專利名稱：光盤介質(zhì)、光盤介質(zhì)制造方法、轉(zhuǎn)盤和光盤設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用光學(xué)系統(tǒng)或者磁光學(xué)系統(tǒng)將數(shù)據(jù)記錄到其上和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤介質(zhì)、一種用于驅(qū)動光盤轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)盤和一種光盤設(shè)備，其中利用光拾取裝置將數(shù)據(jù)記錄在光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)同時利用主軸馬達(dá)驅(qū)動轉(zhuǎn)盤以使光盤介質(zhì)轉(zhuǎn)動。
本發(fā)明還涉及一種制造利用光學(xué)系統(tǒng)或者磁光學(xué)系統(tǒng)將數(shù)據(jù)記錄到其上和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤介質(zhì)的方法。
背景技術(shù)：
利用光學(xué)系統(tǒng)或者磁光學(xué)系統(tǒng)能夠?qū)?shù)據(jù)記錄到其上和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤介質(zhì)，諸如光盤或者磁光盤，包括光坑數(shù)據(jù)記錄層、形成在盤基體的相對兩個表面的一個或者兩個上的磁膜等和作為數(shù)據(jù)距離層的覆層涂覆的透明保護(hù)膜，這些內(nèi)容是本領(lǐng)域公知的。光盤介質(zhì)通常被安裝在轉(zhuǎn)盤上并且在其中心孔處被轉(zhuǎn)盤上的定心凸起的外周邊卡住并且被轉(zhuǎn)盤驅(qū)動以轉(zhuǎn)動，同時利用光束或者以磁光學(xué)的方式將數(shù)據(jù)記錄在數(shù)據(jù)記錄層上和/或從數(shù)據(jù)記錄層再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
上述類型的各種光盤介質(zhì)是公知的，這些光盤介質(zhì)包括一種光盤介質(zhì)，其中金屬基體用作盤基體(例如參見專利文獻(xiàn)1)；和另一種光盤介質(zhì)，其中使用在盤基體的中心部分處與下表面相連的金屬盤轂的中心孔代替形成在盤基體中的中心孔以被安裝并且被在轉(zhuǎn)盤中心處的軸卡住使盤被轉(zhuǎn)盤驅(qū)動旋轉(zhuǎn)(例如參見專利文獻(xiàn)2)。另外，另一種光盤介質(zhì)也是已知的，其中環(huán)形(輪胎形)印刷標(biāo)簽從上方和下方經(jīng)過兩個上下單面光盤的在相對于中心孔的外側(cè)部分處數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的內(nèi)側(cè)部分之間的一個部分(例如參見專利文獻(xiàn)3)。
同時，在利用磁頭將數(shù)據(jù)記錄在其中和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的磁盤中，金屬基體通常用作盤基體， 且磁膜形成在金屬基體的表面上。通常是這樣制造磁盤，即，將鎂合金等的熔融金屬材料注射到金屬型腔中并且使金屬材料凝固以一個接著一個注射模制金屬基體，利用沖頭在金屬基體的中心處沖出中心孔接著通過濺射等在金屬基體的表面(在一個表面或者兩個相對表面上)上形成薄磁膜(例如參見專利文獻(xiàn)4)。
(專利文獻(xiàn)1)日本專利未審定公開號平11-345412(專利文獻(xiàn)2)日本專利未審定公開號平07-225972(專利文獻(xiàn)3)日本專利未審定公開號平08-297867(專利文獻(xiàn)4)日本專利未審定公開號平11-345412(日本專利申請?zhí)?003-293328)上述任何這樣的常規(guī)光盤介質(zhì)的缺點在于，當(dāng)它被轉(zhuǎn)盤驅(qū)動旋轉(zhuǎn)以利用光拾取裝置將數(shù)據(jù)記錄在光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)時，如果光盤介質(zhì)具有一些翹曲，在其轉(zhuǎn)動時會出現(xiàn)脫離平面偏斜并且產(chǎn)生聚焦誤差或者追蹤誤差。因此，不能預(yù)期高密度記錄/再現(xiàn)。
另外，常規(guī)光盤介質(zhì)中顯示圖像、字符等的區(qū)域或者數(shù)據(jù)記錄區(qū)域被限于在中心孔的外側(cè)部分和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的光盤介質(zhì)的一部分的小區(qū)域。
另外，對于上述常規(guī)光盤介質(zhì)制造方法，由于磁盤等是一個接著一個制造的，因此制造或者制造效率很低并且需要高制造成本。另外，在光盤介質(zhì)具有形成在金屬基體中的中心孔的情況下，數(shù)據(jù)記錄區(qū)域或者顯示圖像、字符等的區(qū)域受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是，提供一種光盤介質(zhì)、轉(zhuǎn)盤和光盤設(shè)備，其中消除光盤介質(zhì)的翹曲以實現(xiàn)高密度記錄/再現(xiàn)。
本發(fā)明的另一個目的是，提供一種光盤介質(zhì)，其中寬的區(qū)域可被用作數(shù)據(jù)記錄區(qū)域或者顯示圖像、字符等的區(qū)域。
本發(fā)明的另一個目的是，提供一種制造光盤介質(zhì)的方法，利用這種方法能夠一次制造多個光盤介質(zhì)以達(dá)到高的制造效率和降低制造成本。
為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種光盤介質(zhì)，所述光盤介質(zhì)包括由磁性物質(zhì)制成并且形成用于校正光盤介質(zhì)的平面度的盤的金屬基體。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種光盤介質(zhì)，所述光盤介質(zhì)包括由磁性物質(zhì)制成并且形成用于校正光盤介質(zhì)的平面度的盤的金屬基體；數(shù)據(jù)記錄層；以及形成在所述金屬基體的相對兩個表面中的一個或者兩個上并且繪制或印刷有可通過所述數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，光盤介質(zhì)包括形成用于校正光盤介質(zhì)的平面度的盤并且由磁性物質(zhì)制成的金屬基體，轉(zhuǎn)盤磁性地將光盤介質(zhì)吸到盤接收面上。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種光盤設(shè)備，所述光盤設(shè)備包括具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，光盤介質(zhì)包括形成用于校正光盤介質(zhì)的平面度的盤并且由磁性物質(zhì)制成的金屬基體，轉(zhuǎn)盤磁性地將光盤介質(zhì)吸到盤接收面上；用于驅(qū)動轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
對于光盤介質(zhì)、轉(zhuǎn)盤和光盤設(shè)備，由于光盤介質(zhì)包括由磁性物質(zhì)制成的金屬基體，因此當(dāng)它被安裝在轉(zhuǎn)盤的盤接受表面上時，它可被磁力吸到盤接收面上以便以高的精度校正光盤介質(zhì)的任何翹曲。因此，光盤介質(zhì)在用于記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)動時的偏離平面的偏斜可被抑制到低的水平。因此，具有這樣的優(yōu)點，即，不可能發(fā)生聚焦誤差和可期望高密度記錄和/或再現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種光盤介質(zhì)，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層，或者形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層，或者形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷可通過數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種具有用于接收上述這樣一種光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著盤接收面的外周邊形成的盤定位筋。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種光盤設(shè)備，所述光盤沒備包括上述這樣一種轉(zhuǎn)盤；用于驅(qū)動轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
對于光盤介質(zhì)、轉(zhuǎn)盤和光盤設(shè)備，盤沒有中心孔并且繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層或者數(shù)據(jù)記錄層可被形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中。因此，具有這樣的優(yōu)點，即，可實現(xiàn)廣告效果并且利用較大面積的圖像字符層改善精美外觀或者利用較大面積的數(shù)據(jù)記錄層實現(xiàn)大容量盤。
根據(jù)本發(fā)明的另一個目的，提供一種用于制造光盤介質(zhì)的光盤介質(zhì)制造方法，在所述光盤介質(zhì)中，數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜層鋪在金屬基體的至少一個面上，所述方法包括下列步驟在大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置的每一個位置處層鋪數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜以一次形成多個小尺寸光盤介質(zhì)；并且從大尺寸金屬基體一次沖出小尺寸光盤介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個目的，提供一種用于制造光盤介質(zhì)的光盤介質(zhì)制造方法，在所述光盤介質(zhì)中，其上繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層、數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜層鋪在金屬基體的至少一個面上，所述方法包括下列步驟在大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置的每一個位置處層鋪圖像字符層、數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜以一次形成多個小尺寸光盤介質(zhì)；并且從大尺寸金屬基體一次沖出小尺寸光盤介質(zhì)。
對于光盤介質(zhì)制造方法，由于可利用單個大尺寸金屬基體一次制造多個小尺寸光盤介質(zhì)，因此大大提高光盤介質(zhì)的制造效率或者制造效率和可大大降低光盤介質(zhì)的制造成本。
從下面參照附圖對本發(fā)明的詳細(xì)描述和附屬權(quán)利要求中可以明顯地看出本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點，在附圖中相同的部件或者元件由相同的附圖標(biāo)記表示。


圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明的光盤設(shè)備的一部分的部分剖視的側(cè)視圖；圖2A和圖2B是分別表示應(yīng)用本發(fā)明的整個光盤介質(zhì)的示意性平面圖和示意性側(cè)視圖；圖3是表示圖2A和圖2B的光盤介質(zhì)的一部分的放大的示意性截面圖，其中光盤介質(zhì)用于單面盤上；圖4是表示圖2A和圖2B的光盤介質(zhì)的一部分的放大的示意性截面圖，其中光盤介質(zhì)用于雙面盤上；圖5是表示圖2A和圖2B的光盤介質(zhì)的一部分的放大的示意性截面圖，并且示出了通過將光盤介質(zhì)的數(shù)據(jù)記錄層的厚度設(shè)定為較大的厚度而使得來自于圖像字符層的不必要的反射光不會混合到所需的發(fā)射光中；圖6A和圖6B是表示本發(fā)明所涉及的光盤介質(zhì)和常用的具有中心孔的光盤之間的記錄容量的差異的示意性平面圖；圖7A和圖7B是表示本發(fā)明所涉及的光盤介質(zhì)和常用的具有中心孔的光盤之間的用于圖像、字符等的顯示區(qū)域的差異的示意性平面圖；圖8是表示應(yīng)用本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤的示意性平面圖；圖9是圖8的局部剖視的側(cè)視圖；圖10是表示在圖2A和2B的光盤介質(zhì)的外周邊部分處的膨脹部分和對應(yīng)于膨脹部分的圖9的轉(zhuǎn)盤的用于凸起凹槽的部分放大的示意性截面圖；圖11至圖14是表示圖2A和圖2B的光盤介質(zhì)和圖8的轉(zhuǎn)盤的不同變型的示意性截面圖；圖15是用于本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法的大尺寸(大直徑)金屬基體的平面圖；圖16是表示在本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法中用于形成數(shù)據(jù)記錄層的一個步驟的截面圖；圖17是表示在本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法中用于形成反射膜的一個步驟的截面圖；圖18是表示在本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法中用于形成保護(hù)層的一個步驟的截面圖；圖19是表示在本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法中光盤介質(zhì)的一個沖出步驟的截面圖；圖20A和圖20B是分別表示本發(fā)明的制造方法所制造的整個光盤介質(zhì)的示意性平面圖和示意性側(cè)視圖；圖21是表示其中光盤介質(zhì)應(yīng)用于單面盤上的圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)的一部分的放大示意性截面圖；圖22是表示其中光盤介質(zhì)應(yīng)用于雙面盤上的圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)的一部分的放大示意性截面圖；圖23是表示圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)的一部分的放大示意性截面圖，其中示出了通過將光盤介質(zhì)的數(shù)據(jù)記錄層的厚度設(shè)定為較大的厚度而使得來自于圖像字符層的不必要的反射光并混合到所需的發(fā)射光中；圖24A和圖24B是表示圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)和常用的具有中心孔的光盤之間的記錄容量的差異的示意性平面圖；圖25A和圖25B是表示圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)和常用的具有中心孔的光盤之間的用于圖像、字符等的顯示區(qū)域的差異的示意性平面圖；圖26是表示再現(xiàn)圖20A和圖20B的光盤介質(zhì)的光盤設(shè)備的一部分的局部剖視的側(cè)視圖；圖27是表示圖26的光盤設(shè)備的轉(zhuǎn)盤的平面圖；
圖28是沿著圖27的A-A線得到的截面圖；圖29是表示在常規(guī)光盤介質(zhì)的外周邊部分處的膨脹部分和對應(yīng)于膨脹部分的圖27的轉(zhuǎn)盤的用于凸起的凹槽的部分放大的示意性截面圖；以及圖30A和圖30B是表示本發(fā)明中的大尺寸金屬基體的變型的示意性平面圖。
具體實施例方式
利用其中可通過數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等被繪制或者印刷在金屬基體的兩個相對表面上的一個或者兩個上的圖像字符層可實現(xiàn)能夠?qū)D像、字符等繪制或者印刷在光盤介質(zhì)的數(shù)據(jù)記錄層上的目的。利用形成在轉(zhuǎn)盤的外周邊上的切去部分以便通過被拾取的光盤介質(zhì)的一部分外周邊執(zhí)行將光盤介質(zhì)安裝在轉(zhuǎn)盤上的操作或從轉(zhuǎn)盤去除光盤介質(zhì)的操作來實現(xiàn)能夠容易地將光盤介質(zhì)吸到轉(zhuǎn)盤上的目的。
利用轉(zhuǎn)盤的盤接收面來實現(xiàn)以高的精度使其上沒有中心孔的光盤介質(zhì)定心在轉(zhuǎn)盤上的目的。
(實施例1)首先，參照圖1對本發(fā)明的光盤設(shè)備的主要部件的概況進(jìn)行描述。以壓縮盤(CD)和數(shù)字視盤(DVD)為代表的本發(fā)明的光盤介質(zhì)1被形成以利用光束從中再現(xiàn)(讀取)數(shù)據(jù)。但是，光盤介質(zhì)1也可被形成以使數(shù)據(jù)以磁光的形式被記錄在其上和/或從中再現(xiàn)(讀取)數(shù)據(jù)，例如磁光盤(MO)。盡管下面將對光盤介質(zhì)1的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述，但是由磁性物質(zhì)制成的金屬基體用作光盤介質(zhì)1的盤基體。應(yīng)該注意的是，常規(guī)光盤介質(zhì)使用由聚碳酸酯(PC)制成的盤基體。
通過壓配合、粘接、利用螺釘?shù)染o固將轉(zhuǎn)盤3固定到主軸馬達(dá)2的馬達(dá)軸2a的一端上。盡管下面將對轉(zhuǎn)盤3的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述，但轉(zhuǎn)盤3是磁性物質(zhì)制成的。轉(zhuǎn)盤3被磁化以在厚度方向上具有N極和S極以使光盤介質(zhì)1可被轉(zhuǎn)盤3的磁力MF固定地吸到轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上。
利用主軸馬達(dá)2使得光盤介質(zhì)1與轉(zhuǎn)盤3整體轉(zhuǎn)動，同時利用作為從光拾取裝置4發(fā)射的光束的激光束LB讀取(再現(xiàn))被記錄在光盤介質(zhì)1的兩個相對表面上的一個或者兩個上的同心圓中的數(shù)據(jù)(信號)。如下面將詳細(xì)描述的，常規(guī)光盤介質(zhì)與本發(fā)明的光盤介質(zhì)1的不同之處在于，本發(fā)明的光盤介質(zhì)1中沒有形成在其中的中心孔，并且數(shù)據(jù)被記錄在從光盤介質(zhì)1的外周邊到中心的寬范圍上。因此，當(dāng)光盤介質(zhì)1的數(shù)據(jù)如上所述被讀取時，光拾取裝置4在從外周邊到中心的寬范圍上在光盤介質(zhì)1的徑向(方向a或者b)上依次訪問光盤介質(zhì)1以從光盤介質(zhì)1讀取數(shù)據(jù)。因此，由于轉(zhuǎn)盤3存在于光盤介質(zhì)1的下表面?zhèn)壬系恼麄€區(qū)域上，因此光拾取裝置4從上方讀取數(shù)據(jù)，即，相對于光盤介質(zhì)1與轉(zhuǎn)盤3相反的一側(cè)讀取數(shù)據(jù)。
下面將參照圖2至6A和6B對本發(fā)明的光盤介質(zhì)1的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述。應(yīng)該注意的是，圖3是表示光盤介質(zhì)1的細(xì)節(jié)的截面圖，其中數(shù)據(jù)僅被記錄在光盤介質(zhì)1的一個表面上，而圖4是表示光盤介質(zhì)1的細(xì)節(jié)的截面圖，其中數(shù)據(jù)被記錄在光盤介質(zhì)1的相對的兩個表面上。光盤介質(zhì)1的盤基體被形成為金屬基體5，金屬基體5是由磁性材料制成的，諸如金屬材料的薄盤。金屬基體例如可由厚度等于或者小于0.5毫米的SUS430材料(磁性不銹鋼材料)制成。
其上繪制或者印刷圖像或者字符的圖像字符層6形成在金屬基體5的兩個相對表面中的一個或者兩個上。另外，由UV樹脂(紫外線硬化樹脂)制成的數(shù)據(jù)記錄層7形成在圖像字符層6上。應(yīng)該注意的是，每一個采用大約50至130納米深的凹部(被稱為坑)形式的數(shù)據(jù)7a形成在數(shù)據(jù)記錄層7的同心圓上。盡管在圖3和圖4中著重示意性地示出了數(shù)據(jù)7a的凹部，但實際上數(shù)據(jù)7a的凹部很小以致于它們幾乎不能用眼睛視覺識別而一眼看過去好像是平的。另外，坑與諸如CD或者DVD的ROM盤中所用的類似并且是光盤通用的信號記錄信息。
為了形成數(shù)據(jù)記錄層7，首先將UV樹脂層涂敷在圖像字符層6上，接著將透明的壓模(用于形成坑的壓印模)被壓在UV樹脂層上。接著，在這種狀態(tài)下，從上方將紫外線照射到UV樹脂層上以使UV樹脂層硬化，從而形成坑，即，數(shù)據(jù)記錄層7。數(shù)據(jù)記錄層7(＝UV樹脂層)的厚度T等于或者大于20微米。
另外，在光盤介質(zhì)1中，利用濺射從上方(從坑表面上方)使得一個允許光透過的反射膜8形成在數(shù)據(jù)記錄層7上。反射膜8可由諸如鋁、鋁合金、銀、銀合金、硅等的材料形成。反射膜8是厚度為10至20納米的薄膜并且用作從上述光拾取裝置4照射的激光束LB的反射膜同時維持?jǐn)?shù)據(jù)記錄層7的坑部分。
由于反射膜8是薄膜，它具有部分光通過性能同時其反射因數(shù)大約為10至30％。因此，使用者可通過反射膜8視覺觀察形成在金屬基體5的表面上的圖像字符層6上的圖像或者字符。
面層9由透明UV樹脂材料等制成并且形成在反射膜8，并且用作保護(hù)層。例如利用旋涂接著利用UV照射使得面層9被形成為薄膜以使得薄膜硬化。
光拾取裝置4從面層9一側(cè)通過物鏡4a將激光束LB照射到光盤介質(zhì)1上。通過面層9的激光束LB被反射膜8反射并且返回到光拾取裝置4。記錄在反射膜8上的信號可根據(jù)來自于數(shù)據(jù)記錄層7的坑的反射光量的變化來讀取。這基于與CD或者DVD相同的原理。
應(yīng)該注意的是，如圖4中所示的其中信號被記錄在其相對兩個表面上的光盤介質(zhì)1可通過這樣的方式制造，即，在制造如圖3中所示的單面盤后，在形成上述數(shù)據(jù)記錄層7之前的步驟也被施加在盤的背面上。
本發(fā)明的光盤介質(zhì)1具有的特征是，其自身被吸到磁體上，這是由于盤基體被形成為金屬基體5。在常規(guī)的光盤介質(zhì)中，例如，在小型磁盤(MD)中，需要將用于被吸到磁體上的被稱為盤轂的金屬塊粘到盤上，而在CD或者DVD中，需要用于固定盤的機(jī)構(gòu)，諸如盤夾持器。但是，根據(jù)本發(fā)明，不需要用于吸到磁體上的盤轂、盤夾持器等，而是光盤介質(zhì)1自身在轉(zhuǎn)盤3的磁力MF的作用下被吸到轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上。
特別是，由磁性物質(zhì)制成的轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a在其適合位置處被磁化以使N極和S極朝向向上和向下的方向，從而使轉(zhuǎn)盤3形成為磁體。因此，由于光盤介質(zhì)1的金屬基體5在轉(zhuǎn)盤3的磁體的磁力MF的作用下被吸到轉(zhuǎn)盤3的表面上，因此光盤介質(zhì)1可被水平地(平行地)吸在轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上。
因此，由于光盤介質(zhì)1的整個金屬基體5被平行地吸在轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上，因此光盤介質(zhì)1的翹曲被校正以大大提高整個光盤介質(zhì)1的平面度。因此，當(dāng)激光束LB從光拾取裝置4照射在數(shù)據(jù)記錄層7上以讀取被反射的光時，聚焦誤差可被減少并且可始終以高精度執(zhí)行數(shù)據(jù)的記錄。
另外，由于金屬基體5用作盤基體，因此當(dāng)與其中的盤基體是由聚碳酸酯(PC)制成的常規(guī)光盤介質(zhì)(諸如CD和DVD)相比時，整個光盤介質(zhì)1的剛度被提高。這帶來的優(yōu)點是，在盤剛度相同的情況下，整個光盤介質(zhì)1的厚度可被減小。
當(dāng)光拾取裝置4用于信號再現(xiàn)時，需要僅讀取從反射膜8反射的光。但是，由于反射膜8具有部分光通過性能，因此已經(jīng)通過反射膜8的光在圖像字符層6處產(chǎn)生不需要的反射光。
因此，在本發(fā)明中，UV硬化層(數(shù)據(jù)記錄層7)的厚度T(等于圖像字符層6和反射膜8之間的距離)被制作得較大以減少不需要反射光(參見圖5)。接著被聚焦在反射膜8的激光束LB分散，并且已經(jīng)通過數(shù)據(jù)記錄層7的部分光以直徑隨著UV樹脂層(數(shù)據(jù)記錄層7)的厚度增大而增大的光點的形式投射在圖像字符層6上。因此，泄漏到被反射膜8反射的所需反射光Lb1中的、且被圖像字符層6反射的不需要的反射光Lb2的量可被降低，并且可大大提高數(shù)據(jù)記錄精度。
如果實際上用作DVD的雙層記錄盤作為一個示例被描述，那么在反射膜的第一層和第二層之間的距離是20微米的情況下，允許再現(xiàn)。實際結(jié)果證明，如果提供至少20微米的距離，那么即使存在來自于不同層的一些不需要的反射光，那么系統(tǒng)正常工作。在反射膜8被形成為具有部分光通過性能的反射膜以及UV樹脂層(數(shù)據(jù)記錄層7)形成有較大的厚度(等于或者大于20微米)以使得來自于圖像字符層6的不需要反射光Lb2變得無關(guān)緊要的情況下，也可插入圖像或者字符在盤的信號記錄面上的印刷。根據(jù)相關(guān)技術(shù)，盡管能夠在相對于信號記錄面的背面上印刷，但不能插入在信號記錄面上的印刷。
本發(fā)明的光盤介質(zhì)1的特征還在于，由于盤表面覆有作為保護(hù)層的面層9，因此盤表面沒有凹凸形狀并且可被形成為一個平表面，并且如完全示出盤的圖2中所示，光盤介質(zhì)1沒有中心孔(在盤中心的孔)。常規(guī)光盤介質(zhì)本質(zhì)上需要用于當(dāng)將盤安裝在主軸馬達(dá)上時定心的中心孔。
但是，本發(fā)明的光盤介質(zhì)1具有上述主軸馬達(dá)2的轉(zhuǎn)盤3的結(jié)構(gòu)，從而即使它沒有中心孔也可使光盤介質(zhì)1被定心。另外，由于取消了中心孔，因此數(shù)據(jù)記錄層7可被擴(kuò)展直至到達(dá)盤中心部分1b，從而可增加光盤介質(zhì)的記錄容量。特別是，圖6A示出了具有中心穿孔的常規(guī)光盤介質(zhì)91(諸如CD或者DVD)。由于光盤介質(zhì)91在盤中心處穿有中心孔92，因此不能減小從盤外周邊部分93延伸到盤的內(nèi)周邊部分的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域97的內(nèi)圓周側(cè)的直徑。因此，光盤介質(zhì)91限制記錄容量的增大。
相反，對于本發(fā)明的光盤介質(zhì)1，由于如圖6B中所示，盤的中心處未穿有中心孔92，因此數(shù)據(jù)記錄層7可被擴(kuò)展直至到達(dá)盤中心側(cè)以使其范圍為從盤外周邊1a到盤中心部1b的直徑為0.5毫米的位置。另外，在常規(guī)光盤設(shè)備中，由于利用轉(zhuǎn)盤3轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)1的數(shù)據(jù)記錄面通常是朝下的并且從光盤介質(zhì)1的下側(cè)利用光拾取裝置從數(shù)據(jù)記錄面讀取數(shù)據(jù)，如果試圖減小中心孔92的內(nèi)側(cè)直徑，那么光拾取裝置會影響主軸馬達(dá)。另外，這也限制了記錄容器的擴(kuò)展。
相反，在本發(fā)明的光盤介質(zhì)1中，由于主軸馬達(dá)2和光拾取裝置4設(shè)置在橫穿光盤介質(zhì)1的相對兩側(cè)上，因此即使光拾取裝置4接近盤的內(nèi)周邊，光拾取裝置4和主軸馬達(dá)2也不會相互影響。因此，還根據(jù)光盤介質(zhì)1沒有中心孔以及光拾取裝置4可在完全不影響主軸馬達(dá)2的情況下接近直至光盤介質(zhì)1的盤中心部1b的情況，數(shù)據(jù)記錄層7可被擴(kuò)展以實現(xiàn)記錄容量的增加。圖7A示出了具有中心穿孔的另一種常規(guī)光盤介質(zhì)91(諸如CD或者DVD)。對于圖7A中所示的光盤介質(zhì)91，通過繪制或者印刷圖像、字符等形成的圖像字符層96被穿設(shè)在盤中心處的中心孔92大大限制。因此，不能使得包括中心孔部分92在內(nèi)的盤的整個占據(jù)區(qū)域的大部分以大尺寸的形式和有效地顯示圖像、字符等。
相反，對于本發(fā)明的光盤介質(zhì)1，由于如圖7B中所示，它沒有中心孔，因此包括光盤介質(zhì)1的盤中心部分1b在內(nèi)的圖像字符層6可在寬范圍上被形成。因此，諸如圖像、字符等的顯示完全不受中心孔的限制，并且圖像、字符等可以大尺寸和良好外觀的形式被顯示，光盤介質(zhì)的商品價值等可被大大增強(qiáng)。
現(xiàn)在，參見圖8和圖9描述的本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤3。本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤3被形成為由磁體(連接磁體、燒結(jié)磁體等)構(gòu)成的整體元件并且本身被磁化以使N極和S極朝向上下方向以施加磁力MF。轉(zhuǎn)盤3的特征還在于，它具有大于光盤介質(zhì)1的外徑，以及用于使光盤介質(zhì)1定心的圓柱形筋10整體地并且同心地形成在盤接收面3a上。如圖1中所示，光盤介質(zhì)1被定位以使其外徑與筋10的內(nèi)徑重合并且被磁力MF吸到盤接收面3a上。光盤介質(zhì)1的外徑和筋10的內(nèi)徑被設(shè)計成這樣的形式，即，在它們之間留有100微米的間隙，考慮它們的部分公差。
另外，利用該定心方法，可實現(xiàn)在±100微米內(nèi)的定心精度，這樣，光盤介質(zhì)1可以等于依賴于中心孔的常規(guī)定心方法所實現(xiàn)的精度被定心。筋10還用作能夠防止光盤介質(zhì)1在轉(zhuǎn)動過程中沿著周向脫開的止檔件。該方法還使得沒有中心孔的光盤介質(zhì)1以基本上等于常規(guī)方法可實現(xiàn)的精度在轉(zhuǎn)盤3上被定心。
從圖8和圖9中可以看出，本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤3是在筋10的內(nèi)周面10a和上表面10b之間的角部處的斜切面11，從而當(dāng)光盤介質(zhì)1被插入到筋10的內(nèi)側(cè)中時以被吸到(安裝在)盤接收面3a上時，斜切面11可引導(dǎo)光盤介質(zhì)1的外周邊以將光盤介質(zhì)1平滑地引入到筋10的內(nèi)側(cè)中。因此，在轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上的光盤介質(zhì)1的安裝操作可被平滑地執(zhí)行。
應(yīng)該注意的是，筋10的高度小于光盤介質(zhì)1的厚度。為了當(dāng)光盤介質(zhì)1被安裝在轉(zhuǎn)盤3上或者從轉(zhuǎn)盤3上取下時確保良好的可操作性，光拾取裝置4相對于盤的最靠外的周邊移動到外邊。因此，如果筋10的高度大于盤的厚度，那么存在這樣一個可能性，即，當(dāng)諸如物鏡4a的光拾取裝置4中靠近光盤介質(zhì)1的一部分在轉(zhuǎn)盤3的徑向上移動時，可能使其被筋10俘獲。如果筋10的高度小于光盤介質(zhì)1的厚度，那么不存在該部分被俘獲的可能。
另外，一個或者多個切去部分14形成在轉(zhuǎn)盤3的外周邊上。切去部分14是為了將光盤介質(zhì)1安裝在轉(zhuǎn)盤3上或者將光盤介質(zhì)1從轉(zhuǎn)盤3上取下而能夠讓使用者的手指可插入其中以拾取光盤介質(zhì)1的部分。如果轉(zhuǎn)盤3沒有這樣的切去部分14，那么轉(zhuǎn)盤3的筋10制造一種障礙并且使用者特別難以取出光盤介質(zhì)1。
根據(jù)本發(fā)明，光盤介質(zhì)1在從其內(nèi)周邊到其外周邊的寬范圍內(nèi)被磁力MF吸到轉(zhuǎn)盤3上。對于本發(fā)明的方法，即使光盤介質(zhì)1具有一定的翹曲，利用磁力MF的吸力迫使其遵循具有高剛度的盤接收面3a，這表明，如果盤接收面3a具有良好的平面度，那么即使光盤介質(zhì)1具有較大程度的翹曲，當(dāng)它被實際使用時，它被校正到它具有良好的平面度的狀態(tài)。因此，如果當(dāng)與關(guān)于由光盤介質(zhì)1的標(biāo)準(zhǔn)指定的離開平面偏斜或者平面度的規(guī)格相比時提高盤接收面3a的平面度，那么當(dāng)它被實際使用時，具有降低光盤介質(zhì)1的翹曲量的效果。換言之，可降低光盤介質(zhì)1的翹曲標(biāo)準(zhǔn)。
參見圖8至圖10，本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤3具有用于沿著盤接收面3a的外周邊部分在高度方向上提供凸起的環(huán)形凹槽或者溝槽12。凹槽12以用于光盤介質(zhì)1在距離光盤介質(zhì)1的外周端1至2毫米的范圍內(nèi)的一部分的凸起的形式被提供，這是由于該部分具有大約50微米或者更小的厚度。特別是，在光盤介質(zhì)1中，如圖10中所示，利用旋涂形成面層9。盡管旋涂利用離心力形成薄膜，但具有UV樹脂僅在光盤介質(zhì)1的最靠外的圓周部分處積累的性質(zhì)，這是由于表面張力的作用，從而在薄膜具有較大的厚度處形成膨脹部分15。如果用于凸起的凹槽12沒有被設(shè)置在轉(zhuǎn)盤3中，那么當(dāng)光盤介質(zhì)1被吸到轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上時，存在這樣的可能性，即，膨脹部分15可座落在(影響)盤接收面3a上以增加光盤介質(zhì)1的翹曲。
(實施例2)圖11示出了本發(fā)明的實施例2。參見圖11，光盤介質(zhì)1的金屬基體5被磁化以使光盤介質(zhì)1被金屬基體5的磁力MF吸到由諸如鐵材料的磁性物質(zhì)制成的轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上。
(實施例3)圖12示出了本發(fā)明的實施例3。參見圖12，多個磁體18被埋設(shè)在管瓶3的盤接收面3a中以使光盤介質(zhì)1被磁體18的磁力MF吸到轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a上。在這種情況下，轉(zhuǎn)盤3可由諸如塑料的非磁性材料制成。
(實施例4)圖13示出了本發(fā)明的實施例4。參見圖13，環(huán)形筋1c和/或環(huán)形筋1d在光盤介質(zhì)1的外和/或內(nèi)圓周部分處被形成光盤介質(zhì)1的上下面中的至少一個上。特別是，在光盤介質(zhì)1被形成為單面盤的情況下，環(huán)形筋1c和/或環(huán)形筋1d形成在光盤介質(zhì)1的下表面上(與數(shù)據(jù)記錄層7相對的表面)。另一方面，在光盤介質(zhì)1被形成為雙面盤的情況下，環(huán)形筋1c和/或環(huán)形筋1d形成在光盤介質(zhì)1的相對的上下面上。在這樣一種環(huán)形筋1c和/或1d形成在光盤介質(zhì)1上的情況下，即使光盤介質(zhì)1被無意放置在桌子等上，可防止面層9、圖像字符層6等無意受損。
(實施例5)圖14示出了本發(fā)明的實施例5。參見圖14，環(huán)形筋3b和3c形成在轉(zhuǎn)盤3的馬達(dá)軸2a的外和內(nèi)圓周部分上以使光盤介質(zhì)1被水平接收在內(nèi)圓周和外圓周上的環(huán)形筋3b和3c上。這樣，轉(zhuǎn)盤3的盤接收面3a無需一定是完全平表面。
(光盤介質(zhì)制造方法)當(dāng)在制造光盤介質(zhì)時多個小尺寸光盤介質(zhì)被形成在一個大尺寸金屬基體上時，通過在沒有在小尺寸光盤的中心處加工中心孔的情況下形成每一個小尺寸光盤介質(zhì)的整個占據(jù)區(qū)域的大部分可實現(xiàn)擴(kuò)展光盤介質(zhì)的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和用于圖像、字符等的顯示區(qū)域的目的。另外，通過圍繞中心孔在水平面內(nèi)的大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動控制可實現(xiàn)利用旋涂一次在多個小尺寸光盤介質(zhì)的反射膜上形成保護(hù)層的目的。利用與在大尺寸金屬基體的外周邊附近的一個位置處形成的定位孔保持基本相對關(guān)系的、在大尺寸金屬基體的外周邊附近的另一個位置處形成的平衡孔，可實現(xiàn)在圍繞中心孔在水平面內(nèi)的大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動控制時保持大尺寸金屬基體轉(zhuǎn)動平衡的目的。
另外，通過在大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動中心周圍以環(huán)形布置形式設(shè)置多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域，在小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域中形成小尺寸光盤介質(zhì)并且在形成小尺寸光盤介質(zhì)后利用壓力加工一次從大尺寸金屬基體上切下小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域來實現(xiàn)一次從單個大尺寸金屬基體上有效地制造多個小尺寸光盤介質(zhì)的目的。
另外，當(dāng)利用壓力加工一次形成多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以制造多個小尺寸光盤介質(zhì)時，在從最靠外的圓周位置向內(nèi)移動2毫米或者更大距離的位置處對每一個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域進(jìn)行壓力加工可實現(xiàn)防止旋涂材料的膨脹部分形成在被旋涂在小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域中的反射膜上的保護(hù)膜的外圓周部分處的目的。
另外，利用形成直徑基本為120毫米的大尺寸金屬基體并且以環(huán)形布置的形式形成直徑基本等于或者小于53毫米的小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域可實現(xiàn)從一個大尺寸金屬基體上一次制造六個小尺寸光盤介質(zhì)的目的。
(實施例6)首先，參照圖15至圖19描述本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法的一個實施例。圖15示出了這樣一個實施例，其中從一個盤狀的大尺寸(大直徑)金屬基體150上一次制造多個(例如6個)小尺寸(小直徑)光盤介質(zhì)101。圓形的中心孔151形成在大尺寸金屬基體150上的中心處，并且圓形的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152圍繞中心孔151的外周邊以環(huán)形布置的形式等間隔(六個等間隔布置)地被設(shè)置。小尺寸光盤介質(zhì)101以基本同心的形式獨立地形成在六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152中。
因此，關(guān)于尺寸，例如，大尺寸金屬基體150的直徑D1基本為120毫米，中心孔的直徑D2基本為15毫米。另外，六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的直徑D3等于或者小于53毫米，小尺寸光盤介質(zhì)101的直徑D4為30毫米。因此，小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的直徑D3和小尺寸光盤介質(zhì)101的直徑D4之間的差小于23毫米，并且如果每一個小尺寸光盤介質(zhì)101在相應(yīng)的小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152中被基本同心地加工，寬度W1等于或者小于11.5毫米的自由空間存在于小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152和小尺寸光盤介質(zhì)101最靠外的周邊之間。
應(yīng)該注意的是，采用孔的形式的單個定位孔153、切去部分等和采用孔的形式的一個或者多個平衡孔154在大尺寸金屬基體150的外周邊附近位置處相對于中心孔151相互對稱地形成。在下面描述的旋涂等時，中心孔151和定位孔153用作大尺寸金屬基體150的定位參考或者轉(zhuǎn)動參考。另外，在下面描述的旋涂等時，當(dāng)大尺寸金屬基體150被控制以圍繞中心孔151在水平面內(nèi)轉(zhuǎn)動時，平衡孔154用于保持轉(zhuǎn)動平衡(即，對由于定位孔153形成在偏離中心孔151的一個位置處而損失的大尺寸金屬基體150的轉(zhuǎn)動平衡進(jìn)行校正)。因此，具有與定位孔153相同形狀的單個孔可被形成為在相對于中心孔151與定位孔153對稱的一個位置處的單個平衡孔154，或者尺寸等于定位孔153的尺寸一半的兩個孔可被形成在相對于中心孔151對稱的位置處。
現(xiàn)參照圖16至圖19對使用單個大尺寸金屬基體150制造六個小尺寸光盤介質(zhì)101的方法進(jìn)行描述。盡管六個小尺寸光盤介質(zhì)101分別可是下面描述的單面盤，但說明書中給出了下面描述的這樣一種雙面盤的制造方法。應(yīng)該注意的是，圖16至圖19是其中每一個元件在厚度方向上被放大示出的示意圖。
首先，厚度T1等于或者小于0.5毫米(參見圖17)的SUS430材料(磁性不銹鋼材料)可被用作如圖16中所示的大尺寸金屬基體150。如下面所述的預(yù)先在其上繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層106被形成在大尺寸金屬基體150的相對兩個表面上的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152中的中心側(cè)上。
另外，如圖16中所示，中空圓柱形的六個腔163形成在注射模制設(shè)備160的一對金屬型161和162之間的分別與圖15中所示的大尺寸金屬基體150的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152相對的位置處。六個腔163具有等于或者小于53毫米的直徑，與大尺寸金屬基體150的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的直徑D3相當(dāng)。
這樣，大尺寸金屬基體150被安裝在注射模制設(shè)備160的成對金屬型161和162之間并且被設(shè)置在這樣一個位置處，即，它與六個圓形腔163的厚度方向上的中心位置相交以使形成在大尺寸金屬基體150的六個位置處的圖像字符層106位于如圖16中所示的六個腔163等的中心位置處。
因此，例如，大尺寸金屬基體150的中心孔151被安裝在金屬型161的中心銷164上并且大尺寸金屬基體150的定位孔153被安裝在金屬型161的定位銷165上以使大尺寸金屬基體150相對于六個腔163定位。應(yīng)該注意的是，另一個金屬型162在其中心孔66處與金屬型161的中心銷164接合并且利用未示出的其他一些定位裝置使其相對于金屬型161定位。
另一方面，如圖16中所示，用于形成作為數(shù)據(jù)(信號)107a的大約50至130納米的凹凸形狀的坑形成凹-凹形狀部分167和168預(yù)先形成在成對的金屬型161和162的六個腔163中在厚度方向上的相對六個表面161a和162a上。
這樣，熔融透明樹脂(例如，聚碳酸酯(PC))從如圖16中所示的成對金屬型161和162的注口169和170在六個腔163內(nèi)朝向在大尺寸金屬基體150的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的相對六個表面上的圖像字符層106一次注射。因此，具有由成對的凹-凹形狀部分167和168在其表面上形成的作為數(shù)據(jù)107a的50至130納米的凹凸形狀的坑的一對數(shù)據(jù)記錄層107，被外部模制(注射模制)在大尺寸金屬基體150的兩個相對表面上的圖像字符層106表面上的、在圖15中所示的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152中。
接著，在由透明樹脂層制成的數(shù)據(jù)記錄層107冷卻后，移除成對的金屬型161和162并且將大尺寸金屬基體150取出到注射模制設(shè)備160外部。通過上述步驟，形成具有厚度為10至20微米并且具有透光性的數(shù)據(jù)記錄層107的工藝完成。
接著，利用濺射使采用薄膜形式的并且具有下面描述的透光性以及厚度大約為10至20微米的一對反射膜108以一面接著一面的形式連貫地形成在如圖17中所示的大尺寸金屬基體150的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的相對兩個表面上的數(shù)據(jù)記錄層107的表面上。
接著，利用旋涂使如下面所述的由透明UV樹脂材料等制成的一對保護(hù)膜109以一面接著一面的形式連貫地形成在如圖18中所示的大尺寸金屬基體150的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的相對兩個表面上的反射膜108的表面上。
因此，利用未示出的轉(zhuǎn)動裝置驅(qū)動大尺寸金屬基體150以圍繞中心孔151在水平面內(nèi)高速轉(zhuǎn)動并且利用平衡孔154校正由于定位孔153而損失的大尺寸金屬基體150的轉(zhuǎn)動平衡以使大尺寸金屬基體150可由于穩(wěn)定的轉(zhuǎn)動平衡而高速平穩(wěn)轉(zhuǎn)動。
另一方面，如圖18中所示，利用旋涂時保護(hù)膜109的離心力使每一個保護(hù)膜109的膨脹部分115自然地形成在六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的相對兩個表面中的每一個上的最靠外圓周區(qū)域中的寬度W等于或者小于2毫米的區(qū)域中。
因此，在最后階段，如圖19中所示，利用壓力機(jī)的壓力加工在直徑D4的圓形中對單個大尺寸金屬基體150的直徑D3等于或者小于53毫米的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的每一個的內(nèi)側(cè)進(jìn)行基本同心地加工以一次切下直徑D4為30毫米的六個小尺寸光盤介質(zhì)101，從而完成六個小尺寸光盤介質(zhì)101的制造。
根據(jù)上述這樣一種小尺寸光盤介質(zhì)101的制造方法，盡管如體18中所示，旋涂時使每一個保護(hù)膜109的膨脹部分115自然地形成在六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的每一個上的最靠外圓周區(qū)域中的寬度W等于或者小于2毫米的區(qū)域中，如圖19中所示，在壓力加工時，對基本上同心地在單個大尺寸金屬基體150的直徑D3等于或者小于53毫米的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的每一個的內(nèi)側(cè)上的直徑D4為30毫米的小尺寸光盤介質(zhì)101進(jìn)行加工，但利用壓力加工對相對于在六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的每一個內(nèi)的最靠外圓周區(qū)域中的W1等于或者小于11.5毫米的自由空間的寬度W等于或者小于2毫米的保護(hù)膜109的膨脹部分115的內(nèi)側(cè)進(jìn)行加工，同時寬度W等于或者小于2毫米的保護(hù)膜109的膨脹部分115留在自由空間中。因此，保護(hù)膜109的膨脹部分115不再存在于以上述這種方式制造的六個小尺寸光盤介質(zhì)101的每一個的最靠外圓周區(qū)域中。
因此，根據(jù)本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法，其中保護(hù)膜109的膨脹部分115完全不會產(chǎn)生(存在于)在最靠外圓周區(qū)域中的六個小尺寸光盤介質(zhì)101可以高的精度一次制造。另外，利用本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法制造的六個小尺寸光盤介質(zhì)101中沒有中心孔。
現(xiàn)參照圖26對用于再現(xiàn)本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)的光盤設(shè)備的主要部件進(jìn)行概述。本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101可利用激光束再現(xiàn)(讀取)數(shù)據(jù)，如以CD或者DVD為代表。但是，小尺寸光盤介質(zhì)101可利用磁光學(xué)系統(tǒng)記錄和/或再現(xiàn)(讀取)數(shù)據(jù)，諸如磁光盤(MO)。盡管下面將描述小尺寸光盤介質(zhì)101的細(xì)節(jié)，但是由磁性物質(zhì)制成的金屬基體用作小尺寸光盤介質(zhì)101的盤基體。應(yīng)該注意的是，常規(guī)光盤介質(zhì)使用由聚碳酸酯(PC)制成的盤基體。
通過壓配合、粘接、利用螺釘?shù)染o固將轉(zhuǎn)盤103固定到主軸馬達(dá)102的馬達(dá)軸102a的一端上。盡管下面將對轉(zhuǎn)盤103的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述，但轉(zhuǎn)盤103是磁性物質(zhì)制成的。轉(zhuǎn)盤103被磁化以在厚度方向上具有N極和S極以使小尺寸光盤介質(zhì)101可被轉(zhuǎn)盤103的磁力MF吸(固定)到轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上。
利用主軸馬達(dá)102使得小尺寸光盤介質(zhì)101與轉(zhuǎn)盤103整體轉(zhuǎn)動，同時利用作為從光拾取裝置104發(fā)射的光束的激光束LB讀取(再現(xiàn))被記錄在小尺寸光盤介質(zhì)101的兩個相對表面上的一個或者兩個上的同心圓中的數(shù)據(jù)(信號)。如下面將詳細(xì)描述的，常規(guī)光盤介質(zhì)與本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101的不同之處在于，本發(fā)明的光盤介質(zhì)1中沒有形成在其中的中心孔，并且數(shù)據(jù)被記錄在從小尺寸光盤介質(zhì)101的外周邊到中心的寬范圍上。因此，光拾取裝置104在從外周邊到中心的寬范圍上在小尺寸光盤介質(zhì)101的徑向(方向a或者b)上依次訪問小尺寸光盤介質(zhì)101以從小尺寸光盤介質(zhì)101讀取數(shù)據(jù)。因此，由于轉(zhuǎn)盤103存在于小尺寸光盤介質(zhì)101的下表面?zhèn)壬系恼麄€區(qū)域上，因此光拾取裝置104從上方讀取數(shù)據(jù)，即，從轉(zhuǎn)盤103相對于小尺寸光盤介質(zhì)101的相對一側(cè)讀取數(shù)據(jù)。
下面將參照圖20A和20B至25A和25B對本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101的細(xì)節(jié)進(jìn)行描述。應(yīng)該注意的是，圖21是表示小尺寸光盤介質(zhì)101的細(xì)節(jié)的截面圖，其中數(shù)據(jù)僅被記錄在小尺寸光盤介質(zhì)101的一個表面上，而圖22是表示小尺寸光盤介質(zhì)101的細(xì)節(jié)的截面圖，其中數(shù)據(jù)被記錄在小尺寸光盤介質(zhì)101的相對的兩個表面上。小尺寸光盤介質(zhì)101的盤基體被形成為金屬基體105，金屬基體105是由磁性材料制成的，諸如金屬材料的薄盤。金屬基體例如可由厚度等于或者小于0.5毫米的SUS430材料(磁性不銹鋼材料)制成。
其上繪制或者印刷圖像或者字符的圖像字符層106形成在金屬基體105的兩個相對表面中的一個或者兩個上。另外，由透明樹脂制成的數(shù)據(jù)記錄層107形成在圖像字符層106上。應(yīng)該注意的是，每一個采用大約50至130納米深的凹部(被稱為坑)形式的數(shù)據(jù)107a形成在數(shù)據(jù)記錄層107的同心圓上。應(yīng)該注意的是，盡管在圖21和圖22中著重示意性地示出了數(shù)據(jù)107a的凹部，但實際上數(shù)據(jù)107a的凹部很小以致于它們幾乎不能用眼睛視覺識別而一眼看過去好像是平的。另外，坑與諸如CD或者DVD的ROM盤中所用的類似并且是光盤通用的信號記錄信息。
如上所述，利用由注射模制設(shè)備160在圖像字符層106上注射模制的透明樹脂使得數(shù)據(jù)記錄層107同時形成有數(shù)據(jù)107a。此時，數(shù)據(jù)記錄層107(＝透明樹脂層)的厚度T等于或者大于20微米。
另外，在小尺寸光盤介質(zhì)101中，利用濺射從上方(從坑表面上方)使得可允許光透過的反射膜108形成在數(shù)據(jù)記錄層107上。反射膜108可由諸如鋁、鋁合金、銀、銀合金、硅等的材料形成。反射膜108是厚度大約為10至20納米的薄膜并且用作從上述光拾取裝置104照射的激光束LB的反射膜同時維持?jǐn)?shù)據(jù)記錄層107的坑部分。
由于反射膜108是薄膜，它具有部分光通過性能同時其反射因數(shù)大約為10至30％。因此，使用者可通過反射膜108視覺觀察形成在金屬基體105的表面上的圖像字符層106上的圖像或者字符。
作為面層的保護(hù)膜109由透明UV樹脂材料等制成并且形成在反射膜108上。例如利用旋涂接著利用UV照射使得保護(hù)膜109被形成為薄膜以使得薄膜硬化。
如圖23中所示，光拾取裝置104從保護(hù)膜109一側(cè)通過物鏡104a照射激光束LB到小尺寸光盤介質(zhì)101上。通過保護(hù)膜109的激光束LB被反射膜108反射并且返回到光拾取裝置104。記錄在反射膜108上的信號可根據(jù)來自于數(shù)據(jù)記錄層107的坑的反射光量的變化來讀取。這基于與CD或者DVD相同的原理。
本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101具有的特征是，其自身被吸到磁體上，這是由于盤基體被形成為金屬基體105。在常規(guī)的光盤介質(zhì)中，例如，在小型磁盤(MD)中，需要將用于被吸到磁體上的被稱為盤轂的金屬塊粘到盤上，而在CD或者DVD中，需要用于固定盤的機(jī)構(gòu)，諸如盤夾持器。但是，根據(jù)本發(fā)明，不需要用于吸到磁體上的盤轂、盤夾持器等，但小尺寸光盤介質(zhì)101自身在轉(zhuǎn)盤103的磁力MF的作用下被吸到轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上。
特別是，由磁性物質(zhì)制成的轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a在其適合位置處被磁化以使N極和S極朝向向上和向下的方向，從而使轉(zhuǎn)盤103形成為磁體。因此，由于小尺寸光盤介質(zhì)101的金屬基體105在轉(zhuǎn)盤103的磁體的磁力MF的作用下被吸到轉(zhuǎn)盤103的表面上，因此小尺寸光盤介質(zhì)101可被水平地(平行地)吸在轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上。
因此，由于小尺寸光盤介質(zhì)101的整個金屬基體105被平行地吸在轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上，因此小尺寸光盤介質(zhì)101的翹曲被校正以大大提高整個小尺寸光盤介質(zhì)101的平面度。因此，當(dāng)激光束LB從光拾取裝置104照射在數(shù)據(jù)記錄層107上以讀取被反射的光時，聚焦誤差可被減少并且可始終以高精度執(zhí)行數(shù)據(jù)的記錄。
另外，由于金屬基體105用作盤基體，因此當(dāng)與其中的盤基體是由聚碳酸酯(PC)制成的常規(guī)光盤介質(zhì)(諸如CD和DVD)相比時，整個小尺寸光盤介質(zhì)101的剛度被提高。這帶來的優(yōu)點是，在盤剛度相同的情況下，整個小尺寸光盤介質(zhì)101的厚度可被減小。
當(dāng)光拾取裝置104用于信號再現(xiàn)時，需要僅讀取從反射膜108反射的光。但是，由于反射膜108具有部分光通過性能，因此已經(jīng)通過反射膜108的光在圖像字符層106處產(chǎn)生不需要的反射光。
因此，在本發(fā)明中，透明樹脂層(數(shù)據(jù)記錄層107)的厚度T(等于圖像字符層106和反射膜108之間的距離)被制作得較大以減少不需要反射光(參見圖23)。接著被聚焦在反射膜108的激光束LB分散，并且已經(jīng)通過數(shù)據(jù)記錄層107的部分光以直徑隨著透明樹脂層(數(shù)據(jù)記錄層7)的厚度增大而增大的光點的形式投射在圖像字符層106上。因此，泄漏到被反射膜108反射的所需反射光Lb1中的被圖像字符層106反射的不需要的反射光Lb2的量可被降低，并且可大大提高數(shù)據(jù)記錄精度。
如果實際上用作DVD的雙層記錄盤作為一個示例被描述，那么在第一層反射膜和第二反射膜之間的距離是20微米的情況下，允許再現(xiàn)。實際結(jié)果證明，如果提供至少20微米的距離，那么即使存在來自于不同層的一些不需要的反射光，那么系統(tǒng)正常工作。在反射膜108被形成為具有部分光通過性能的反射膜以及透明樹脂層(數(shù)據(jù)記錄層107)形成有較大的厚度(等于或者大于20微米)以使得來自于圖像字符層106的不需要反射光Lb2變得無關(guān)緊要的情況下，也可插入圖像或者字符在盤的信號記錄面上的印刷。根據(jù)相關(guān)技術(shù)，盡管能夠在相對于信號記錄面的背面上印刷，但不能插入在信號記錄面上的印刷。
本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101的特征還在于，由于盤表面覆有作為保護(hù)層的保護(hù)膜109，因此盤表面沒有凹凸形狀并且可被形成為一個平表面，并且如完全示出盤的圖20A中所示，小尺寸光盤介質(zhì)101沒有中心孔(在盤中心的孔)。常規(guī)光盤介質(zhì)本質(zhì)上需要用于當(dāng)將盤安裝在主軸馬達(dá)上時定心的中心孔。
但是，本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101具有上述主軸馬達(dá)102的轉(zhuǎn)盤103的結(jié)構(gòu)，從而即使它沒有中心孔也可使小尺寸光盤介質(zhì)101被定心。另外，由于取消了中心孔，因此數(shù)據(jù)記錄層107可被擴(kuò)展直至到達(dá)盤中心部分101b，從而可增加光盤介質(zhì)的記錄容量。特別是，圖24A示出了具有中心穿孔的常規(guī)光盤介質(zhì)191(諸如CD或者DVD)。由于光盤介質(zhì)191在盤中心處穿有中心孔192，因此不能減小從盤外周邊部分193延伸到盤的內(nèi)周邊部分的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域197的內(nèi)圓周側(cè)的直徑。因此，光盤介質(zhì)191限制記錄容量的增大。
相反，對于本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101，由于如圖24B中所示，盤的中心處未穿有中心孔，因此數(shù)據(jù)記錄層107可被擴(kuò)展直至到達(dá)盤中心側(cè)以使其范圍為從盤外周邊101a到盤中心部101b的直徑大約為0.5毫米的位置。另外，在常規(guī)光盤設(shè)備中，由于利用轉(zhuǎn)盤103轉(zhuǎn)動的小尺寸光盤介質(zhì)101的數(shù)據(jù)記錄面通常是朝下的并且從小尺寸光盤介質(zhì)101的下側(cè)利用光拾取裝置從數(shù)據(jù)記錄面讀取數(shù)據(jù)，如果試圖減小中心孔192的內(nèi)側(cè)直徑，那么光拾取裝置會影響主軸馬達(dá)。另外，這也限制了記錄容器的擴(kuò)展。
相反，在本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101中，由于主軸馬達(dá)102和光拾取裝置104設(shè)置在橫穿小尺寸光盤介質(zhì)101的相對兩側(cè)上，因此即使光拾取裝置104訪問盤的內(nèi)周邊，光拾取裝置104和主軸馬達(dá)102也不會相互影響。因此，還根據(jù)小尺寸光盤介質(zhì)101沒有中心孔以及光拾取裝置104可在完全不影響主軸馬達(dá)102的情況下接近直至小尺寸光盤介質(zhì)101的盤中心部101b的情況，數(shù)據(jù)記錄層107可被擴(kuò)展以實現(xiàn)記錄容量的增加。圖25A示出了具有中心穿孔的另一種常規(guī)光盤介質(zhì)191(諸如CD或者DVD)。對于圖25A中所示的光盤介質(zhì)191，通過繪制或者印刷圖像、字符等形成的圖像字符層196被穿設(shè)在盤中心處的中心孔192大大限制。因此，不能使得包括中心孔部分192的盤的整個占據(jù)區(qū)域的大部分以大尺寸的形式和有效地顯示圖像、字符等。
相反，對于本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101，由于如圖25B中所示，它沒有中心孔，因此包括小尺寸光盤介質(zhì)101的盤中心部分101b的圖像字符層106可在寬范圍上被形成。因此，諸如圖像、字符等的顯示完全不受中心孔的限制，并且圖像、字符等可以大尺寸和良好外觀的形式被顯示，光盤介質(zhì)的商品價值等可被大大增強(qiáng)。
現(xiàn)在，參見圖27和圖28描述的非常適用于本發(fā)明小尺寸光盤介質(zhì)101的轉(zhuǎn)盤103。本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤103被形成為由磁體(連接磁體、燒結(jié)磁體等)構(gòu)成的整體元件并且本身被磁化以使N極和S極朝向上下方向以施加磁力MF。轉(zhuǎn)盤103的特征還在于，它具有大于小尺寸光盤介質(zhì)101的外徑，以及用于使小尺寸光盤介質(zhì)101定心的圓柱形筋110整體地并且同心地形成在盤接收面103a上。如圖26中所示，小尺寸光盤介質(zhì)101被定位以使其外徑與筋110的內(nèi)徑重合并且被磁力MF吸到盤接收面103a上。小尺寸光盤介質(zhì)101的外徑和筋110的內(nèi)徑被設(shè)計成這樣的形式，即，在它們之間留有100微米的間隙，考慮它們的部分公差。
另外，利用該定心方法，可實現(xiàn)在±100微米內(nèi)的定心精度，這樣，小尺寸光盤介質(zhì)101可以等于依賴于中心孔的常規(guī)定心方法所實現(xiàn)的精度被定心。筋110還用作能夠防止小尺寸光盤介質(zhì)101在轉(zhuǎn)動過程中沿著周向脫開的止檔件。該方法還使得沒有中心孔的小尺寸光盤介質(zhì)101以基本上等于常規(guī)方法可實現(xiàn)的精度在轉(zhuǎn)盤103上被定心。
另外，本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤103是在筋110的內(nèi)周面110a和上表面110b之間的角部處的斜切面111，從而當(dāng)小尺寸光盤介質(zhì)101被插入到筋110的內(nèi)側(cè)中時以被吸到(安裝在)盤接收面103a上時，斜切面111可引導(dǎo)小尺寸光盤介質(zhì)101的外周邊以將小尺寸光盤介質(zhì)101平滑地引入到筋110的內(nèi)側(cè)中。因此，在轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上的小尺寸光盤介質(zhì)101的安裝操作可被平滑地執(zhí)行。
應(yīng)該注意的是，筋110的高度小于小尺寸光盤介質(zhì)101的厚度。為了當(dāng)小尺寸光盤介質(zhì)101被安裝在轉(zhuǎn)盤103上或者從轉(zhuǎn)盤103上取下時確保良好的可操作性，光拾取裝置104相對于盤的最靠外的周邊移動到外邊。因此，如果筋110的高度大于盤的厚度，那么存在這樣一個可能性，即，當(dāng)諸如物鏡104a的光拾取裝置104中靠近小尺寸光盤介質(zhì)101的一部分在轉(zhuǎn)盤103的徑向上移動時，可能使其被筋110俘獲。如果筋110的高度小于小尺寸光盤介質(zhì)101的厚度，那么不存在該部分被俘獲的可能。
另外，一個或者多個切去部分114形成在轉(zhuǎn)盤103的外周邊上。切去部分114是為了將小尺寸光盤介質(zhì)101安裝在轉(zhuǎn)盤103上或者將小尺寸光盤介質(zhì)101從轉(zhuǎn)盤103上取下而能夠讓使用者的手指可插入其中以拾取小尺寸光盤介質(zhì)101的部分。如果轉(zhuǎn)盤103沒有這樣的切去部分114，那么轉(zhuǎn)盤103的筋110制造一種障礙并且使用者特別難以取出小尺寸光盤介質(zhì)101。
如上所述，小尺寸光盤介質(zhì)101在從其內(nèi)周邊到其外周邊的寬范圍內(nèi)被磁力MF吸到轉(zhuǎn)盤103上。對于本發(fā)明的方法，即使小尺寸光盤介質(zhì)101具有一定的翹曲，利用磁力MF的吸力迫使其遵循具有高剛度的盤接收面103a，這表明，如果盤接收面103a具有良好的平面度，那么即使小尺寸光盤介質(zhì)101具有較大程度的翹曲，當(dāng)它被實際使用時，它被校正到它具有良好的平面度的狀態(tài)。因此，如果當(dāng)與關(guān)于由小尺寸光盤介質(zhì)101的標(biāo)準(zhǔn)指定的離開平面偏斜或者平面度的規(guī)格相比時提高盤接收面103a的平面度，那么當(dāng)它被實際使用時，具有降低小尺寸光盤介質(zhì)101的翹曲量的效果。換言之，可降低小尺寸光盤介質(zhì)101的翹曲標(biāo)準(zhǔn)。
參見圖27至圖29，本發(fā)明的轉(zhuǎn)盤103具有用于沿著盤接收面103a的外周邊部分在高度方向上提供凸起的環(huán)形凹槽或者溝槽112。凹槽112以用于小尺寸光盤介質(zhì)101在距離小尺寸光盤介質(zhì)101的外周端1至2毫米的范圍內(nèi)的一部分的凸起的形式被提供，這是由于該部分具有大約50微米或者更小的厚度。特別是，在小尺寸光盤介質(zhì)101中，如上面參照圖18所述的，利用旋涂形成保護(hù)膜109。盡管旋涂利用離心力形成薄膜，但具有UV樹脂僅在小尺寸光盤介質(zhì)101的最靠外的圓周部分處積累的性質(zhì)，這是由于表面張力的作用，從而在薄膜具有較大的厚度處形成膨脹部分115。如果用于凸起的凹槽112沒有被設(shè)置在轉(zhuǎn)盤103中，那么當(dāng)小尺寸光盤介質(zhì)101被吸到轉(zhuǎn)盤103的盤接收面103a上時，存在這樣的可能性，即，膨脹部分115可座落在(影響)盤接收面103a上以增加小尺寸光盤介質(zhì)101的翹曲。
但是，如上面參照圖19所述的，本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101被制造，從而，當(dāng)利用壓力加工一次對大尺寸金屬基體的六個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152加壓以從大尺寸金屬基體上切下六個小尺寸光盤介質(zhì)101時，被切下的小尺寸光盤介質(zhì)的直徑D4(等于30毫米)遠(yuǎn)小于小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的直徑D3(等于53毫米)。
換言之，由于利用壓力加工以這樣一種方式從小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152上切下小尺寸光盤介質(zhì)101，即，小尺寸光盤介質(zhì)101可以不包括出現(xiàn)在小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152的最靠外圓周部分處的保護(hù)膜109的膨脹部分115，如圖29中所示的這樣一種保護(hù)膜109的膨脹部分115不出現(xiàn)(存在于)利用本發(fā)明制造的小尺寸光盤介質(zhì)101的最靠外圓周部分處。因此，與本發(fā)明的小尺寸光盤介質(zhì)101結(jié)合使用的轉(zhuǎn)盤103的特征在于，即使環(huán)形凹槽(凸起)112沒有形成在其盤接收面103a的外圓周部分上，小尺寸光盤介質(zhì)101可以靠近接觸的形式以高的精度被平行地放置在盤接收面103a上。
應(yīng)該注意的是，如上所述，大尺寸金屬基體50不一定必須具有盤形，例如在圖30A或者30B中所示，可具有多邊形。同樣，設(shè)置在大尺寸金屬基體150中的多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域152不一定必須以等間隔的環(huán)形布置形式設(shè)置，從30A或者30B中可以看出，也可以不同的布置形式設(shè)置。
另外，例如，在圖19中所示的壓力加工時，能夠一次形成光盤介質(zhì)的中心孔。
本發(fā)明不限于上述實施例，允許在其技術(shù)范圍內(nèi)進(jìn)行各種有效的變型。本發(fā)明的光盤介質(zhì)不限于以光學(xué)的方式在其上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤，也可應(yīng)用于以磁光學(xué)的方式在其上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的磁光盤。
另外，盡管上述本發(fā)明的光盤介質(zhì)制造方法應(yīng)用于采用直徑為3厘米的小尺寸光盤介質(zhì)的形式的光盤介質(zhì)，但本發(fā)明也可應(yīng)用于諸如普通CD或者DVD的直徑等于12厘米或者更大的光盤介質(zhì)的制造方法。
盡管已經(jīng)對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進(jìn)行詳細(xì)描述，但這種描述僅是說明性的，應(yīng)該理解的是，可在不脫離下列權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)對其進(jìn)行各種改進(jìn)和變型。
權(quán)利要求
1.一種光盤介質(zhì)，包括由磁性物質(zhì)制成并且形成用于校正所述光盤介質(zhì)的平面度的盤的金屬基體。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述金屬基體的相對兩個表面中的一個或者兩個上并且繪制或印刷有圖像、字符等的圖像字符層。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述盤的一個表面上的圖像字符層和形成在所述盤的另一個表面上的另一圖像字符層。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤介質(zhì)，其中還包括數(shù)據(jù)記錄層。
5.如權(quán)利要求4所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述金屬基體的相對兩個表面中的一個或者兩個上并且繪制或印刷有可通過所述數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層。
6.如權(quán)利要求4所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述盤的一個表面上并且可通過所述盤的數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像字符層，和形成在所述盤的另一個表面上的另一圖像字符層。
7.如權(quán)利要求4所述的光盤介質(zhì)，其中還包括作為所述數(shù)據(jù)記錄層的覆層形成的并且能夠通過部分光的反射膜。
8.如權(quán)利要求6所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述盤中提供所述圖像字符層的表面上并且能夠通過光的保護(hù)層。
9.如權(quán)利要求1所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤具有沿著所述盤的外周邊部分或者內(nèi)周邊部分形成在所述盤的相對兩個表面中的一個或者兩個上的環(huán)形筋。
10.一種光盤介質(zhì)，包括由磁性物質(zhì)制成并且形成用于校正所述光盤介質(zhì)的平面度的盤的金屬基體；數(shù)據(jù)記錄層；和形成在所述金屬基體的相對兩個表面中的一個或者兩個上并且繪制或印刷有可通過所述數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層。
11.如權(quán)利要求10所述的光盤介質(zhì)，其中還包括作為所述數(shù)據(jù)記錄層的覆層形成的并且能夠通過部分光的反射膜。
12.如權(quán)利要求10所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述反射膜和所述圖像字符層之間的距離被設(shè)定為約20微米或者更大。
13.如權(quán)利要求10所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述盤中提供所述圖像字符層的表面上并且能夠通過光的保護(hù)層。
14.如權(quán)利要求10所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤具有沿著所述盤的外周邊部分或者內(nèi)周邊部分形成在所述盤的相對兩個表面中的一個或者兩個上的環(huán)形筋。
15.一種具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，該光盤介質(zhì)包括形成用于校正所述光盤介質(zhì)的平面度的盤并且由磁性物質(zhì)制成的金屬基體，所述轉(zhuǎn)盤磁性地將光盤介質(zhì)吸到盤接收面上。
16.如權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，利用由所述轉(zhuǎn)盤的磁化部分產(chǎn)生的磁力將所述光盤介質(zhì)吸到所述轉(zhuǎn)盤的盤接收面上。
17.如權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤是由金屬制成的，并且利用由所述金屬基體的磁化部分產(chǎn)生的磁力將所述光盤介質(zhì)吸到所述轉(zhuǎn)盤的盤接收面上。
18.如權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤具有以允許光盤介質(zhì)的部分外周邊被拾取的方式形成在所述轉(zhuǎn)盤的外周邊上的切去部分，以便從所述轉(zhuǎn)盤上取下光盤介質(zhì)或?qū)⒐獗P介質(zhì)安裝在所述轉(zhuǎn)盤上。
19.如權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤的所述盤接收面具有設(shè)定得比所述光盤介質(zhì)平面度的標(biāo)準(zhǔn)高的平面度。
20.如權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，一環(huán)形凹槽沿著所述轉(zhuǎn)盤的所述盤接收面的外周邊部分形成。
21.一種光盤設(shè)備，包括具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，該光盤介質(zhì)包括形成用于校正所述光盤介質(zhì)的平面度的盤并且由磁性物質(zhì)制成的金屬基體，所述轉(zhuǎn)盤磁性地將光盤介質(zhì)吸到所述盤接收面上；用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過所述轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
22.一種光盤介質(zhì)，包括沒有中心孔的盤；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層。
23.如權(quán)利要求22所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤在除了所述盤的至少一個外周邊部分以外的所述盤的整個區(qū)域上具有相同的厚度。
24.如權(quán)利要求22所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述金屬基體或者所述盤的兩個相對表面的至少一個上的圖像字符層，以及形成在所述盤中提供所述圖像字符層的表面上并且能夠通過光的保護(hù)層。
25.如權(quán)利要求22所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤具有沿著所述盤的外周邊部分或者內(nèi)周邊部分形成在所述盤的相對兩個表面中的一個或者兩個上的環(huán)形筋。
26.一種光盤介質(zhì)，包括沒有中心孔的盤；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層。
27.如權(quán)利要求26所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤在除了所述盤的至少一個外周邊部分以外的所述盤的整個區(qū)域上具有相同的厚度。
28.如權(quán)利要求26所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述金屬基體或者所述盤的兩個相對表面的至少一個上的圖像字符層，以及形成在所述盤中提供所述圖像字符層的表面上并且能夠通過光的保護(hù)層。
29.如權(quán)利要求26所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤具有沿著所述盤的外周邊部分或者內(nèi)周邊部分形成在所述盤的相對兩個表面中的一個或者兩個上的環(huán)形筋。
30.一種光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有可通過數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層。
31.如權(quán)利要求30所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤在除了所述盤的至少一個外周邊部分以外的所述盤的整個區(qū)域上具有相同的厚度。
32.如權(quán)利要求30所述的光盤介質(zhì)，其中還包括形成在所述金屬基體或者所述盤的兩個相對表面的至少一個上的圖像字符層，以及形成在所述盤中提供所述圖像字符層的表面上并且能夠通過光的保護(hù)層。
33.如權(quán)利要求30所述的光盤介質(zhì)，其特征在于，所述盤具有沿著所述盤的外周邊部分或者內(nèi)周邊部分形成在所述盤的相對兩個表面中的一個或者兩個上的環(huán)形筋。
34.一種具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤；和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋。
35.如權(quán)利要求34所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋沿著所述盤定位筋的內(nèi)周面和上水平面之間的角部被斜切。
36.如權(quán)利要求34所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋的高度小于所述光盤介質(zhì)的厚度。
37.如權(quán)利要求34所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤具有以允許光盤介質(zhì)的部分外周邊被拾取的方式形成在所述轉(zhuǎn)盤的外周邊上的切去部分，以便從所述轉(zhuǎn)盤上取下光盤介質(zhì)或?qū)⒐獗P介質(zhì)安裝在所述轉(zhuǎn)盤上。
38.一種具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤，和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋。
39.如權(quán)利要求38所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋沿著所述盤定位筋的內(nèi)周面和上水平面之間的角部被斜切。
40.如權(quán)利要求38所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋的高度小于所述光盤介質(zhì)的厚度。
41.如權(quán)利要求38所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤具有以允許光盤介質(zhì)的部分外周邊被拾取的方式形成在所述轉(zhuǎn)盤的外周邊上的切去部分，以便從所述轉(zhuǎn)盤上取下光盤介質(zhì)或?qū)⒐獗P介質(zhì)安裝在所述轉(zhuǎn)盤上。
42.一種具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤、形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層、以及形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有可通過數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋。
43.如權(quán)利要求42所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋沿著所述盤定位筋的內(nèi)周面和上水平面之間的角部被斜切。
44.如權(quán)利要求42所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述盤定位筋的高度小于所述光盤介質(zhì)的厚度。
45.如權(quán)利要求42所述的轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述轉(zhuǎn)盤具有以允許光盤介質(zhì)的部分外周邊被拾取的方式形成在所述轉(zhuǎn)盤的外周邊上的切去部分，以便從所述轉(zhuǎn)盤上取下光盤介質(zhì)或?qū)⒐獗P介質(zhì)安裝在所述轉(zhuǎn)盤上。
46.一種光盤設(shè)備，包括具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤，以及形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋；用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
47.如權(quán)利要求46所述的光盤設(shè)備，其特征在于，所述光拾取裝置在所述光盤介質(zhì)從外周邊到中心的寬區(qū)域上記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
48.一種光盤設(shè)備，包括具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤，和形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋；用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從所述光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
49.如權(quán)利要求48所述的光盤設(shè)備，其特征在于，所述光拾取裝置在所述光盤介質(zhì)從外周邊到中心的寬區(qū)域上記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
50.一種光盤設(shè)備，包括具有用于接收光盤介質(zhì)的盤接收面的轉(zhuǎn)盤，所述光盤介質(zhì)包括沒有中心孔的盤、形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中的數(shù)據(jù)記錄層、以及形成在從外周邊到位于距離盤中心0.5毫米的半徑內(nèi)的一個部分的寬區(qū)域中并且繪制或者印刷可通過數(shù)據(jù)記錄層視覺觀察的圖像、字符等的圖像字符層，所述轉(zhuǎn)盤還具有沿著所述盤接收面的外周邊形成的盤定位筋；用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的主軸馬達(dá)；和用于將數(shù)據(jù)記錄在通過轉(zhuǎn)盤而轉(zhuǎn)動的光盤介質(zhì)上和/或從所述光盤介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光拾取裝置。
51.如權(quán)利要求50所述的光盤設(shè)備，其特征在于，所述光拾取裝置在所述光盤介質(zhì)從外周邊到中心的寬區(qū)域上記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
52.一種用于制造光盤介質(zhì)的光盤介質(zhì)制造方法，在所述光盤介質(zhì)中，數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜層鋪在金屬基體的至少一個面上，所述方法包括下列步驟在大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置的每一個位置處層鋪數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜，以一次形成多個小尺寸光盤介質(zhì)；以及從大尺寸金屬基體一次沖出小尺寸光盤介質(zhì)。
53.如權(quán)利要求52所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動。
54.如權(quán)利要求53所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動時，所述大尺寸金屬基體在轉(zhuǎn)動方向上被形成在所述大尺寸金屬基體的外周邊附近的一個位置處的采用孔或者切去部分的形式的定位孔定位。
55.如權(quán)利要求54所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動時，利用與所述定位孔保持相對關(guān)系的一個或者多個平衡孔使得所述大尺寸金屬基體轉(zhuǎn)動平衡，該平衡孔形成在所述大尺寸金屬基體的外周邊附近的一個位置處并采用孔或者切去部分的形式。
56.如權(quán)利要求53所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，利用旋涂形成保護(hù)膜，同時所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動。
57.如權(quán)利要求56所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，以圍繞所述大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動中心環(huán)形分布的形式設(shè)置用于在所述大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置處一次被加工并且用于形成數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和利用旋涂形成的保護(hù)膜的多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域。
58.如權(quán)利要求57所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，一次沖出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域，以便一次制造小尺寸光盤介質(zhì)。
59.如權(quán)利要求58所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，所述大尺寸金屬基體的直徑等于或者小于約120毫米，并且所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域的直徑基本等于或者小于53毫米。
60.如權(quán)利要求59所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)利用壓力加工一次加工出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以制造小尺寸光盤介質(zhì)時，利用壓力加工方法加工每一個所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域中從最靠外的周邊位置向內(nèi)側(cè)移動2毫米或者更大距離的區(qū)域。
61.一種用于制造光盤介質(zhì)的光盤介質(zhì)制造方法，在所述光盤介質(zhì)中，其上繪制或者印刷有圖像、字符等的圖像字符層、數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜層鋪在金屬基體的至少一個面上，所述方法包括下列步驟在大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置中的每一個位置處層鋪圖像字符層、數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和保護(hù)膜以一次形成多個小尺寸光盤介質(zhì)；以及從大尺寸金屬基體一次沖出小尺寸光盤介質(zhì)。
62.如權(quán)利要求61所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動。
63.如權(quán)利要求62所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動時，所述大尺寸金屬基體在轉(zhuǎn)動方向上被形成在所述大尺寸金屬基體的外周邊附近的一個位置處的采用孔或者切去部分的形式的定位孔定位。
64.如權(quán)利要求63所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動時，利用與所述定位孔保持相對關(guān)系的一個或者多個平衡孔使得所述大尺寸金屬基體轉(zhuǎn)動平衡，該平衡孔形成在所述大尺寸金屬基體的外周邊附近的一個位置處并采用孔或者切去部分的形式。
65.如權(quán)利要求62所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，利用旋涂形成保護(hù)膜，同時所述大尺寸金屬基體在水平面內(nèi)圍繞中心孔轉(zhuǎn)動。
66.如權(quán)利要求65所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，以圍繞所述大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動中心環(huán)形分布的形式設(shè)置用于在所述大尺寸金屬基體的至少一個表面的多個位置處一次被加工并且用于形成數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和利用旋涂形成的保護(hù)膜的多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域。
67.如權(quán)利要求66所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，一次沖出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以一次制造小尺寸光盤介質(zhì)。
68.如權(quán)利要求67所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，所述大尺寸金屬基體的直徑等于或者小于約120毫米，并且所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域的直徑基本等于或者小于53毫米。
69.如權(quán)利要求68所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)利用壓力加工一次加工出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以制造小尺寸光盤介質(zhì)時，利用壓力加工方法加工每一個所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域中從最靠外的周邊位置向內(nèi)側(cè)移動2毫米或者更大距離的區(qū)域。
70.如權(quán)利要求65所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，以圍繞所述大尺寸金屬基體的轉(zhuǎn)動中心環(huán)形分布的形式設(shè)置用于在所述大尺寸金屬基體的至少一個面的多個位置處一次被加工并且用于形成圖像字符層、數(shù)據(jù)記錄層、反射膜和利用旋涂形成的保護(hù)膜的多個小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域。
71.如權(quán)利要求70所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，一次沖出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以一次制造小尺寸光盤介質(zhì)。
72.如權(quán)利要求71所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，所述大尺寸金屬基體的直徑等于或者小于約120毫米，并且所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域的直徑基本等于或者小于53毫米。
73.如權(quán)利要求72所述的光盤介質(zhì)制造方法，其特征在于，當(dāng)利用壓力加工一次加工出所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域以制造小尺寸光盤介質(zhì)時，利用壓力加工方法加工每一個所述小尺寸光盤介質(zhì)加工區(qū)域中從最靠外的周邊位置向內(nèi)側(cè)移動2毫米或者更大距離的區(qū)域。
全文摘要
一種光盤介質(zhì)在被轉(zhuǎn)盤驅(qū)動旋轉(zhuǎn)時被防止翹曲。所述光盤介質(zhì)包括作為由磁性物質(zhì)制成的金屬基體形成的盤基體。當(dāng)光盤介質(zhì)被安裝在轉(zhuǎn)盤的盤接收面上，利用由此產(chǎn)生的磁力使金屬基體被吸到轉(zhuǎn)盤的盤接收面上以便以高精度校正光盤介質(zhì)的翹曲。
文檔編號G11B7/258GK1581324SQ20041005659
公開日2005年2月16日 申請日期2004年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月11日
發(fā)明者金澤孝恭, 三浦隆博, 渡邊英俊 申請人:索尼株式會社