；其中壓力負載通過所述滑塊施加到一記錄媒體的表面；并且由施加到所述突起頂部的壓力來設置所述滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
6.一種磁頭支承機構，包括磁頭裝置，包含一基板和從基板延伸的一負載梁；安裝在所述基板的一磁頭臂；安裝在所述負載梁的一滑塊；一可彈性變形部分，裝設在所述基板與所述負載梁之間，所述可彈性變形部分是柔性的，使得圍繞所述可彈性變形部分形成允許所述負載梁擺動的浮動結構；從所述負載梁突出的一突起，適于起到負載產(chǎn)生部分的作用；其中使所述突起適與所述負載梁的平衡支點重合；通過所述滑塊將一壓力負載施加到一記錄媒體的表面；以及由施加到所述突起頂部的壓力來設置所述滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
7.根據(jù)權力要求5或6的磁頭支承機構，其中從所述負載梁突出的突起設置圍繞所述突起這樣一個限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到所述負載梁時，所述負載梁的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。
8.一種磁頭支承機構，包括一個支承臂，可在記錄媒體徑向方向及垂直于記錄媒體記錄表面的方向以軸承部分為樞軸而擺動；一磁頭，安裝在所述支承臂一端所述支承臂下表面；彈性裝置，裝設在所述支承臂上用于向所述記錄媒體方向對所述支承臂施以偏置力；以及一個突起，從所述支承臂突出適與軸承部分點接觸；其中所述支承臂適于在與記錄表面垂直方向擺動，以所述突起頂部和軸承的所述部分彼此接觸的一點為平衡支點。
9.根據(jù)權力要求8的磁頭支承機構，其中從所述臂突出的突起設置圍繞所述突起這樣一個限制區(qū)域，使得當預定值范圍內(nèi)的沖擊在垂直方向施加到所述加支承臂時，所述突起附近中部分的形變將保持在彈性形變范圍內(nèi)。
10.一種磁記錄裝置，裝備有根據(jù)權力要求1到3任何之一的磁頭裝置。
11.一種磁記錄裝置，裝備有根據(jù)權力要求5，6和8任何之一的磁頭支承機構。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種磁頭裝置、磁頭支承機構和磁記錄裝置。裝有一基板和滑塊的負載梁。一磁頭裝置通過基板固定在磁頭臂。在這種磁頭支承機構中，一可彈性變形部分裝設在基板與負載梁之間。這樣圍繞可彈性變形部分形成允許負載梁擺動的浮動結構。從負載梁突出的一突起作為負載產(chǎn)生部分，適于與負載梁的一平衡支點重合，并且通過施加到突起頂部的壓力來設置滑塊壓靠記錄媒體的壓力負載。
文檔編號G11B21/21GK1480924SQ0314982
公開日2004年3月10日 申請日期2003年7月25日 優(yōu)先權日2002年7月25日
發(fā)明者本田隆, 和田健, 樋口嘉久, 栗原克樹, 桑島秀樹, 松岡薰, 久, 樹 申請人:Tdk株式會社, 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社