專利名稱：光學(xué)存儲系統(tǒng)和控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于在移動介質(zhì)如MO盒中光學(xué)記錄信息并從中再現(xiàn)信息的光學(xué)存儲系統(tǒng)和控制方法，并更具體地，本發(fā)明涉及用于在聚焦拉入時保證快速、穩(wěn)定和安全的光學(xué)存儲系統(tǒng)和控制方法。
背景技術(shù)：
通常，在以使用MO盒介質(zhì)的光盤驅(qū)動器著稱的光學(xué)存儲系統(tǒng)中，當(dāng)讀出記錄在介質(zhì)中的數(shù)據(jù)時，或當(dāng)在介質(zhì)中記錄數(shù)據(jù)時，需要用于把光束集中到所述介質(zhì)上的記錄介質(zhì)上的聚焦控制。
為了執(zhí)行聚焦控制，首先，必需知道光束當(dāng)前集中的位置。然而，當(dāng)光束集中的位置遠(yuǎn)離記錄層時，不輸出聚焦誤差信號(FES)。從而，透鏡致動器移動到光束可集中到靠近介質(zhì)記錄層的位置的區(qū)域，并且，在檢測聚焦零交叉時執(zhí)行用于閉合聚焦伺服環(huán)路的聚焦拉入處理。
在聚焦拉入處理中，即使當(dāng)集中位置在介質(zhì)的表面(記錄層的保護(hù)表面)上時，也輸出聚焦誤差信號。從而，一般來說，一度使透鏡致動器在不撞擊介質(zhì)的程度上接近介質(zhì)，接著，透鏡致動器慢慢地降下，并且當(dāng)首次識別聚焦零交叉時執(zhí)行拉入處理。
然而，在此常規(guī)光學(xué)存儲系統(tǒng)中，在一些情況下，例如由于在插入介質(zhì)時的卡緊狀態(tài)或介質(zhì)本身的翹曲，介質(zhì)進(jìn)入透鏡致動器的運(yùn)動范圍。在這些情況下，當(dāng)使透鏡致動器接近介質(zhì)以執(zhí)行聚焦拉入處理時，在最壞的情況下，透鏡致動器與介質(zhì)接觸，并且損壞介質(zhì)。
更具體地，透鏡致動器由托架通過彈簧支撐，并且，在不使電流流入驅(qū)動電路的狀態(tài)下，光束焦點的位置與介質(zhì)記錄層的位置之間的偏差設(shè)計為約50μm。從而，在聚焦拉入控制中，首先，透鏡致動器向介質(zhì)移動約300μm，并且，透鏡致動器從此向相反方向慢慢地移動大約600μm。在此過程中，在檢測聚焦誤差信號的零交叉時閉合聚焦伺服環(huán)路，由此使焦點保持在介質(zhì)的記錄層上。這里，問題在于當(dāng)透鏡致動器沿朝著介質(zhì)的方向移動300μm時，透鏡致動器與介質(zhì)接觸。
通常，采取提供間隙以避免接觸的對策，然而，在近來的變薄系統(tǒng)中不能保留間隙。與此問題相對應(yīng)地，介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)制訂得更加嚴(yán)格，并且增加光學(xué)存儲系統(tǒng)的高度，以防止介質(zhì)與透鏡致動器之間的接觸。然而，最近，進(jìn)一步提高減小系統(tǒng)尺寸并使系統(tǒng)變薄的重要性，并且，必需在不使介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)制訂得更嚴(yán)格且不增加光學(xué)存儲系統(tǒng)高度的同時，在聚焦伺服拉入處理中避免介質(zhì)與透鏡致動器之間的接觸。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供以下光學(xué)存儲系統(tǒng)和控制方法，其中，即使當(dāng)在介質(zhì)中存在翹曲或表面擺動時，也可執(zhí)行聚焦拉入處理，同時不使透鏡致動器與介質(zhì)接觸。
本發(fā)明致力于一種光學(xué)存儲系統(tǒng)，所述光學(xué)存儲系統(tǒng)具有在與介質(zhì)軌道交叉的方向上移動物鏡的托架致動器，其中，物鏡用于以光束照射介質(zhì)；在朝著介質(zhì)的方向上移動物鏡的透鏡致動器；聚焦誤差信號產(chǎn)生電路，所述聚焦誤差信號產(chǎn)生電路根據(jù)接收的從介質(zhì)返回光的輸出，而產(chǎn)生表示光束焦點與介質(zhì)記錄層之間偏差的聚焦誤差信號；以及，聚焦拉入控制單元，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，在物鏡沿朝著介質(zhì)的方向移動預(yù)定距離之后，所述聚焦拉入控制單元在聚焦誤差信號與零相交的點閉合聚焦伺服環(huán)路，同時緩慢地在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上移動物鏡，在本發(fā)明中，此種類型的光學(xué)存儲系統(tǒng)設(shè)置有基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元，在插入介質(zhì)時，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)徑向中的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下，所述基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，計算電流的平均電流值，并把計算的平均電流值儲存在存儲器中，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)位置(基準(zhǔn)透鏡位置)上的基準(zhǔn)電流值，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入控制；以及基準(zhǔn)位置控制單元，當(dāng)在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行聚焦拉入時，所述基準(zhǔn)位置控制單元在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
根據(jù)本發(fā)明的上述光學(xué)存儲系統(tǒng)，當(dāng)介質(zhì)因卡緊狀態(tài)而傾斜時或當(dāng)介質(zhì)翹曲時，在介質(zhì)內(nèi)圓周附近，介質(zhì)與透鏡致動器之間的間隙最寬。從而執(zhí)行學(xué)習(xí)處理，在此學(xué)習(xí)處理中執(zhí)行聚焦拉入控制，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的過程中測量輸出給聚焦驅(qū)動電路的指示電流值，并且獲得平均電流，獲得的平均電流是用于把透鏡致動器驅(qū)動到基準(zhǔn)位置的基準(zhǔn)電流，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入。當(dāng)在改變介質(zhì)之前保留通過學(xué)習(xí)處理獲得的基準(zhǔn)電流值并且該值用作執(zhí)行下一聚焦拉入控制的基準(zhǔn)電流時，可認(rèn)為接近焦點，并可實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦拉入控制。
在這，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元在介質(zhì)徑向中的至少兩個點上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，并儲存基準(zhǔn)電流值；基準(zhǔn)位置控制單元選擇與物鏡在介質(zhì)徑向上的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，并定位物鏡。從而，當(dāng)除了在內(nèi)圓周區(qū)域測量中獲得基準(zhǔn)電流之外在外圓周區(qū)域進(jìn)一步測量基準(zhǔn)電流時，在外圓周區(qū)域也減小介質(zhì)與透鏡致動器之間接觸的危險。
在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)內(nèi)圓周的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流之后，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元在保持聚焦伺服環(huán)路閉合的同時把物鏡移動到外圓周側(cè)的預(yù)定點，并測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流。相應(yīng)地，在介質(zhì)徑向中的任意多個點測量獲得基準(zhǔn)電流，并且，在學(xué)習(xí)處理之后，可執(zhí)行聚焦拉入控制，且不會使介質(zhì)與透鏡致動器之間接觸，這與透鏡致動器相對于介質(zhì)區(qū)域的位置無關(guān)。
基準(zhǔn)位置控制單元從以下直線的關(guān)系式獲得與介質(zhì)徑向中除測點之外的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，其中，所述直線與從在介質(zhì)徑向上兩點測量的電流值獲得的基準(zhǔn)電流有關(guān)。借助此線性插值，可通過在兩點上的測量而計算介質(zhì)所有區(qū)域上的基準(zhǔn)電流。
基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得作為表面擺動量的電流位移值(振幅)，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及，在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后，基準(zhǔn)位置控制單元設(shè)定運(yùn)動量為表面擺量的兩倍，作為物鏡在朝著介質(zhì)的方向上的運(yùn)動距離，并且使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。當(dāng)如上所述根據(jù)介質(zhì)表面擺動量而改變透鏡致動器的運(yùn)動量以進(jìn)行聚焦拉入時，即使在介質(zhì)中存在表面擺動也能以最小的運(yùn)動來執(zhí)行聚焦拉入。
基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得作為表面擺動量的電流位移值，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及，當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，基準(zhǔn)位置控制單元調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)并在此定位物鏡，接著，使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。例如，當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，基準(zhǔn)位置控制單元調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)，距離為表面擺動量的1/4，并且在此定位物鏡。從而，在介質(zhì)的外圓周側(cè)中表面擺動量較大并且介質(zhì)在與測量所獲得的基準(zhǔn)電流相應(yīng)的位置上因表面擺動而與透鏡致動器碰撞的情況下，當(dāng)根據(jù)表面擺動而調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流以使透鏡致動器定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)時，即使當(dāng)在聚焦拉入時使基準(zhǔn)電流流入并且把透鏡致動器設(shè)定在基準(zhǔn)位置上時，也不造成與介質(zhì)的碰撞。
基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及，基準(zhǔn)位置控制單元根據(jù)基準(zhǔn)電流而定位物鏡，接著，聚焦拉入控制單元不移動物鏡，且在拉入旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)聚焦誤差信號與零相交時執(zhí)行聚焦拉入。如上所述，在借助基準(zhǔn)電流而把透鏡致動器設(shè)定在基準(zhǔn)位置以進(jìn)行聚焦拉入的狀態(tài)下，在介質(zhì)記錄層靠近物鏡的位置遠(yuǎn)離物鏡時啟動拉入控制，并閉合聚焦伺服環(huán)路，其中，在拉入控制中檢測聚焦誤差信號的零交叉。在此情況下，由于物鏡不在朝著介質(zhì)的方向上運(yùn)動，因此沒有與介質(zhì)接觸的危險。
基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的旋轉(zhuǎn)周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及，在物鏡根據(jù)基準(zhǔn)電流定位之后在拉入旋轉(zhuǎn)周期的開始定時，基準(zhǔn)位置控制單元通過開始使物鏡在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上運(yùn)動而使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。在如上所述介質(zhì)記錄層靠近透鏡致動器的位置遠(yuǎn)離透鏡致動器時，當(dāng)進(jìn)一步在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上驅(qū)動透鏡致動器時，可迅速地檢測聚焦誤差信號的零交叉，并且加速聚焦拉入控制，而不會造成與介質(zhì)的接觸。
本發(fā)明提供一種光學(xué)存儲系統(tǒng)的控制方法。具體地，本發(fā)明提供對以下光學(xué)存儲系統(tǒng)的控制方法，所述光學(xué)存儲系統(tǒng)具有在與介質(zhì)軌道交叉的方向上移動物鏡的托架致動器，其中，物鏡用于以光束照射介質(zhì)；在朝著介質(zhì)的方向上移動物鏡的透鏡致動器；聚焦誤差信號產(chǎn)生電路，所述聚焦誤差信號產(chǎn)生電路根據(jù)接收的從介質(zhì)返回光的輸出，而產(chǎn)生表示光束焦點與介質(zhì)記錄層之間偏差的聚焦誤差信號；以及，聚焦拉入控制單元，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，在物鏡沿朝著介質(zhì)的方向移動預(yù)定距離之后，所述聚焦拉入控制單元在聚焦誤差信號與零相交的點閉合聚焦伺服環(huán)路，同時緩慢地在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上移動物鏡，所述控制方法包括基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟，在插入介質(zhì)時，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)徑向中的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下，所述基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，計算電流的平均電流值，并把計算的平均電流值儲存在存儲器中，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)位置上的基準(zhǔn)電流值，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入控制；以及基準(zhǔn)位置控制步驟，當(dāng)在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行聚焦拉入時，所述基準(zhǔn)位置控制步驟在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入控制?？刂品椒ǖ募?xì)節(jié)與光學(xué)存儲系統(tǒng)的基本相同。


圖1為應(yīng)用本發(fā)明的光學(xué)存儲系統(tǒng)的框圖；圖2為接在圖1后面的光學(xué)存儲系統(tǒng)的框圖；圖3為MO介質(zhì)和托架的說明圖；圖4為本發(fā)明聚焦拉入控制的功能配置的框圖；圖5為在介質(zhì)中既不存在翹曲也不存在表面擺動的情況下在介質(zhì)徑向上的基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖；圖6為在介質(zhì)翹曲的情況下在介質(zhì)徑向上的基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖；圖7為在介質(zhì)中存在表面擺動的情況下在介質(zhì)徑向上的基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖；圖8A和8B為在三點即介質(zhì)的內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上測量的聚焦驅(qū)動電流、以及基準(zhǔn)透鏡位置和旋轉(zhuǎn)一圈基準(zhǔn)信號的時間圖；圖9A、9B和9C為在本發(fā)明的學(xué)習(xí)處理中產(chǎn)生的存儲表的說明圖；圖10為以分區(qū)為單位儲存基準(zhǔn)電流和表面擺動的值的控制表的說明圖；圖11A、11B和11C為在電流測量處理中在內(nèi)圓周位置初次執(zhí)行聚焦拉入控制時的聚焦驅(qū)動電流和聚焦誤差信號的時間圖；圖12A、12B、12C和12D為表示在固定物鏡的狀態(tài)下與介質(zhì)表面擺動相應(yīng)的記錄層位置、以及聚焦誤差信號和旋轉(zhuǎn)一圈基準(zhǔn)信號的時間圖；圖13為本發(fā)明的光學(xué)存儲系統(tǒng)的基本程序的流程圖；圖14為在圖4配置中執(zhí)行的本發(fā)明學(xué)習(xí)處理的流程圖；圖15為圖14中存儲表產(chǎn)生處理的流程圖；圖16為在圖4配置中在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制的流程圖；圖17為在圖16透鏡驅(qū)動模式中聚焦拉入控制的流程圖；圖18為在圖16的透鏡非驅(qū)動模式中聚焦拉入控制的流程圖；以及圖19為在圖16的透鏡非驅(qū)動模式中另一聚焦拉入控制實施例的流程圖。
具體實施例方式
圖1和圖2為用作本發(fā)明光學(xué)存儲系統(tǒng)的光盤驅(qū)動器的框圖，其中，采用磁光盤(MO)盒作為磁光記錄介質(zhì)的實例。光盤驅(qū)動器是利用介質(zhì)的平面、平面和槽、或槽執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的驅(qū)動器，并且，光盤驅(qū)動器由控制器100和外殼102組成。在控制器100中提供用于執(zhí)行總體控制的MPU 114；用于執(zhí)行與主機(jī)通信的接口控制器116；設(shè)置有格式器和ECC功能的光盤控制器(ODC)118；以及緩沖存儲器120，其中，格式器和ECC功能是在介質(zhì)中寫數(shù)據(jù)/從介質(zhì)讀數(shù)據(jù)所必需的。對于光盤控制器118，提供編碼器122作為寫系統(tǒng)。對于光盤控制器118的讀系統(tǒng)，提供檢測器132、前置放大器134、讀LSI電路128和解碼器126。另外，提供激光二極管控制電路124和激光二極管單元130。檢測器132檢測磁光盤的返回光，并通過前置放大器134向讀LSI電路128輸出ID信號和MO信號。讀LSI電路128從輸入的ID信號和MO信號產(chǎn)生讀時鐘和讀數(shù)據(jù)，并且向解碼器126輸出讀時鐘和讀數(shù)據(jù)。由溫度傳感器136檢測的系統(tǒng)中環(huán)境溫度輸入到MPU 114，并且，基于環(huán)境溫度而優(yōu)化從激光二極管單元130發(fā)射的光的功率。另外，MPU 114通過驅(qū)動器138控制主軸電機(jī)140，并還通過驅(qū)動器142控制電磁體144。在對MO盒進(jìn)行記錄和刪除時，電磁體144提供外磁場。當(dāng)在1.3GB或2.3GB MO盒中使用超分辨率磁光介質(zhì)(MSR介質(zhì))時，電磁體144還在再現(xiàn)時提供外磁場。DSP115執(zhí)行伺服控制，所述伺服控制基于伺服誤差信號而把安裝在頭部致動器上的物鏡定位到相對于磁光盤的目標(biāo)位置上。伺服控制有兩個功能，即，在介質(zhì)目標(biāo)軌道位置上定位物鏡的跟蹤控制；以及控制物鏡位置以便在介質(zhì)上實現(xiàn)聚焦的聚焦控制。與伺服控制相應(yīng)地，提供光電檢測器146、聚焦誤差信號檢測電路148以及跟蹤誤差信號檢測電路150。例如，聚焦誤差信號檢測電路148通過光學(xué)聚焦系統(tǒng)的刀口檢驗法而產(chǎn)生聚焦誤差信號。與聚焦控制相關(guān)地，DSP 115通過驅(qū)動器154驅(qū)動透鏡致動器16，基于本發(fā)明的學(xué)習(xí)處理根據(jù)聚焦拉入控制而啟動聚焦伺服，并且把物鏡定位在物鏡可在光軸方向?qū)崿F(xiàn)聚焦的位置。與跟蹤控制相關(guān)地，驅(qū)動器158驅(qū)動采用VCM的托架致動器160，并把物鏡定位在介質(zhì)的目標(biāo)軌道中心上。
圖3為本發(fā)明光學(xué)存儲系統(tǒng)中MO介質(zhì)和托架的說明圖。在圖3中，以省略其部分的方式表示MO介質(zhì)10；并且，在從外部裝入MO介質(zhì)10并卡緊在主軸電機(jī)上的狀態(tài)下，托架14定位在MO介質(zhì)10的記錄介質(zhì)表面的下方。托架14沿著固定在系統(tǒng)殼體上的兩條導(dǎo)軌12-1和12-2在MO介質(zhì)10的徑向上移動所安裝的物鏡18。透鏡致動器(聚焦致動器)16也安裝在托架14上，其中，托架14沿朝著MO介質(zhì)10的方向移動物鏡18。
圖4為本發(fā)明聚焦拉入控制的功能配置的框圖，所述功能配置通過圖1和圖2中DSP 115執(zhí)行的程序控制來實現(xiàn)其功能。在圖4中，通過DSP 115的程序控制來配置聚焦伺服環(huán)路。聚焦伺服環(huán)路由AD轉(zhuǎn)換器20、伺服偏移設(shè)定單元22、加法器24、聚焦伺服單元26、加法器28、偏流單元30和DA轉(zhuǎn)換器32組成。AD轉(zhuǎn)換器20把從圖2的聚焦誤差信號檢測電路148發(fā)送的聚焦誤差信號E1轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)，并且向加法器24輸出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)。伺服偏移設(shè)定單元22根據(jù)需要設(shè)定伺服偏移。聚焦伺服單元26執(zhí)行包括相位補(bǔ)償?shù)腜ID處理，并且輸出用于驅(qū)動透鏡致動器的電流指示值。加法器28對從聚焦伺服單元26輸出的電流指示值和從偏流單元30輸出的偏流指示值進(jìn)行相加，并且向DA轉(zhuǎn)換器32輸出用于聚焦伺服的電流指示值。DA轉(zhuǎn)換器32把從加法器28輸入的電流指示值轉(zhuǎn)換為模擬電流指示信號E3，并且，把該信號輸出給圖2的驅(qū)動器154，由此使用于聚焦伺服的驅(qū)動電流流入透鏡致動器16。
另外，為聚焦伺服環(huán)路提供聚焦拉入控制單元34。在執(zhí)行基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之前，聚焦拉入控制單元34在保持MO介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的同時，使物鏡向介質(zhì)移動預(yù)定的距離。接著，在遠(yuǎn)離MO介質(zhì)的方向上緩慢地移動物鏡，同時，聚焦拉入控制單元34在聚焦誤差信號E1與零相交的點開啟伺服環(huán)路控制信號E4，由此閉合聚焦伺服環(huán)路，以執(zhí)行聚焦拉入控制。另外，在完成基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之后，聚焦拉入控制單元34執(zhí)行聚焦拉入控制，其中，與在學(xué)習(xí)處理中所獲得的基準(zhǔn)電流一致的物鏡的基準(zhǔn)透鏡位置用作開始位置。除了在首次拉入控制中執(zhí)行的控制之外，在完成基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制可按如下執(zhí)行不移動物鏡，利用因MO介質(zhì)表面擺動而引起的運(yùn)動，在聚焦誤差信號與零相交時開啟伺服環(huán)路，由此執(zhí)行拉入控制，其中，在首次拉入控制中，在物鏡已經(jīng)接近介質(zhì)側(cè)之后物鏡在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上緩慢移動，同時，在聚焦誤差信號與零相交的點上開啟伺服環(huán)路信號E4。在本發(fā)明中，對于聚焦拉入控制單元34，進(jìn)一步提供基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36、存儲表38和基準(zhǔn)位置控制單元40。當(dāng)MO介質(zhì)插入到光學(xué)存儲系統(tǒng)中時，在借助聚焦拉入控制單元34把物鏡的焦點拉入到介質(zhì)徑向上的預(yù)定點，基本上為在內(nèi)圓周一側(cè)中的預(yù)定點，的狀態(tài)下，基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，具體地，測量用于DA轉(zhuǎn)換器32的指示電流值，并且在存儲表38中儲存所述值。接著，基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36計算旋轉(zhuǎn)一圈的平均電流值，并且在存儲表38中儲存計算的平均電流值，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)透鏡位置上的基準(zhǔn)電流值，其中，在基準(zhǔn)透鏡位置開始聚焦拉入控制。通過對介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中測量的電流進(jìn)行積分而計算平均電流值?；鶞?zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36在MO介質(zhì)徑向的兩個或多個位置上，基本上在內(nèi)圓周側(cè)和外圓周側(cè)中的兩點或在外圓周、中間圓周和內(nèi)圓周的三點上，測量基準(zhǔn)電流；獲得代表每個位置的基準(zhǔn)電流值的基準(zhǔn)電流，并儲存在存儲表38中?；鶞?zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36從已經(jīng)在介質(zhì)徑向的測點上獲得的介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流振幅，獲得測點上的介質(zhì)表面擺動量，并且在存儲表38中儲存該數(shù)量。另外，在完成基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之后的聚焦拉入控制中，由于在不移動物鏡的同時通過利用介質(zhì)表面擺動的運(yùn)動而執(zhí)行聚焦拉入控制，因此，檢測在介質(zhì)因表面擺動而遠(yuǎn)離物鏡18的旋轉(zhuǎn)一圈中的旋轉(zhuǎn)周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并儲存在存儲表38中。與存儲表38中的基準(zhǔn)電流值和表面擺動量相關(guān)地，例如準(zhǔn)備包括每個軌道號的基準(zhǔn)電流和表面擺動的值的控制表，或包括介質(zhì)每個分區(qū)的基準(zhǔn)電流和表面擺動的值的控制表，其中，利用連接兩個測點的直線的關(guān)系式，借助插值處理來計算除介質(zhì)徑向上測點之外的位置上的基準(zhǔn)電流和表面擺動的值。不用說，不利用控制表，也可在每次使用時，從連接兩個測點的直線的關(guān)系式，計算實際執(zhí)行聚焦拉入的位置上的基準(zhǔn)電流和表面擺動的值。當(dāng)基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行聚焦拉入時，基準(zhǔn)位置控制單元40使與介質(zhì)徑向上的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流流入透鏡致動器，由此使物鏡定位在基準(zhǔn)透鏡位置上，并接著使聚焦拉入控制單元34執(zhí)行聚焦拉入控制，其中，電流值儲存在存儲表38中。
圖5為在MO介質(zhì)中既不存在翹曲也不存在表面擺動的情況下在學(xué)習(xí)處理中獲得的介質(zhì)徑向上基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖。在圖5中，在此實例中，從外部裝入并卡緊在主軸電機(jī)140上的MO介質(zhì)10為既不存在翹曲也不存在表面擺動的理想狀態(tài)。在本發(fā)明的聚焦拉入控制中，首先，托架14定位在MO介質(zhì)10內(nèi)圓周的預(yù)定位置上，接著，執(zhí)行聚焦拉入控制，以便獲得聚焦拉入狀態(tài)，在此狀態(tài)中，物鏡18的光束的焦點Q1與MO介質(zhì)10的介質(zhì)記錄層相遇，并且開啟聚焦伺服環(huán)路。在此狀態(tài)中，測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并且，在存儲表38中儲存其平均電流值，作為基準(zhǔn)電流值。基準(zhǔn)電流I1是通過測量聚焦驅(qū)動電流而獲得的介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的平均電流，基準(zhǔn)電流I1作為用于把物鏡18定位在點P1上的驅(qū)動電流，其中，點P1作為聚焦拉入的焦點。接著，在開啟聚焦伺服環(huán)路的狀態(tài)下，托架14移動到外圓周側(cè)的位置，即托架14-1的位置。在外圓周側(cè)的位置上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并且，獲得其平均電流值。平均電流值儲存在存儲表38中，作為用于執(zhí)行驅(qū)動的基準(zhǔn)電流I2的值，以便把在基準(zhǔn)透鏡位置上的透鏡定位在外圓周側(cè)的預(yù)定位置上。這里，由于在MO介質(zhì)10中既不存在翹曲也不存在表面擺動，因此，對于托架14的內(nèi)圓周位置和托架14-1的外圓周位置的兩個位置，基準(zhǔn)電流I1和I2具有相同的值，其中，基準(zhǔn)電流I1和I2是作為旋轉(zhuǎn)一圈中聚焦驅(qū)動電流的平均電流而獲得的。從而，即使在外圓周側(cè)中的托架14-1位置上，根據(jù)所測量基準(zhǔn)電流I1的物鏡18-1的基準(zhǔn)透鏡位置P2與在內(nèi)圓周側(cè)中的托架14的物鏡18的基準(zhǔn)透鏡位置P1也相同。連接基準(zhǔn)透鏡位置P1和P2兩點的基準(zhǔn)位置直線25表示此情形中相對于MO介質(zhì)10的基準(zhǔn)透鏡位置。
圖6為在所裝入MO介質(zhì)翹曲的情況下的基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖。在圖6情況下，在裝入MO介質(zhì)10并卡緊在主軸電機(jī)140上的狀態(tài)下，介質(zhì)的外圓周側(cè)向下翹曲。以與圖5情形相同的方式，托架14定位在翹曲的MO介質(zhì)10的內(nèi)圓周側(cè)的預(yù)定位置上，并且執(zhí)行聚焦拉入控制，由此獲得基準(zhǔn)電流I1。相應(yīng)地，獲得物鏡18把其光束焦點Q1定位在MO介質(zhì)10記錄層上的聚焦?fàn)顟B(tài)，并且，在此情況下，物鏡18的位置用作基準(zhǔn)透鏡位置P1。隨后，在開啟聚焦伺服環(huán)路的狀態(tài)下，托架14定位外圓周側(cè)的預(yù)定位置上，即托架14-1的位置上。在此狀態(tài)下，測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并且，獲得其平均電流值。平均電流值儲存在存儲表38中，作為在外圓周側(cè)位置中的基準(zhǔn)電流I2的值。根據(jù)基準(zhǔn)電流I2的外圓周側(cè)上物鏡18-1的基準(zhǔn)透鏡位置P2相對于內(nèi)圓周側(cè)上的基準(zhǔn)透鏡位置P1處于降低位置，因為MO介質(zhì)10翹曲。當(dāng)如上所述地獲得在內(nèi)圓周和外圓周兩點上的基準(zhǔn)透鏡位置P1和P2的基準(zhǔn)電流I1和I2的值時，可獲得由基準(zhǔn)位置直線25-1指示的基準(zhǔn)透鏡位置，該直線是連接介質(zhì)徑向上兩點的直線。
圖7為在所裝入MO介質(zhì)中存在表面擺動的情況下在介質(zhì)徑向上的基準(zhǔn)透鏡位置的說明圖。在圖7中，從外部裝入并卡緊在主軸電機(jī)140上的MO介質(zhì)10例如因主軸電機(jī)140的旋轉(zhuǎn)軸傾斜而在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時擺動，其中，介質(zhì)的外圓周側(cè)相對于圖中水平線所示的MO介質(zhì)10原始位置向上、下位置10-1和10-2擺動。也就是說，當(dāng)從安裝在托架14上的物鏡18一側(cè)觀察時，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中，介質(zhì)因為表面擺動而靠近和遠(yuǎn)離。即使在上述存在MO介質(zhì)10表面擺動的情況下，托架140也首先移動到內(nèi)圓周側(cè)上的預(yù)定位置，執(zhí)行聚焦拉入控制，并開啟聚焦伺服環(huán)路。在此狀態(tài)下，測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并且獲得其平均電流值，并且，平均電流值儲存在存儲表38中，作為用于把在基準(zhǔn)透鏡位置P1上的透鏡設(shè)定在內(nèi)圓周預(yù)定位置上的基準(zhǔn)電流I1的值。隨后，在開啟聚焦伺服環(huán)路的狀態(tài)下，托架14移動外圓周側(cè)的預(yù)定點，即托架14-1的點。在外圓周側(cè)位置上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并獲得其平均電流值，其中，介質(zhì)表面在外圓周側(cè)上大幅擺動。平均電流值儲存在存儲表38中，作為基準(zhǔn)電流I2的值。在外圓周側(cè)上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流時，使聚焦驅(qū)動電流按以下流動隨著介質(zhì)的表面擺動，物鏡18-1保持恒定的焦距。從而，當(dāng)對介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流求平均時，平均電流變得與內(nèi)圓周側(cè)中托架14位置的平均電流相同。結(jié)果，在外圓周側(cè)測量獲得的基準(zhǔn)電流I2中，不出現(xiàn)因表面擺動引起的變化?？紤]到前面描述，在本發(fā)明中，對于表面擺動，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中測量的聚焦驅(qū)動電流的電流振幅與表面擺動量相對應(yīng)；從而，檢測介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流的振幅，并且該值儲存在存儲表38中，作為表面擺動值。當(dāng)使用與在MO介質(zhì)10中不存在表面擺動的情形中的基準(zhǔn)位置直線25相應(yīng)的基準(zhǔn)透鏡位置并且物鏡18移向外圓周側(cè)時，由于MO介質(zhì)10的表面擺動，物鏡18受到碰撞。從而，根據(jù)表面擺動量而糾正外圓周側(cè)上的基準(zhǔn)透鏡位置。例如，當(dāng)在糾正基準(zhǔn)透鏡位置時外圓周側(cè)中MO介質(zhì)10的表面擺動到達(dá)10-1和10-2時，向上側(cè)和下側(cè)的每個表面擺動量為ΔW，表面擺動量為2ΔW，并且，獲得的此數(shù)量是介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中聚焦驅(qū)動電流的振幅A。根據(jù)與不存在表面擺動的情形的基準(zhǔn)位置直線25相應(yīng)的基準(zhǔn)透鏡位置，獲得以已經(jīng)糾正的位置曲線表示的糾正基準(zhǔn)透鏡位置25-2，從而，物鏡18在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上偏移表面擺動量2ΔW的1/4。使與糾正基準(zhǔn)透鏡位置相應(yīng)的糾正基準(zhǔn)電流流入聚焦致動器，由此設(shè)定與表面擺動量相應(yīng)的透鏡基準(zhǔn)位置。
圖8A和8B為在三點即MO介質(zhì)的內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上測量的聚焦驅(qū)動電流(透鏡致動器驅(qū)動電流)、以及基準(zhǔn)透鏡位置和旋轉(zhuǎn)一圈基準(zhǔn)信號的時間圖。在圖8A中，示出分別在內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上測量的介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流58、60和62的電流波形；它們的平均電流Iin、Imid和Iout的各個值儲存在存儲表中，作為用于提供基準(zhǔn)透鏡位置的基準(zhǔn)電流值。連接基準(zhǔn)電流Iin、Imid和Iout相鄰兩點的直線66和68提供與除徑向測點之外的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流。分別在內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上測量的介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流58、60和62的電流振幅Ain、Amid和Aout提供各個位置上的表面擺動量。在圖8B中，示出在內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上與介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)一圈基準(zhǔn)信號56。
圖9A、9B和9C為在本發(fā)明的基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)處理中產(chǎn)生的圖4存儲表38的說明圖。在存儲表38中，提供圖9A的工作表70、圖9B的控制表72、以及圖9C的定時表74。在圖9A的工作表70中，例如與圖8情形相同，儲存通過在內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上的測量處理獲得的平均電流值、表面擺動值(電流振幅)、以及在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中測量的電流值。根據(jù)工作表70，創(chuàng)建圖9B的控制表72。在控制表72中，儲存與軌道號相應(yīng)的基準(zhǔn)電流和表面擺動(電流振幅)的值，其中，軌道號指示介質(zhì)在徑向上的位置，并且，利用在圖9A的工作表70中獲得的三個測點中兩個相鄰測點的平均電流和表面擺動的值，通過線性插值而計算基準(zhǔn)電流和表面擺動的值，并且在控制表72中登記計算值，其中，所述三個測點即為內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周上的點。在圖9C的定時表74中，登記在完成后述基準(zhǔn)值學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制中，在不移動物鏡18而執(zhí)行聚焦拉入的旋轉(zhuǎn)一圈中，介質(zhì)遠(yuǎn)離物鏡的周期中旋轉(zhuǎn)開始定時Tstart和旋轉(zhuǎn)停止定時Tstop。在圖9B的控制表72中，利用軌道號表示介質(zhì)徑向上的位置。然而，與圖10的控制表75相同，可與介質(zhì)分區(qū)編號相應(yīng)地計算基準(zhǔn)電流和表面擺動的值，并且在其中登記計算值。另外，介質(zhì)徑向上的位置可分為三個區(qū)域，即，在圖9A的工作表70中獲得的內(nèi)圓周、中間圓周和外圓周的區(qū)域，以便使用在各個位置上測量的平均電流和表面擺動的值。
下面，解釋在執(zhí)行圖4基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之前執(zhí)行的首次聚焦拉入控制以及在完成基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制。圖11A、11B和11C為在裝入介質(zhì)之后在內(nèi)圓周位置初次執(zhí)行聚焦拉入控制的時間圖。在內(nèi)圓周側(cè)執(zhí)行的初次聚焦拉入控制中，如圖11A的聚焦驅(qū)動電流所示，從時間t1啟動控制開始，聚焦驅(qū)動電流以恒定速度增加，相應(yīng)地，物鏡在朝著介質(zhì)的方向上例如移動大約300μm。隨后，在時間t2-t3內(nèi)，聚焦驅(qū)動電流保持為恒定值，由此設(shè)定用于使物鏡擺動穩(wěn)定的等待時間。當(dāng)?shù)却龝r間過去時，聚焦驅(qū)動電流從時間t3開始減少，由此在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上緩慢地移動物鏡。從時間t3開始的運(yùn)動量大約為600μm。在圖11B中，示出根據(jù)物鏡因圖11A聚焦驅(qū)動電流而向前運(yùn)動、停止和向后運(yùn)動所獲得的聚焦誤差信號E1。當(dāng)物鏡從時間t3開始在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上緩慢地移動時，聚焦誤差信號E1下降到低于脫焦閾值OFTH，接著再次增加，并且在時間t4的點P與零相交。從而，在聚焦拉入控制中，檢測零交叉點P，并且開啟伺服環(huán)路信號E4，如圖11C所示，由此執(zhí)行伺服拉入，其中，零交叉點P在信號E1下降到低于脫焦閾值OFTH之后。如圖11A、11B和11C所示地在介質(zhì)內(nèi)圓周側(cè)中執(zhí)行的初次聚焦拉入控制基本上與常規(guī)聚焦拉入控制相同。
下面，解釋在完成基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制，即在創(chuàng)建具有圖9A、9B和9C所示內(nèi)容的存儲表之后執(zhí)行的聚焦拉入控制。在完成基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制通過以下程序執(zhí)行。
(1)從存儲表38讀出與介質(zhì)徑向位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流值，并驅(qū)動透鏡致動器16，由此把物鏡18設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置。
(2)透鏡致動器16在朝著介質(zhì)的方向上移動預(yù)定距離。
(3)在透鏡致動器16沿遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上移動預(yù)定距離之后，在聚焦誤差信號與零相交時開啟聚焦伺服環(huán)路。
這里，在上述(2)中物鏡18沿朝著介質(zhì)的方向上的運(yùn)動量設(shè)定為從存儲表38獲得的與聚焦拉入位置相應(yīng)的表面擺動量的兩倍。當(dāng)以上述方式根據(jù)表面擺動量而設(shè)定物鏡18在朝著介質(zhì)的方向上的運(yùn)動量時，可布置用于聚焦拉入的與表面擺動量相應(yīng)的物鏡運(yùn)動量。進(jìn)而，本發(fā)明通過利用介質(zhì)的表面擺動，而采用用于執(zhí)行伺服拉入的透鏡非驅(qū)動模式，其中，在根據(jù)從存儲表38讀出的基準(zhǔn)電流值而把透鏡致動器16設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置的狀態(tài)下，通過利用記錄層因介質(zhì)表面擺動引起的位置變化而在聚焦誤差信號的零交叉點開啟聚焦伺服環(huán)路。在透鏡非驅(qū)動模式中，檢測旋轉(zhuǎn)一圈中的旋轉(zhuǎn)周期并登記在圖9C的定時表74中，由此利用它，其中，在所述旋轉(zhuǎn)中，介質(zhì)因表面擺動而遠(yuǎn)離處于固定狀態(tài)的物鏡。
圖12A、12B、12C和12D為表示在固定物鏡的狀態(tài)下與介質(zhì)的表面擺動相應(yīng)的記錄層位置的時間圖、以及此情況下的聚焦誤差信號的變化。在圖12A中，示出根據(jù)MO介質(zhì)的表面擺動的兩個位置，即，介質(zhì)最遠(yuǎn)離物鏡18的位置10-1和介質(zhì)最靠近物鏡18的位置10-2，其中，物鏡18固定布置。在圖12B中，示出介質(zhì)記錄層位置根據(jù)表面擺動的位置變化，表面擺動使介質(zhì)靠近或遠(yuǎn)離處于固定狀態(tài)的物鏡18，其中，在旋轉(zhuǎn)一圈中的變化與正弦波相似，并且最遠(yuǎn)位置P1和最靠近位置P2作為峰值。在圖12C中，示出此情形的聚焦誤差信號E1，在此情形中，變化與記錄層位置變化同相。在這些圖中，在從圖12B的記錄層位置的最靠近點P2到到最遠(yuǎn)離點P3的周期內(nèi)，介質(zhì)遠(yuǎn)離物鏡18，并且在此周期中，聚焦誤差信號E1在點P與零相交。從而，在從記錄層位置的P2到P3的周期內(nèi)監(jiān)視聚焦誤差信號E1，其中，在此周期內(nèi)，介質(zhì)遠(yuǎn)離透鏡，并且，當(dāng)檢測零交叉時開啟伺服環(huán)路，從而，不移動物鏡18，利用介質(zhì)因表面擺動的運(yùn)動而執(zhí)行聚焦拉入控制。在圖12D中，示出旋轉(zhuǎn)一圈的基準(zhǔn)信號，其中，通過從旋轉(zhuǎn)一圈周期T0的起點開始的時鐘計數(shù)而獲得介質(zhì)開始遠(yuǎn)離透鏡的起點P2的旋轉(zhuǎn)開始定時Tstart，并且，獲得直到點P3的時鐘計數(shù)，作為旋轉(zhuǎn)停止定時Tstop，其中，介質(zhì)在點P3停止遠(yuǎn)離透鏡。通過從旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)位置開始的時鐘計數(shù)而獲得的值Tstart和Tstop登記在如圖9C所示的定時表74中，并且在不移動物鏡而執(zhí)行聚焦拉入控制的情況下利用所述值。
圖13為本發(fā)明的光學(xué)存儲系統(tǒng)的基本程序的流程圖。在圖13中，在步驟S1中檢查MO介質(zhì)的裝入；并且，當(dāng)裝入MO介質(zhì)時，處理前進(jìn)到步驟S2，在步驟S2中，借助基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36的功能來執(zhí)行聚焦拉入學(xué)習(xí)處理，其中，基準(zhǔn)電流學(xué)習(xí)處理單元36設(shè)置在圖4的DSP 115中，并且，創(chuàng)建存儲表38，在存儲表38中登記與介質(zhì)徑向位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流和表面擺動的值、以及在介質(zhì)遠(yuǎn)離物鏡的旋轉(zhuǎn)一圈中的裝入周期的定時。隨后，在步驟S3中執(zhí)行初始化處理。在初始化處理中，根據(jù)所裝入介質(zhì)的類型而執(zhí)行包括調(diào)節(jié)從發(fā)光二極管發(fā)射的光的各種初始化處理。隨后，在步驟S4中，根據(jù)更上一級發(fā)出的命令而執(zhí)行讀或?qū)懱幚?。?dāng)在讀或?qū)懱幚碇性诓襟ES5發(fā)現(xiàn)例如因作用在光學(xué)存儲系統(tǒng)上的沖擊而引起的聚焦誤差時，在步驟S8中執(zhí)行聚焦拉入控制。此聚焦拉入控制是由基準(zhǔn)位置控制單元40利用圖4存儲表38中的登記信息而執(zhí)行的聚焦拉入控制，其中，所述信息在步驟S2的聚焦拉入學(xué)習(xí)處理中獲得。當(dāng)在步驟S4的讀或?qū)懱幚碇袥]有聚焦誤差時，處理前進(jìn)到步驟S6，在步驟S6中檢查是否要彈出介質(zhì)。當(dāng)不彈出介質(zhì)時，就重復(fù)步驟S4的處理，直到在步驟S7中指示停止為止。當(dāng)在步驟S6中指示彈出介質(zhì)時，處理返回到步驟S1，以便等待裝入下一介質(zhì)。
圖14為圖13的步驟S2中聚焦拉入學(xué)習(xí)處理的流程圖。在此實例中，在兩點上，即在介質(zhì)內(nèi)圓周的預(yù)定位置和介質(zhì)外圓周的預(yù)定位置上，測量聚焦致動器驅(qū)動電流，并且，獲得在基準(zhǔn)電流和表面擺動不變的情況下與介質(zhì)所有運(yùn)動方向相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)定時。在圖14的步驟S1中，例如，以圖5所示的方式，通過運(yùn)動托架14而把透鏡致動器16設(shè)定在MO介質(zhì)10的內(nèi)圓周的預(yù)定位置上。所述內(nèi)圓周位置是即使MO介質(zhì)10因卡緊在主軸電機(jī)上而翹曲，透鏡與介質(zhì)之間間隙也最寬的位置，并且是實現(xiàn)聚焦拉入控制的可能性最大的位置。接著，在步驟S2中，如圖11A中聚焦驅(qū)動電流的時間t1-t2所示，執(zhí)行向前運(yùn)動控制，借助透鏡致動器16使物鏡向MO介質(zhì)10接近預(yù)定長度，如大約300μm。接著，在用于使物鏡的擺動穩(wěn)定的等待時間如圖11A中時間t2-t3所示時間過去之后，在步驟S3中執(zhí)行向后運(yùn)動控制，借助透鏡致動器16使物鏡慢慢地遠(yuǎn)離MO介質(zhì)10。在向后運(yùn)動控制中，在步驟S4中監(jiān)視聚焦誤差信號是否與零相交。當(dāng)檢測聚焦誤差信號的零交叉時，處理前進(jìn)到步驟S5，并且開啟聚焦伺服環(huán)路。隨后，在步驟S6中，在實現(xiàn)聚焦拉入并開啟聚焦伺服環(huán)路的狀態(tài)下，測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流Is，并且把該值儲存在存儲表38中，具體地儲存在圖9A的工作表70中，作為介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中測量的電流值。然后，在步驟S7中，從介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流的測量值獲得平均驅(qū)動電流Ii和表面擺動Ain的值，并儲存在存儲器38中，其中，提供表面擺動Ain作為電流振幅。接著，在步驟S8中，在開啟聚焦伺服環(huán)路的狀態(tài)下，例如，與托架14-1一樣，托架14以與圖5所示方式移動到外圓周側(cè)的預(yù)定位置上。在步驟S9中，測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并儲存在存儲器中。接著，獲得并儲存外圓周位置的平均驅(qū)動電流Iout和表面擺動Aout的值。最后，在步驟S10中，基于從測量結(jié)果獲得的數(shù)據(jù)而執(zhí)行存儲表38的創(chuàng)建處理，其中，所述測量結(jié)果是在兩點即內(nèi)圓周和外圓周的點上獲得的。
圖15為圖14的步驟S10中存儲表創(chuàng)建處理的流程圖。在存儲表創(chuàng)建處理中，由于例如已經(jīng)通過圖14的學(xué)習(xí)處理獲得在內(nèi)圓周和外圓周兩點上的基準(zhǔn)電流值，即，基準(zhǔn)電流Iin以及與外圓周位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流Iout；通過連接兩點的直線的線性插值而創(chuàng)建圖9B的控制表72或圖10的控制表75，其中，在所述控制表中登記每個軌道或每個分區(qū)的基準(zhǔn)電流值。隨后，在步驟S2中，使用兩點，即在內(nèi)圓周和外圓周兩點上獲得的表面擺動(電流振幅)Ain和Aout的值，進(jìn)行線性插值，從而計算每個軌道或每個分區(qū)的表面擺動的值，并且，在圖9B的控制表72或圖10的控制表75中登記計算值。然后，在步驟S3中，順序地讀出登記在表中的表面擺動值，并且檢查表面擺動值是否大于或等于預(yù)定限值。如果表面擺動值大于或等于限值，由于在借助此情形的基準(zhǔn)電流獲得的基準(zhǔn)電流位置上的表面擺動的結(jié)果，介質(zhì)就與透鏡碰撞。從而，在此情況下，處理前進(jìn)到步驟S4，并且調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流值。在調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流值時，從基準(zhǔn)電流值減去超過限值的表面擺動量的1/4的值，由此執(zhí)行調(diào)節(jié)。步驟S4中與表面擺動相應(yīng)的基準(zhǔn)電流值調(diào)節(jié)提供糾正的基準(zhǔn)電流值，用于提供糾正的基準(zhǔn)電流位置25-2，其中，如圖7所示，根據(jù)表面擺動量，在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上調(diào)節(jié)與在步驟S1中獲得的基準(zhǔn)電流值25一致的位置。進(jìn)而，在步驟S5中，檢測介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的旋轉(zhuǎn)周期定時，并且登記為旋轉(zhuǎn)開始定時Tstart和旋轉(zhuǎn)停止定時Tstop，如圖9C的定時表74所示，其中，在此周期內(nèi)介質(zhì)遠(yuǎn)離透鏡致動器。例如，可從已經(jīng)測量的介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流值，例如，根據(jù)圖9A的工作表70中的內(nèi)圓周，獲得旋轉(zhuǎn)開始定時和旋轉(zhuǎn)停止定時。在此實例中，介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的測量電流值簡單地表示為“01234566543210”。在該值中，電流值增加的部分“0123456”對應(yīng)于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的旋轉(zhuǎn)周期，其中，介質(zhì)在透鏡固定的同時遠(yuǎn)離透鏡。例如，通過從上升開始計數(shù)的時鐘計數(shù)器獲得旋轉(zhuǎn)開始定時Tstart和旋轉(zhuǎn)停止定時Tstop，并登記在定時表74中。
圖16為在完成聚焦拉入學(xué)習(xí)處理之后在圖13的步驟S8中執(zhí)行的聚焦拉入控制的流程圖。在完成學(xué)習(xí)處理之后的聚焦拉入控制中，在步驟S1中識別用于聚焦拉入控制的設(shè)定模式。當(dāng)該模式為透鏡驅(qū)動模式時，處理前進(jìn)到步驟S3，并執(zhí)行根據(jù)透鏡驅(qū)動模式的聚焦拉入控制；當(dāng)該模式為透鏡非驅(qū)動模式時，處理前進(jìn)到步驟S4，并執(zhí)行根據(jù)透鏡非驅(qū)動模式的聚焦拉入控制。聚焦拉入控制的模式設(shè)定，即透鏡驅(qū)動模式或透鏡非驅(qū)動模式可根據(jù)表面擺動值(電流振幅)是否超過基準(zhǔn)值而切換。當(dāng)該值等于或小于基準(zhǔn)值時，模式為透鏡驅(qū)動模式。
圖17為在圖16的步驟S3中根據(jù)透鏡驅(qū)動模式的聚焦拉入控制的流程圖。在透鏡驅(qū)動模式控制中，在步驟S1中，例如，根據(jù)軌道號從圖9B的控制表72獲得基準(zhǔn)電流和表面擺動的值；在步驟S2中，獲得為此時表面擺動量兩倍的運(yùn)動量，作為用于使透鏡致動器16靠近介質(zhì)的運(yùn)動量。隨后，在步驟S3中，當(dāng)確認(rèn)計算的運(yùn)動量大于或等于限值時，在步驟S4中，運(yùn)動量設(shè)定為限值，由此防止介質(zhì)因表面擺動而與物鏡18接觸。隨后，在步驟S5中，使基準(zhǔn)電流流入透鏡致動器16中，作為聚焦驅(qū)動電流，由此把它設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置。然后，在步驟S6中，驅(qū)動透鏡致動器16朝著介質(zhì)移動，移動量僅為在步驟S2中計算的運(yùn)動量。接著，在步驟S7中沿遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向驅(qū)動透鏡致動器16，同時，在步驟S8中監(jiān)視聚焦誤差信號的零交叉。當(dāng)在步驟S8中檢測到聚焦誤差信號的零交叉時，在步驟S9中開啟聚焦伺服環(huán)路，由此執(zhí)行伺服拉入。在此透鏡驅(qū)動模式控制中，物鏡18朝著介質(zhì)側(cè)移動，同時利用在學(xué)習(xí)處理中測量的基準(zhǔn)透鏡位置作為起點，接著，物鏡沿遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向緩慢移動，并且在檢測到聚焦誤差信號的零交叉時開啟聚焦伺服環(huán)路；從而，在學(xué)習(xí)的基準(zhǔn)位置上，物鏡光束的焦點大致在與介質(zhì)記錄層相遇的位置上。當(dāng)從此位置執(zhí)行聚焦拉入時，即使在介質(zhì)中存在表面擺動或翹曲，也可迅速而可靠地實現(xiàn)聚焦拉入，且不會造成介質(zhì)與透鏡致動器16碰撞。
圖18為在圖16的步驟S4中根據(jù)透鏡非驅(qū)動模式的聚焦拉入控制的流程圖。在透鏡非驅(qū)動模式的聚焦拉入控制中，在步驟S1中，例如，根據(jù)在介質(zhì)徑向上執(zhí)行聚焦拉入的位置的軌道號，從圖9B的控制表72獲得基準(zhǔn)電流，并且，從圖9C的定時表74獲得代表拉入旋轉(zhuǎn)周期的旋轉(zhuǎn)開始定時和旋轉(zhuǎn)停止定時的值。接著，在步驟S2中，通過聚焦電流驅(qū)動透鏡致動器16，由此把物鏡18設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置，并且，透鏡固定在基準(zhǔn)透鏡位置。隨后，在步驟S3中檢查是否為介質(zhì)遠(yuǎn)離的聚焦拉入旋轉(zhuǎn)周期，當(dāng)是聚焦拉入旋轉(zhuǎn)周期時，處理前進(jìn)到步驟S4，并監(jiān)視聚焦誤差檢測信號是否與零相交。在物鏡18固定在基準(zhǔn)透鏡位置的狀態(tài)下，聚焦誤差信號E1例如從圖12C的旋轉(zhuǎn)開始定時Tstart變化為旋轉(zhuǎn)停止定時Tstop，并且，當(dāng)檢測到該信號與零相交的點P時，處理前進(jìn)到步驟S5，并開啟聚焦伺服環(huán)路，由此執(zhí)行聚焦伺服拉入。在透鏡非驅(qū)動模式的聚焦拉入控制中，物鏡僅設(shè)定和保持為固定在基準(zhǔn)透鏡位置的狀態(tài)，其中，基準(zhǔn)透鏡位置通過學(xué)習(xí)處理而獲得，同時，隨著介質(zhì)記錄層相對物鏡的位置因表面擺動而發(fā)生變化，當(dāng)聚焦誤差檢測信號與零相交時，通過開啟聚焦伺服環(huán)路而執(zhí)行拉入，并且，不移動透鏡致動器16來執(zhí)行聚焦拉入。從而，即使存在介質(zhì)的表面擺動，也可完全避免介質(zhì)與物鏡的碰撞。
在圖19中，示出在圖16的步驟S4中根據(jù)透鏡非驅(qū)動模式的聚焦拉入控制的另一實施例，此實施例的特征在于除了圖18的透鏡非驅(qū)動模式控制之外，在介質(zhì)遠(yuǎn)離物鏡的聚焦拉入旋轉(zhuǎn)周期的時間內(nèi)，沿遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向進(jìn)一步主動地驅(qū)動透鏡致動器。也就是說，圖19中步驟S1-S3的處理與圖18中步驟S1-S3的處理相同。而且，圖19中步驟S5-S6的處理與圖18中步驟S4-S5的處理相同。除了上述處理以外，在圖19的步驟S3和S5之間新增加沿遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向驅(qū)動透鏡致動器16的處理，作為步驟S4。當(dāng)在物鏡18設(shè)定和固定在基準(zhǔn)透鏡位置之后，在介質(zhì)遠(yuǎn)離物鏡的聚焦拉入旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)物鏡18不保持為固定狀態(tài)并且主動地朝著遠(yuǎn)離介質(zhì)一側(cè)運(yùn)動時，聚焦誤差信號在更短的時間內(nèi)與零相交，由此進(jìn)一步縮短執(zhí)行聚焦拉入所需的時間。
同時，上述實施例是在學(xué)習(xí)處理之后當(dāng)在與上一級所發(fā)出命令相應(yīng)的讀處理或?qū)懱幚碇邪l(fā)生聚焦誤差時執(zhí)行聚焦拉入控制的情況的實例，然而，除此之外，可在需要聚焦拉入控制的任意時刻執(zhí)行基于學(xué)習(xí)結(jié)果的聚焦拉入控制。
本發(fā)明包括任何不損害本發(fā)明目的和優(yōu)點的修改，并且，本發(fā)明不局限于在上述實施例中示出的數(shù)字值。
根據(jù)以上描述的本發(fā)明，當(dāng)插入介質(zhì)時，通過在介質(zhì)外圓周附近執(zhí)行聚焦拉入控制而測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的聚焦驅(qū)動電流，并獲得其平均電流值；執(zhí)行用于獲得平均電流的學(xué)習(xí)處理，其中，平均電流作為把透鏡驅(qū)動到開始執(zhí)行聚焦拉入的基準(zhǔn)透鏡位置的基準(zhǔn)電流；對于隨后的聚焦拉入控制，通過用借助學(xué)習(xí)處理獲得的基準(zhǔn)電流驅(qū)動透鏡致動器，把物鏡設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置上，由此執(zhí)行聚焦拉入控制；并且，在基準(zhǔn)透鏡位置上，物鏡光束的焦點的位置接近與介質(zhì)記錄層相應(yīng)的焦點位置。從而，可實現(xiàn)總是從最佳開始位置發(fā)起的穩(wěn)定聚焦拉入控制，其中，所述開始位置對于聚焦拉入控制是最佳的。
另外，在介質(zhì)徑向的至少兩個點上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，并且對它們每一個的值求平均，由此執(zhí)行學(xué)習(xí)處理，用于儲存表示基準(zhǔn)透鏡位置的基準(zhǔn)電流值；并且，在完成學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入控制中，選擇與介質(zhì)徑向位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，并且對透鏡致動器進(jìn)行定位；從而，通過在把透鏡位置設(shè)定得使介質(zhì)記錄層與物鏡之間的距離始終隨著翹曲而保持不變之后執(zhí)行聚焦拉入控制，即使存在因介質(zhì)卡緊引起的翹曲而導(dǎo)致的變化，也能可靠地監(jiān)視介質(zhì)與物鏡的碰撞。
另外，從介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的驅(qū)動電流的振幅檢測表面擺動的值，并且糾正基準(zhǔn)電流值，從而，根據(jù)表面擺動的值調(diào)節(jié)與基準(zhǔn)電流相應(yīng)的基準(zhǔn)透鏡位置；因此，物鏡設(shè)定在基準(zhǔn)透鏡位置上，并且，通過根據(jù)表面擺動而調(diào)節(jié)基準(zhǔn)值，即使在介質(zhì)中存在表面擺動，也能可靠地執(zhí)行聚焦拉入控制，而不會使介質(zhì)與物鏡發(fā)生碰撞。
另外，在完成學(xué)習(xí)處理之后用于驅(qū)動物鏡的聚焦拉入控制中，聚焦拉入控制執(zhí)行得使物鏡運(yùn)動與表面擺動量相對應(yīng)，其中，學(xué)習(xí)處理用于獲得基準(zhǔn)透鏡位置和表面擺動的值；從而，能可靠地避免拉入失敗，例如，在拉入失敗中，因表面擺動而不產(chǎn)生聚焦誤差信號的零交叉點。
另外，當(dāng)通過開啟聚焦伺服環(huán)路而執(zhí)行拉入控制時，在根據(jù)基準(zhǔn)電流設(shè)定物鏡并固定在基準(zhǔn)透鏡位置上的狀態(tài)中，可實現(xiàn)聚焦拉入控制，同時透鏡致動器不移動物鏡，其中，在利用因介質(zhì)表面擺動引起的位置變化而檢測到聚焦誤差信號的零交叉時，開啟聚焦伺服環(huán)路；從而，由于不移動透鏡致動器，因此，即使介質(zhì)中存在表面擺動，也能可靠地避免介質(zhì)與物鏡的碰撞。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)存儲系統(tǒng)，所述光學(xué)存儲系統(tǒng)具有在與介質(zhì)軌道交叉的方向上移動物鏡的托架致動器，其中，物鏡用于以光束照射介質(zhì)，在朝著介質(zhì)的方向上移動物鏡的透鏡致動器，聚焦誤差信號產(chǎn)生電路，所述聚焦誤差信號產(chǎn)生電路根據(jù)接收的從介質(zhì)返回光的輸出，而產(chǎn)生表示光束焦點與介質(zhì)記錄層之間偏差的聚焦誤差信號，以及聚焦拉入控制單元，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，在物鏡沿朝著介質(zhì)的方向移動預(yù)定距離之后，所述聚焦拉入控制單元在聚焦誤差信號與零相交的點閉合聚焦伺服環(huán)路，同時緩慢地在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上移動物鏡，光學(xué)存儲系統(tǒng)包括基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元，在插入介質(zhì)時，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)徑向中的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下，所述基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，計算電流的平均電流值，并把計算的平均電流值儲存在存儲器中，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)位置上的基準(zhǔn)電流值，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入控制；以及基準(zhǔn)位置控制單元，當(dāng)在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行聚焦拉入時，所述基準(zhǔn)位置控制單元在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元在介質(zhì)徑向中的至少兩個點上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，并儲存基準(zhǔn)電流值；以及基準(zhǔn)位置控制單元選擇與物鏡在介質(zhì)徑向上的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，并定位物鏡。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)內(nèi)圓周的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流之后，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元在保持聚焦伺服環(huán)路閉合的同時把物鏡移動到外圓周側(cè)的預(yù)定點，并測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基準(zhǔn)位置控制單元從以下直線的關(guān)系式獲得與介質(zhì)徑向中除測點之外的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，其中，所述直線與從在介質(zhì)徑向上兩點測量的電流值獲得的基準(zhǔn)電流值有關(guān)。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得作為表面擺動量的電流位移值(振幅)，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后，基準(zhǔn)位置控制單元設(shè)定運(yùn)動量為表面擺量的兩倍，作為物鏡在朝著介質(zhì)的方向上的運(yùn)動距離，并且使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得作為表面擺動量的電流位移值，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，基準(zhǔn)位置控制單元調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)并在此定位物鏡，接著，使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，基準(zhǔn)位置控制單元調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)，距離為表面擺動量的1/4，并且在此定位物鏡。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及基準(zhǔn)位置控制單元根據(jù)基準(zhǔn)電流而定位物鏡，接著，聚焦拉入控制單元不移動物鏡，且在拉入旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)聚焦誤差信號與零相交時執(zhí)行聚焦拉入。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)存儲系統(tǒng)，其中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的旋轉(zhuǎn)周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及在物鏡根據(jù)基準(zhǔn)電流定位之后在拉入旋轉(zhuǎn)周期的開始定時的時候，基準(zhǔn)位置控制單元通過開始使物鏡在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上運(yùn)動而使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
10.一種光學(xué)存儲系統(tǒng)的聚焦拉入控制方法，所述光學(xué)存儲系統(tǒng)具有在與介質(zhì)軌道交叉的方向上移動物鏡的托架致動器，其中，物鏡用于以光束照射介質(zhì)，在朝著介質(zhì)的方向上移動物鏡的透鏡致動器，聚焦誤差信號產(chǎn)生電路，所述聚焦誤差信號產(chǎn)生電路根據(jù)接收的從介質(zhì)返回光的輸出，而產(chǎn)生表示光束焦點與介質(zhì)記錄層之間偏差的聚焦誤差信號，以及聚焦拉入控制單元，在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，在物鏡沿朝著介質(zhì)的方向移動預(yù)定距離之后，所述聚焦拉入控制單元在聚焦誤差信號與零相交的點閉合聚焦伺服環(huán)路，同時緩慢地在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上移動物鏡，聚焦拉入控制方法包括基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟，在插入介質(zhì)時，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)徑向中的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下，所述基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，計算電流的平均電流值，并把計算的平均電流值儲存在存儲器中，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)位置上的基準(zhǔn)電流值，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入控制；以及基準(zhǔn)位置控制步驟，當(dāng)在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行聚焦拉入時，所述基準(zhǔn)位置控制步驟在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
11.如權(quán)利要求10所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，在介質(zhì)徑向中的至少兩個點上測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，并儲存基準(zhǔn)電流值；以及在基準(zhǔn)位置控制步驟中，選擇與物鏡在介質(zhì)徑向上的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，并定位物鏡。
12.如權(quán)利要求11所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)內(nèi)圓周的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流之后，在保持聚焦伺服環(huán)路閉合的同時把物鏡移動到外圓周側(cè)的預(yù)定點，并測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流。
13.如權(quán)利要求12所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置控制步驟中，從以下直線的關(guān)系式獲得與介質(zhì)徑向中除測點之外的位置相應(yīng)的基準(zhǔn)電流，其中，所述直線與從在介質(zhì)徑向上兩點測量的電流值獲得的基準(zhǔn)電流值有關(guān)。
14.如權(quán)利要求10所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流而獲得作為表面擺動量的電流位移值(振幅)，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及在基準(zhǔn)位置控制步驟中，在根據(jù)基準(zhǔn)電流定位物鏡之后，設(shè)定運(yùn)動量為表面擺量的兩倍，作為物鏡在朝著介質(zhì)的方向上的運(yùn)動距離，并且使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
15.如權(quán)利要求10所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流而獲得作為表面擺動量的電流位移值，并在存儲器中儲存所獲得的值，所述電流位移值與介質(zhì)在朝著物鏡的方向上的運(yùn)動量和介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上的運(yùn)動量相對應(yīng)，其中，每個運(yùn)動量是在介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈中的運(yùn)動量；以及在基準(zhǔn)位置控制步驟中，當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)，接著，使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
16.如權(quán)利要求15所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置控制步驟中，當(dāng)在介質(zhì)徑向中將要執(zhí)行聚焦拉入的點上表面擺動量的值超過預(yù)定限值時，調(diào)節(jié)基準(zhǔn)電流，以使物鏡定位得遠(yuǎn)離介質(zhì)，距離為表面擺動量的1/4，并且定位物鏡。
17.如權(quán)利要求10所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流而獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及在基準(zhǔn)位置控制步驟中，根據(jù)基準(zhǔn)電流而定位物鏡，接著，聚焦拉入控制單元不移動物鏡，且在拉入旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)聚焦誤差信號與零相交時執(zhí)行聚焦拉入。
18.如權(quán)利要求10所述的聚焦拉入控制方法，其中，在基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)步驟中，基于介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的測量電流而獲得介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的旋轉(zhuǎn)周期，作為拉入旋轉(zhuǎn)周期，并在存儲器中儲存此周期，在此周期內(nèi)，所述介質(zhì)在遠(yuǎn)離物鏡的方向上移動；以及在基準(zhǔn)位置控制步驟中，在物鏡根據(jù)基準(zhǔn)電流定位之后在拉入旋轉(zhuǎn)周期的開始定時的時候，通過開始使物鏡在遠(yuǎn)離介質(zhì)的方向上運(yùn)動而使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
全文摘要
本發(fā)明涉及光學(xué)存儲系統(tǒng)和控制方法，其中在插入介質(zhì)時，在由聚焦拉入控制單元在介質(zhì)徑向中的預(yù)定點上拉入物鏡焦點的狀態(tài)下，基準(zhǔn)位置學(xué)習(xí)單元測量介質(zhì)旋轉(zhuǎn)一圈的電流，計算電流的平均電流值，并把計算的平均電流值儲存在存儲器中，作為用于把物鏡定位在基準(zhǔn)位置上的基準(zhǔn)電流值，其中，從基準(zhǔn)位置開始聚焦拉入控制。在學(xué)習(xí)處理之后執(zhí)行的聚焦拉入中，基準(zhǔn)位置控制單元根據(jù)基準(zhǔn)電流把物鏡定位在通過學(xué)習(xí)處理獲得的基準(zhǔn)位置上，接著使聚焦拉入控制單元執(zhí)行聚焦拉入。
文檔編號G11B5/09GK1679092SQ0382006
公開日2005年10月5日 申請日期2003年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月20日
發(fā)明者山下知紀(jì) 申請人:富士通株式會社