專利名稱：光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，更具體地說(shuō)，涉及一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器可以通過(guò)由稱量中心(weight center)和鏡頭座循跡力中心之間的不一致造成的鏡頭座的滾動(dòng)模式而有效消除相散(phase dispersion)。
背景技術(shù)：
一般來(lái)說(shuō)，光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器通過(guò)移動(dòng)包括目鏡的構(gòu)件(線軸、鏡頭座等)而穩(wěn)定地保持目鏡和光學(xué)錄制媒介(例如，光盤)之間的相對(duì)位置。而且，光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器通過(guò)跟蹤光學(xué)錄制媒介的軌跡而錄制信息并再現(xiàn)錄制的信息。
圖1A、1B和2為表示一種背景技術(shù)的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的結(jié)構(gòu)視圖。
參見(jiàn)圖1A、1B和2，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器100包括一個(gè)在其中心位置具有目鏡101并可移動(dòng)的鏡頭座102，和一個(gè)連接到鏡頭座102的側(cè)面以用來(lái)移動(dòng)鏡頭座102的磁路。該磁路包括循跡線圈106、聚焦線圈105、磁軛103和多極磁體104。
聚焦線圈105分別粘附在鏡頭座102兩側(cè)的左邊和右邊以進(jìn)行聚焦運(yùn)動(dòng)，并面向磁體104的極性垂直邊界面112。循跡線圈106分別粘附在鏡頭座102兩側(cè)的中心以進(jìn)行循跡運(yùn)動(dòng)，并面向磁體104的極性水平邊界面113。
仍然參考圖2，在磁體104中，“﹁”形狀的磁體104a和104b被布置成相互對(duì)稱，具有與“﹁”形狀的磁體104a和104b的極性相反的極性的磁體104c和104d被布置在底面的左端和右端。這里，一個(gè)多極磁體或者四個(gè)單極磁體可以被用作磁體104。
循跡線圈106的中心面向具有不同極性的磁體104a和104b的水平邊界面113，而聚焦線圈105的中心面向具有不同極性的磁體104a、104b、104c和104d的垂直邊界面112。
磁體104固定在與鏡頭座102鄰接的鐵磁結(jié)構(gòu)的磁軛103的內(nèi)表面。磁軛103通過(guò)整合裝置被連接到拾波基座(pickup base)(未示出)。
固定單元108形成在鏡頭座102的兩側(cè)面。兩平行電線吊架107的一側(cè)端部被固定到每個(gè)固定單元108，電線吊架107的另一側(cè)端部通過(guò)在鏡頭座102的一側(cè)形成的框架109固定在電路板111處。電線吊架107用作提升鏡頭座102和提供電流的中繼線。
這里，一個(gè)減震器(未示出)被連接到框架109的內(nèi)側(cè)以為具有剛性的電線吊架107提供阻尼特性。電線吊架107的另一側(cè)端部被固定在通過(guò)軟焊布置在框架109外側(cè)的電路板111處。
下面說(shuō)明背景技術(shù)的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器100的工作情況。粘附在鏡頭座102處的聚焦線圈105以水平方向繞線。當(dāng)電流供應(yīng)到聚焦線圈105時(shí)，垂直方向就產(chǎn)生磁通量。這里，面向聚焦線圈105的多極磁體104的磁通量通過(guò)電磁作用而在聚焦線圈105中沿垂直方向產(chǎn)生作用力。相應(yīng)地，鏡頭座102沿聚焦方向(垂直上/下)移動(dòng)以操縱聚焦伺服系統(tǒng)補(bǔ)償聚焦誤差。
粘附在鏡頭座102處的循跡線圈106沿垂直方向繞線。當(dāng)電流供應(yīng)到循跡線圈106時(shí)，水平方向就產(chǎn)生磁通量，因而固定多極磁體104和電磁力就產(chǎn)生排斥力。鏡頭座102通過(guò)排斥力沿循跡方向(左，右)移動(dòng)以操縱循跡伺服系統(tǒng)補(bǔ)償循跡誤差。
如上所述，鏡頭座102和粘附在其兩側(cè)的線圈105和106一起沿循跡和聚焦方向移動(dòng)，這被稱作移動(dòng)線圈方法。相反地，多極磁體可以粘附在鏡頭座102的外周并與鏡頭座102一起移動(dòng)，這被稱作移動(dòng)磁體方法。通過(guò)磁體和線圈的移動(dòng)方法使用弗萊明左手法則的洛倫茲力。
圖3和4為表示背景技術(shù)的徑向傾斜的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的結(jié)構(gòu)視圖。
如圖3所示，徑向傾斜線圈217粘附在鏡頭座202的外周表面，用來(lái)通過(guò)電磁力與多極磁體204一起沿徑向傾斜方向移動(dòng)鏡頭座202。
也就是說(shuō)，如圖4所示，當(dāng)電流供應(yīng)到在鏡頭座202外周表面上繞線的徑向傾斜線圈217時(shí)，鏡頭座202的左邊和右邊通過(guò)面向徑向傾斜線圈217的多極磁體204a和204b的不同極性而沿相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)。
在圖3中，附圖標(biāo)記201表示目鏡，203表示磁軛，205表示聚焦線圈，206表示循跡線圈，207表示電線吊架，以及209表示框架。
光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器通過(guò)永磁體的磁場(chǎng)以移動(dòng)線圈方法進(jìn)行運(yùn)動(dòng)并將目鏡移到光學(xué)錄制媒介的目標(biāo)位置。這里，鏡頭座作為光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的移動(dòng)部件，通過(guò)具有剛性和阻尼特性的電線吊架固定，從而獲得目標(biāo)頻率特性。另外，鏡頭座在相互垂直的聚焦方向和循跡方向進(jìn)行移動(dòng)。為了減少光學(xué)信號(hào)的誤差，鏡頭座必須在沒(méi)有不必要的震動(dòng)比如旋轉(zhuǎn)或扭曲的情況下進(jìn)行運(yùn)動(dòng)。
然而，如圖5所示，當(dāng)鏡頭座沿循跡方向被驅(qū)動(dòng)時(shí)，稱量中心WC和循跡力中心TC是不一致的。因此，鏡頭座以高頻帶頻率的滾動(dòng)模式運(yùn)行，并在滾動(dòng)頻率中產(chǎn)生相散。通常，滾動(dòng)頻率在100和120Hz之間產(chǎn)生，可能與光盤的旋轉(zhuǎn)頻率相同，并因傾斜角而對(duì)控制系統(tǒng)造成危害。
圖6是通過(guò)增益(DB)和相(度)與頻率之間的關(guān)系表示背景技術(shù)光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的滾動(dòng)模式效果圖。即，滾動(dòng)通過(guò)高頻帶中力中心TC和WC的不一致而引發(fā)。
仍然參考圖5，高度方向的力中心WC和循跡方向的力中心TC之間的不一致引發(fā)滾動(dòng)。即，高度方向的力中心位于鏡頭座中心，而循跡方向的力中心位于循跡線圈的中心。當(dāng)鏡頭座被沿循跡方向驅(qū)動(dòng)時(shí)，磁體和循跡線圈之間產(chǎn)生的磁力的不平衡造成循跡方向的力中心變化。
另外，多極磁體磁通量分配造成力中心從最中心向上傾斜。為了解決上述問(wèn)題，如圖1A和3所示，虛設(shè)質(zhì)量120和220粘附在鏡頭座上端部用來(lái)抬高稱量中心WC。然而，虛設(shè)質(zhì)量120和220增加鏡頭座重量，從而降低了高頻帶靈敏度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是至少解決上述問(wèn)題和/或缺點(diǎn)并至少提供后述的優(yōu)點(diǎn)。
相應(yīng)地，本發(fā)明的一個(gè)目的是通過(guò)提供一光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器解決前面的問(wèn)題，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器可以通過(guò)將轉(zhuǎn)換線圈粘附到鏡頭座而有效消除由滾動(dòng)模式引起的相散。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器對(duì)面向多極磁體的循跡線圈進(jìn)行繞線以使之具有窄的頂部和寬的底部，并將循跡線圈粘附到鏡頭座。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器以梯形或六邊形形狀對(duì)循跡線圈進(jìn)行繞線。
前面和其它目的及優(yōu)點(diǎn)通過(guò)提供一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器而實(shí)現(xiàn)，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座；布置在鏡頭座側(cè)面的聚焦線圈；布置在鏡頭座側(cè)面的循跡線圈；以及面向布置在鏡頭座處的聚焦線圈和循跡線圈的多極磁體，其中每一個(gè)循跡線圈包括一個(gè)底線圈的寬度比頂線圈寬度大的的右/左對(duì)稱結(jié)構(gòu)，并且使其旋轉(zhuǎn)中心面向多極磁體極性邊界面以產(chǎn)生循跡方向旋轉(zhuǎn)的向后扭矩。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座；和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力而改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且側(cè)面線圈的整體或部分具有相對(duì)水平線的小于90°的角度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座；和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力而改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且側(cè)面線圈的整體或部分具有相對(duì)多極磁體的極性邊界面的小于90°的傾斜角度。
本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)、目的和特征將在隨后的說(shuō)明書的部分中提出并且一部分在那些在本領(lǐng)域中具有一般技術(shù)的人員對(duì)隨后的內(nèi)容進(jìn)行驗(yàn)證后將變得明顯或者可以從本發(fā)明的實(shí)踐中了解。本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點(diǎn)可以通過(guò)所寫的說(shuō)明書及其權(quán)利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)而被認(rèn)識(shí)和獲得。


本發(fā)明將參考附圖被詳細(xì)描述，圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件，其中圖1A和1B為表示背景技術(shù)光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的主視圖和側(cè)視圖；圖2表示圖1的磁路；圖3為表示背景技術(shù)光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的另一個(gè)示例的立體圖；圖4表示圖3的磁路中的徑向傾斜線圈的傾斜；圖5表示背景技術(shù)光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器中稱量中心和循跡中心之間的不一致；圖6為表示背景技術(shù)光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的滾動(dòng)模式中的相和頻率之間關(guān)系的圖表；圖7A和7B為表示按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的立體圖；
圖8為表示按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的循跡線圈的力的向量圖；圖9A和9B將圖2的磁路與按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的磁路進(jìn)行對(duì)比；圖10為表示按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器的磁路的另一個(gè)示例的結(jié)構(gòu)視圖；圖11表示圖10的循跡線圈的特性；圖12表示循跡線圈的另一個(gè)示例；以及圖13表示圖12的循跡線圈的特性。
具體實(shí)施例方式
下面的詳細(xì)描述將參考

按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器。
參見(jiàn)圖7A和7B，該光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器包括一個(gè)在其中心部分具有一個(gè)目鏡301并可移動(dòng)的鏡頭座302，和一個(gè)連接到鏡頭座302的側(cè)面用于移動(dòng)鏡頭座302的磁路。該磁路包括循跡和聚焦線圈305和306、磁軛303和多極磁體304。
仍然參見(jiàn)圖7B，聚焦線圈305被粘附到鏡頭座302的兩個(gè)側(cè)面的左邊和右邊。聚焦線圈305的中心以面向磁體304的垂直極性邊界面312的方式形成。
另外，循跡線圈306被粘附到鏡頭座302的兩個(gè)側(cè)面的中心。循跡線圈306的中心以面向磁體304的水平極性邊界面313的方式形成。
在圖7A和7B中，循跡線圈306和聚焦線圈305形成在鏡頭座302上，磁軛303和磁體304與鏡頭座302分離。但，必須認(rèn)識(shí)到，磁軛和磁體可以在鏡頭座上形成，而循跡線圈和聚焦線圈可以與鏡頭座分離。
仍然參見(jiàn)圖7B，在磁體304中，“﹁”形狀的磁體304a和304b被布置成互相對(duì)稱，而具有與“﹁”形狀的磁體304a和304b的極性相反的極性的磁體304c和304d被布置在底面的左端和右端。
一個(gè)多極磁體或者四個(gè)單極磁體可以被用作磁體304。
這里，粘附到鏡頭座302的左側(cè)和右側(cè)的中心的循跡線圈306以底線圈的寬度可以大于頂線圈的寬度的方式被繞線。
如圖8所示，循跡線圈306可以以梯形形狀形成。
磁體304固定在磁軛303的內(nèi)側(cè)面，磁軛303為布置在鏡頭座302兩個(gè)側(cè)面的鐵磁結(jié)構(gòu)。磁軛303通過(guò)整合裝置被連接到拾波基座310。
固定單元308形成在鏡頭座302的兩側(cè)面的中心。兩平行電線吊架307的一側(cè)端部被固定到每個(gè)固定單元308，電線吊架307的另一側(cè)端部通過(guò)在鏡頭座302的一側(cè)形成的框架309固定在電路板(未示出)處。
電線吊架307用作提升鏡頭座302并提供電流的中繼線。
這里，一個(gè)減震器(未示出)被連接到框架309的內(nèi)部以為具有剛性的電線吊架307提供阻尼特性。電線吊架307的另一側(cè)端部被固定在通過(guò)軟焊布置在框架309外部的電路板處。
如圖7A和7B所示，粘附在鏡頭座302的兩個(gè)側(cè)面的左邊和右邊的聚焦線圈305被繞線以通過(guò)與磁體304的相互作用而在垂直方向產(chǎn)生作用力。
也就是說(shuō)，當(dāng)電流供應(yīng)到聚焦線圈305時(shí)，上/下方向就產(chǎn)生磁通量。這里，面向聚焦線圈305的多極磁體304的磁通量通過(guò)電磁作用而在聚焦線圈305中沿垂直方向產(chǎn)生作用力。相應(yīng)地，鏡頭座302沿聚焦方向(垂直上/下)移動(dòng)以操縱聚焦伺服系統(tǒng)補(bǔ)償聚焦誤差。
粘附在鏡頭座302的兩個(gè)側(cè)面的中心的循跡線圈306通過(guò)排斥力使鏡頭座302沿循跡方向(左、右)移動(dòng)，并操縱循跡伺服系統(tǒng)以補(bǔ)償循跡誤差。
這里，鏡頭座302通過(guò)循跡力沿循跡方向移動(dòng)。在鏡頭座302中由稱量中心WC和循跡力中心TC之間的不一致引發(fā)的滾動(dòng)模式中，稱量中心WC和循跡力中心TC之間的不一致就通過(guò)一個(gè)由循跡力TF在循跡線圈306中產(chǎn)生的向后補(bǔ)償扭矩TFc而被補(bǔ)償，而循跡伺服系統(tǒng)被操縱。
也就是說(shuō)，循跡線圈306的形狀使循跡力中心TC降低。
圖8為表示作用到按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的循跡線圈上的力的向量圖表。如圖8所示，當(dāng)電流以預(yù)定的方向供應(yīng)到循跡線圈306時(shí)，循跡線圈306的力的大小計(jì)算如下。
當(dāng)電流被加到循跡線圈306時(shí)，循跡力大小F以與梯形斜邊垂直的角度產(chǎn)生。即，向量F＝向量Fx+向量Fy，F(xiàn)表示循跡力大小，向量Fx表示在循跡驅(qū)動(dòng)方向(X軸)的力的大小，以及向量Fy表示Y軸方向的力的大小。
這里，通過(guò)循跡驅(qū)動(dòng)力Fx引發(fā)轉(zhuǎn)動(dòng)的激發(fā)扭矩等于FX*bo(bo表示TC和WC之間的距離)。當(dāng)傾角θ為80°時(shí)，F(xiàn)x＝F*Cos10°，因而F≈Fx。
另外，F(xiàn)y＝F*Sin10°，因而F*0.17＝Fy。
Fx具有與F近似的值，不會(huì)減小循跡靈敏度。滾動(dòng)可通過(guò)利用Fy而消除。
也就是說(shuō)，循跡線圈306以梯形形狀布置在鏡頭座302的左側(cè)和右側(cè)的中心，以通過(guò)循跡力(F＝Fx+Fy)和補(bǔ)償扭矩(TFc＝Fy)在循跡方向上移動(dòng)鏡頭座302。其結(jié)果是，滾動(dòng)可以被消除而不影響循跡靈敏度和不增加鏡頭座302的質(zhì)量。
根據(jù)本發(fā)明，循跡線圈306以底線圈3062的寬度L可以大于頂線圈3061的寬度H的方式繞線。
在循跡線圈306中，底線圈3062相對(duì)于連接底線圈3062和頂線圈3061的側(cè)面線圈3063和3064的角度小于90°。
更優(yōu)選地，側(cè)面線圈3063和3064的整體或部分具有相對(duì)水平線的傾角θ。這里，傾角θ小于90°。
圖9A和9B比較了現(xiàn)有技術(shù)和本發(fā)明的循跡方向驅(qū)動(dòng)狀態(tài)和頻率特性。如圖9A和9B所示，粘附到鏡頭座的循跡線圈的形狀由正方形轉(zhuǎn)換為梯形，以通過(guò)循跡力中心TC和稱量中心WC之間的不一致生成向后扭矩TFc。因此，殘留扭矩被消除并且滾動(dòng)被防止。
圖10為磁路的另一個(gè)示例的結(jié)構(gòu)視圖。循跡線圈316被繞線成六邊形以使底線圈的寬度可以大于頂線圈的寬度。
如圖10和11所示，在循跡線圈316中，頂線圈3161的寬度H小于底線圈3162的寬度L。
另外，在循跡線圈316中，側(cè)面線圈3163和3164被形成以連接頂線圈3161和底線圈3162。側(cè)面線圈3163和3164的整體或部分具有相對(duì)于水平線的傾角θ，該傾角θ小于90°。
特別地，側(cè)面線圈3163和3164具有相對(duì)于循跡力中心TC所在的水平線的傾角θ，該傾角θ小于90°。
而且，側(cè)面線圈3163和3164的整體或部分具有相對(duì)多極磁體的極性邊界面的傾角α，該傾角α小于90°。
圖12表示循跡線圈的另一個(gè)示例。
如圖12所示，循跡線圈326以頂線圈寬度大于底線圈寬度的方式形成。
這里，循跡力中心TC在鏡頭座的循跡方向驅(qū)動(dòng)中低于稱量中心WC。
在這一情況下，虛設(shè)質(zhì)量可以被消除以防止?jié)L動(dòng)。然而，以相反的方式應(yīng)用圖8和11的原理要容易得多。
如圖13所示，即，循跡線圈326以底線圈3262的寬度L可以小于頂線圈3261的寬度H的方式繞線。
在循跡線圈326中，底線圈3262相對(duì)于連接底線圈3262和頂線圈3261的側(cè)面線圈3263和3264的角度β大于90°。
更優(yōu)選地，側(cè)面線圈3263和3264的整體或部分具有相當(dāng)于水平線的傾角β。這里，該傾角β大于90°。
如前所述，根據(jù)本發(fā)明，在一個(gè)用于再現(xiàn)和錄制高密度光盤的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中，為了消除由滾動(dòng)模式造成的相散，光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器通過(guò)改變循跡線圈的形狀而產(chǎn)生向后的扭矩以抵消由循跡力中心和稱量中心之間的不一致造成的扭矩，從而消除殘留扭矩。
結(jié)果是，光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器通過(guò)防止?jié)L動(dòng)造成的相散實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的控制系統(tǒng)，而不降低高頻帶的靈敏度。
盡管本發(fā)明參考其某種優(yōu)選實(shí)施例而被表示和描述，但應(yīng)能被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，可以對(duì)本發(fā)明做出各種形式和細(xì)節(jié)上的變化而不脫離由所附的權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍。
前述的實(shí)施例和優(yōu)點(diǎn)主要是解釋性的，不得解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。本發(fā)明的原理可以方便地應(yīng)用于其它類型的裝置。本發(fā)明的描述是說(shuō)明性的，并不限制權(quán)利要求的范圍。許多替換、修改和變化對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是明顯的。在權(quán)利要求中，裝置加功能的語(yǔ)句用于覆蓋這里描述以實(shí)現(xiàn)所述的功能的結(jié)構(gòu)，不僅是結(jié)構(gòu)的等同而且是等效的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座，和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且側(cè)面線圈的整體或部分相對(duì)水平線傾斜。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)器，其中，當(dāng)在鏡頭座驅(qū)動(dòng)的循跡方向中循跡力中心高于稱量中心時(shí)，循跡線圈的頂線圈的寬度大于底線圈的寬度。
3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)器，其中，當(dāng)在鏡頭座驅(qū)動(dòng)的循跡方向中循跡力中心低于稱量中心時(shí)，循跡線圈的頂線圈的寬度小于底線圈的寬度。
4.一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座，和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且當(dāng)在鏡頭座驅(qū)動(dòng)的循跡方向中循跡力中心高于稱量中心時(shí)，側(cè)面線圈的整體或部分具有相對(duì)水平線的小于90°的角度。
5.如權(quán)利要求4所述的調(diào)節(jié)器，其中，循跡線圈布置在鏡頭座的側(cè)面，多極磁體被布置為面向循跡線圈而與鏡頭座分離。
6.如權(quán)利要求4所述的調(diào)節(jié)器，其中，循跡線圈的側(cè)面線圈具有相對(duì)循跡力中心所在的水平線的傾角，且該傾角小于90°。
7.如權(quán)利要求4所述的調(diào)節(jié)器，其中，循跡線圈的頂線圈的寬度小于底線圈的寬度。
8.如權(quán)利要求4所述的調(diào)節(jié)器，其中，驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)一步包括多極磁體和聚焦線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到聚焦方向。
9.一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座，和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)一步包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且當(dāng)在鏡頭座驅(qū)動(dòng)的循跡方向中循跡力中心高于稱量中心時(shí)，側(cè)面線圈的整體或部分具有相對(duì)于多極磁體的極性邊界面的小于90°的傾角。
10.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中循跡線圈布置在鏡頭座的側(cè)面，多極磁體被布置為面向循跡線圈而與鏡頭座分離。
11.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中循跡線圈的側(cè)面線圈具有相對(duì)于循跡力中心所在的水平線的傾角，且該傾角小于90°。
12.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中，循跡線圈的頂線圈的寬度小于底線圈的寬度。
13.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中循跡線圈以具有小寬度的頂線圈和大寬度的底線圈的梯形形狀形成。
14.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中循跡線圈以具有小寬度的頂線圈和大寬度的底線圈的六邊形的形狀形成。
15.如權(quán)利要求9所述的調(diào)節(jié)器，其中驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)一步包括多極磁體和聚焦線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到聚焦方向。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學(xué)拾波調(diào)節(jié)器，包括一個(gè)具有目鏡的鏡頭座，和一個(gè)用于通過(guò)使用電磁力而改變鏡頭座位置的驅(qū)動(dòng)裝置。該驅(qū)動(dòng)裝置包括多極磁體和循跡線圈以用來(lái)將鏡頭座位置改變到循跡方向，每一個(gè)循跡線圈具有一個(gè)頂線圈、一個(gè)底線圈和側(cè)面線圈，并且側(cè)面線圈的整體或部分具有相對(duì)于水平線的小于90°的角度。
文檔編號(hào)G11B7/085GK1577523SQ20041006916
公開日2005年2月9日 申請(qǐng)日期2004年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月4日
發(fā)明者崔仁好, 洪三悅 申請(qǐng)人:Lg電子有限公司