專利名稱：照射層上斑點的方法和裝置中的液體清除的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及根據(jù)權利要求1的引言部分的照射層的方法，以及根據(jù)權利要求7的引言部分的照射層的裝置。
在動態(tài)系統(tǒng)中液體浸漬的多個實施例中，通過連續(xù)供應液體而保持液體浸漬。通過第一供應導管如開口不斷地供應液體，在透鏡和物體之間保持液體薄膜，僅浸漬透鏡上游的壓力足夠高以避免氣體夾雜。移動的表面將液體拉向像場，因此確保成像場被浸漬。即使通過小心地設計浸漬系統(tǒng)，可保持低的液體流，但仍然要連續(xù)地供應液體。為了穩(wěn)定的連續(xù)工作，清除液體是可取的。
在WO-A-02/13194中，提出了最初確定類型的一種方法和系統(tǒng)以除去液體，其涉及光盤的液體浸漬控制。根據(jù)該專利公開，首先制作主模，然后使用該主模或者使用由主模制作的子模，通過復制工藝制作光學可掃描的信息載體。為了制作該主模，使用光學透鏡系統(tǒng)將調(diào)制輻射束導向并聚焦到襯底承載的感光層上的掃描斑點，并相對移動襯底及透鏡系統(tǒng)。感光層和面向感光層的透鏡系統(tǒng)的最近表面之間的間隙保持填充液體。
為了相對透鏡系統(tǒng)移動該襯底，圍繞一個旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)承載襯底的平臺。使用移位裝置，透鏡系統(tǒng)可以相對于平臺旋轉(zhuǎn)軸沿徑向移位。液體供應裝置向感光層和透鏡系統(tǒng)的最近光學表面之間的間隙供應液體。
JP-A-10255319中公開了另一種將輻射束導向感光層上斑點的方法和裝置，其中透鏡和該層之間的間隙保持填充液體。
在諸如光學投影光刻的光學成像方法和設備中，透鏡和待照射的表面之間的間隙保持填充液體也是已知的，其中由投影在表面上的輻射形成的斑點為一個圖像或圖像的一部分。該方法和設備在國際專利申請WO99/49504中得到描述。
動態(tài)系統(tǒng)中的液體浸漬，諸如光學光刻中的晶片步進機(stepper)或光盤制作中的控制機器，可以通過連續(xù)的液體供應而得到保持。優(yōu)選地，僅通過浸漬透鏡上游的孔以足夠高的壓力(以避免氣體夾雜)通過恒定地提供液體而保持了透鏡和物體之間的液體薄膜。移動的表面將液體拖向像場，確保成像場(斑點)和最靠近成像場的光學元件之間的間隙保持被浸漬。即使通過小心地設計浸漬系統(tǒng)，可保持低的液體流，但仍然要連續(xù)地供應液體。為了穩(wěn)定的連續(xù)工作，清除液體是可取的。然而，關鍵問題是斷開液體和襯底表面之間的粘附力而不損傷襯底表面。該襯底層經(jīng)常是非常脆弱的，如柔軟的抗蝕劑層。
諸如晶片步進機和光盤控制設備的成像系統(tǒng)通常對機械干擾非常敏感。液體薄膜施加的變化的力容易引起不需要的振動，該振動干擾圖像投影到表面上的精確度。
本發(fā)明的一個目標為，在諸如晶片步進機和光盤控制設備的用于照射表面的成像系統(tǒng)中，可靠地從襯底清除薄的液體薄膜的液體，而不損傷表面并將機械干擾最小化。
根據(jù)本發(fā)明，通過提供根據(jù)權利要求1的方法實現(xiàn)該目標。同樣根據(jù)本發(fā)明，提供根據(jù)權利要求7的裝置以執(zhí)行根據(jù)權利要求1的方法。
使用被導向?qū)拥臍饬?，可以非常有效地斷開液體和層之間的粘附而不損傷該層，且可以在粘附被斷開的氣流附近容易地清除該液體。氣流推動液體離開盤片。該系統(tǒng)的附加優(yōu)勢為，也可以清除大部分非粘附微粒。
同樣根據(jù)本發(fā)明，該氣體可以足夠高的壓力被泵送通過第二供應導管，以導致沿與層的相對移動方向反向的凈氣流，從而通過排流導管清除來自該層的液體。
在獨立的權利要求中闡述了本發(fā)明的特定實施例。本發(fā)明的其它目標、特征和效果、以及其細節(jié)將通過對本發(fā)明的優(yōu)選形式的詳細描述而體現(xiàn)。


圖1為用于將輻射導向?qū)由习唿c的裝置的實例的側(cè)視示意圖；圖2為用于圖1所示裝置的光學系統(tǒng)實例的遠端部分、輻射被導向的層、以及在工作中保持液體流的截面示意圖；圖3為沿圖2中III-III線的示意性仰視圖4為包括氣流被導向區(qū)域的圖2一部分的放大圖示；圖5為用于光學光刻的晶片步進機/掃描器的示意性頂視圖。
在光學可掃描信息載體如CD或DVD的制作中，在其兩個側(cè)面中的一個側(cè)面上承載薄的感光層5的圓盤形玻璃襯底3(見圖1)使用調(diào)制輻射束7而被照射，例如該輻射束為波長約為260nm的DUV激光束。根據(jù)圖1所示的實例，使用裝置25照射感光層5，下文中參照圖1至4進行描述。使用形式為包括多個光學元件的透鏡系統(tǒng)9的光學系統(tǒng)將輻射束7聚焦到感光層5上的掃描斑點11。透鏡系統(tǒng)9包括最遠端透鏡59，該透鏡為透鏡系統(tǒng)9的光學元件之一，當工作時其最靠近層5。在被照射的層5和最靠近層5的透鏡系統(tǒng)9的光學元件中的一個光學元件59之間保持間隙53。光學元件也可包括除透鏡之外的其它項目，例如濾波器、擋板、衍射光柵或者反射鏡。
層5和透鏡系統(tǒng)9相對移位，使得感光層5上的調(diào)制輻射束7連續(xù)地照射層5上的一系列斑點。隨后使用顯影液對受照射的感光層5進行顯影，該顯影液溶解受照射部分并在襯底3上留下該層未被照射的部分。也可以留下受照射部分而溶解未被照射部分。在兩種情況下，在感光層5內(nèi)形成一系列凹坑或者凸起，其對應于信息載體上預期的一系列坑形信息單元。感光層5隨后通過濺射工藝而被相對薄的層如鎳所覆蓋。隨后在電沉積工藝中，該薄層被一相對厚的鎳層所覆蓋。在最終從襯底3上被清除的該鎳層中，在感光層5內(nèi)形成的凹坑的圖形留下相應的圖形，該相應的圖形為待制作的信息載體中將要形成的圖形的負片，即主模包含一系列凸起的部分，其對應于在感光層5中形成的一系列坑形單元及信息載體上形成的預期的一系列坑形信息單元。該主模因此適合用作注塑成形機器中的模具，用于注塑成形所需要的信息載體。然而，一般說來，使用主模的一個拷貝作為注塑成形的模具，而不使用該主模，主模的該拷貝通常稱為子模，該子模是采用本質(zhì)上已知的常規(guī)復制工藝通過該主模制作的。
由平臺27承載具有感光層5的襯底3，平臺27可以繞旋轉(zhuǎn)軸29旋轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸垂直于平臺27和襯底3延伸。可以使用第一電動機31驅(qū)動該平臺。裝置25進一步包含輻射源33，其在所示實例中為激光源，并被固定在裝置25的框架35的固定位置。據(jù)觀察，備選地，也可以從裝置外部獲得該輻射。對導向到層5的輻射的控制可以通過許多途徑實現(xiàn)，例如通過控制輻射源33和/或通過控制位于輻射源33和層5之間的快門或輻射分流器(未示出)。
光學透鏡系統(tǒng)9被固定在第一滑環(huán)(traveler)37上，通過第一移位結(jié)構39可以相對于旋轉(zhuǎn)軸29徑向地移位該滑環(huán)37(平行于圖中X方向)。為此目的，第一移位結(jié)構39包括第二電動機41，通過第二電動機41可以在直導軌43上移位該第一滑環(huán)37，直導軌43平行于X方向延伸并相對于框架35被固定。
與透鏡系統(tǒng)9的光學軸49成一直線的反射鏡45也固定在第一滑環(huán)37上。工作中，由輻射源33產(chǎn)生的輻射束7順著沿平行于X方向的輻射束路徑47前進，且輻射束7被反射鏡45偏轉(zhuǎn)到平行于透鏡系統(tǒng)9的光學軸49的方向。通過焦距調(diào)節(jié)器51，透鏡系統(tǒng)9可沿光學軸49的方向移位，其移動的距離與第一滑環(huán)3相比相對較小，使得輻射束7可以被聚焦到感光層5上。通過第一電動機31以相對高的速度繞旋轉(zhuǎn)軸29旋轉(zhuǎn)具有襯底5的平臺27，并通過第二電動機41以相對低的速度平行于X方向移位透鏡系統(tǒng)9，使得輻射束7擊中該層處的掃描斑點11在受照射和未受照射單元的感光層5上形成螺旋型蹤跡。
裝置25可適用于制作具有相對高的信息密度的主模，即，使用裝置25，感光層5的每個單位面積可以提供數(shù)目相對大的受照射單元。由于斑點11較小，可獲得的信息密度增加。斑點11的尺寸由輻射束7的波長和透鏡系統(tǒng)9的數(shù)值孔徑確定，數(shù)值孔徑依賴于透鏡系統(tǒng)9和感光層5之間介質(zhì)的光折射系數(shù)。當透鏡系統(tǒng)9和感光層5之間的介質(zhì)的折射系數(shù)更大時，可以獲得尺寸更小的斑點11。液體通常具有遠大于空氣的光折射系數(shù)，因此輻射束7延伸穿過的透鏡系統(tǒng)9和感光層5之間的間隙53部分保持填充液體，根據(jù)本實例該液體為水。在本實例中，水是尤其適合的，因為水對所用的DUV輻射束7是透明的，且其不侵蝕感光層5。然而，在該詳細描述的全文中，提及水的地方也可以用任何其它合適的液體替代。
圖2和3更詳細示出了透鏡系統(tǒng)9、具有感光層5的襯底3、以及感光層5和透鏡系統(tǒng)9之間的間隙53。最靠近層5的透鏡59具有面向襯底3并最靠近襯底3的光學表面63。透鏡55、59被懸掛在包括平整表面65的托架61上，平整表面65面向?qū)?并基本上在垂直于最靠近層5的透鏡59的光學軸的平面內(nèi)延伸。
工作中，輻射7照射層5上斑點11時所通過的間隙53的部分保持填充水91。水91至少某種程度上被保護，以免從面向?qū)?的透鏡系統(tǒng)9中凹處92內(nèi)的間隙53中被帶走。
層5和壁65(即，最靠近層5的透鏡組件的部分)之間的最優(yōu)工作距離由兩個因素確定。一方面，該距離應足夠大以保持襯底3和透鏡55、59及托架61的結(jié)構之間距離的容差足夠大。另一方面，該距離不應太大，因為這將需要太長的水流以保持間隙53部分的被浸漬條件，其中輻射通過該間隙照到斑點11。間隙53的最小厚度目前優(yōu)選范圍為3至1500μm，更優(yōu)選3至500μm。如果該液體的粘度大于水，用于該間隙最小厚度的較大的值是尤其有利的。同樣，流出開口的總寬度影響間隙最小厚度的優(yōu)選范圍的上限，間隙的最小厚度優(yōu)選小于(100+1/20*W)μm，其中W為在平行層5的平面測量的流出開口的總寬度。間隙的最小厚度可以大于約10μm，例如大于15μm、30μm、或者甚至大于100μm，從而提高對容差的不敏感度。
流出開口90至少很大程度上相對地位于間隙53部分的中心，其中輻射通過該部分照射到斑點11。因此，可以大幅改變斑點11區(qū)域內(nèi)層5和透鏡結(jié)構9相對移動的方向，而不破壞間隙53部分的完全浸漬，其中斑點11通過該間隙部分被照射。
越是可以改變層5和平行層5的透鏡系統(tǒng)9在斑點11的區(qū)域內(nèi)移動的方向而不破壞輻射實際通過的間隙53的部分94(見圖3)的浸漬，該裝置越適用于其中斑點11需要在層的表面上沿大幅變化的方向移動的應用，例如其中斑點為被投影到層5的二維圖像的成像過程。在該應用中，透鏡系統(tǒng)和透鏡系統(tǒng)與受照射表面之間介質(zhì)的相對較大的折射系數(shù)的優(yōu)勢在于，可以以更高的分辨率投影該圖像，這反過來允許進一步的小型化和/或改善可靠性。
該應用的一個實例為用于半導體器件制作的晶片處理的光學投影光刻。圖5中示意性示出了用于此目的的設備和方法。晶片步進機和晶片掃描器在商業(yè)上是可獲得的。因此，并不詳細地描述該方法和設備，而主要是用于提供對在該光學成像應用的環(huán)境中由本發(fā)明所提出的晶片浸漬的理解。
根據(jù)圖5的投影光刻設備包含晶片支撐12和在晶片支撐12上具有透鏡組件14的投影儀13。在圖5中，晶片支撐12承載晶片15，晶片15上的多個區(qū)域16預期將被可操作地連接到投影儀13的掃描器18內(nèi)的由投影掩模版或光刻版17的一個圖形或部分圖形的光束所照射。支撐平臺由主軸電機21、22驅(qū)動，在X和Y方向上可沿主軸19、20移動。主軸電極21、22和掃描器18連接到控制單元23。
通常將如下兩個工作原理之一應用于光學光刻。在所謂的晶片步進機模式中，投影儀將光刻版的完整圖形投影到晶片15上的多個區(qū)域16中的一個。當達到要求的時間時，光束被切斷或者變暗，且由主軸電極21、22移動晶片15，直到晶片的下一個區(qū)域16位于透鏡組件14前的要求位置。依賴于已曝光區(qū)域和待曝光的下一個區(qū)域之間的相對位置，這可能涉及透鏡組件14沿晶片表面朝大幅變化方向相對快速的移動。晶片表面上受照射斑點的尺寸(其中投影光刻版圖像)典型地為20×20mm，但更大和更小的斑點也是可能的。
特別地，當要求制作更大的半導體單元時，優(yōu)選以其它模式投影該圖像，該模式通常稱為晶片掃描器模式。在該模式中，光刻版只有狹縫狀的部分被投影在晶片15表面上的區(qū)域16中成為狹縫狀的斑點，該狹縫狀斑點的長度為其寬度的好幾倍(例如4倍或更多倍)。斑點的典型尺寸為例如30×5mm。然后，待掃描的光刻版17沿掃描窗口移動，同時晶片支撐12在控制單元23的控制下以一種速度相對于透鏡組件14同步移動，該速度使得只有投影斑點相對晶片15移動，而光刻版17的已掃描部分的圖像部分不相對晶片15移動。因此，隨著斑點在晶片上前進，連續(xù)的部分展開，光刻版17的圖像傳遞到晶片的區(qū)域16。光刻版的運轉(zhuǎn)窗口部分被投影到晶片15上時晶片15相對透鏡組件14移動，其移動速度通常相對較低且通常每次沿相同的方向。光刻版17的完整圖形被投影到晶片15上后，通常以更快的速度相對透鏡組件14移動晶片15，從而將晶片15的下一個區(qū)域(光刻版17的下一個圖像將在此處被投影)移動到透鏡組件14之前。該移動沿大幅變化的方向進行，其依賴于晶片15的已曝光區(qū)域16和待曝光的晶片15的下一個區(qū)域16之間的相對位置。為了在晶片15相對透鏡14移位(即，透鏡或透鏡與晶片也被移動)之后能夠重新開始照射晶片15的表面，優(yōu)選地，輻射穿過的透鏡14和晶片15表面之間間隙內(nèi)水的體積立即在該移動結(jié)束之后填充水，使得在照射重新開始之前該空間被可靠地浸漬。
同樣對于光學光刻，可以使用水，例如如果該輻射為波長是193nm的光線。然而，在某些情況下，其它液體可能更加合適。
為了向透鏡59和層5之間的間隙供應水91，水供應導管67延伸穿過托架61并引向流出開口90。根據(jù)本實例，流出開口90在表面54內(nèi)具有狹縫的形式，該狹縫90開口朝向?qū)?，以沿狹縫90縱向地分配供應水91并將分配的水分發(fā)到層5。工作中，經(jīng)由狹縫90縱向地沿該狹縫分配水91，并由狹縫90向?qū)?分發(fā)水91。這導致相對寬的水軌跡95并完全浸漬輻射束7穿過的間隙53的部分94，即使透鏡系統(tǒng)9和層5相對于平行于層5的平面的移動方向被大幅改變。
狹縫90可具有各種形式。在圖2和3的實施例中，形成該狹縫使得流出開口90位于輻射束7的外部并且圍繞間隙53的部分94延伸，其中輻射7穿過該間隙來照射斑點11。十字96表示，沿平行透鏡系統(tǒng)9的光學軸的方向觀察，流出開口90的整個截面通道的中心。
優(yōu)選地以位于狹縫90和環(huán)境之間的壓降供應水91，該壓降足以保持輻射穿過的間隙53的部分被可靠地浸漬。因此，供應給表面的水量保持最小。
此外，當經(jīng)由狹縫狀的流出開口90分發(fā)水91時，間隙153的最小厚度(在本實例中為層5和壁部分65的表面54之間的距離)可以更大，而不導致破壞輻射穿過的間隙部分94的浸漬。
供應水91的流速優(yōu)選地使其可以可靠地確保間隙53內(nèi)出現(xiàn)具有基本上線性速度分布圖的層流。該水流對壁65施加基本上恒定的力，在壁65中設有渠道90且透鏡59的側(cè)面63最靠近層5。其結(jié)果為，間隙53中的水對透鏡系統(tǒng)9施加基本上不變的水力。該變化的水力可能引起透鏡系統(tǒng)9不需要的振動，并因此引起感光層5上輻射束7的聚焦誤差和定位誤差。該水流優(yōu)選沒有空氣夾雜，使得輻射束7不受干擾。
供應至層3的水也必須清除。這里的關鍵問題在于斷開液體和表面之間的粘附力。尤其當該表面快速移動時，如在制作用于制作光盤的主模時或者晶片在將制作光刻版處的位置之間移動時，斷開該粘附力需要大的力。然而，層的表面通常非常脆弱，其通常為柔軟的抗蝕劑層。此外，成像系統(tǒng)諸如晶片步進機和光盤控制設備通常對機械干擾非常敏感。在動態(tài)液體浸漬系統(tǒng)難以避免的液體和氣體的兩相流動通常伴隨著機械干擾。
圖2和3示出了根據(jù)本發(fā)明的清除薄液體薄膜而不損傷表面同時最小化機械干擾的結(jié)構和方法的當前最優(yōu)選實施例。
設有空氣流出開口70，用于將氣流(箭頭71、72、73)導向所述層3的區(qū)域74，以防止水91穿過區(qū)域74。根據(jù)本實例，如圖2示意性所示，該空氣流出開口連通空氣供應源75?？諝夤?5例如可包含通風器或空氣泵，并可包括其中加壓儲存有空氣的貯存器。除了空氣，該貯存器還可包含特定氣體或者氣體的混合物。此外，可以提供用于探測空氣流速的結(jié)構，例如閥門或加熱導線和根據(jù)測量流速和預期流速之差控制該流速的控制閥。
優(yōu)選地以足夠高的壓力提供該氣流以導致沿層3的一個方向的凈氣流，該方向與層3相對光學系統(tǒng)9的移動方向30相反。因此確保水被推離層3且不到達區(qū)域74的部分，其中在區(qū)域74的部分處，空氣流71轉(zhuǎn)向不同的方向72、73且水也被驅(qū)趕遠離浸漬間隙53而非將其限制停留在緊靠浸漬間隙53的附近區(qū)域。
此外，設有排放通道76用于從層3引開水91(箭頭78、79、80)，該排放通道76在空氣流出開口70的附近及區(qū)域74的附近具有入口77。
工作中，導向?qū)?的區(qū)域74的氣流71-73通過斷開水91和層3之間的粘附并形成壓力足夠高以防止水91穿過區(qū)域74的壁壘，從而防止水91穿過區(qū)域74。同時，在區(qū)域74附近，被防止通過區(qū)域74的水91經(jīng)由排放通道76被抽離層3。因此，通過在區(qū)域74的范圍從層3上吹掉水實現(xiàn)水91和層3的最初分離，隨后則經(jīng)由排放通道76排放該水。由于是用氣流將水91與層3分離，實際上不存在導致?lián)p傷層3的危險。
用于引導氣流71-73的空氣流出開口70為一個狹縫。這允許沿著延長的區(qū)域?qū)饬鲗蛟搶?，這對于防止水91移位離開光學系統(tǒng)9超出區(qū)域74是特別有效的，特別是如果狹縫70的至少一部分延伸橫切所述層3相對光學系統(tǒng)9的移動30的方向時是特別有效的。層3沿方向30的移動隨后輸送施加到層3的水91，直到其到達區(qū)域74，在區(qū)域74處氣流71-73被導向?qū)?。氣流71-73使得水91與層3分離，且分離的水被抽離層3。
從圖3可以最好地看出，空氣流出開口70和排放通道76的入口77圍繞保持填充水的層3和光學系統(tǒng)9的透鏡的最近一個透鏡59之間的間隙53延伸。這允許可靠地防止所施加的水91與層3移動方向(平行于層3)無關地逃離光學系統(tǒng)9下方的區(qū)域，而無須借助更復雜和/或嚴密性較低的備選解決方案，例如選擇性地從多個流出開口的一個或多個導向該氣流或者繞透鏡系統(tǒng)9的光學軸來旋轉(zhuǎn)流出頭以保持流出開口位于浸漬間隙的下游位置。該空氣流出狹縫70和入口狹縫77的圓形提供了空氣流出和完成從層3清除水的抽取的均勻分布。
如圖2示意性所示，排放通道76連接到真空源81，該真空源保持排放通道中的水流78。同樣如圖2示意性所示，排放通道76延伸穿過水收集器83，其中從層3清除的水與氣流分離并被收集或排放。
通過減小層3和面向氣流被引入的層的邊界表面83之間間隙的高度，可以降低該氣流。反過來，這對于減小由雙相流通系統(tǒng)引起的干擾是有利的。然而，小于2μm的飛行高度要求非常嚴格的容差。因此，氣流71進入層3和邊界表面83之間的間隙，該間隙的寬度(垂直層3測量)至少為2μm且優(yōu)選至少5μm，至多為100μm且優(yōu)選為約30μm。
水91在層3上形成具有一種厚度的薄膜，且其中層3和面向排放通道76(水在此處被排放)上游的層3的表面87之間的間隙大于薄膜的厚度。這有助于水流向排放通道76，并降低了需要供應空氣以可靠地確保沒有水流出區(qū)域74的壓力。
通過比經(jīng)由通道67和70供應空氣和水的流速之和更高的流速將水和空氣抽離層3，同樣提高了在空氣供應流速相對適中時水的移動。因此，所有或者實際上所有經(jīng)由通道70供應的空氣被抽向水，且相對適中的空氣供應壓力足以確保所有水被引向排放通道76。排放通道76的容量大于水和凈上游氣流，從而避免在空氣-水界面的混亂飛濺。沿垂直于襯底移動且位于襯底平面內(nèi)的方向，狹縫和排放通道76的尺寸優(yōu)選至少與液體薄膜的尺寸相同。
將氣體供應孔置于靠近真空通道可以減小所需的氣體壓力。該系統(tǒng)的附加優(yōu)點為還可以清除大部分非粘附顆粒。
將所提出的裝置安裝在空氣軸承上可以實現(xiàn)恒定且低的飛行高度。假設層3足夠平整，這允許保持恒定且低的高度而不損傷層3的表面。提出的裝置甚至可以集成到空氣軸承內(nèi)，利用空氣軸承的高壓通道將水推離層3的表面。
空氣供應通道70和水排放通道76延伸穿過剛性連接到透鏡系統(tǒng)9的結(jié)構，自動確保飛行高度保持恒定。為了避免水清除系統(tǒng)中機械振動傳遞到透鏡系統(tǒng)9，然而，包含空氣供應通道70的結(jié)構和水排放通道76之間優(yōu)選地只具有弱的連接或者軸向引導，尤其是如果供應的空氣確保面向?qū)?的表面83和層3之間的距離保持在合適的范圍，以確保完全的晶片移位并避免接觸層3的表面。
權利要求
1.一種照射層(3)的方法，包括使用至少一個光學元件(59)將輻射束(7)導向并聚焦到所述層(3)上的斑點(11)；引起層(3)和所述至少一個光學元件(59)的相對移動，使得層(3)的不同部分被接連照射且保持了最靠近所述層(3)的所述至少一個光學元件(59)的表面之間的間隙(53)；以及保持所述間隙(53)的至少一部分，通過它所述輻射照射所述層(3)上的所述斑點(11)，所述層(3)經(jīng)由供應導管填充有液體(91)；其特征在于將氣體(71-73)導向所述層(3)；以及在所述氣體(71-73)氣流附近從所述層(3)中清除供應的液體(91)。
2.根據(jù)權利要求1的方法，其中以足夠高的壓力供應所述氣體(71-73)，以產(chǎn)生沿所述層(3)與所述層(3)的所述移動方向(30)相反的凈氣流(71-73)。
3.根據(jù)權利要求1或2的方法，其中所述氣體氣流(71-73)進入所述層(3)和邊界界面(83)之間的間隙，其中該邊界界面的寬度為至少2μm且優(yōu)選至少5μm，至多100μm且優(yōu)選30μm。
4.根據(jù)權利要求3的方法，其中液體(91)在所述層(3)上形成具有一種厚度的薄膜，并且其中所述層(3)和面向液體被排放區(qū)域的所述層(3)上游的表面(87)之間的間隙(86)大于所述薄膜的厚度。
5.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的方法，其中液體(91)和氣體被抽離所述層(3)，抽離的流速大于所述氣流(71-73)和所述液體(91)供應的流速之和。
6.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述氣體(71-73)為空氣。
7.一種用于將輻射導向?qū)?3)的裝置，包括至少一個光學元件(59)，用于將來自輻射源(33)的輻射束(7)聚焦到所述層(3)上的斑點(11)；移位結(jié)構，用于引起層(3)相對所述至少一個光學元件(59)的相對移動，使得層(3)的不同部分被接連照射且保持了所述層(3)和最靠近所述斑點(11)的所述至少一個光學元件(59)的表面之間的間隙(53)；以及流出開口，用于向所述間隙(53)的一部分供應液體(91)，在工作中所述輻射穿過所述間隙(53)的一部分照射所述層(3)上的所述斑點(11)；其特征在于用于將氣流(71-73)導向所述層(3)的氣體流出開口(70)；以及排放通道(76)，具有在所述氣體流出開口(70)附近用于將液體(91)抽離層(3)的入口(77)。
8.根據(jù)權利要求7的裝置，其中用于引導所述氣流(71-73)的所述氣體流出開口(70)為一狹縫。
9.根據(jù)權利要求7或8的裝置，其中所述排放通道(76)連通真空源(81)。
10.根據(jù)權利要求7至9中任何一個的裝置，其中所述氣體流出開口(70)和所述排放通道(76)的所述入口(77)圍繞所述間隙(53)延伸。
全文摘要
為了照射層(3)，輻射束(7)被導向并聚焦到層(3)上的斑點(11)，引起層(3)相對光學元件(59)的相對移動，使得層(3)的不同部分被接連照射且保持了最靠近層(3)的光學元件(59)的表面之間的間隙(53)。此外，輻射照射層(3)上的斑點(11)所經(jīng)過的間隙(53)的至少一部分保持被液體(91)填充。通過將氣流(71－73)導向?qū)?3)的表面區(qū)域(74)，可靠地防止液體(91)穿過表面區(qū)域(74)，且不損傷層(3)。在表面區(qū)域(74)附近抽離層(3)上的液體(91)。
文檔編號G11B7/12GK1723499SQ200380105642
公開日2006年1月18日 申請日期2003年11月14日 優(yōu)先權日2002年12月13日
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