專利名稱：：帶有空氣動力學(xué)成形的加載梁的懸架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明總地涉及懸架臂，更具體地說是涉及、但并非局限于用于在盤驅(qū)動器中的存儲盤的上方支承讀寫頭浮動塊的懸架臂。
背景技術(shù)：
：計算機一般需要數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)可以存儲和取回的介質(zhì)?，F(xiàn)已證明在磁盤上的可磁化(硬質(zhì))層是一種存儲和取回數(shù)據(jù)的可靠介質(zhì)。但也經(jīng)常使用諸如光盤驅(qū)動器之類的其它類型的盤驅(qū)動器。從硬盤讀取數(shù)據(jù)和向其寫入數(shù)據(jù)的磁盤驅(qū)動器已成為計算機系統(tǒng)的一普遍使用的部件。磁盤驅(qū)動器通常包括一磁道接近臂。該磁道接近臂通常包括一讀/寫頭組件、一加載梁、用來運動磁道接近臂的一致動部件以及由讀/寫頭組件支撐的一讀/寫頭和浮動塊。讀/寫頭浮動塊或浮動塊通常具有一空氣支承表面，該空氣支承表面包括若干軌道或諸軌道間的凹腔，以幫助浮動塊飛行。為了接近硬盤上的一記憶部位或數(shù)據(jù)塊，讀/寫頭被定位在磁盤表面上方，同時磁盤以基本恒定的速度轉(zhuǎn)動。通過在轉(zhuǎn)動的盤上方徑向地運動讀/寫頭，就可以到達盤上所有的記憶部位。因為讀/寫頭連接在空氣動力學(xué)構(gòu)造成在盤表面的上方在空氣墊上飛懸的浮動塊上，所以這通常被稱作“飛行”。在傳統(tǒng)的磁盤驅(qū)動器中，多個磁盤連接到一主軸并繞其轉(zhuǎn)動。每個磁盤有兩個可以存儲數(shù)據(jù)的基本平直的表面。通常，這些磁盤以彼此平行的關(guān)系堆疊起來。浮動塊和磁頭設(shè)計成在相鄰磁盤間的空隙內(nèi)運動，且同時在靠近磁盤表面處飛行。浮動塊連接至一薄的臂狀結(jié)構(gòu)(稱為懸架萬向節(jié)組件(SGA))的末端，該懸架萬向節(jié)組件插入在兩相鄰磁盤之間的空隙中。該懸架萬向節(jié)組件的制成材料和厚度使其稍有柔性，并允許在磁頭飛懸在轉(zhuǎn)動磁盤表面上方的時候測量豎向定位。通常，懸架萬向節(jié)組件由一致動器臂安裝和支撐。致動器臂可由一可轉(zhuǎn)動的致動器組件選擇地定位在一所選的磁盤的數(shù)據(jù)磁道或數(shù)據(jù)塊上方，以從所選的數(shù)據(jù)塊讀取數(shù)據(jù)或?qū)懭霐?shù)據(jù)。傳統(tǒng)上，該致動器組件可以設(shè)計為許多形式，現(xiàn)在一代的大多數(shù)磁盤驅(qū)動器采用一種稱作可轉(zhuǎn)動音圈致動器類型的致動器。通常，該可轉(zhuǎn)動音圈致動器包括附接在磁盤驅(qū)動器的驅(qū)動器殼體上的一樞軸。一軸安裝和設(shè)置成它的中心軸線垂直于磁盤的轉(zhuǎn)動平面。一致動器殼體可樞轉(zhuǎn)地安裝在樞轉(zhuǎn)軸上，并支承一線圈，該線圈被支承在由一組永久磁體所產(chǎn)生的磁場中。當(dāng)對該線圈施加受控的直流電時，就形成一電磁場，該電磁場與在線圈附近的永久磁體的磁場相互作用。這致使致動器殼體根據(jù)人們所熟知的洛倫茲關(guān)系而轉(zhuǎn)動。當(dāng)致動器殼體轉(zhuǎn)動時，讀/寫頭就徑向運動，橫穿磁盤上的數(shù)據(jù)軌道。對磁頭在磁盤表面上磁道間運動的控制通常是通過使用閉環(huán)伺服系統(tǒng)來完成的。當(dāng)對磁盤驅(qū)動器發(fā)送一接近指令時，就在磁頭目前相對磁盤的位置與磁盤上要進行數(shù)據(jù)傳輸?shù)奈恢弥g進行比較。如果磁頭目前已經(jīng)定位在所要的磁道上方，那么磁盤驅(qū)動器就簡單地等待正確的周向位置轉(zhuǎn)動到磁頭的下方，然后開始所要求的數(shù)據(jù)傳輸。但如果該傳輸是要發(fā)生在不是致動器現(xiàn)在位置之外的一位置，那么伺服控制系統(tǒng)就確定致動器必須運動的距離和方向，以將磁頭帶到目標(biāo)磁道上方。基于這樣的判斷，伺服控制系統(tǒng)就向致動器音圈電動機的線圈施加受控的直流電，這致使致動器從目前的磁道位置運動到所要的目標(biāo)磁道。當(dāng)磁盤組件以高速轉(zhuǎn)動時，鄰近轉(zhuǎn)動磁盤或諸磁盤的空氣也發(fā)生運動。在這些運動的空氣通過致動器和圍繞磁盤組件的固定結(jié)構(gòu)時，由于紊流和摩擦，這些空氣會在磁盤驅(qū)動器中產(chǎn)生不想要的振動和空氣阻力損失。這些流動干擾可能會致使磁盤、讀/寫頭以及致動器振動，使精確的跟蹤操作變得困難。空氣阻力損失要求為了轉(zhuǎn)動磁盤而使用更大的功率。此外，空氣阻力損失和振動在磁盤驅(qū)動器中的磁盤的轉(zhuǎn)速增加時急劇增大。這些外部的振動可能會在加載梁和萬向節(jié)簧片各自的共振頻率處激勵加載梁和萬向簧片，因而任何輸入的運動或外部的振動都可能會被明顯地放大，從而導(dǎo)致讀/寫頭相對磁盤表面的飛行特性不穩(wěn)定或不對準(zhǔn)。目前，在高性能的磁盤驅(qū)動器中，磁盤以每分鐘10,000和15,000轉(zhuǎn)(RPM)的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動。預(yù)計在將來的設(shè)計中，磁盤的轉(zhuǎn)速將會不斷增加。這將進一步惡化目前所存在的空氣阻力和振動的問題。此外，由于在工業(yè)中持續(xù)地被要求增加磁盤驅(qū)動器的存儲能力，所以預(yù)計磁盤表面上的磁道密度或者每英寸的磁道數(shù)量將增加。當(dāng)磁道變得更小時，由于磁頭浮動塊的精確跟蹤變得更為困難，所以振動問題將變得更為麻煩。兩轉(zhuǎn)動母板或諸磁盤之間所產(chǎn)生的紊流氣流對懸架萬向節(jié)組件造成影響，以致在內(nèi)磁頭上出現(xiàn)了較高的不可重復(fù)的偏轉(zhuǎn)。內(nèi)部磁頭是那些附接在致動器上并定位在兩磁盤之間的讀/寫頭。也就是說，當(dāng)在剖面中看時，磁頭浮動塊在其上方和下方都有一磁盤。此外，由于兩懸架萬向節(jié)組件彼此緊密地靠近，所以紊流空氣會使兩者之間的發(fā)生通訊。一種減輕這種效應(yīng)的常用解決方案是增加磁盤間距。但由于硬質(zhì)磁盤驅(qū)動器的形式因素減弱，當(dāng)同時想要高容量和高性能時，就更難增加磁盤的間距。因此，想要有一種能減輕空氣阻力并同時保持有價值的Z向高度間隙的懸架萬向節(jié)組件。本發(fā)明的實施例為這些和/或其它問題中的一個或多個提供了解決方法，并相對現(xiàn)有技術(shù)具有其它的優(yōu)點。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明涉及一種用來在一介質(zhì)表面上方支撐一磁頭浮動塊的懸架。該懸架包括一加載梁、一基板接口區(qū)域以及一基板。加載梁具有一近端、一末端以及一縱向中心線。一局部加強部分在加載梁上方高出，并通過成圓角的側(cè)邊連接到加載梁?；褰涌趨^(qū)域連接至加載梁的一近端，并提供一預(yù)加載的彎曲部分。最后，基板與基板接口區(qū)域連接成基板連接至基板接口區(qū)域的在介質(zhì)表面對面的一側(cè)上。當(dāng)閱讀了以下的詳細(xì)說明并看了相關(guān)的附圖之后，作為本發(fā)明的諸實施例的特點的其它特征和優(yōu)點將會變得清楚。附圖簡述圖1是一磁盤驅(qū)動器的軸測立體圖。圖2是一致動器臂的俯視圖。圖3A是一磁頭懸架組件的俯視圖。圖3B是圖3A所示的磁頭懸架組件的側(cè)視圖。圖3C是圖3A所示的磁頭懸架組件的端視圖。圖4是現(xiàn)有技術(shù)懸架和根據(jù)本發(fā)明的懸架的頻率響應(yīng)的伯德圖。圖5是一現(xiàn)有技術(shù)懸架的第二形狀的放大側(cè)視圖。具體實施例方式圖1是本發(fā)明的實施例可使用于其中的一磁盤驅(qū)動器100的軸測立體圖。磁盤驅(qū)動器100包括一帶有基底102的殼體和一頂蓋(未圖示)。磁盤驅(qū)動器100還包括一磁盤疊106，該磁盤疊106通過一磁盤夾緊裝置108安裝在一主軸電動機上。磁盤疊106包括多個單獨的磁盤，它們安裝成繞中心軸線109共同旋轉(zhuǎn)。每一磁盤表面具有一相關(guān)的磁盤磁頭浮動塊110，該浮動塊110安裝在磁盤驅(qū)動器100上，以與磁盤表面進行通訊。在圖1所示的例子中，浮動塊110是由懸架112支承的，而懸架112又附接至一致動器116的磁道接近臂114。如圖1所示的致動器是被稱為旋轉(zhuǎn)動圈式的致動器的型式，并包括一音圈電動機(VCM)，總地示于118處。音圈電動機118使致動器116與其所附接的磁頭110一起繞一樞軸120轉(zhuǎn)動，以沿著一磁盤內(nèi)徑124和一磁盤外徑126之間的一弧形路徑122將磁頭110定位在所要的數(shù)據(jù)磁道上方。伺服電子裝置或控制器130基于磁頭110和一主計算機(未圖示)所產(chǎn)生的信號來驅(qū)動音圈電動機118。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的一說明性實施例的一致動器臂201的俯視圖。致動器臂201包括一磁道接近臂202、一磁頭浮動塊212以及一懸架200。為了清楚，僅示出了一個被包括在致動器臂201中的懸架200。但那些熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
的人們將會理解，當(dāng)在磁盤疊中使用致動器臂201時，可以在致動器臂201中包括一第二懸架200，以使每一懸架在磁盤疊106中的一相應(yīng)的磁盤上方支撐一磁頭浮動塊212。磁道接近臂202在一樞轉(zhuǎn)區(qū)域207處連接在磁盤驅(qū)動器的殼體206上，該樞轉(zhuǎn)區(qū)域位于靠近磁道接近臂202的近端208的位置。在磁道接近臂202的近端208處設(shè)有一致動或致動器構(gòu)件203。致動器構(gòu)件203使磁道接近臂202繞樞轉(zhuǎn)區(qū)域207轉(zhuǎn)動，如箭頭205所示。但也可以使用其它的結(jié)構(gòu)來運動磁道接近臂202。這樣的運動和致使臂202運動的相關(guān)的力是根據(jù)人們所熟知的洛倫茲關(guān)系來產(chǎn)生的。在一個實施例中，致動器構(gòu)件203是一音圈，它響應(yīng)從伺服控制器130所施加的電流來產(chǎn)生電/磁場?；蛘撸聞悠鳂?gòu)件203可以是一永久磁體或其它能夠施加力以使磁道接近臂202繞樞轉(zhuǎn)區(qū)域207徑向運動的構(gòu)件。懸架200附接在磁道接近臂202的末端209上。懸架200將磁道接近臂202連接至一磁頭浮動塊212。懸架200也提供一預(yù)加載力，該力將磁頭浮動塊212壓向磁盤表面106。此外，懸架200在搖擺方向上是柔性的，以使磁頭浮動塊212能跟隨磁盤106的起伏形狀。下文將更加詳細(xì)地對懸架200進行描述。附接在懸架200的末端上的是磁頭浮動塊212。磁頭浮動塊212包括一空氣支承表面216(圖3B)，該空氣支承表面面對磁盤的磁頭表面106。當(dāng)磁盤轉(zhuǎn)動時，浮動塊212的空氣支承表面216發(fā)生搖擺，直至達到平衡，此時就形成了在空氣支承表面216上的一壓力中心。磁頭浮動塊212包括一讀/寫頭或轉(zhuǎn)換器(沒有分開地示出)，它構(gòu)造成向磁盤106上的磁道寫入數(shù)據(jù)或從其讀出數(shù)據(jù)。磁頭浮動塊212連接至懸架200，且使懸架200所產(chǎn)生的預(yù)加載力施加在所形成的壓力支承中心上方。但根據(jù)特定的應(yīng)用場合，磁頭浮動塊212與懸架200的連接也可以設(shè)置在磁頭浮動塊212的其它區(qū)域處。此外，可以通過使用一萬向節(jié)來實現(xiàn)連接和力的傳遞。圖3A是示意地示出根據(jù)本發(fā)明一實施例的磁頭懸架200的放大的俯視圖。圖3B是示出根據(jù)本發(fā)明該實施例的單個懸架200的側(cè)視圖。圖3C是朝磁道接近臂202看去的一端視圖，示出了本實施例中的懸架200的諸結(jié)構(gòu)特征?，F(xiàn)在請參見圖3A，懸架200包括一磁頭萬向節(jié)組件210、一加載梁220以及一基板270。在圖3A-3C所示的實施例中，懸架200的有效長度280小于14毫米。在一較佳的實施例中，懸架200的長度280為11毫米。但也可以使用小于14毫米的其它的長度280，如9.5毫米。磁頭萬向節(jié)組件(HGA)210在存儲磁盤106上方支撐磁頭浮動塊或數(shù)據(jù)頭212。磁頭萬向節(jié)組件210包括萬向節(jié)臂213和214以及一橫梁215。橫梁215在萬向節(jié)臂213與214之間進行連接，以支撐一安裝位置217(見圖3C)。安裝位置217與對準(zhǔn)的，以將磁頭浮動塊212的一部分連接至磁頭萬向節(jié)組件210的一部分，并且該安裝位置217有一表面，該表面成形為使該可能的結(jié)合面積最大。磁頭萬向節(jié)組件210是順從的，并使磁頭浮動塊212能繞一軸線搖擺。磁頭萬向節(jié)組件210還使磁頭浮動塊212能響應(yīng)磁盤106表面中的微小起伏而運動。磁頭萬向節(jié)組件210還協(xié)助在偏轉(zhuǎn)和平面內(nèi)軸線運動中加強磁頭浮動塊212，并使磁頭浮動塊212的轉(zhuǎn)換器(沒有單獨地示出)相對記錄在磁盤106上的數(shù)據(jù)定位。加載梁220在磁盤106的上方支撐磁頭萬向節(jié)組件210，并提供將從磁頭浮動塊212引出的導(dǎo)線或花線電纜(flexcable)連接到磁盤驅(qū)動器上的一接口電路上的結(jié)構(gòu)。加載梁220包括兩根支撐臂222和224以及一加強部分240。加載梁220的末端225包括一加載位置226，它將預(yù)加載力從預(yù)加載的彎曲半徑部分250傳遞到磁頭萬向節(jié)組件210和磁頭浮動塊212。支撐臂222和224形成在加載梁220中，并以離開加載位置226朝向預(yù)加載的彎曲半徑部分250成一角度地延伸。支撐臂222和224提供載帶從磁頭浮動塊212到接口電路的花線電纜的結(jié)構(gòu)。此外，支撐臂222和224幫助從預(yù)加載的彎曲半徑部分250向加載位置226傳遞預(yù)加載力。在圖3A中所示的結(jié)構(gòu)中，支撐臂222和224的寬度從預(yù)加載的彎曲半徑部分250到加載位置226大體是不變的。但支撐臂222和224的寬度也可以沿著縱向軸線或中心線223是漸收的，藉此使在支撐臂222和224的近端228處的梁端較寬而在末端225處的梁端較窄。盡管支撐臂222和224在圖3A中示為在從加載位置226向近端地朝預(yù)加載的彎曲半徑部分250移動時是彼此成角地張開的，但那些熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
的人們會理解，對于支撐臂222和224可以使用其它的結(jié)構(gòu)。例如，支撐臂222和224可以是彼此平行的。在支撐臂222和224之間的空間中形成一加載梁220的加強部分240。加強部分240增加了懸架200的剛度，同時也無需現(xiàn)有技術(shù)懸架中通常使用的側(cè)向橫檔。加強部分240高出支撐臂222和224所形成的一表面229(圖3B)一高度247。在一實施例中，高度247在約3密耳至約5密耳之間。但也可以采用其它的高度。加強部分240從加載梁220的一近端位置241行進或延伸到一末端位置242。懸架200沒有了傳統(tǒng)的側(cè)邊或橫檔，因為懸架上方的氣流更規(guī)則(紊流減少)，所以就減小了附接在相同的磁道接近臂上的相鄰磁頭懸架組件之間的通訊(串話)。加強部分240的側(cè)邊243和244空氣動力學(xué)造型成減少與懸架相互作用的紊流。由于懸架200上方的氣流變得更加流線化和層流化，所以該空氣動力學(xué)外形減小了懸架所經(jīng)受的阻力。此外，懸架200的空氣動力學(xué)造型致使離軌的不可重復(fù)的偏轉(zhuǎn)(non-repeatablerunout(NRRO))發(fā)生的可能性減小。在一實施例中，如圖3C所示，加載梁220的加強部分大體呈一帽形的形狀。該帽形的形狀由將加載梁支撐臂222和224連接至加強部分240的成圓角的側(cè)邊243和244。該帽形結(jié)構(gòu)提供在最大紊流激勵區(qū)域中的局部剛度。為了既減少暴露的表面面積，從而減小所導(dǎo)致的空氣阻力，又減少懸架200的空氣阻力效應(yīng)，在加強部分240的一表面245中蝕刻或者機械加工出一洞或孔246。但也可以使用其它的方法來形成孔246。盡管圖3A示出了蝕刻入加強部分240中的一單個的孔246，但那些熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
的人們會理解，也可以添加多個孔，以進一步減少加強部分240的暴露的表面面積，并進一步減少空氣阻力效應(yīng)。因為暴露于氣流的濕潤的表面面積減小，所以懸架200的該設(shè)計使懸架表面積最小，因而減小了不同平面的諸力。弄濕的表面面積的減小使得離軌的發(fā)生率降低，這是因為，懸架200頂部與底部之間的壓力差作用在一較小的面積上。一預(yù)加載的彎曲半徑部分250連接至加載梁220的近端228。預(yù)加載的彎曲半徑部分250提供促使浮動塊/磁頭浮動塊212靠向磁盤表面106的一預(yù)加載力。在圖3B中示出了預(yù)加載的彎曲半徑部分250。該預(yù)加載力是通過在預(yù)加載的彎曲半徑部分250中形成一預(yù)加載的彎曲部分251來產(chǎn)生的，該預(yù)加載的彎曲半徑部分250在磁道接近臂202、懸架200以及浮動塊/磁頭浮動塊212裝載到磁盤驅(qū)動器100上時發(fā)生彈性變形。在一實施例中，預(yù)加載的彎曲半徑部分250提供一在0.5克力(gmf)至4.0克力(gmf)范圍內(nèi)的預(yù)加載力。但根據(jù)需要，也可以提供其它的預(yù)加載力。該預(yù)加載力經(jīng)由加載梁220并通過加載位置226傳遞到磁頭浮動塊212。一基板接口區(qū)域260連接至預(yù)加載的彎曲半徑部分250的近端252。在一些實施例中，預(yù)加載的彎曲半徑部分250是基板接口區(qū)域260的一部分?；褰涌趨^(qū)域260提供用于基板270連接至懸架200的一表面?；?70安裝在基板接口區(qū)域260的頂面264上。這個結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)的基板至懸架的安裝技術(shù)不同。在現(xiàn)有的基板至懸架的安裝技術(shù)中，基板是附接在懸架的面向磁盤表面的側(cè)面上的?；?70還設(shè)有位于基板270兩側(cè)的兩個凸緣或擱架部272和274，以用來對花線和連接中心地布線。凸緣或擱架部272和274使花線電纜或電路290的附接能從磁頭浮動塊212經(jīng)由磁道接近臂202行進到接口電路130，并同時明顯地減少暴露在轉(zhuǎn)動磁盤所產(chǎn)生的氣流中的花線電纜的表面面積量。因此，擱架部進一步有助于減小懸架200的空氣阻力。懸架組件200通過基板270連接至磁道接近臂202。磁道接近臂202與懸架200之間的這種連接是通過通過孔276鍛造懸架組件和基板270來實現(xiàn)的。但也可以使用其它的方法來將懸架200附接到磁道接近臂202上。如上所述的構(gòu)造的懸架200的一個優(yōu)點是，與現(xiàn)有技術(shù)相比，懸架200相對磁盤106總體呈一更為扁平的外形。在一實施例中，懸架200是用層疊材料構(gòu)成的。使用層疊材料可使制造方便且同時能懸架200實現(xiàn)工作所要求的剛度，而且也能制造出空氣動力學(xué)造型的加載梁220的加強部分240。但也可以在懸架200的制造中使用能使空氣動力學(xué)造型的加強部分形成的其它材料。當(dāng)懸架200是用層疊材料制成的時候，加載梁220、加強部分240、基板接口區(qū)域260以及預(yù)加載的彎曲半徑部分250是用一單片的疊層形成的。懸架組件和浮動塊的外部振動或激勵可能會致使浮動塊和懸架組件發(fā)生各種運動。根據(jù)激振力的特性和頻率，浮動塊和懸架組件可能會經(jīng)受扭轉(zhuǎn)振型的共振、擺動振型的共振以及彎曲振型的共振。扭轉(zhuǎn)振型的運動是指懸架組件繞一平面內(nèi)的軸線轉(zhuǎn)動或扭轉(zhuǎn)。彎曲振型的共振主要是指懸架組件相對磁盤表面的上/下運動。擺動振型的振動是指平面內(nèi)的橫向運動和扭轉(zhuǎn)。對共振運動加以限制以保證磁頭浮動塊的穩(wěn)定的飛行特性是很重要的。尤其是，控制扭轉(zhuǎn)和擺動振型的共振是重要的，這是因為，它們會導(dǎo)致浮動塊的橫向運動，使磁頭不相對數(shù)據(jù)磁道對準(zhǔn)。在工作的過程中，致動器201運動懸架200，以相對磁盤表面106上的選定位置定位磁頭浮動塊212。由于懸架200和致動器201是機械裝置，所以存在外部運動或振動被放大的某一共振頻率。因此，根據(jù)包括磁頭浮動塊212在內(nèi)的懸架組件的結(jié)構(gòu)，外部力的頻率可能會與懸架200的各振型一致，并從而導(dǎo)致共振。懸架200的相應(yīng)于扭轉(zhuǎn)振型共振和擺動振型共振的振動可能會對磁頭浮動塊212相對磁盤表面106的弧形定位產(chǎn)生影響。通常，激振力的頻率低于10,000赫茲。但外部的激振力可能以更高的頻率產(chǎn)生?，F(xiàn)在請參見圖4，圖中示出了現(xiàn)有技術(shù)懸架和根據(jù)本發(fā)明一實施例的懸架200的離軌共振頻率響應(yīng)的一伯德圖。伯德圖410示出了懸架長度小于14毫米的一示例性現(xiàn)有技術(shù)懸架的頻率響應(yīng)。在點412處出現(xiàn)一第一扭轉(zhuǎn)振型共振，在點414處出現(xiàn)一第二扭轉(zhuǎn)振型共振，以及在點416處出現(xiàn)一擺動振型共振。在現(xiàn)有技術(shù)中，懸架的第二扭轉(zhuǎn)振型的共振頻率414低于擺動振型的共振頻率416。由于第二扭轉(zhuǎn)振型的共振頻率低于擺動振型的共振頻率，人們想要減小第二扭轉(zhuǎn)振型共振的效應(yīng)、亦即振幅，以提高懸架的工作性能?，F(xiàn)有技術(shù)的懸架是通過在靠近加載梁520的端部502處、但在磁頭萬向節(jié)組件510和磁頭浮動塊512之前向懸架500添加一第二形狀狀(如圖5中部分501所示)來解決該問題的。該第二形狀501形狀成一小的彎曲部分，與預(yù)加載的彎曲部分類似，但其方向偏離磁盤106的表面。該第二形狀的添加進一步增加了懸架500的復(fù)雜度和制造成本。本發(fā)明的設(shè)計和特征無需在懸架上使用第二形狀。請回過來參見圖4，曲線450示出了本發(fā)明一實施例的頻率響應(yīng)。第一扭轉(zhuǎn)共振振型出現(xiàn)在452處，第二扭轉(zhuǎn)共振振型出現(xiàn)在454處，一萬向節(jié)扭轉(zhuǎn)共振出現(xiàn)在455處，以及擺動振型的共振出現(xiàn)在456處。如可從圖4的伯德圖所見，根據(jù)本發(fā)明一實施例的懸架200的第二扭轉(zhuǎn)共振振型的頻率454高于擺動振型的共振頻率456。此外，當(dāng)懸架200經(jīng)受超過擺動振型的共振頻率的激振力頻率時，其它的因素開始支配懸架200的響應(yīng)。因此，消除第二形狀改善了懸架200的穩(wěn)定性，并減少了懸架200制造的步驟，還降低了制造的復(fù)雜度和成本。與現(xiàn)有技術(shù)的懸架相比，對于每一扭轉(zhuǎn)和擺動共振振型，懸架200還表現(xiàn)出總體較高的共振頻率。該較高的共振頻率使不可重復(fù)的偏轉(zhuǎn)減少?？偠灾?，本發(fā)明針對一種用來在一介質(zhì)表面106上方支撐一磁頭浮動塊212的懸架200。該懸架200包括一加載梁220、222、224、一基板接口區(qū)域260以及一基板270。加載梁220、222、224具有一近端228、一末端225以及一縱向中心線223。一局部加強部分240在加載梁220上方高出，并通過成圓角的邊緣243、244連接到加載梁220?；褰涌趨^(qū)域260連接至加載梁220、222、224的一近端228，并提供一預(yù)加載的彎曲部分251、250。最后，基板270與基板接口區(qū)域260連接成基板270連接至基板接口區(qū)域260的在介質(zhì)表面106對面一側(cè)264上。應(yīng)予理解的是，即使在前面的描述中列出了本發(fā)明各種實施例的各種特性和優(yōu)點，以及本發(fā)明各種實施例的結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)與功能，但本說明僅是說明性的，且可以在本發(fā)明的原理內(nèi)，在細(xì)節(jié)、尤其是結(jié)構(gòu)和零件的布置方面作出修改。本發(fā)明的原理是完全由表述所附權(quán)利要求的術(shù)語的寬泛、全面的含義來表明的。例如，可以不超出本發(fā)明保護范圍和原理地根據(jù)懸架的特定的應(yīng)用場合來改變特定的元件，并同時基本保持相同的功能性。此外，盡管這里所述的較佳實施例針對用于磁盤驅(qū)動器的磁頭懸架，但那些熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
的人們會理解，本發(fā)明的技術(shù)可以應(yīng)用于其它的存儲介質(zhì)，且所使用的懸架不超出本發(fā)明的保護范圍和原理。權(quán)利要求1.一種用來在介質(zhì)表面上方支撐讀寫頭浮動塊的懸架，它包括一加載梁，它具有一近端、一末端以及一縱向中心線；在加載梁的縱向軸線上方高出的一局部加強部分，它通過成圓角的邊緣連接到加載梁；一基板接口區(qū)域，它連接至加載梁的一近端，并提供一預(yù)加載的彎曲部分；以及與基板接口區(qū)域連接的一基板，該基板連接至基板接口區(qū)域的在介質(zhì)表面對面的一側(cè)上。2.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，還包括；提供讀寫頭浮動塊與一接口電路之間的電氣連接的一花線電路，該花線電路連接至加載梁、基板接口區(qū)域以及基板，以使花線電路被遮蔽，從而不暴露于流體流。3.如權(quán)利要求2所述的懸架，其特征在于，還包括形成在基板中的一擱架部，該擱架部形成為能附接花線電路。4.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，加載梁由層疊材料形成。5.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，加強部分具有一近端、一末端以及一橫截面區(qū)域，在加強部分的近端處的橫截面區(qū)域比在加強部分的末端處的橫截面區(qū)域大。6.如權(quán)利要求5所述的懸架，其特征在于，橫截面區(qū)域在加強部分的近端與加強部分的末端之間以均勻的比率減小。7.如權(quán)利要求5所述的懸架，其特征在于，加強部分的橫截面是帽形的。8.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，加強部分高出加載梁一2.5密耳至6密耳之間的高度。9.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，在加強部分中至少形成有一個孔。10.如權(quán)利要求9所述的懸架，其特征在于，在加強部分中形成有多個孔。11.如權(quán)利要求1所述的懸架，其特征在于，懸架的長度小于14毫米。12.如權(quán)利要求11所述的懸架，其特征在于，懸架的長度為11毫米。13.如權(quán)利要求11所述的懸架，其特征在于，懸架的長度為9.5毫米。14.如權(quán)利要求11所述的懸架，其特征在于，連接加載梁的近端和末端形成一平面表面，以在加載梁中不存在一第二形狀。15.具有根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸架的一種盤驅(qū)動器。16.一種用來在介質(zhì)表面上方支撐讀寫頭浮動塊的懸架，它包括一加載梁，它具有一近端和一末端；在加載梁上方高出并連接到加載梁的一局部加強部分，該加強部分是空氣動力學(xué)造型的；與加載梁的近端相連的一基板，該基板連接至加載梁的在介質(zhì)表面對面的一側(cè)上；以及其中，懸架是用層疊材料構(gòu)成的。17.如權(quán)利要求16所述的懸架，其特征在于，加強部分具有一近端、一末端以及一橫截面區(qū)域，在加強部分的近端處的橫截面區(qū)域比在加強部分的末端處的橫截面區(qū)域大。18.如權(quán)利要求16所述的懸架，其特征在于，在加強部分中至少形成有一個孔。19.如權(quán)利要求16所述的懸架，其特征在于，懸架的長度為11毫米。20.如權(quán)利要求16所述的懸架，其特征在于，連接加載梁的近端和末端形成一平面表面，以在加載梁中不存在一第二形狀。21.具有根據(jù)權(quán)利要求16所述的懸架的一種盤驅(qū)動器。全文摘要一種帶有空氣動力學(xué)成形的加載梁的懸架，它用來在一介質(zhì)表面上方支撐一讀/寫頭頭浮動塊。該懸架包括一加載梁、一基板接口區(qū)域以及一基板。加載梁具有一近端、一末端以及一縱向中心線。一局部加強部分在加載梁上方高出，并通過成圓角的邊緣連接到加載梁。基板接口區(qū)域連接至加載梁的一近端，并提供一預(yù)加載的彎曲部分。最后，基板與基板接口區(qū)域連接成基板連接至基板接口區(qū)域的在介質(zhì)表面對面的一側(cè)上。文檔編號G11B5/48GK1540661SQ200310101579公開日2004年10月27日申請日期2003年10月17日優(yōu)先權(quán)日2003年4月22日發(fā)明者S·巴塔查里亞,S·塔德帕里,S巴塔查里亞,屢晾申請人:西加特技術(shù)有限責(zé)任公司