專利名稱：光學記錄介質(zhì)和它的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種光學記錄介質(zhì)(在下文中也稱為光盤)，本發(fā)明尤其涉及一種具有多個光學記錄層的多層光盤。
背景技術：
近年來，在信息記錄領域中，各個地方都在研究光學信息記錄方法。這種光學信息記錄方法具有一些優(yōu)點能夠以非接觸的方式來記錄和再現(xiàn)，并且能夠與只讀型、可記錄型和可重寫型的相應存儲器格式相兼容，從工業(yè)用途到消費者用途的廣泛用途被認為是以較小費用實現(xiàn)了大容量外存貯器的方法。
上述各種光學信息記錄方法的光學記錄介質(zhì)(在下文中也稱為光盤)的大容量可以通過下面方法來得到借助使作為用在光學信息記錄方法中的光源的激光波長較短并且采用具有較大數(shù)字孔的物鏡，使焦點表面上的光點直徑較小。
例如，CD((只讀)光盤)的激光波長為780nm，物鏡的數(shù)字孔(NA)為0.45，并且記錄容量為650MB，同時DVD-ROM(數(shù)字通用盤只讀存儲器)的激光波長為650nm，NA為0.6，并且記錄容量為4.7GB。
此外，在下一代光盤系統(tǒng)中，借助使用光盤(其中，100μm左右的薄光傳輸保護膜(覆蓋層)形成在光學記錄層上)，通過使激光波長為450nm或者更小及NA為0.78或者更大來研究22GB或者更大的大容量。
作為得到還要高的密度的方法，開發(fā)了多層光盤(其中兩個或者更多個光學記錄層通過物理隔層沿著垂直方向疊置)。下面，具有多個光學記錄層的光盤也稱為多層光盤，具有一個光學記錄層的光盤也稱為單層光盤。
在光盤系統(tǒng)(其中激光波長形成得較短，并且物鏡的數(shù)字孔形成得較大，從而如上面一樣得到較大的容量)中，具有一些缺點容易產(chǎn)生球面像差，焦點深度變得較淺等，并且光透射層被要求成膜厚不能超出預定值并且膜厚不均勻度較小。
在借助沿著垂直方向疊置光學記錄層的多層盤中，以相同的方式需要光透射層和隔層具有預定膜厚和較小的膜厚不均勻度。
作為形成設置在光學記錄層之間的隔層的方法，傳統(tǒng)地，通常采用借助使用紫外線硬化樹脂進行旋涂來形成預定膜厚的方法，從而確保所需要的記錄和再現(xiàn)的性能。
但是，在如上述一樣借助使用紫外線硬化樹脂的旋涂來形成隔層的方法中，存在這樣的缺點在光盤的內(nèi)圓周和外圓周上容易產(chǎn)生膜厚不均勻度，因此需要改進。
此外，具有這樣的缺點容易受到盤基體和轉(zhuǎn)印基體的扭曲影響，并且抗灰塵和毛口的能力較弱。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)上面情況形成了本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提高一種具有多個光學記錄層的光學記錄介質(zhì)及制造這種光學記錄介質(zhì)的方法，該光學記錄介質(zhì)可以減少位于光學記錄層之間的隔層的膜厚的不均勻度，而且可以減少轉(zhuǎn)印基體扭曲的影響并且減少由于灰塵和毛口所產(chǎn)生的問題。
為了實現(xiàn)上面目的，本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)具有至少兩個光學記錄層，這些記錄層通過隔層進行疊置；及光透射層，它設置在位于介質(zhì)基體的至少一個表面上的光學記錄層上，該光學記錄介質(zhì)借助通過光透射層把光發(fā)射到光學記錄層上進行記錄和再現(xiàn)，其中隔層包括事先形成為膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜，并且是形成有不平形狀的膜，這種不平形狀與記錄凹陷相對應，或者這種不平形狀是位于它表面上的導向槽，這種膜被硬化。
在上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)中，優(yōu)選地，隔層是借助使疊層結構進行硬化來得到的膜，該疊層結構包括事先形成膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜和由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分形成的至少一層覆膜。
此外，優(yōu)選的是，不平形狀與記錄凹陷相對應，或者不平形狀為位于隔層中的樹脂膜表面上的導向槽。
此外還優(yōu)選的是，不平形狀與記錄凹陷相對應，或者不平形狀為位于由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分形成的覆膜表面上的導向槽。
在上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)中，設置在多個光學記錄層之間的隔層包括事先形成為膜的至少一個紫外線硬化樹脂膜，在隔層的表面上形成不平形狀，該不平形狀與記錄凹陷相對應，或者該不平形狀為導向槽。
事先形成為膜的樹脂膜具有較小的膜厚不均勻度，借助使用這個作為隔層的一部分或者隔層的全部，可以減少隔層的膜厚不均勻度。
此外，借助使用事先形成為膜的樹脂膜，還可以減少轉(zhuǎn)印基體的扭曲影響及灰塵和毛口所產(chǎn)生的問題。
此外，為了實現(xiàn)上面目的，制造本發(fā)明的光學記錄個質(zhì)的方法是制造具有至少兩個光學記錄層的光學記錄介質(zhì)的方法，該方法包括形成在它的一個表面上具有不平形狀的介質(zhì)基體的步驟，在介質(zhì)基體的不平形狀的形成表面上形成第一光學記錄層的步驟，在位于第一光學記錄層上的表面上形成具有不平形狀的隔層的步驟，在隔層的不平形狀形成表面上形成第二光學記錄層的步驟，及在第二光學記錄層上形成光透射保護層的步驟，其中，形成隔層的步驟包括把事先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜的一個表面粘附到第一光學記錄層或者形成有不平形狀的轉(zhuǎn)印基體上的步驟；直接或者通過其它層把轉(zhuǎn)印基體或者第一光學記錄層壓靠在樹脂膜上并且提供沒有硬化過的隔層的步驟，其中該沒有硬化過的隔層包括位于第一光學記錄層和轉(zhuǎn)印基體之間的至少一層樹脂膜；在使轉(zhuǎn)印基體壓靠在隔層的表面上的情況下，使隔層進行硬化的步驟；及從隔層中釋放轉(zhuǎn)印基體和把轉(zhuǎn)印基體的不平形狀轉(zhuǎn)印到隔層的表面上的步驟。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，樹脂膜是紫外線硬化樹脂膜，該樹脂膜在由一對釋放膜所夾住的情況下形成為膜；及形成隔層的步驟還包括在把樹脂膜粘附到第一光學記錄層或者轉(zhuǎn)印基體上的步驟之前從樹脂膜中釋放一個釋放膜的步驟；及，在把樹脂膜粘附到第一光學記錄層或者轉(zhuǎn)印基體上的步驟之后并且在直接或者通過其它層把轉(zhuǎn)印基體或者第一光學記錄層壓靠在樹脂膜上的步驟之前，從樹脂膜中釋放其它釋放膜的步驟。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，在形成隔層的步驟中，隔層只形成有樹脂膜。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，形成隔層的步驟包括把樹脂膜粘附在轉(zhuǎn)印基體上的步驟；在第一光學記錄層上形成由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分所形成的覆膜的步驟；粘附樹脂膜和覆膜的步驟；借助在相互粘附起來的情況下使樹脂膜和覆膜進行硬化來得到隔層的步驟；及從隔層中釋放轉(zhuǎn)印基體的步驟。
此外，在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，形成隔層的步驟包括在轉(zhuǎn)印基體上形成由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分所形成的覆膜的步驟；把樹脂膜粘附在第一光學記錄層上的步驟；粘附樹脂膜和覆膜的步驟；借助在相互粘附起來的情況下使樹脂膜和覆膜進行硬化來得到隔層的步驟；及從隔層中釋放轉(zhuǎn)印基體的步驟。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，由注模塑料所形成的一種用作轉(zhuǎn)印基體，而該種的外圓周直徑大于介質(zhì)基體的直徑。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選地，由塑料所形成的一種用作轉(zhuǎn)印基體，而該種的厚度為0.5mm或者更小。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選也，由塑料所形成的一種用作轉(zhuǎn)印基體，其中，它的外圓周直徑逐漸變小，并且比中心部分更薄。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，優(yōu)選也，在使用轉(zhuǎn)印基體進行轉(zhuǎn)印的步驟中，借助彈性體從轉(zhuǎn)印基體側進行壓力粘附。
在制造上面本發(fā)明的光學記錄介質(zhì)的方法中，形成膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜用作設置在第一和第二光學記錄層之間的隔層，與記錄凹陷相對應的不平形狀或者形成為導向槽的不平形狀被轉(zhuǎn)印到隔層的表面上。
事先形成膜的樹脂膜具有較小的膜厚度不均勻度，借助使用這個作為隔層的一部分或者隔層的全部，使隔層的膜厚不均勻度得到減小。
此外，借助使用事先形成膜的樹脂膜，還可以減少轉(zhuǎn)印基體的扭曲影響及灰塵和毛口等所產(chǎn)生的問題。


圖1A是示意性透視圖，它示出了把光照射在本發(fā)明第一實施例的光盤上的情況，圖1B是示意性剖視圖，及圖1C是圖1B的示意性剖視圖的主要部分的放大剖視圖。
圖2是剖視圖，它示出了紫外線硬化樹脂膜的結構。
圖3是示意圖，它示出了用來制造紫外線硬化樹脂膜的裝置的結構。
圖4A是示意圖，及圖4B是剖視圖，它示出了制造第一實施例的光盤的方法的制造過程。
圖5A和圖5B是剖視圖，它們示出了從圖4B中連續(xù)下來的過程。
圖6A和圖6B是剖視圖，它們示出了從圖5B中連續(xù)下來的過程。
圖7A和圖7B是剖視圖，它們示出了從圖6B中連續(xù)下來的過程。
圖8A和圖8B是剖視圖，它們示出了從圖7B中連續(xù)下來的過程。
圖9A和圖9B是剖視圖，它們示出了從圖8B中連續(xù)下來的過程。
圖10A和圖10B是剖視圖，它們示出了從圖9B中連續(xù)下來的過程。
圖11是剖視圖，它示出了紫外線硬化多層樹脂膜的結構，其中疊置了兩種材料。
圖12是光盤的剖視圖，其中借助使用多層樹脂膜來形成隔層，尤其示出了外圓周和內(nèi)圓周的邊緣。
圖13是本發(fā)明第二實施例的光盤的剖視圖。
圖14A和14B是剖視圖，它們示出了制造第二實施例的光盤的方法的制造過程。
圖15A和圖15B是剖視圖，它們示出了從圖14B中連續(xù)下來的過程。
圖16A和圖16B是剖視圖，它們示出了從圖15B中連續(xù)下來的過程。
圖17A和圖17B是剖視圖，它們示出了從圖16B中連續(xù)下來的過程。
圖18A和圖18B是剖視圖，它們示出了從圖17B中連續(xù)下來的過程。
圖19是本發(fā)明第二實施例的光盤的另一種結構的剖視圖。
圖20A和20B是剖視圖，它們示出了制造第二實施例的具有另一種結構的光盤的方法的制造過程。
圖21A和圖21B是剖視圖，它們示出了從圖20B中連續(xù)下來的過程。
圖22A和圖22B是剖視圖，它們示出了從圖21B中連續(xù)下來的過程。
圖23是局部剖視圖，它示出了借助注模來形成的基體如盤基體的示意性結構。
圖24是剖視圖，它示出了制造第三實施例的光盤的方法的制造過程。
圖25A和25B是用在第三實施例中的轉(zhuǎn)印基體的剖視圖。
圖26是剖視圖，它示出了制造第三實施例的光盤的方法的制造過程。
具體實施例方式
下面，參照附圖來詳細地解釋本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
本實施例涉及一種光學記錄媒體(光盤)和它的制造方法。
(第一實施例)圖1A是示意性透視圖，它示出了把光照射在光盤上的情況，根據(jù)這個實施例，光盤設置有兩個光學記錄層。
光盤DC大致為盤形，它具有中心孔CH，該中心孔開在中心部分上，光盤DC被驅(qū)動來沿著驅(qū)動方向DR進行旋轉(zhuǎn)。
當記錄或者重放信息時，光盤DC中的光學記錄層用物鏡OL的光LT如從藍色到藍紫色范圍內(nèi)的激光來照射，例如該物鏡的數(shù)值孔徑為0.8或者更大。
圖1B是示意性剖視圖，圖1C是圖1B的示意性剖視圖的主要部分的放大剖視圖。
凹形部分10d形成在由聚碳酸酯樹脂等形成的盤基體10的一個表面上，其中該盤基體的厚度為0.3mm或者更大(例如1.1mm)。第一光學記錄層11沿著包括凹形部分10d在內(nèi)的不均勻地方形成。隔層12形成于其上，凸形部分12p設置在隔層12的表面上。第二光學記錄層13沿著包括凸形部分12p在內(nèi)的不均勻地方形成在隔層12上。光傳輸保護層14形成于其上，例如該光傳輸保護層14的膜厚度為0.1mm。
第一光學記錄層11和第二光學記錄層13具有疊層結構，例如從上層側開始以這樣的順序介電膜、由相位改變型記錄材料等形成的記錄膜、介電膜和反射膜，其中這些層的結構和數(shù)目根據(jù)記錄材料的種類和設計是不相同的。
在具有三層或者更多層的光盤的情況下，重復隔層和光學記錄層的結構。
在上面的光盤中，第一光學記錄層11和第二光學記錄層13具有不均勻的形狀，并且借助包括凹形部分10d和凸形部分12p的不均勻形狀分成一些稱為接合區(qū)和槽的跟蹤區(qū)域，其中這些不均勻的形狀由形成在盤基體10的表面上的凹形部分10d和形成在隔層12表面上的凸形部分12p形成。
此外，借助由反射膜如鋁膜來構成光學記錄膜，借助使用由盤基體10上的凹形部分10d和隔層12上的凸形部分12p所形成的不均勻形狀作為坑(該坑的長度等于記錄數(shù)據(jù))，可以得到只讀儲存器(ROM)型光盤。
在記錄或者重放上面光盤時，從保護膜14側發(fā)射出光LT如激光，從而借助調(diào)節(jié)物鏡OL距離光盤的距離來使光聚焦在第一光學記錄層11和第二光學記錄層13中的每一個上。在重放時，在第一和第二光學記錄層(11、13)中的每一個上所反射出的返回光借助光接受元件來接受，并且取出重放信號。
如上面所解釋的一樣，相應的兩個或者更多個的光學記錄層沿著垂直方向借助隔層來分隔開，因此借助改變聚焦位置來有選擇地記錄或者重放多個光學記錄層中的一個。
在激光波長為405nm和NA為0.85的光盤系統(tǒng)中，借助使隔層的厚度為10μm或者更大可以在這些光學記錄層之間分開。
注意，在使用這種較大的NA時，由于膜厚不均勻所產(chǎn)生的球差變成了問題。膜厚不均勻是所有光傳輸層和隔層的總和，因此需要每個隔層的膜厚不均勻度盡可能地小。
例如，在下面這樣的系統(tǒng)中激光波長λ是405nm并且NA是0.85，需要厚度的不均勻度為|Δt|＜5.26λ/NA4，因此需要厚度不均勻度為±4μm。假設光傳輸層和隔層的膜厚度不均勻度相同，那么借助把隔層的膜厚度不均勻度壓縮到±1μm來構成最多為三層的多層盤。
本實施例的光盤被構成為隔層具有首先形成為膜的至少一個紫外線硬化樹脂膜，以改善隔層12的膜厚度的不均勻性，在隔層表面上形成了第二光學記錄層的不均勻形狀。
首先形成為膜的樹脂膜的膜厚度不均勻度較小，因此借助使用它作為部分隔層或者隔層的全部來減小隔層的膜厚度不均勻度。
此外，借助使用首先形成為膜的樹脂膜，減少轉(zhuǎn)印基體的彎曲影響，并且減少產(chǎn)生灰塵和毛口的問題。
圖2是剖視圖，它示出了上面紫外線硬化樹脂膜的結構。
釋放膜(12a和12b)各自粘附到事先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜12s的上、下表面上，并且在使用時這些釋放膜被釋放開。
至于上表面和下表面上的釋放膜(12a和12b)，釋放它們所需要的力可以是不相同的，例如，上表面上的釋放膜12a可以是較難釋放的那側，而下表面上的釋放膜12b可以是容易釋放的那側。借助使釋放性能不同，總是從容易釋放的那側開始釋放。
由于如上述一樣首先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜在樹脂中具有較大的粘性并且不能流動，因此具有這樣的優(yōu)點可以實現(xiàn)事先沖壓出盤形等等的過程。
圖3是示意圖，它示出了用來制造上面紫外線硬化樹脂膜的裝置的結構。
紫外線硬化樹脂在樹脂供給部分SP中處于熔化狀態(tài)中，并且被混合成均勻。從樹脂供給部分SP中供給樹脂從而施加到釋放膜12a中，借助粘輥機、刮刀式涂膠機、照相凹板式涂敷機、染料噴涂機和反向涂機等從供給輥Ra中供給釋放膜12a，并且當借助冷卻等使它形成為樹脂膜時，含有溶劑的這些在干燥部分DY處使溶劑蒸發(fā)，而沒有溶劑的這些被保留下來。
從供給輥Rb中供給來的、具有不同可釋放性的其它釋放膜12b粘附在樹脂膜12s的上表面上并且通過纏繞輥Rc來進行纏繞。
如上面所解釋的那樣，可以得到樹脂膜12s，該樹脂膜12s由釋放膜(12a和12b)來夾住，而釋放膜的結構如圖2所示。
作為紫外線的硬化樹脂，可以使用與光聚作用單體、光聚作用開始劑和添加劑相混合的這些或者粘合聚合體。
此外，也可以使用紫外線硬化粘合劑，例如這些包括均聚物和/或共聚物，例如與紫外線硬化樹脂和光聚作用引發(fā)劑相混合的丙烯酸(類)樹脂的丙烯酸、甲基丙烯酸脂、乙烷基丙烯酸脂、丙基丙烯酸脂、丁基丙烯酸脂、2-乙基己基丙烯酸脂、甲基異丁烯酸、乙基異丁烯酸、丁基異丁烯酸和丙烯酸-2-羥乙基酯；或者可以使用通過下面方法得到的這些使粘合劑的聚合物和共聚物進行混合，其中光硬化型聚合基通過光聚作用引發(fā)劑設置到側鏈上。粘合劑不局限于丙烯酸樹脂和橡膠，也可以使用硅樹脂、聚乙烯醚等。
此外，根據(jù)需要可以使提供膠粘劑的試劑或者填充劑、軟化劑、蠟、硬化防止劑、交聯(lián)劑進行混合。
作為釋放膜，一個支撐片(其中該支撐片的至少一個表面具有可釋放性)就足夠了，并且借助使用釋放處理劑來產(chǎn)生可釋放性。
作為支撐片材料，優(yōu)選的是使用表面平滑度極好的塑料膜，還可以采用由聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂和其它聚烯烴樹脂、乙酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、氯乙烯樹脂所形成的這些塑料膜。作為釋放處理劑，使用硅樹脂、醇酸樹脂、碳氟樹脂、纖維素樹脂、三聚氰胺甲醛樹脂、丙烯酸(類)樹脂、聚亞安酯樹脂和聚脂樹脂等。
接下來，參照附圖來解釋制造本發(fā)明多層光盤的方法。
首先，借助傳統(tǒng)公知的某種方法制備出盤基體壓模20，該壓模20在它的表面上具有不平的圖案，該圖案包括凸形部分20p，該凸形部分作為逆圖案轉(zhuǎn)印到盤基體上。
接下來，如圖4A所示一樣，上面的盤基體壓模20被布置和固定在具有模子(MD1和MD2)的腔中，因此形成盤基體壓模20的表面20p′的凸形部分朝向腔的內(nèi)部，因此形成了注模模子。
借助把樹脂10′如熔化的聚碳酸脂樹脂從模子的入口MS噴射到上面注模模子的腔內(nèi)中，盤基體10形成在盤基體壓模20上，如圖4B所示。
這里，在盤基體10的表面上形成有凹形部分(槽)10d，該凹形部分的位置與盤基體壓模20的凸形部分20p相對應。
借助從上面松開注模模子，可以得到具有不平圖案的盤基體10，該圖案包括凹形部分10d，該凹形部分10d在它的表面上成槽形圖案或者凹陷圖案，如圖5A所示。
接下來，如圖5B所示，借助把氣體如空氣或者氮氣吹到盤基體10的表面上來除去灰塵之后，例如借助陰極真空噴鍍法、真空蒸發(fā)法、旋涂法等，以這種模形成順序形成具有反射膜、介電膜、記錄膜和介電膜的疊層結構的第一光學記錄膜11。
如上面記錄膜一樣，例如，可以使用包括相位改變型光學記錄膜、永磁-光學記錄膜或者有機染料的記錄膜。
另外，在ROM型光盤的情況下，也可借助由鋁膜等形成的反射膜來形成光記錄膜。
在使相位改變型記錄材料所形成的膜形成為上面記錄膜時，借助發(fā)射YAG激光或者其它的紅外線使相位改變型記錄材料晶化。這個與第一光學記錄層11的初始化過程相一致。
接下來，如圖6A所示一樣，釋放位于由釋放膜(12a和12b)所夾住的樹脂膜12s的易釋放側上的釋放膜12b，如圖2所示。
接下來，如圖6B所示，借助使用墊片或輥子等使樹脂膜12s粘附到第一光學記錄層11的上表面上。
在以足夠大的強度進行粘附從而得到圖7A所示的狀態(tài)之后，釋放位于樹脂膜12s的難釋放側上的釋放膜12a，如圖7B所示。
接下來，如圖8A所示，借助使用墊片或輥子等使轉(zhuǎn)印基體21如樹脂壓膜(該基體具有不平的圖案，該圖案包括用于第二光學記錄層中的凹形部分21d，而第二光學記錄層事先以獨立的過程來形成)被粘附到樹脂膜12s上。
借助以足夠大的強度來粘附轉(zhuǎn)印基體21，如圖8B所示，把凸形部分12p轉(zhuǎn)印到與釋放膜21a表面上的轉(zhuǎn)印基體21的凹形部分21d相對應的位置上。
接下來，如圖9A所示，借助從轉(zhuǎn)印基體21側上發(fā)射紫外線UV使樹脂膜12s進行硬化，從而得到隔層12，該隔層12具有第二光學記錄層的不平形狀，該第二光學記錄層轉(zhuǎn)印在它的表面上。在硬化期間，隔層12的表面和轉(zhuǎn)印基體21之間的粘附性下降。
接下來，如圖9B所示一樣，隔層12的表面和轉(zhuǎn)印基體21在邊緣表面上被分開。
接下來，如圖10A所示一樣，借助把氣體如空氣或者氮氣吹到隔層12的表面上除去灰塵之后，例如借助陰極真空噴鍍法、真空蒸發(fā)法、旋涂法等，以這種模形成順序形成具有半透明反射膜、介電膜、記錄膜和介電膜的疊層結構的第一光學記錄膜13。
如上面記錄膜一樣，例如，可以使用包括相位改變型光學記錄膜、永磁-光學記錄膜或者有機染料的記錄膜。
另外，在ROM型光盤的情況下，也可借助由鋁膜等形成的半透明反射膜來形成光記錄膜。
接下來，光透射保護層14形成在第二光學記錄膜13上。例如借助用膠粘劑來粘附保護層的方法來形成保護層14。
在使相位改變型記錄材料所形成的膜形成為上面記錄膜時，借助發(fā)射YAG激光或者其它的紅外線使相位改變型記錄材料晶化。這個與第二光學記錄層13的初始化過程相一致。
從上面可以知道，可以制造出具有圖1所示的多個光記錄層的光盤。
在上面的制造方法中，首先把紫外線硬化樹脂被粘附到盤基體10(第一光學記錄層11)側上，但是在通過壓力與盤基體10(第一光學記錄層11)進行結合之前，首先它可以粘附到轉(zhuǎn)印基體21側上。
作為盤基體10，可以使用注?；w和玻璃2p基體等，該注模基體使用聚碳酸酯樹脂、PMMA樹脂、非結晶聚烯烴樹脂、改性丙烯酸(類)樹脂和其它樹脂。
如上面所解釋的一樣，在從轉(zhuǎn)印基體21側開始進行硬化時，就設置有第一光學記錄層的不平圖案而言，不總是需要盤基體10具有透光性。
作為轉(zhuǎn)印基體21，可以使用Ni壓模，但是在使用塑料基體時，如上面所解釋的一樣可以從轉(zhuǎn)印基體21側發(fā)射紫外線，并且不必使紫外線通過從而到達第一光學記錄層11或者盤基體10。注意，需要具有這樣的性能在硬化之后，可以在轉(zhuǎn)印基體21和隔層12的邊緣上進行釋放。
作為在硬化之后得到釋放性的方法，不使用具有較小的紫外線硬化膜粘性的材料如環(huán)形聚烯烴樹脂的方法，而是使用使紫外線硬化樹脂膜的粘性下降的方法。
具體地說，借助提高分子量和提高硬度使粘附性下降。
注意，當盤基體10失去粘附性時，可以通過下面方法來處理它使用至少兩種隔層材料，在粘附力最低的部分上使用紫外線硬化樹脂膜，并且使用這樣的紫外線硬化樹脂膜，該樹脂膜在最上部處能夠從轉(zhuǎn)印基體中較好地進行釋放。
在沒有硬化的情況下，或者在它們之中只有一個被硬化的情況下，借助把這些紫外硬化樹脂膜粘附在一起，可以得到紫外線硬化樹脂膜之間的粘附力。在這種情況下，可以使用上面的環(huán)狀聚烯烴樹脂、普通的聚碳酸酯樹脂、PMMA樹脂、鏈式聚烯烴樹脂和改性丙烯酸(類)樹脂等。
圖11是剖視圖，它示出了由兩種材料疊置而成的紫外線硬化多層樹脂膜的結構。
事先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜12sa和樹脂膜12sb被疊置起來，釋放膜12a被粘附到樹脂膜12sa上，并且釋放膜12b被粘附到樹脂膜12sb上，在使用時它們被釋放。
借助使用圖3所示的裝置，使這種情況下的多層樹脂膜可以以與圖2的樹脂膜相同的方式來形成。
圖12是具有多個光學記錄層的光盤的剖視圖，其中隔層通過使用上面多層樹脂膜來形成，特別地示出了外圓周和內(nèi)圓周的邊緣部分。
隔層12是樹脂膜硬化部分12sa′和樹脂膜硬化部分12sb′的疊層結構，其中第一和第二光學記錄層(11和13)沒有設置在外圓周和內(nèi)圓周的邊緣部分上，隔層12成形成直接接觸盤基體11和保護層14。
借助選擇兩種材料來組成隔層，隔層12可以確保與盤基體11和保護層14的粘附性。
在制造具有上述多個光學記錄層的光盤的過程中，其中隔層通過使用上面的多層樹脂膜來形成，當首先把多層樹脂膜粘附到盤基體上時，易釋放側上的釋放片被形成在粘附到盤基體上的紫外線硬化樹脂膜側上。
此外，當首先把多層樹脂膜粘附到轉(zhuǎn)印基體上時，位于易釋放側上的釋放片被形成到粘附性較小的紫外線硬化樹脂膜側上。
當然，可以連續(xù)地粘附兩種或者更多種紫外線硬化樹脂膜。在這種情況下，它們可以粘附到盤基體側或者轉(zhuǎn)印基體側上，或者獨立地粘附到這兩側上，并且這兩個最后通過壓力結合起來。
使它形成多層所得到的優(yōu)點是，除了上面的粘附性和釋放性之外還可以改變厚度、收縮百分比、可轉(zhuǎn)移性、膜形成性能和侵蝕作用。
例如，當硬度提高時，在膜形成時的可轉(zhuǎn)移性和變形通常變得較好，但是粘附性下降，并且收縮百分比趨于增大。當收縮百分比變大時，產(chǎn)生了在盤上形成扭曲的缺點。當有一種膜難以滿足所有性能時，例如，借助使用硬度較高、膜形成性能較好的這些作為需要可轉(zhuǎn)移性的上部的紫外線硬化樹脂膜，并且使用收縮百分比較小的這些作為下部的紫外線硬化樹脂膜，可以形成可轉(zhuǎn)移性較好的隔層，其中盤的扭曲就難以產(chǎn)生了。
(第二實施例)圖13是本發(fā)明的、具有多個光學記錄層的光盤的剖視圖。
它的結構基本上與第一實施例的光盤的相同，它們的不同之處在于，隔層12借助把事先形成膜的紫外線硬化樹脂膜粘附到由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分形成的覆膜上并且使上述的進行硬化來形成。
解釋上面光盤的制造方法。
首先，以與第一實施例相同的方法來形成盤基體10，第一光學記錄膜11形成于其上，然后，如圖14A所示，紫外線硬化液態(tài)樹脂組成分12r供給在第一光學記錄膜11上，如圖14B所示，借助使盤基體10進行旋轉(zhuǎn)的旋涂法，把液態(tài)樹脂成分12r施加成均勻的膜厚，從而形成覆膜。
接下來，如圖15A所示一樣，釋放位于由圖2所示的釋放膜(12a和12b)所夾住的樹脂膜12s的易釋放側上的釋放膜12b，并且借助使用墊片或輥子等使轉(zhuǎn)印基體21如樹脂壓膜(該基體具有不平的圖案，該圖案包括用于第二光學記錄層中的凹形部分21d，而第二光學記錄層事先以獨立的過程來形成)被粘附到樹脂膜12s上。
借助以足夠大的強度來粘附轉(zhuǎn)印基體21，如圖15B所示，把凸形部分12p轉(zhuǎn)印到與釋放膜21a表面上的轉(zhuǎn)印基體21的凹形部分21d相對應的位置上。
接下來，如圖16A所示，釋放位于樹脂膜21s的難釋放側上的釋放膜12a。
接下來，如圖16B所示，借助使用墊片或輥子等，使液態(tài)樹脂成分的覆膜的表面和樹脂膜12s的表面粘附在一起。
接下來，如圖17A所示，例如，借助從轉(zhuǎn)印基體21側上發(fā)射紫外線UV，樹脂膜12s和液態(tài)樹脂成分12r的覆膜進行硬化，從而得到隔層12，該隔層12是樹脂膜硬化部分12s′和液態(tài)樹脂成分覆膜硬化部分12r′的疊層結構，其中樹脂膜硬化部分12s′在它的表面上轉(zhuǎn)印第二光學記錄層的不平圖案。在進行硬化期間，樹脂膜硬化部分12s′的表面和轉(zhuǎn)印基體21的粘附性下降。
接下來，如圖17B所示一樣，構成隔層2的樹脂膜硬化部分12s′的表面和轉(zhuǎn)印基體21在邊緣上被分開。
之后，以與第一實施例相同的方式，如圖18A所示，第二光學記錄膜13形成在構成隔層12的樹脂膜硬化部分12s′上，光透射保護層14形成在第二光學記錄膜13上。
從上面可以知道，可以制造出具有圖13所示的多個光學記錄層的光盤。
借助在具有與光盤相同的中心孔的形狀上使用紫外線硬化樹脂、通過旋涂來實現(xiàn)噴涂，從盤的內(nèi)圓周到外圓周形成了膜厚的不均勻性，因此難以抑制膜厚的不均勻性，例如相對于20μm的隔層的厚度難以減少到±1μm或者更小。
在本實施例的制造方法中，借助使旋涂產(chǎn)生的涂層厚度變薄成差不多五倍的膜厚度不均勻度，并且通過紫外線硬化樹脂膜形成其余的厚度，可以形成具有少量厚度不均勻度的隔層。
例如，在形成20μm的隔層時，借助施加5μm的液態(tài)樹脂并且用紫外線硬化樹脂膜構成其它的15μm厚，總膜厚的不均勻度可以被減少到±1μm或者更小。
此外，如圖19所示那樣構成本實施例的光盤。
該結構基本上與圖13所示光盤的相同，但是在隔層12中，首先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜和紫外線硬化液態(tài)樹脂成分的覆膜的布置被形成相反。
解釋上面光盤的制造方法。
首先，紫外線硬化液態(tài)樹脂成分12r被供給在轉(zhuǎn)印基體21如樹脂壓模上，其中該基體21具有包括第二光學記錄層的凹形部分21d在內(nèi)的不平圖案，如圖20A所示，并且借助旋轉(zhuǎn)盤基體10的旋涂方法把液態(tài)樹脂成分12r噴涂成均勻的膜厚，從而形成圖20B所示的覆膜。
接下來，以與第一實施例相同的方法來形成盤基體10，在第一光學記錄膜11形成于基體10上之后，如圖21A所示，釋放位于由圖2所示的釋放膜(12a和12b)所夾住的樹脂膜12s的易釋放側上的釋放膜12b，并且借助使用墊片或輥子等使第一光學記錄膜11和樹脂膜12s相互粘附起來。
借助以足夠大的強度來粘附轉(zhuǎn)印基體21，可以得到圖21B所示的那種情況。
接下來，如圖22A所示，釋放位于樹脂膜12s的難釋放側上的釋放膜12a。
接下來，如圖22B所示，借助使用墊片或輥子等，使液態(tài)樹脂成分12r的覆膜的表面和樹脂膜12s的表面相互粘附在一起。
之后，以與圖17和18所示的上面過程相同的方式，例如，從轉(zhuǎn)印基體21側發(fā)射紫外線UV，從而使樹脂膜12s和液態(tài)樹脂成分12r的覆膜進行硬化，隔層12的表面和轉(zhuǎn)印基體21在邊緣表面上被分開，第二光學記錄膜13形成在隔層12上，并且光透射保護層14形成于其上。
從上面可以知道，可以制造出具有多個光學記錄層的光盤。
此外，根據(jù)這個方法，借助使旋涂產(chǎn)生的涂層厚度變薄成差不多五倍的膜厚度不均勻度，并且通過紫外線硬化樹脂膜形成其余的厚度，可以形成具有少量厚度不均勻度的隔層。例如，在形成20μm的隔層時，借助施加5μm的液態(tài)樹脂并且用紫外線硬化樹脂膜構成其它的15μm厚，總膜厚的不均勻度可以被減少到±1μm或者更小。
不采用上面相應的制造方法，而是借助進行旋涂把液態(tài)樹脂相應地噴涂到盤基體側和轉(zhuǎn)印基體側上，并且借助在它們之間提高樹脂膜來把這兩者相互粘附在一起。
在上面的相應方法中，在相互粘附起來之后進行紫外線硬化，或者連續(xù)地進行紫外線硬化。
在這種情況下也形成了多層結構，因此除了以與使用上面疊層樹脂膜的情況相同的方式形成膜厚以外，還可以提高粘附性、可釋放性和可轉(zhuǎn)移性等性能的效果。
(第三實施例)解釋借助在上面第一實施例和第二實施例中使用塑料基體作為轉(zhuǎn)印基體通過壓力進行轉(zhuǎn)印的方法。
圖23是局部剖視圖，它示出了基體膠層如通過注模形成的盤基體的示意性結構。
通常地，在借助注模來形成盤基體時，在進行注模時該溫度在模子的最外部圓周部分處變得較小，因此基體膠層在最外部圓周上具有喇叭形突出部。根據(jù)注模裝置和模制條件，寬度在正常情況下為2-3mm，而高度h為幾個μm到幾十個μm。
由于這種形狀，在通過紫外線硬化樹脂膜來粘附盤基體和轉(zhuǎn)印基體時，可以可靠地產(chǎn)生間隙。
此外，當注?；w也使用在轉(zhuǎn)印基體側上時，喇叭形產(chǎn)生在盤基體和轉(zhuǎn)印基體的兩側上并且產(chǎn)生了干擾，因此可以可靠地產(chǎn)生間隙。
在產(chǎn)生間隙時，需要借助高壓(例如5kg/cm2或者更大)通過幾秒到幾分鐘的消泡來消除或者減小它，并且這些過程變得較復雜。
這里，如圖24所示，借助使轉(zhuǎn)印基體21的尺寸大小比盤基體10的尺寸大小ΔΦ在轉(zhuǎn)印基體21側上使用注?；w時，盤基體和轉(zhuǎn)印基體的喇叭形的干擾可以被減少，并且可以減少產(chǎn)生間隙。
此外，借助使轉(zhuǎn)印基體上的尺寸大小較大，可以產(chǎn)生這樣的優(yōu)點，它在釋放時可以用作保持部分。
此外，借助降低轉(zhuǎn)印基體的剛性，轉(zhuǎn)印基體可以隨著盤基體的外圓周部分的喇叭形，并且產(chǎn)生于盤基體和轉(zhuǎn)印基體之間的一些間隙可以被減小。
還有使用剛性較小的塑料的方法，但是可以借助簡單地使厚度例如為0.5mm或者更小來提高它。越薄的話，那么所產(chǎn)生的間隙就越小，但是當它太薄時，例如比0.3mm還薄時，注模變得更困難，并且處理起來變得更困難。
此外，借助只使轉(zhuǎn)印基體21的喇叭形最外部的圓周部分21e變薄從而成為圖25A所示的錐形，或者借助只使轉(zhuǎn)印基體21的喇叭形最外部圓周部分21e成形成具有臺階，如圖25B所示，并且使轉(zhuǎn)印基體21的外圓周部分21e隨著盤基體10的外圓周部分10e的喇叭形，產(chǎn)生于盤基體和轉(zhuǎn)印基體之間的間隙可以被減小。
例如，假設轉(zhuǎn)印基體21的中心處的厚度t1為0.3左右并且最外部的圓周薄部分的厚度t2為0.1mm左右。
當轉(zhuǎn)印基體21的厚度形成得較薄時，構成轉(zhuǎn)印基體的材料的需要量較小，因此減少了費用。
此外，當轉(zhuǎn)印基體21的最外部圓周部分21e形成為錐形或者臺階形時，也可以只使該外圓周部分較薄，并且中心部分可以形成得較厚從而在運載和處理時不會產(chǎn)生任何麻煩，這些是有利的。
此外，作為用壓力來結合的方法，優(yōu)選的是使用彈性體，該彈性體用壓力可以把錐形和臺階形粘附起來，因此轉(zhuǎn)印基體容易沿著盤形基體的喇叭形。另一方面，盤設置在平臺上，從而不會產(chǎn)生任何扭曲，并且轉(zhuǎn)印基體被放在上面，從而通過墊片或輥子等的壓力來粘附。墊片或者輥子的材料可以使用橡膠，但是任何具有彈性的材料都可以使用。所使用的墊片的形狀是平的、圓錐形和主軸形。根據(jù)橡膠硬度和粘性沖程(adhesion strokes)可以改變粘附力。
在使用薄轉(zhuǎn)印材料或者錐形轉(zhuǎn)印材料時，明顯的是，光盤基體放置在平臺上，可以變形的轉(zhuǎn)印材料通過彈性體來擠壓。
此外，使轉(zhuǎn)印材料的外圓周直徑的尺寸大小較大的方法、使用薄基體的方法、或者只使外圓周變薄的方法可以結合使用。
(例子1)制造紫外線硬化樹脂膜如下。
作為紫外線硬化粘合劑，按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚體形成的紫外線硬化樹脂、按重量5份的光聚引發(fā)劑和按重量5份的異氰酸鹽基硬化劑與按重量100份的丙烯粘合劑進行混合，該粘合劑由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物組成。該產(chǎn)物用溶劑來稀釋并且借助輥式噴涂器施加在釋放膜上，同時進行混合。作為釋放膜，使用厚度為38μm的PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜，該膜進行硅樹脂處理。借助層壓厚度為38μm的PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜來得到基本材料，其中在干燥之后，粘附性較小。調(diào)整該噴涂器，以致厚度在進行干燥之后變成20μm。
如下面所解釋的一樣，借助使用上面的紫外線硬化樹脂膜來制造出多層光盤。
使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該基體形成有凹凸圖案，而凹凸圖案借助位于一側上的凹陷來形成。借助陰極真空噴鍍使鋁形成60nm，及形成第一光學記錄層。
接下來，上面紫外線硬化樹脂膜被沖壓出油炸圈餅形，該油炸圈餅形的外圓周直徑Φ為119mm，內(nèi)圓周直徑Φ為23mm，在除去位于易釋放側上的釋放膜之后，借助輥子粘附到盤基體上。
作為轉(zhuǎn)印基體，使用注?；w，該基體的厚度為1.1mm、外圓周直徑Φ為120mm及內(nèi)圓周直徑Φ為15mm，該基體由環(huán)狀聚烯烴樹脂構成。轉(zhuǎn)印基體形成有不平的形狀，該形狀借助第二光學記錄層的凹陷來形成。
接下來，把盤基體放置在平的金屬臺上，除去位于難釋放側上的PET釋放膜，然后，借助墊片從上面用壓力來結合轉(zhuǎn)印基體。作為墊片，使用主軸形橡膠墊片，并且施加壓力，直到擠壓盤為止。這時的擠壓力為5kg/cm2。在用壓力進行結合之后，借助使盤在5-10個大氣壓下放置1秒到5分鐘來使盤進行去泡處理。
借助從轉(zhuǎn)印基體發(fā)射紫外線，使紫外線硬化樹脂膜進行硬化，并且釋放轉(zhuǎn)印基體。
接下來，借助陰極真空噴鍍使鋁形成為膜厚為9nm的膜以成為半透明的，及形成第二光學記錄層。
作為光透射保護層的材料，使用這樣的材料，該材料事先層壓有厚度為60μm的聚碳酸酯樹脂膜和厚度為20μm的粘合劑，并且與粘合劑側上的PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)釋放膜粘合在一起。把該基本材料沖出成油炸圈餅形，該油炸圈餅形的外圓周直徑Φ為119mm，內(nèi)圓周直徑Φ為23mm，然后，借助主軸形墊片來擠壓，及進行粘附。此外，借助使盤在5-10個大氣壓下保留1秒到5分鐘來進行去泡處理。
由上面方法制造出來的光盤的保護層和隔層的平均厚度和厚度不均勻度借助光譜干涉法(裝置名稱為ETA-Optik，它由Steag Co.制造)來測量。
在盤半徑上從24到56mm每2mm進行測量，并且沿著盤的圓周方向每6度進行測量。示出了測量結果。從這個可以確認，可以實現(xiàn)±1μm或者更小的隔層的厚度不均勻度。
表1

(例子2)制造兩種紫外線硬化多層樹脂膜如下。
作為對聚碳酸酯樹脂具有較小的粘附性的紫外線硬化樹脂膜(A)，使平均分子量為300000的、由n-丁基丙烯酸脂和2-羥基乙基丙烯酸脂所組成的共聚物、借助使異丁烯酰基氧乙基異氰酸鹽(methacryloyloxy ethylisocyanate)與乙酸乙酯溶液進行反應來得到光硬化共聚物、平均分子量為300000的、由n-丁基丙烯酸脂和2-羥基乙基丙烯酸脂組成的共聚物和異氰酸鹽基的光聚作用引發(fā)劑進行混合，及使用以上面解釋的方法來施加產(chǎn)物以致干燥之后的厚度變成10μm的這些。
此外，由于聚碳酸酯樹脂用作盤基體，作為位于粘附側上的紫外線硬化樹脂膜(B)，按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚體形成的紫外線硬化樹脂、按重量5份的光聚引發(fā)劑和按重量5份的異氰酸鹽基硬化劑與按重量100份的丙烯基粘合劑進行混合，該粘合劑由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物組成，及使用以上面解釋的方法來施加產(chǎn)物以致干燥之后的厚度變成10μm的這些。
首先，作為盤基體，使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該基體形成有不平的形狀，該形狀借助位于一側上的凹陷來形成。借助陰極真空噴鍍使鋁膜形成60nm，及形成第一光學記錄層。
接下來，上面紫外線硬化樹脂膜(B)被沖壓出油炸圈餅形，該油炸圈餅形的外圓周直徑Φ為119mm，內(nèi)圓周直徑Φ為23mm，在除去位于易釋放側上的釋放膜之后，借助輥子粘附到盤基體上。
作為轉(zhuǎn)印基體，使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm及厚度為1.1mm，該基體形成有在一側上成為凹陷的不平形狀。把紫外線硬化樹脂膜(A)沖壓出油炸圈餅形，該油炸圈餅形的外圓周直徑Φ為119mm，內(nèi)圓周直徑Φ為23mm，在除去位于易釋放側上的釋放膜之后，借助輥子粘附到其上。在除去盤基體和轉(zhuǎn)印基體上的兩個釋放膜之后，借助主軸形墊片來擠壓該產(chǎn)物從而粘附起來。
此外，在借助在5-10個大氣壓下保留1秒到5分鐘左右來進行去泡處理之后，從轉(zhuǎn)印基體側發(fā)射出紫外線，這時使紫外線硬化膜(A)和(B)進行硬化。
接下來，在使轉(zhuǎn)印材料從光盤基體中分離時，在紫外線硬化樹脂膜(A)和轉(zhuǎn)印基體的邊緣上總是進行釋放。
之后，借助陰極真空噴鍍使鋁膜形成為半透明的，及形成第二光學記錄層。
最后，以與上面方法相同的方式制造出光透射保護層，并且得到多層光盤。
在上面制造出的光盤的保護層和隔層的平均厚度和厚度不均勻度以相同的方式借助光譜干擾法在這個盤上進行測量。
從這個可以確認，即使在隔層結構變成兩層時也可以實現(xiàn)±1μm或者更小的隔層的厚度不均勻度。
表2

(例子3)制造多層盤如下，其中隔層由紫外線硬化粘合劑的樹脂膜和通過旋涂來進行噴涂的紫外線硬化樹脂組成。
紫外線硬化粘合劑用作紫外線硬化樹脂膜。借助使按重量100份由尿烷丙烯酸脂基低聚體形成的紫外線硬化樹脂、按重量5份的光聚引發(fā)劑和按重量5份的異氰酸鹽基硬化劑與按重量100份的丙烯基粘合劑進行混合所得到的這些以上面所解釋的方式被噴涂成17μm的厚度，其中該粘合劑由n-丁基丙烯酸脂和丙烯酸的共聚物組成。
作為光盤基體，使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該基體形成有不平的形狀，該形狀為位于一側上的凹陷。借助陰極真空噴鍍使鋁膜形成為60nm的膜厚，從而形成第一光學記錄層。
接下來，把紫外線硬化樹脂膜沖壓出油炸圈餅形，該油炸圈餅形的外圓周直徑Φ為119mm，內(nèi)圓周直徑Φ為23mm，在除去位于易釋放側上的釋放膜之后，借助輥子粘附到盤基體上。
作為轉(zhuǎn)印基體，使用注?；w，該基體由環(huán)狀聚烯烴樹脂來形成，該基體的厚度為1.1mm、外圓周直徑Φ為120mm及內(nèi)圓周直徑Φ為15mm。轉(zhuǎn)印基體形成有不平形狀，這種形狀是第二光學記錄層的凹陷。
在轉(zhuǎn)印基體的表面上，在半徑為10-20mm的位置上的環(huán)形圖案中施加有醛基紫外線硬化樹脂(例如T-695/UR506-4，它由Nagase Chiba來形成)，并且進行旋涂。旋轉(zhuǎn)速度為5000rpm，并且調(diào)整旋轉(zhuǎn)時間從而使最外部圓周上的厚度為3μm。
接下來，把光盤基體放置在平的金屬臺上，除去位于難釋放側上的PET釋放膜之后，借助墊片從上面用壓力來粘附轉(zhuǎn)印基體，該轉(zhuǎn)印基體設置有紫外線硬化樹脂的覆膜。此外，借助使盤在5-10個大氣壓下保持1秒到5分鐘左右來使盤進行去泡處理之后，從轉(zhuǎn)印基體側發(fā)射紫外線，這時使紫外線硬化樹脂膜和紫外線硬化樹脂覆膜進行硬化。
之后，借助陰極真空噴鍍使鋁膜形成為半透明的，及形成第二光學記錄層。最后，以與上面解釋方法相同的方式制造出光透射保護層，并且得到多層光盤。
借助光譜干擾法在這個光盤上測量上面制造出的光盤的保護層和隔層的平均厚度和厚度不均勻度。此外，在這種情況下，可以使隔層的厚度不均勻度為±1μm或者更小。
表3

(例子4)為了避免轉(zhuǎn)印基體的外圓周部分處的喇叭形的干擾，因此把環(huán)狀聚烯烴樹脂基體用作轉(zhuǎn)印基體，而該環(huán)狀聚烯烴樹脂基體的外圓周直徑Φ為128mm、內(nèi)圓周直徑Φ為15mm及厚度為1.1mm，該基體形成有在一側上為凹陷的不平形狀。
作為盤基體，使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該基體形成有在一側上為凹陷的不平形狀。
在把厚度為20μm的紫外線硬化樹脂膜粘附在盤基體上之后，把盤基體放置在平的金屬臺上，在除去難釋放側上的PET釋放膜之后，借助墊片從上面通過壓力來粘附轉(zhuǎn)印基體。作為墊片，使用主軸型橡膠墊片，并且施加壓力，直到擠壓盤為止?？梢源_定，因此而得到的盤借助進行壓力去泡而幾乎沒有氣泡留在外圓周上。
(例子5)接下來，借助使用轉(zhuǎn)印基體以與上面相同的方式來制造光盤，其中厚度形成得較薄。
作為轉(zhuǎn)印基體，使用環(huán)狀聚烯烴樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm、內(nèi)圓周直徑Φ為15mm和厚度為0.35mm，該轉(zhuǎn)印基體形成有在一側上為凹陷的不平形狀。
作為盤基體，使用聚碳酸酯樹脂基體，該基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該基體形成有在一側上為凹陷的不平形狀。
在把厚度為20μm的紫外線硬化樹脂膜粘附在盤基體上之后，把作為轉(zhuǎn)印基體的光盤放置在平的金屬臺上，在除去難釋放側上的PET釋放膜之后，借助墊片從上面通過壓力來粘附轉(zhuǎn)印基體。
作為墊片，使用主軸型橡膠墊片，并且施加壓力，直到擠壓盤為止?？梢源_定，因此而得到的盤借助壓力去泡而幾乎沒有氣泡留在外圓周上。
(例子6)接下來，只使轉(zhuǎn)印基體的最外部圓周的形狀形成得較薄。外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm，及靠近中心處的厚度為0.6mm，從半徑為45mm的位置上開始，板厚逐漸變薄，半徑為60mm的位置上即最外部圓周上的板厚是0.2mm。錐形形成在表面的相對側上，該表面形成有是凹陷的不平形狀，使用環(huán)狀聚烯烴樹脂作為轉(zhuǎn)印基體的材料。
盤基體的外圓周直徑Φ為120mm，內(nèi)圓周直徑Φ為15mm且厚度為1.1mm，該盤基體的不平形狀借助形成在它一側上的凹陷來形成。
在把厚度為20μm的紫外線硬化樹脂膜粘附在盤基體上之后，把作為轉(zhuǎn)印基體的光盤放置在平的金屬臺上，在除去難釋放側上的PET釋放膜之后，借助墊片從上面通過壓力來粘附轉(zhuǎn)印基體。
作為墊片，使用主軸型橡膠墊片，并且施加壓力，直到擠壓盤為止。可以確定，因此而得到的盤借助壓力去泡而幾乎沒有氣泡留在外圓周上。
根據(jù)本實施例的多層光盤和制造方法，可以得到下面這些優(yōu)點。
借助使用紫外線硬化樹脂膜作為隔層，可以減小隔層的膜厚不均勻度，因此可以提供能夠穩(wěn)定地記錄和再現(xiàn)的多層盤。
借助使用紫外線硬化樹脂膜作為隔層，可以減小隔層的膜厚不均勻度，因此可以提供具有兩個或者更多個光學記錄層的多層光盤。
借助用兩種或者更多種的紫外線硬化樹脂膜來形成隔層，各種材料可以用作轉(zhuǎn)印基體的材料。
借助用兩種或者更多種的紫外線硬化樹脂膜來形成隔層，可以提供可轉(zhuǎn)移性較好的、收縮百分比下降的隔層。
借助結合紫外線硬化樹脂覆膜(其中它的厚度薄于單獨使用的那種情況)和紫外線硬化樹脂膜，使隔層的膜厚不均勻度得到減少，但是可以得到與使用兩層或者更多層的紫外線硬化樹脂膜的情況相同的效果。
在使用由注模塑料所形成的基體作為轉(zhuǎn)印基體時，借助使轉(zhuǎn)印基體的外圓周直徑大于光盤基體的直徑可以實現(xiàn)較好的轉(zhuǎn)印。
在使用由塑料形成的轉(zhuǎn)印基體時，借助使轉(zhuǎn)印基體的厚度為0.5mm或更小，外圓周可以得到較好的可轉(zhuǎn)移性。
在使用由塑料形成的轉(zhuǎn)印基體時，借助使轉(zhuǎn)印基體的最外部圓周部分較薄，外圓周可以得到較好的可轉(zhuǎn)移性。
此外，不是如上面所解釋的那樣減少隔層的膜厚不均勻度，而是借助使用紫外線硬化樹脂膜作為隔層來減少轉(zhuǎn)印基體扭曲的影響，而這種影響由于灰塵和毛口而產(chǎn)生一些問題。
本發(fā)明不局限于上面這些實施例。
例如，作為光學記錄層，不是使用鋁等所形成的反射膜，而是使用其它各種由相位改變型記錄材料等所形成的光學記錄層。
此外，它可以應用到具有三個或者更多個光學記錄層的光學記錄介質(zhì)中。
不是上面所述這些，而是各種變形也落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明，設置了多個光學記錄層，其中可以減少光學記錄層之間的隔層的膜厚度不均勻度，此外，轉(zhuǎn)印基體的扭曲影響(這種扭曲影響由于灰塵和毛口而產(chǎn)生一些問題)也可以得到減少。
工業(yè)應用性本發(fā)明可以處理可再寫型等的存儲器格式，它們具有光學記錄層，該記錄層使用相位改變型材料、永磁式光學記錄材料或者具有有機染料等的記錄材料作為記錄材料，本發(fā)明可以用于光盤和它的制造方法中，該光盤以較小的費用可以實現(xiàn)大容量外存貯器。
權利要求
1.一種光學記錄介質(zhì)，通過隔層進行疊置的至少兩個光學記錄層和光透射層設置在介質(zhì)基體的至少一個表面上，其中光透射層設置在光學記錄層上，該光學記錄介質(zhì)借助通過光透射層把光照射到所述光學記錄層上進行記錄和再現(xiàn)，及所述隔層包括事先形成膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜，并且是形成有不平形狀的膜，這種不平形狀與記錄凹陷相對應，或者這種不平形狀是位于它表面上的導向槽，這種膜被硬化。
2.如權利要求1所述的光學記錄介質(zhì)，其特征在于，所述隔層是借助使一疊層結構進行硬化來得到的膜，該疊層結構包括事先形成膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜和由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分形成的至少一層覆膜。
3.如權利要求1所述的光學記錄介質(zhì)，其特征在于，不平形狀與記錄凹陷相對應，或者不平形狀為位于所述隔層中的所述樹脂膜表面上的導向槽。
4.如權利要求2所述的光學記錄介質(zhì)，其特征在于，不平形狀與記錄凹陷相對應，或者不平形狀為位于由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分形成的所述覆膜表面上的導向槽。
5.一種制造具有至少兩個光學記錄層的光學記錄介質(zhì)的方法，該方法包括形成在它的一個表面上具有不平形狀的介質(zhì)基體的步驟，在所述介質(zhì)基體的不平形狀的形成表面上形成第一光學記錄層的步驟，在位于所述第一光學記錄層上的表面上形成具有不平形狀的隔層的步驟，在所述隔層的不平形狀形成表面上形成第二光學記錄層的步驟，及在所述第二光學記錄層上形成光透射保護層的步驟；其特征在于形成所述隔層的步驟包括把事先形成為膜的紫外線硬化樹脂膜的一個表面粘附到所述第一光學記錄層或者形成有不平形狀的轉(zhuǎn)印基體上的步驟；直接或者通過其它層把所述轉(zhuǎn)印基體或者所述第一光學記錄層壓靠在所述樹脂膜上并且提供沒有硬化過的隔層的步驟，其中該沒有硬化過的隔層包括位于所述第一光學記錄層和所述轉(zhuǎn)印基體之間的至少一層所述樹脂膜；在使所述轉(zhuǎn)印基體壓靠在所述隔層的表面上的情況下，使所述隔層進行硬化的步驟；及從所述隔層中釋放所述轉(zhuǎn)印基體和把所述轉(zhuǎn)印基體的不平形狀轉(zhuǎn)印到所述隔層的表面上的步驟。
6.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，所述樹脂膜是紫外線硬化樹脂膜，該樹脂膜在由一對釋放膜所夾住的情況下形成為膜；及形成所述隔層的步驟還包括在把所述樹脂膜粘附到所述第一光學記錄層或者所述轉(zhuǎn)印基體上的步驟之前從所述樹脂膜中釋放一個所述釋放膜的步驟；及，在把所述樹脂膜粘附到所述第一光學記錄層或者所述轉(zhuǎn)印基體上的步驟之后并且在直接或者通過其它層把所述轉(zhuǎn)印基體或者所述第一光學記錄層壓靠在所述樹脂膜上的步驟之前，從所述樹脂膜中釋放其它所述釋放膜的步驟。
7.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，在形成所述隔層的步驟中，所述隔層只形成有所述樹脂膜。
8.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，形成所述隔層的步驟包括把所述樹脂膜粘附在所述轉(zhuǎn)印基體上的步驟；在所述第一光學記錄層上形成由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分所形成的覆膜的步驟；粘附所述樹脂膜和所述覆膜的步驟；借助在相互粘附起來的情況下使所述樹脂膜和所述覆膜進行硬化來得到所述隔層的步驟；及從所述隔層中釋放所述轉(zhuǎn)印基體的步驟。
9.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，形成所述隔層的步驟包括在所述轉(zhuǎn)印基體上形成由紫外線硬化液態(tài)樹脂成分所形成的覆膜的步驟；把所述樹脂膜粘附在所述第一光學記錄層上的步驟；粘附所述樹脂膜和所述覆膜的步驟；借助在相互粘附起來的情況下使所述樹脂膜和所述覆膜進行硬化來得到所述隔層的步驟；及從所述隔層中釋放所述轉(zhuǎn)印基體的步驟。
10.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，由注模塑料所形成的一種用作所述轉(zhuǎn)印基體，而該種的外圓周直徑大于所述介質(zhì)基體的直徑。
11.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，由塑料所形成的一種用作所述轉(zhuǎn)印基體，而該種的厚度為0.5mm或者更小。
12.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，由塑料所形成的一種用作所述轉(zhuǎn)印基體，其中，它的外圓周直徑逐漸變小，并且比中心部分更薄。
13.如權利要求5所述的制造光學記錄介質(zhì)的方法，其特征在于，在使用所述轉(zhuǎn)印基體進行轉(zhuǎn)印的步驟中，借助彈性體從轉(zhuǎn)印基體側進行壓力粘附。
全文摘要
一種光學記錄介質(zhì)和制造這種光學記錄介質(zhì)的方法，該光學記錄介質(zhì)可以減少位于多個光學記錄層之間的隔層的膜厚不均勻度，并且可以減少轉(zhuǎn)印基體的扭曲影響及減少產(chǎn)生灰塵和毛口問題等。光學記錄介質(zhì)具有這樣的結構通過隔層(12)進行疊置的至少兩個光學記錄層(11、13)和光透射層(14)設置在介質(zhì)基體(10)的至少一個表面上，其中光透射層(14)設置在光學記錄層上，該光學記錄介質(zhì)借助通過光透射層(14)把光照射到光學記錄層(11、13)上進行記錄和再現(xiàn)，及隔層包括事先形成膜的至少一層紫外線硬化樹脂膜，并且是形成有不平形狀的膜，這種不平形狀與記錄凹陷相對應，或者這種不平形狀(12p)是位于它表面上的導向槽，這種膜被硬化。
文檔編號G11B7/24GK1516873SQ03800440
公開日2004年7月28日 申請日期2003年3月20日 優(yōu)先權日2002年3月20日
發(fā)明者山崎剛, 行本智美, 美 申請人:索尼公司