專利名稱：用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種被用于磁盤的信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底，該記錄介質(zhì)是用于諸如硬盤、磁光盤和光盤等等的信息記錄裝置的磁記錄介質(zhì)，以及涉及制造該襯底的方法。
背景技術(shù)：
通常，信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底必須具有盡可能光滑的表面從而能夠以高密度記錄信息。因而，在制造期間玻璃襯底的表面在幾個(gè)階段被研磨和拋光從而抑制顯微突起物的形成(參照例如日本已公開專利公布號(hào)11-154325)。即，玻璃襯底在幾個(gè)步驟中被研磨和拋光，這幾個(gè)步驟大致分為粗磨、細(xì)磨、第一拋光和第二拋光。拋光墊的類型以及拋光劑的粒徑和類型將根據(jù)所需的拋光精度作適當(dāng)選擇。
用于向同一個(gè)拋光裝置可選擇地提供不同類型和不同粒徑的拋光劑的拋光劑提供裝置已被提出以在每個(gè)拋光步驟中改變拋光劑的類型或粒徑(參照例如日本已公開專利公布號(hào)2000-218535)。根據(jù)此類拋光劑提供裝置，不需要為每種使用的拋光劑準(zhǔn)備多種拋光裝置。這樣就解決了一些問題，諸如涉及安裝空間的難題。
近來的玻璃襯底被要求能進(jìn)行高密度的記錄。為了滿足這個(gè)需求，玻璃襯底表面的光滑度必須被提高。為了提高玻璃襯底表面的光滑度，在每個(gè)拋光步驟中的拋光劑必須具有更細(xì)的粒徑，而且在拋光以步進(jìn)方式進(jìn)行時(shí)拋光劑的粒徑必須變得更細(xì)。
然而，當(dāng)拋光在上述條件下的一個(gè)拋光裝置中進(jìn)行的同時(shí)改變拋光劑時(shí)，出現(xiàn)玻璃襯底表面有劃痕的問題。這是因?yàn)樵谥暗膾伖獠襟E中具有大粒徑的拋光劑被浸透到拋光墊中，在后面的拋光步驟期間又從浸透的拋光劑逸出，因此與具有細(xì)粒徑的拋光劑混合。因而，在常規(guī)技術(shù)中不可能使用不同類型的拋光劑或具有不同粒徑的拋光劑，當(dāng)粒徑或類型不同時(shí)，必須為各種拋光劑準(zhǔn)備多個(gè)拋光裝置。更進(jìn)一步，當(dāng)用多個(gè)拋光裝置進(jìn)行拋光時(shí)，在每個(gè)拋光裝置之間傳遞玻璃襯底的工作非但麻煩而且需要很長(zhǎng)的時(shí)間周期。
本發(fā)明針對(duì)于常規(guī)技術(shù)中所存在的一些問題。本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種用于制造信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，該方法能夠在同一個(gè)拋光裝置中使用不同粒徑或不同類型的拋光劑，同時(shí)提高生產(chǎn)效率。更進(jìn)一步的目標(biāo)是提供一種用于信息記錄介質(zhì)的高質(zhì)量的從而能夠進(jìn)行高密度記錄的玻璃襯底。

發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)到上述目標(biāo)，本發(fā)明的一個(gè)方面是提供一種通過拋光原材料玻璃板的表面制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法。在該方法中，拋光分成兩個(gè)步驟，一個(gè)步驟是進(jìn)行第一拋光過程從而粗拋該原材料玻璃板的表面使其平滑的步驟，一個(gè)步驟是進(jìn)行第二拋光過程從而精拋該已被粗拋的原材料玻璃板的表面使其更平滑的步驟。使用由泡沫材料制成的拋光墊的第二拋光過程被分成用包括氧化鈰研磨顆粒的拋光劑的前拋光和用包括氧化硅研磨顆粒的拋光劑的后拋光的兩個(gè)階段。在前拋光和后拋光之間進(jìn)行沖洗過程從而在前拋光之后用洗液沖洗原材料玻璃板，在沖洗過程期間沖洗掉前拋光中被收集在拋光墊中的研磨顆粒。
最好氧化鈰研磨顆粒具有等于或低于1.5μm的平均粒徑(D50)，該粒徑小于拋光墊的細(xì)毛形成孔。
最好氧化硅研磨顆粒具有小于氧化鈰顆粒的粒徑的小于或等于0.2μm的平均粒徑(D50)，該粒徑小于拋光墊的細(xì)毛形成孔的孔徑。
最好第二拋光過程具有7至45分鐘的總作業(yè)時(shí)間。最好后拋光具有1至40分鐘的作業(yè)時(shí)間。
最好沖洗過程具有1至20分鐘的作業(yè)時(shí)間。最好在沖洗過程中，由拋光墊施加到原材料玻璃板上的負(fù)載低于前拋光中施加的負(fù)載。最好在沖洗過程中，由拋光墊施加到原材料玻璃板上的負(fù)載等于或低于后拋光中施加的負(fù)載。最好涉及沖洗過程的負(fù)載是25至70g/cm2。
最好在用上述制造方法得到的用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底中，由三維表面結(jié)構(gòu)分析顯微鏡以0.2至1.4mm設(shè)定的測(cè)量波長(zhǎng)(λ)測(cè)量得到的表面顯微波紋高度(NRa)等于或低于0.15nm。
本發(fā)明的另一個(gè)方面提供一種通過拋光原材料玻璃板的表面制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的拋光裝置。該拋光裝置包括由泡沫材料制成的拋光墊。該拋光墊進(jìn)行原材料玻璃板的拋光，拋光被分成應(yīng)用包括氧化鈰研磨顆粒的拋光劑的前拋光和應(yīng)用包括氧化硅研磨顆粒的拋光劑的后拋光的兩個(gè)階段。沖洗過程在前拋光和后拋光之間進(jìn)行，用于在前拋光之后用洗液清洗原材料玻璃板。拋光墊包括具有內(nèi)層和外層的細(xì)毛層，內(nèi)層具有大量獨(dú)立氣泡，外層形成在內(nèi)層表面，具有大量與獨(dú)立氣泡尺寸相比有極細(xì)尺寸的細(xì)毛形成孔。該細(xì)毛形成孔在拋光墊的表面上開口從而使前拋光中被收集在拋光墊中的研磨顆粒在沖洗過程中被沖洗掉。
最好拋光墊的細(xì)毛形成孔具有等于或大于2μm且等于或小于20μm的孔徑，以及等于或大于2μm且等于或小于100μm的深度。
該拋光裝置進(jìn)一步包括圍繞旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)設(shè)置的一個(gè)下拋光板和一個(gè)上拋光板，以及設(shè)置在上拋光板和下拋光板之間用于支撐多個(gè)原材料玻璃板的載體。在拋光墊被附接到下拋光板和必要時(shí)附接到上拋光板上的情況下，原材料玻璃板的表面通過旋轉(zhuǎn)上拋光板和下拋光板由拋光墊拋光。


圖1所示的是分批式拋光裝置的一部分的剖面透視圖；圖2是拋光墊的橫截面的示意圖；圖3所示的是在一個(gè)實(shí)例中用電子顯微鏡獲得的原材料玻璃板表面狀態(tài)的照片；圖4所示的是用電子顯微鏡獲得的圖3的原材料玻璃板的橫截面狀態(tài)的照片；圖5所示的是在對(duì)比實(shí)例中用電子顯微鏡獲得的原材料玻璃板表面狀態(tài)的照片；和圖6所示的是用電子顯微鏡獲得的圖5的原材料玻璃板的橫截面狀態(tài)的照片。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例。
在用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的制造期間，原材料玻璃板被從玻璃板材剪裁成圓盤形狀。該原材料玻璃板的中心包括一個(gè)圓孔。玻璃襯底通過用拋光裝置拋光原材料玻璃板的表面而形成。該玻璃襯底由諸如鈉堿玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃和結(jié)晶玻璃的多成分的玻璃原材料用浮法、下拉法、重拉法或加壓法制造而成。由鈷(Co)、鉻(Cr)、鐵(Fe)等金屬或合金制成的磁膜和保護(hù)膜被形成在從原材料玻璃板獲得的玻璃襯底的表面上從而構(gòu)成諸如磁盤，磁光盤和光盤的信息記錄介質(zhì)。
如圖1所示，拋光裝置41包括彼此平行的并且在垂直方向上彼此間隔的一個(gè)圓盤形上拋光板42b和一個(gè)圓盤形下拋光板42a。環(huán)形內(nèi)齒輪43環(huán)繞上拋光板42b和下拋光板42a。旋轉(zhuǎn)軸44從下拋光板42a的中心凸起，中心齒輪45被設(shè)置在旋轉(zhuǎn)軸44下端的外周表面上。插入孔46被形成在上拋光板42b的中心，旋轉(zhuǎn)軸44穿過插入孔46插入。上拋光板42b、下拋光板42a、內(nèi)齒輪43和中心齒輪45被電動(dòng)機(jī)或其他類似裝置驅(qū)動(dòng)從而使其獨(dú)立旋轉(zhuǎn)。多個(gè)載體47被設(shè)置在下拋光板42a和上拋光板42b之間。多個(gè)圓孔48被形成在載體47中。每個(gè)圓孔48接納一個(gè)原材料玻璃板31。更進(jìn)一步，齒輪49被形成在每個(gè)載體47的外圓周部分上。齒輪49與內(nèi)齒輪43以及中心齒輪45嚙合。
在拋光裝置41中，由合成樹脂泡沫材料制成的拋光墊被附接到下拋光板42a的表面，在必要時(shí)附接到上拋光板42b的表面。原材料玻璃板31在被接納在載體47的圓孔48中的情況下固定在下拋光板42a和上拋光板42b之間或者一對(duì)拋光墊之間。在這種情形下，拋光劑從提供部分(沒有顯示)經(jīng)由下拋光板42a、上拋光板42b和拋光墊提供到原材料玻璃板31的表面。多個(gè)提供孔(沒有顯示)在下拋光板42a、上拋光板42b和拋光墊上的厚度方向延伸。拋光劑從諸如容納拋光劑的槽的提供部分提供到提供孔。通過旋轉(zhuǎn)上拋光板42b、下拋光板42a、內(nèi)齒輪43和中心齒輪45，每個(gè)載體47圍繞旋轉(zhuǎn)軸44旋轉(zhuǎn)，同時(shí)圍繞它本身的軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)原材料玻璃板31與下拋光板42a和上拋光板42b或拋光墊接觸。這樣就拋光了原材料玻璃板31的表面。
現(xiàn)在描述用于制造該玻璃襯底的方法。
該玻璃襯底經(jīng)過圓盤加工步驟、斜切步驟、研磨步驟、拋光步驟和洗滌步驟制造而成。
在圓盤加工步驟中，玻璃板材使用由粘結(jié)的碳化物和金剛石制成的切割器切割從而形成為具有圓形中心孔的圓盤形原材料玻璃板。在斜切步驟中，原材料玻璃板的內(nèi)外圓周表面被研磨從而使其外徑和內(nèi)徑具有預(yù)定尺寸以及使內(nèi)、外圓周表面的邊緣被拋光并有斜面。
在研磨步驟中，研磨過程在原材料玻璃板上進(jìn)行從而校正整個(gè)原材料玻璃板的翹曲。這樣，原材料玻璃板變成基本平整的平板。使用拋光裝置41的研磨過程通過沿下拋光板42a和上拋光板42b滑動(dòng)原材料玻璃板31的表面同時(shí)提供拋光劑以研磨該表面而進(jìn)行。更進(jìn)一步，關(guān)于研磨過程的拋光劑，使用被散布在作為分散介質(zhì)的水中的氧化鋁等顆粒的研磨顆粒研磨漿。
使用拋光裝置41的拋光步驟在拋光墊被附接在下拋光板42a和上拋光板42b的情況下通過沿原材料玻璃板31的表面滑動(dòng)拋光墊而進(jìn)行。在拋光步驟中，拋光墊的滑動(dòng)拋光和平整原材料玻璃板的表面。在洗滌步驟中，在拋光之后的原材料玻璃板表面上的諸如拋光劑、拋光粉和灰塵的外來物用洗滌液清洗掉。這樣就制造成具有平滑表面和高清潔度的玻璃襯底。
制造的玻璃襯底具有最好等于或小于0.4nm的表面粗糙度Ra。更進(jìn)一步，表面的波紋高度Wa最好等于或小于0.5nm。此外，表面的顯顯微波紋紋高度NRa最好等于或小于0.15nm。表面粗糙度Ra表示用原子力顯微鏡(AFM)測(cè)量到的數(shù)值。表面的波紋高度Wa是用由Phase Metrix公司制造的多功能圓盤干涉儀(optiflat)通過以具有0.4至0.5mm之間的測(cè)量波長(zhǎng)(λ)的白光掃描表面的預(yù)定區(qū)域而測(cè)量得到的數(shù)值。表面的顯微波紋高度NRa是用Zygo公司制造的三維表面結(jié)構(gòu)分析顯微鏡(New View 200)通過使用具有在0.2至1.4mm之間的測(cè)量波長(zhǎng)(λ)的白光掃描表面的預(yù)定區(qū)域而測(cè)量得到的數(shù)值。
當(dāng)表面粗糙度Ra、波紋高度Wa和顯微波紋高度NRa分別超過0.4nm、0.5nm、和0.15nm時(shí)，玻璃襯底的表面粗糙。因而，玻璃襯底可能具有低平滑度和低品質(zhì)。當(dāng)玻璃襯底具有低品質(zhì)時(shí)，信息記錄介質(zhì)的表面和用來讀取信息記錄介質(zhì)上所記錄信息的磁頭之間的距離不能被縮短。因而，高密度的記錄變得困難。這是因?yàn)楫?dāng)磁頭在信息記錄介質(zhì)上移動(dòng)時(shí)，往往會(huì)出現(xiàn)諸如在表面波紋中磁頭碰撞或被卡住的故障。
在用于制造玻璃襯底的常規(guī)方法中，拋光步驟主要被分為三個(gè)步驟，包括進(jìn)行第一拋光過程的步驟，進(jìn)行第二拋光過程的步驟和進(jìn)行第三拋光過程的步驟，從而使玻璃襯底的表面粗糙度Ra，波紋高度Wa和顯微波紋高度NRa具有上述數(shù)值。在常規(guī)的第一拋光過程中，原材料玻璃板的表面被粗拋從而改進(jìn)波紋高度Wa。在常規(guī)的第二拋光過程中，原材料玻璃板的表面被細(xì)拋從而改進(jìn)顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra。在常規(guī)的第三拋光過程中，原材料玻璃板的表面被超精細(xì)拋光從而進(jìn)一步改進(jìn)顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra。
每個(gè)過程的目的都是拋光原材料玻璃板因而是相同的。因此，使用具有同樣結(jié)構(gòu)的拋光裝置。然而，由于改進(jìn)的主體不同，因而在第一拋光過程和第二拋光過程中使用具有不同硬度的拋光墊，在第二拋光過程和第三拋光過程中使用不同類型和不同粒徑的拋光劑。
作為比較，本發(fā)明的拋光步驟被分成兩個(gè)步驟，其包括進(jìn)行第一拋光過程從而粗拋原材料玻璃板表面使其平滑的步驟和進(jìn)行第二拋光過程從而細(xì)拋被粗拋的原材料玻璃板表面使其更平滑的步驟。即，本發(fā)明的一個(gè)特征是拋光步驟由兩個(gè)步驟完成，它們是進(jìn)行第一拋光過程的步驟和進(jìn)行第二拋光過程的步驟。當(dāng)以兩個(gè)步驟完成拋光步驟時(shí)，如果常規(guī)的第三拋光過程被簡(jiǎn)單地省略，那么所制造的玻璃襯底的顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra將不會(huì)達(dá)到上述數(shù)值。這將會(huì)降低質(zhì)量。更進(jìn)一步，當(dāng)常規(guī)的第二拋光過程被簡(jiǎn)單地省略時(shí)，與常規(guī)的第三拋光過程相關(guān)的超精細(xì)拋光的時(shí)間將變長(zhǎng)。這是因?yàn)橛捎谑褂镁哂斜燃?xì)拋所用的尺寸更細(xì)的顆粒尺寸的拋光劑，在超精細(xì)拋光期間每單位時(shí)間的拋光數(shù)量很少。
本發(fā)明的一個(gè)目標(biāo)是當(dāng)以兩個(gè)步驟完成拋光步驟時(shí)制造出滿足表面粗糙度Ra，波紋高度Wa，和顯微波紋高度NRa的數(shù)值的玻璃襯底?，F(xiàn)在將描述本發(fā)明的第一拋光過程和第二拋光過程。
第一拋光過程是用于在原材料玻璃板表面消除諸如小翹曲、波紋、碎片和裂紋的瑕疵的過程。即，這樣的瑕疵形成在從原材料玻璃板表面到基本不變的厚度(深度)的范圍內(nèi)。這樣，通過拋光而去除表面的一部分從而使整個(gè)原材料玻璃板具有預(yù)定數(shù)值的厚度，瑕疵也被去除。在這些瑕疵中，當(dāng)制造作為原材料玻璃板的材料的玻璃板時(shí)，波紋以線形通過上述浮法等方法形成在玻璃板的表面上并潛在地出現(xiàn)在原材料玻璃板中。因此，在第一拋光過程中，在波紋高度Wa，顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra中，主要改進(jìn)表面粗糙度Ra。
在第一拋光過程中，粗拋所去除的深度被認(rèn)為是很重要的，因?yàn)榘ㄨΥ玫谋砻娌糠忠獜脑牧喜ＡО迳先コ?。由于進(jìn)行拋光步驟是為了使原材料玻璃板的表面平滑，因而第一拋光處理之后原材料玻璃板的表面比處理前更粗糙的情況是與拋光步驟的目標(biāo)相抵觸的。因此，在第拋光過程中，為了使原材料玻璃板的表面比處理之前更平滑，在粗拋期間原材料玻璃板的表面不被損壞是很重要的。在第一拋光過程中，使用這樣的硬拋光器，它具有的硬度能夠在不刮傷原材料玻璃板表面的情況下刮削原材料玻璃板表面。
對(duì)于這樣的硬拋光器，可使用由諸如聚氨酯和聚酯的合成樹脂制成的、具有包括可見泡沫的表面的粗糙海綿狀泡沫材料。根據(jù)JIS K6301定義的硬拋光器的JIS A硬度最好在65和95之間。更進(jìn)一步，壓縮彈性系數(shù)最好在60％至95％之間。最好硬拋光器被附接到下拋光板42a和上拋光板42b上從而使壓縮性在1％和4％之間。
如果JIS A硬度小于65，則壓縮彈性系數(shù)就低于60％，或者壓縮性高于4％，那么硬拋光器就不具有要求的硬度，并且需要更長(zhǎng)的時(shí)間周期去除某個(gè)深度。另外，因?yàn)閽伖馄陂g硬拋光器變形，具體地說，因?yàn)樵趻伖馄鞅砻嫔闲纬赏黄鸷筒y，因而諸如波紋的瑕疵可能形成在原材料玻璃板表面上并且玻璃板表面可能就不平滑。如果JIS A硬度大于95，則壓縮彈性系數(shù)高于80％，或者壓縮性低于1％，那么原材料玻璃板的表面可能被硬拋光器損壞，并且表面情況可能變粗糙。
第二拋光步驟是從原材料玻璃板表面刮去極小部分從而校正諸如出現(xiàn)在表面上的顯微波紋和顯微凸起的顯微瑕疵的過程。這些顯微瑕疵主要由于諸如在研磨過程或第一拋光過程期間形成的拋光痕跡，以及在拋光等期間由于應(yīng)力引起的變形而形成。通過刮削顯微波紋的高起部分或顯微凸起的背脊，這些突起可以變平坦并被矯正為平滑。當(dāng)完全刮除諸如波紋的顯微瑕疵時(shí)，在刮除顯微瑕疵時(shí)形成在原材料玻璃板表面上的拋光痕跡可能形成新的瑕疵并且增加顯微瑕疵。在第二拋光過程中，波紋高度Wa，顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra中的顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra被改進(jìn)。
在第二拋光過程中，由于原材料玻璃板表面被拋光并變平從而使其變成光滑的鏡面精加工表面，因此細(xì)拋去除的深度不重要，而被認(rèn)為重要的是在不損壞原材料玻璃板表面的情況下僅刮除顯微瑕疵的上部。這樣，在第二拋光過程中，具有的柔軟度能在沒有很大程度上刮削原材料玻璃板表面的情況下拋光的軟拋光器被用作為拋光墊。
對(duì)于這種軟拋光器，使用由諸如聚氨酯和聚酯的合成樹脂制成的、具有帶幾乎不可見細(xì)泡沫的表面的細(xì)軟皮類泡沫材料。根據(jù)橡膠工業(yè)協(xié)會(huì)、日本標(biāo)準(zhǔn)SRIS-0101所定義的軟拋光器的Asker C硬度最好在58和85之間。壓縮彈性系數(shù)最好在58％和90％之間。最好硬拋光器被附接到下拋光板42a和上拋光板42b從而使其壓縮性在1％和5％之間。
如果Asker C硬度小于58，則壓縮彈性系數(shù)低于58％，或者壓縮性高于5％，那么軟拋光器可能在拋光期間變形，具體地說，由于在拋光器表面上形成突起和波紋，諸如顯微波紋的瑕疵可能形成在所制造的玻璃板表面上。更進(jìn)一步，如果Asker C硬度大于85，則壓縮彈性系數(shù)高于90％，或者壓縮性低于1％，那么原材料玻璃板的表面可能被軟拋光器損壞，而所制造的玻璃襯底可能具有更粗糙的表面。軟皮類軟拋光器在硬度方面實(shí)質(zhì)上與海綿類硬拋光器有很大不同，很難以相同的標(biāo)準(zhǔn)去比較。因而，硬拋光器由JIS A硬度表示，而軟拋光器由Asker C硬度表示。
在第二拋光過程中，原材料玻璃板在前拋光和后拋光兩個(gè)階段中被細(xì)拋。這是為了在第二拋光過程中將原材料玻璃板拋光到與常規(guī)的第三拋光過程基本相同的程度。
在細(xì)拋的上半階段中，即，前拋光中，一種在其中充當(dāng)研磨顆粒的氧化鈰顆粒被分散到充當(dāng)分散介質(zhì)的水中的漿料被用作為拋光劑。選擇氧化鈰作為拋光劑的研磨顆粒的理由是氧化鈰與玻璃材料起化學(xué)作用并且更有效和更高效率地拋光材料的表面。更進(jìn)一步，最好具有等于或小于1.5μm平均粒徑(D50)的研磨顆粒被用作本研磨顆粒。研磨顆粒的平均粒徑在0.2和1.5μm之間更好。如果研磨顆粒的平均粒徑太大，那么諸如拋光痕跡的刮痕可能在前拋光期間形成在原材料玻璃板的表面上。如果研磨顆粒的平均粒徑太小，那么每單位時(shí)間的拋光數(shù)量減少，而與前拋光相關(guān)的拋光時(shí)間可能會(huì)延長(zhǎng)。更進(jìn)一步，在前拋光中，顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra被提高，直到達(dá)到第一拋光的數(shù)值的大約一半。
在細(xì)拋的下半階段，即，后拋光中，使用具有比用在前拋光中的粒徑更小的研磨顆粒被分散在充當(dāng)分散介質(zhì)的水中并且制成漿料的拋光劑。諸如膠體二氧化硅的氧化硅顆粒被用作研磨顆粒。更進(jìn)一步，研磨顆粒的平均粒徑(D50)最好小于或等于0.2μm。如果D50超過0.2μm，那么在后拋光中原材料玻璃板會(huì)被損壞，不能獲得所需要的平滑度。在相關(guān)的后拋光中，顯微波紋高度NRa和表面粗糙度Ra被提高直到達(dá)到前拋光數(shù)值的大約一半。
在第二拋光過程中，沖洗過程被包括在前拋光和后拋光之間。沖洗過程是在拋光后用洗液清洗原材料玻璃板的過程。在前拋光期間，拋光劑的研磨顆粒、研磨顆粒的碎片以及玻璃粉被粘附在原材料玻璃板的表面。如果這些外來物殘留在表面上，那么在后拋光期間這些外來物將損壞原材料玻璃板。因而，有必要包括這個(gè)沖洗過程從而用洗液沖刷和洗滌原材料玻璃板的表面。通過向拋光裝置提供洗液同時(shí)在軟拋光器上滑動(dòng)原材料玻璃板來進(jìn)行該沖洗過程，并且外來物通過軟拋光器的滑動(dòng)從原材料玻璃板的表面去除。更進(jìn)一步，對(duì)于洗液，使用水、純凈水、諸如異丙醇的醇類，通過諸如氯化鈉的堿金屬鹽的無機(jī)鹽的水溶液的電解過程獲得的電解水等，或諸如溶解氣體的水的機(jī)能水。
在第二拋光過程中，前拋光、后拋光和沖洗過程被連續(xù)進(jìn)行，不象有兩個(gè)步驟時(shí)，第一拋光過程和第二拋光過程被間歇進(jìn)行，即，第一拋光過程和第二拋光過程由于使用不同類型的拋光墊而各自被指定一個(gè)拋光裝置，而且在拋光過程中的拋光裝置之間需要傳遞原材料玻璃板的任務(wù)。相反，前拋光、后拋光和沖洗過程由于使用同一類型的拋光墊而在同一拋光裝置中連續(xù)進(jìn)行。這樣，在前拋光和后拋光中所使用的拋光劑，以及沖洗過程中所使用的洗液有選擇地從提供部分提供到拋光裝置的提供孔中。至少三種類型的導(dǎo)管被連接到拋光裝置的提供孔上以提供兩種類型的拋光劑以及洗液。兩種類型的拋光劑和洗液通過開關(guān)導(dǎo)管閥門切換并提供給提供孔。
當(dāng)切換兩種類型的拋光劑和洗液時(shí)，在前拋光期間浸透到拋光墊中的拋光劑可能在后拋光期間逸出拋光墊并且兩種類型的拋光劑可能被混合。為了防止這個(gè)現(xiàn)象，所使用的充當(dāng)拋光墊的軟拋光器阻止拋光劑的浸透。
如圖2示意性所示，軟拋光器包括由非編織布或類似物制成的基底材料11和被疊加在基底材料11表面上的細(xì)毛層12。細(xì)毛層12具有兩層結(jié)構(gòu)，包括具有大量獨(dú)立氣泡的內(nèi)層14和具有在細(xì)毛層12表面上開口的大量細(xì)毛形成孔15的外層16。每個(gè)獨(dú)立氣泡13被成形為水滴狀，其中氣泡向細(xì)毛層12的內(nèi)側(cè)膨脹和向細(xì)毛層12的表面縮小，并且被形成為在細(xì)毛層12的厚度方向上延伸。每個(gè)細(xì)毛形成孔15具有與獨(dú)立氣泡13相比極端細(xì)的尺寸，被成形為淺瓶狀，并且在不與獨(dú)立氣泡13相通的情況下獨(dú)立形成。
在第二拋光過程期間，拋光劑的研磨顆粒進(jìn)入細(xì)毛形成孔15。研磨顆粒在進(jìn)入和離開細(xì)毛形成孔15的同時(shí)拋光原材料玻璃板的表面。在這種狀態(tài)下，由于細(xì)毛形成孔15不與獨(dú)立氣泡13相通，因而在細(xì)毛形成孔15中的研磨顆粒留在細(xì)毛形成孔15中而不深入到細(xì)毛層12。在清洗過程期間，殘留在細(xì)毛形成孔15中的研磨顆粒很容易用洗液從細(xì)毛形成孔15洗掉并被排到外面。因此，防止了研磨顆粒進(jìn)一步深入到細(xì)毛層12中，并且由于在清洗過程期間洗掉在細(xì)毛形成孔15中的研磨顆粒，因而防止了在前拋光中使用的拋光劑在后拋光期間從細(xì)毛形成孔15中逸出。
沒有經(jīng)歷預(yù)先軟皮摩擦拋光的被稱為所謂的非軟皮墊的拋光墊被用作為軟拋光器，它包括具有兩層結(jié)構(gòu)的細(xì)毛層12。軟皮摩擦拋光是指由泡沫材料制成的拋光墊的表面被用砂輪等粗打擦的拋光。
通常，由泡沫材料制成的拋光墊在剛制造后的狀態(tài)下不包括在表面開口的孔。軟皮摩擦拋光被進(jìn)行并且表面層的一部分被刮擦從而打開獨(dú)立氣泡并且形成細(xì)毛形成孔。即，當(dāng)圖2中虛線上面的外層的一部分被刮擦?xí)r，獨(dú)立氣泡13在細(xì)毛層12的表面打開，并變成細(xì)毛形成孔。因此，在這種通常的拋光墊中，細(xì)毛形成孔具有各個(gè)孔之間不同的大直徑，并且孔較深。更具體地說，直徑在20和100μm之間，深度在400和700μm之間。
相反，在本實(shí)施例中充當(dāng)?shù)诙伖膺^程的拋光墊的軟拋光器是這樣的拋光器，其中細(xì)毛形成孔15由在通常被刮掉的一部分中的顯微氣泡形成。這樣，細(xì)毛形成孔15具有小于20μm的直徑和小于100μm的深度。細(xì)毛形成孔15的直徑最好大于或等于2μm但小于20μm。如果直徑小于2μm，那么拋光劑的研磨顆粒不容易進(jìn)入細(xì)毛形成孔15。另一方面，如果孔直徑大于或等于20μm，那么進(jìn)入細(xì)毛形成孔15的大量研磨顆粒在清洗期間不能被洗掉。細(xì)毛形成孔15的深度大于或等于2μm但小于100μm。如果深度小于2μm，那么拋光劑的研磨顆粒不容易容納在細(xì)毛形成孔15中。當(dāng)深度超過100μm時(shí)，那么研磨顆粒進(jìn)入細(xì)毛形成孔15太深，從而使其在清洗過程期間不能被洗掉。
軟拋光器在剛制造后的狀態(tài)下沒有在表面開口的孔。因而，軟拋光器的表面必須被拋光從而在沒有進(jìn)行軟皮摩擦拋光的情況下打開細(xì)毛形成孔15。在軟拋光器被安裝在拋光裝置后而在其被用于拋光之前，在軟拋光器上預(yù)先進(jìn)行一次拋光墊打磨過程。拋光墊打磨過程是使用打磨器僅拋光拋光墊表面很小數(shù)量的過程。打磨器可以是通過在具有圓板形的基底材料表面上電沉積金剛石研磨顆粒而形成的拋光墊打磨器，或通過在基底材料表面上嵌入金剛石顆粒而形成的顆粒打磨器。在這些打磨器中，在拋光墊打磨過程中最好使用拋光墊打磨器。這是因?yàn)閽伖鈮|打磨器具有和顆粒打磨器相比更細(xì)的研磨顆粒，并且可以抑制拋光墊表面的過分拋光。
如上文所述，本發(fā)明的第二拋光過程的特征是，細(xì)拋被分為前拋光和后拋光兩個(gè)階段，清洗過程被包括在前拋光和后拋光之間，拋光劑在前拋光和后拋光之間被切換，并且細(xì)毛層12具有雙層結(jié)構(gòu)。
有了這種特征，當(dāng)在拋光過程期間改變拋光劑的類型和粒徑時(shí)，第二拋光過程可以使用一種類型的拋光墊和一個(gè)拋光裝置進(jìn)行。因而，通過在完成第一拋光過程和第二拋光過程的兩個(gè)步驟的拋光步驟時(shí)在第二拋光過程期間改變拋光劑的類型和粒徑，所制造的玻璃襯底滿足上述表面粗糙度Ra、波紋高度Wa和顯微波紋高度NRa的數(shù)值。更進(jìn)一步，為了可靠滿足上述表面粗糙度Ra、波紋高度Wa和顯微波紋高度NRa的數(shù)值，有關(guān)每個(gè)前拋光、清洗過程和后拋光的制造條件的設(shè)定最好如下文所述。
在前拋光中，由軟拋光器施加到原材料玻璃板上的負(fù)載最好在50和120g/cm2之間。如果負(fù)載小于50g/cm2，那么原材料玻璃板在前拋光期間不能被充分細(xì)拋。在這種情況下，所制造的玻璃襯底的表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa的數(shù)值可能變高，或者為滿足玻璃襯底的表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa的數(shù)值，與后拋光相關(guān)的拋光時(shí)間必須延長(zhǎng)。如果負(fù)載超過120g/cm2，那么軟拋光器的表面可能變形，并且諸如顯微波紋的微觀瑕疵可能形成在原材料玻璃板的表面上。這可能導(dǎo)致諸如表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa的數(shù)值變高的缺陷，或在前拋光期間由于負(fù)載使原材料玻璃板破裂。
在后拋光中，由軟拋光器施加到原材料玻璃板上的負(fù)載最好在30和100g/cm2之間。如果負(fù)載小于30g/cm2，那么原材料玻璃板在后拋光中不能被充分拋光，所制造的玻璃襯底的表面粗糙度Ra，或顯微波紋高度NRa不能滿足上述數(shù)值。如果負(fù)載超過100g/cm2那么軟拋光器的表面可能變形，并且諸如顯微波紋的顯微瑕疵可能形成在原材料玻璃板的表面上。這可能導(dǎo)致諸如表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa的數(shù)值變高的缺陷，或者由于負(fù)載使原材料玻璃板破裂。
在清洗過程中，由軟拋光器施加到原材料玻璃板上的負(fù)載最好低于前拋光的負(fù)載。更進(jìn)一步，和后拋光的負(fù)載相比，該負(fù)載最好相等或更低。更具體地說，負(fù)載最好在25和70g/cm2之間。如果負(fù)載小于25g/cm2，那么外來物不能被充分地從原材料玻璃板的表面去除或拋光劑的研磨顆粒殘留在細(xì)毛形成孔15中。如果負(fù)載超過70g/cm2，這可能導(dǎo)致諸如在清洗過程期間由于負(fù)載使原材料玻璃板破裂的缺陷。
在前拋光、清洗過程和后拋光之中，用于后拋光的作業(yè)時(shí)間最好在1和40分鐘之間。如果用于后拋光的作業(yè)時(shí)間少于1分鐘，那么原材料玻璃板的表面不能被充分拋光。如果作業(yè)時(shí)間長(zhǎng)于40分鐘，那么原材料玻璃板的平滑度將不會(huì)進(jìn)一步提高，而且由于延長(zhǎng)了作業(yè)時(shí)間導(dǎo)致產(chǎn)量降低。
更進(jìn)一步，清洗過程的作業(yè)時(shí)間最好在1和20分鐘之間。如果清洗過程的作業(yè)時(shí)間少于1分鐘，那么在第一拋光過程中所使用的拋光劑不能被充分去除，并且在第二拋光過程中拋光痕跡會(huì)形成在原材料玻璃板的表面上。即使作業(yè)時(shí)間長(zhǎng)于20分鐘，外來物和殘留的拋光劑也不能被進(jìn)一步去除，而且由于延長(zhǎng)了作業(yè)時(shí)間導(dǎo)致產(chǎn)量降低。
第二拋光過程的總作業(yè)時(shí)間最好在7和45分鐘之間。這是在不需要交換原材料玻璃板的情況下連續(xù)進(jìn)行前拋光、清洗過程和后拋光可能的作業(yè)時(shí)間。為了使總作業(yè)時(shí)間少于7分鐘，前拋光、清洗過程和后拋光中的至少一個(gè)過程必須要有更短的作業(yè)時(shí)間或被省略。在這種情況下，原材料玻璃板的表面可能不被充分拋光或原材料玻璃板的表面可能被損壞。如果總作業(yè)時(shí)間長(zhǎng)于45分鐘，那么前拋光、清洗過程和后拋光中的至少一個(gè)過程的作業(yè)時(shí)間太長(zhǎng)。如果前拋光、清洗過程和后拋光中的任一過程的作業(yè)時(shí)間太長(zhǎng)，那么在表面平滑度和清潔度方面的改進(jìn)就不能達(dá)到預(yù)期的效果。此外，較長(zhǎng)的作業(yè)時(shí)間可能降低生產(chǎn)的效率。
現(xiàn)在將在敘述上述實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)。
在制造本實(shí)施例的玻璃襯底的方法中，第二拋光過程進(jìn)行時(shí)把細(xì)拋分成前拋光和后拋光兩個(gè)階段。更進(jìn)一步，清洗過程被包括在前拋光和后拋光之間。不同類型和不同粒徑的拋光劑被用于前拋光和后拋光。更進(jìn)一步，在第二拋光過程中所使用的軟拋光器包括具有雙層結(jié)構(gòu)的細(xì)毛層12并被形成為拋光劑不會(huì)深入地浸透在軟拋光器中。因此，在第二拋光過程中，不同粒徑和不同類型的拋光劑被用在同一個(gè)拋光裝置中。這樣做提高了生產(chǎn)效率。為了滿足所需的表面粗糙度Ra，波紋高度Wa和顯微波紋高度NRa的數(shù)值，常規(guī)上要求進(jìn)行到第三拋光步驟的拋光步驟在第二拋光過程就被完成。這樣就縮短了制造時(shí)間并增加了產(chǎn)量。
在前拋光中所使用的氧化鈰顆粒具有等于或小于1.5μm的平均粒徑(D50)。另外，在后拋光中所使用的氧化硅顆粒具有等于或小于0.2μm的平均粒徑(D50)。因而，與拋光步驟有關(guān)的步驟數(shù)量被減少，制造時(shí)間被縮短，而且在產(chǎn)量增加的同時(shí)保持了所制造的玻璃襯底的質(zhì)量。
第二拋光過程的總作業(yè)時(shí)間在7和45分鐘之間。在這個(gè)周期中，后拋光的作業(yè)時(shí)間在1和40分鐘之間，清洗過程的作業(yè)時(shí)間在1和20分鐘之間。這樣，在作業(yè)時(shí)間被縮短的同時(shí)保持了玻璃襯底具有滿意的質(zhì)量。
在清洗過程中，由拋光墊施加在原材料玻璃板上的負(fù)載低于用于前拋光或后拋光的負(fù)載。這樣，在外來物以滿意的方式從原材料玻璃板的表面去除的同時(shí)防止產(chǎn)生諸如原材料玻璃板的劃痕和裂縫的缺陷。
通過上述制造方法所制造的玻璃襯底表面具有等于或低于0.15nm的顯微波紋高度NRa。這樣，玻璃襯底具有高質(zhì)量并能夠高密度地進(jìn)行記錄。
實(shí)施上述實(shí)施例的實(shí)例將在此被說明。
對(duì)于拋光墊的觀察在例1和對(duì)比實(shí)例1中，使用由聚氨酯制成并具有表1中所示屬性的軟拋光器進(jìn)行第二拋光過程。用于第二拋光過程的處理?xiàng)l件是以80g/cm2的負(fù)載進(jìn)行五分鐘的前拋光，以60g/cm2的負(fù)載進(jìn)行五分鐘的清洗過程，和以60g/cm2的負(fù)載進(jìn)行五分鐘的后拋光。預(yù)先沒有經(jīng)過軟皮摩擦拋光的軟拋光器被用于例1，而預(yù)先經(jīng)過軟皮摩擦拋光的軟拋光器被用于對(duì)比實(shí)例1。拋光之后測(cè)量原材料玻璃板表面的NRa。結(jié)果在表1中顯示。通過電子顯微鏡(SEM)獲得的例1的軟拋光器的表面狀態(tài)和橫截面如圖3和圖4中所示。對(duì)比實(shí)例1的拋光器的表面狀態(tài)和橫截面如圖5和圖6中所示。有關(guān)圖3和圖5中顯示的表面狀態(tài)的電子顯微鏡的圖像放大倍數(shù)是100，有關(guān)圖4和圖6中顯示的橫截面的圖像放大倍數(shù)是40。
表1


很顯然從圖4中看到，例1的軟拋光器具有帶有總體雙層結(jié)構(gòu)的細(xì)毛層。更進(jìn)一步，很顯然從圖3中看到，細(xì)毛形成孔密集并且總體被均勻分散到整個(gè)表面，而且孔徑基本一致。作為對(duì)比，很顯然從圖6中看到，在對(duì)比實(shí)例1的軟拋光器中，大的獨(dú)立氣泡在帶有總體單層結(jié)構(gòu)的細(xì)毛層的表面上開口。很顯然從圖5中看到，細(xì)毛形成孔被分散到表面而且孔徑不一致。在例1中拋光后的原材料玻璃板的顯微波紋高度NRa是0.13nm，在對(duì)比實(shí)例1中是0.16nm。從上述結(jié)果顯示了通過使用具有總體雙層結(jié)構(gòu)的細(xì)毛層的軟拋光器，顯微波紋高度Nra得到改進(jìn)。
對(duì)于細(xì)毛形成孔徑的觀察在參考實(shí)例1至4中，使用例1的軟拋光器，在每個(gè)實(shí)例中細(xì)毛形成孔的孔徑被改變，而且第二拋光過程在表2所示的條件下進(jìn)行。對(duì)每個(gè)參考實(shí)例進(jìn)行測(cè)量清洗過程后的拋光劑殘留值以及拋光后的原材料玻璃板的表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa。結(jié)果顯示在表2中。拋光劑的殘留值用下列方法計(jì)算。即，首先對(duì)于在前拋光中使用的拋光劑以不同方法改變濃度，并且制備每種濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液。接著，對(duì)于參考實(shí)例1至4，對(duì)在清洗過程期間排出液體的顏色和標(biāo)準(zhǔn)液體的顏色進(jìn)行比較，獲得參考實(shí)例1至4中所排出的液體中拋光劑的濃度。然后，用參考實(shí)例1作為標(biāo)準(zhǔn)，參考實(shí)例2至4的濃度相對(duì)于參考實(shí)例1濃度的比例被計(jì)算出作為拋光劑的殘留值。
表2


從表2的結(jié)果看，對(duì)于孔徑在5和10μm之間的參考實(shí)例1和2，拋光劑的殘留值為小于或等于1的小數(shù)值，并且對(duì)于粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa也獲得滿意的結(jié)果。作為對(duì)比，對(duì)于各自具有在30和90μm之間孔徑的參考實(shí)例3和4，拋光劑的殘留值是10和4因此是大數(shù)值。更進(jìn)一步，表面粗糙度Ra和顯微波紋高度NRa高于參考實(shí)例1和2。
從這些結(jié)果看，當(dāng)細(xì)毛形成孔的孔徑增大時(shí)，即使進(jìn)行清洗過程也會(huì)殘留大量的拋光劑。這顯然會(huì)使所制造的玻璃襯底的質(zhì)量受到影響。
對(duì)于負(fù)載的觀察在參考實(shí)例5至10中，使用例1的軟拋光器進(jìn)行第二拋光過程，同時(shí)改變前拋光、清洗過程和后拋光的負(fù)載，如表3所示。每個(gè)原材料玻璃板的狀態(tài)被目視觀測(cè)。結(jié)果顯示在表3中。
表3


從表3的結(jié)果看，在參考實(shí)例5至7中，清洗過程的負(fù)載小于前拋光的負(fù)載且等于或小于后拋光的負(fù)載，獲得目視滿意的玻璃襯底。作為對(duì)比，在參考實(shí)例8中，清洗過程的負(fù)載大于前拋光和后拋光的負(fù)載，加工裂縫形成在一些所制造的原材料玻璃板上。另外，在參考實(shí)例9中，清洗過程的負(fù)載等于前拋光的負(fù)載，劃痕形成在一些所制造的原材料玻璃板上。這樣的結(jié)果顯示，最好清洗過程的負(fù)載小于前拋光的負(fù)載并且等于或小于后拋光的負(fù)載。更進(jìn)一步，當(dāng)清洗過程的負(fù)載小于前拋光的負(fù)載時(shí)，加工裂縫有時(shí)形成在負(fù)載過分低的參考實(shí)例10中。這被認(rèn)為是因?yàn)椴Ａбr底不能在拋光期間被拋光墊充分加壓，因而不能被保持在載體中。清洗過程的負(fù)載最好在25和70g/cm2之間，在50和60g/cm2之間更好。
本實(shí)施例可以如下文所描述的那樣修改和實(shí)施。
化學(xué)加固過程可以在拋光步驟之前、拋光步驟之后的步驟中或者每個(gè)拋光步驟之間在原材料玻璃板上進(jìn)行，從而滿足信息記錄介質(zhì)所需的耐沖擊性、耐振性和耐熱性?；瘜W(xué)加固過程涉及諸如包含在玻璃襯底的成分中的鋰離子和鈉離子的單價(jià)金屬離子轉(zhuǎn)換到諸如具有更大離子半徑的鈉離子和鉀離子的單價(jià)金屬離子。更進(jìn)一步，這是通過在玻璃襯底的表面上施加壓縮應(yīng)力達(dá)到化學(xué)加固的方法?；瘜W(xué)加固方法通過將玻璃襯底浸泡在由加熱和熔化化學(xué)加固鹽所獲得的化學(xué)加固過程液體中預(yù)定的時(shí)間而進(jìn)行。
化學(xué)加固鹽的實(shí)例包括獨(dú)立使用的硝酸鉀，硝酸鈉，硝酸銀或至少上述兩種材料的混合物?；瘜W(xué)加固液體的溫度最好是比在玻璃襯底中所使用的材料的變形點(diǎn)低大約50至150℃的溫度，化學(xué)加固過程液體自身的溫度大約為300至450℃更好。當(dāng)溫度低于玻璃襯底材料的變形點(diǎn)大約150℃時(shí)，玻璃襯底不能充分經(jīng)受化學(xué)加固過程。如果溫度超過低于玻璃襯底材料的變形點(diǎn)大約50℃的溫度，那么在玻璃襯底上進(jìn)行化學(xué)加固過程時(shí)玻璃襯底可能變形。
在上述實(shí)施例中，使用分批型拋光裝置進(jìn)行拋光過程。然而，拋光裝置不受限制，可以使用每次拋光一片玻璃襯底的片型拋光裝置進(jìn)行拋光過程。
研磨步驟可以被省略，只要斜切步驟之后原材料玻璃板的表面條件，諸如粗糙度，翹曲度，波紋等滿足所需的數(shù)值即可。在這種情況下，作業(yè)時(shí)間被進(jìn)一步縮短。
權(quán)利要求
1.一種通過拋光原材料玻璃板的表面制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，該方法的特征在于拋光被分成兩個(gè)步驟，進(jìn)行第一拋光過程粗拋原材料玻璃板的表面使其平滑的步驟，和進(jìn)行第二拋光過程精拋該已被粗拋的原材料玻璃板的表面使其更平滑的步驟；使用由泡沫材料制成的拋光墊的第二拋光過程被分成用包括氧化鈰研磨顆粒的拋光劑進(jìn)行拋光的前拋光和用包括氧化硅研磨顆粒的拋光劑進(jìn)行拋光的后拋光的兩個(gè)階段；和在前拋光和后拋光之間進(jìn)行沖洗過程，從而在前拋光之后用洗液沖洗原材料玻璃板，在沖洗過程期間洗掉前拋光中在拋光墊中收集的研磨顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，其中，氧化鈰研磨顆粒具有等于或低于1.5μm的平均粒徑(D50)并且小于拋光墊的細(xì)毛形成孔。
3.如權(quán)利要求1或2所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，氧化硅研磨顆粒具有小于氧化鈰顆粒的粒徑，平均粒徑(D50)小于或等于0.2μm，并且小于拋光墊的細(xì)毛形成孔的孔徑。
4.如權(quán)利要求1至3中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，第二拋光過程具有7至45分鐘的總作業(yè)時(shí)間。
5.如權(quán)利要求1至4中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，后拋光具有1至40分鐘的作業(yè)時(shí)間。
6.如權(quán)利要求1至5中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，沖洗過程具有1至20分鐘的作業(yè)時(shí)間。
7.如權(quán)利要求1至6中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，在沖洗過程中，由拋光墊施加到原材料玻璃板上的負(fù)載小于前拋光中的負(fù)載。
8.如權(quán)利要求1至7中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，在沖洗過程中，由拋光墊施加到原材料玻璃板上的負(fù)載等于或低于后拋光中的負(fù)載。
9.如權(quán)利要求1至8中的任何一項(xiàng)所述的制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的方法，其特征在于，涉及沖洗過程的負(fù)載為25至70g/cm2。
10.一種用如權(quán)利要求1至9中的任何一項(xiàng)所述的制造方法獲得的用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底，該玻璃板的特征在于用三維表面結(jié)構(gòu)分析顯微鏡以設(shè)定為0.2至1.4mm的測(cè)量波長(zhǎng)(λ)測(cè)量得到的表面顯微高度(NRa)等于或低于0.15nm。
11.一種通過拋光原材料玻璃板的表面制造用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底的拋光裝置，該拋光裝置的特征在于用泡沫材料制成的拋光墊，該拋光墊進(jìn)行原材料玻璃板的拋光，該拋光被分成用包括氧化鈰研磨顆粒的拋光劑的前拋光和用包括氧化硅研磨顆粒的拋光劑的后拋光的兩個(gè)階段；和在前拋光和后拋光之間進(jìn)行的用于在前拋光之后用洗液清洗原材料玻璃板的沖洗過程，該拋光墊包括具有內(nèi)層和外層的細(xì)毛層，內(nèi)層具有大量獨(dú)立氣泡，外層形成在內(nèi)層的表面，具有大量與獨(dú)立氣泡尺寸相比有極細(xì)尺寸的細(xì)毛形成孔，細(xì)毛形成孔在拋光墊的表面上開口從而使前拋光中被收集在拋光墊中的研磨顆粒在沖洗過程中被洗掉。
12.如權(quán)利要求11所述的拋光裝置，其特征在于，拋光墊的細(xì)毛形成孔具有等于或大于2μm且等于或小于20μm的孔徑，以及等于或大于2μm且等于或小于100μm的深度。
13.如權(quán)利要求11或12所述的拋光裝置，其進(jìn)一步的特征在于，下拋光板和上拋光板設(shè)置成可繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，載體被設(shè)置在上拋光板和下拋光板之間，用于支撐多個(gè)原材料玻璃板，在拋光墊被附接到下拋光板和必要時(shí)附接到上拋光板的情況下，原材料玻璃板的表面通過旋轉(zhuǎn)上拋光板和下拋光板由拋光墊拋光。
全文摘要
一種通過拋光原材料玻璃板的表面制造的用于信息記錄介質(zhì)的玻璃襯底。拋光被分成兩個(gè)步驟，一個(gè)進(jìn)行第一拋光過程從而粗拋該原材料玻璃板的表面使其平滑的步驟，和一個(gè)進(jìn)行第二拋光過程從而精拋該已被粗拋的原材料玻璃板的表面使其更平滑的步驟。使用由泡沫材料制成的拋光墊的第二拋光過程被分成用包括氧化鈰研磨顆粒的拋光劑的前拋光和用包括氧化硅研磨顆粒的拋光劑的后拋光的兩個(gè)階段。沖洗過程在前拋光和后拋光之間進(jìn)行從而在前拋光之后用洗液沖洗原材料玻璃板，在沖洗過程期間洗掉前拋光中在拋光墊中收集的研磨顆粒。
文檔編號(hào)G11B5/73GK1711153SQ20038010311
公開日2005年12月21日 申請(qǐng)日期2003年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月26日
發(fā)明者堀坂環(huán)樹, 鈴木弘一, 南明秀 申請(qǐng)人:Hoya 株式會(huì)社