專利名稱:用于制造磁頭的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種制造磁頭的方法。具體地說,本發(fā)明涉及一種適于以良好的精確度將一浮動(dòng)塊和一懸架(suspension)相接合的制造磁頭的方法。
背景技術(shù):
硬盤驅(qū)動(dòng)器(下文稱為HDDs)的容量日益增加并且越來越薄。伴隨著這些改進(jìn),磁頭(20%,30%浮動(dòng)塊)也做得越來越小。
當(dāng)利用常規(guī)的制造磁頭的方法將一其上形成有巨磁阻(GMR)元件的浮動(dòng)塊粘接在一懸架的一側(cè)上時(shí),首先利用該浮動(dòng)塊的外部形狀作為基準(zhǔn)來對(duì)該浮動(dòng)塊進(jìn)行定位。在定位該浮動(dòng)塊后,在該浮動(dòng)塊的后表面一側(cè)(與形成空氣軸承表面(ABS)的一側(cè)相對(duì))上涂敷粘合劑,并且使該浮動(dòng)塊的這一側(cè)與已由一加工孔定位的懸架的末端相接觸。該浮動(dòng)塊的這一側(cè)和該懸架的末端通過粘合劑粘接在一起。
(現(xiàn)有技術(shù)中)還已知不利用浮動(dòng)塊的外部形狀而對(duì)浮動(dòng)塊進(jìn)行定位的方法。在一種方法中,在浮動(dòng)塊上設(shè)置一物理定位部,利用該定位部將浮動(dòng)塊定位在懸架的一側(cè)上(例如,參見日本專利4-17174A)。在另一種方法中,在懸架的末端設(shè)置一與浮動(dòng)塊的外部形狀相對(duì)應(yīng)的凹部,并且利用該凹部來進(jìn)行浮動(dòng)塊的定位(例如,參見日本專利10-293981)。
另外,也已知一種在浮動(dòng)塊內(nèi)形成一通孔并將該通孔作為定位基準(zhǔn)來進(jìn)行安裝的方法(例如,參見日本專利2000-123515A),以及一種用浮動(dòng)塊的一軌道構(gòu)造部的內(nèi)側(cè)表面作為基準(zhǔn)來進(jìn)行浮動(dòng)塊相對(duì)于懸架的定位的方法(例如,參見日本專利6-150597A)。
但是,上述常規(guī)的磁頭制造方法存在下述問題。
即,為了使磁頭通過磁盤的內(nèi)圓周和外圓周時(shí)的飛行姿態(tài)(flyingattitude)和電特性保持穩(wěn)定,利用在浮動(dòng)塊上形成的ABS作為基準(zhǔn)來接合該懸架是很重要的。
浮動(dòng)塊中的ABS通常通過離子研磨(ion milling)制成,而浮動(dòng)塊的外部形狀由機(jī)械切削加工制成,因此浮動(dòng)塊的ABS和外部形狀(分別)由獨(dú)立的工藝形成。
但是,如上所述,通常利用浮動(dòng)塊的外部形狀作為基準(zhǔn)來進(jìn)行浮動(dòng)塊和懸架之間的定位,因此懸架的接合位置不總是與利用ABS作為基準(zhǔn)時(shí)所確定的位置一致,并且如上所述,浮動(dòng)塊的ABS和外部形狀的制造工藝不同。因此,當(dāng)以浮動(dòng)塊的軌道構(gòu)造部的內(nèi)側(cè)表面作為基準(zhǔn)時(shí),該內(nèi)側(cè)表面的中心可能與該ABS的中心不一致。因此,可能無法得到所希望的飛行姿態(tài)和電特性。
隨著浮動(dòng)塊的小型化以及ABS方式的更加復(fù)雜(為了穩(wěn)定飛行特性),將浮動(dòng)塊的外部形狀作為基準(zhǔn)來精確地接合懸架變得越來越困難。
此外,當(dāng)在浮動(dòng)塊本身中形成用于定位的通孔及其類似物時(shí),恐怕會(huì)破壞ABS中的正壓力和負(fù)壓力之間的平衡,這樣將不能穩(wěn)定浮動(dòng)塊的飛行姿態(tài)。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述常規(guī)(方法)的問題,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種制造磁頭的方法,其中可將一確定飛行特性的ABS方式作為基準(zhǔn)來進(jìn)行一浮動(dòng)塊和一懸架的粘接,并且在該浮動(dòng)塊或懸架上不需要特殊的構(gòu)造。
本發(fā)明是基于這樣的認(rèn)識(shí)提出的,即通過拍攝其中形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面,從拍攝出的圖像中計(jì)算該浮動(dòng)塊將與該懸架接合的位置,并根據(jù)這一位置信息將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合,可使該浮動(dòng)塊具有穩(wěn)定的飛行姿態(tài)(和穩(wěn)定的電特性)。
即,一種根據(jù)本發(fā)明的制造磁頭的方法涉及用于將其上形成有一空氣軸承表面(ABS)的一浮動(dòng)塊接合在一懸架上的制造磁頭的方法,該方法包括拍攝其上形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面;從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和在該ABS內(nèi)形成的一刻入?yún)^(qū)域(engraved region);計(jì)算用作接合該懸架時(shí)的引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn);以及根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。
一種制造磁頭的更具體的方法涉及用于將其上形成有一空氣軸承表面(ABS)的一浮動(dòng)塊與一懸架相接合的制造磁頭的方法,該方法包括拍攝其上形成該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面;拍攝該浮動(dòng)塊的外部形狀;從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和在該ABS內(nèi)形成的一刻入?yún)^(qū)域;計(jì)算用作接合該懸架時(shí)的引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn);將該基準(zhǔn)和該浮動(dòng)塊的外部形狀之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息;當(dāng)將該懸架與該浮動(dòng)塊相接合時(shí),測(cè)量該浮動(dòng)塊的外部形狀,并通過將該測(cè)量值與該關(guān)聯(lián)信息相對(duì)照而讀出該基準(zhǔn);以及根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。
該基準(zhǔn)可以設(shè)定為該刻入?yún)^(qū)域的質(zhì)心。優(yōu)選地,通過用紫外(UV)光照射該浮動(dòng)塊并用一UV光檢測(cè)相機(jī)拍攝從該浮動(dòng)塊反射的光來進(jìn)行拍攝。
根據(jù)上述構(gòu)造,拍攝該浮動(dòng)塊的ABS一側(cè),并從得到的圖像中識(shí)別該ABS這一側(cè)上的刻入?yún)^(qū)域和其它區(qū)域。通常,該其它區(qū)域由于拋光而具有一光滑表面,該刻入?yún)^(qū)域由于離子研磨而具有一粗糙表面。因此,如果根據(jù)拍攝時(shí)從該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域反射的光的數(shù)量的差別而進(jìn)行二值化處理(binarization process)或類似處理,則可以從該圖像中容易地使該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域彼此區(qū)分開。在進(jìn)行上述處理并且不同區(qū)域彼此區(qū)分開后,從該不同區(qū)域中計(jì)算出一個(gè)基準(zhǔn),并且根據(jù)該基準(zhǔn)將其上形成有該ABS的表面的后表面一側(cè)接合在該懸架上。
如果在計(jì)算基準(zhǔn)的同時(shí)預(yù)先測(cè)量浮動(dòng)塊的外部形狀,并將該浮動(dòng)塊的外部形狀和該基準(zhǔn)之間的相對(duì)位置存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息,則在將該浮動(dòng)塊與該懸架接合之后的工藝步驟中不需要重新測(cè)量該基準(zhǔn)。另外,通過測(cè)量浮動(dòng)塊的外部形狀并使該測(cè)量值與該關(guān)聯(lián)信息相對(duì)照,可以簡(jiǎn)單地讀出測(cè)量出的浮動(dòng)塊基準(zhǔn)。當(dāng)隨后根據(jù)該讀出的基準(zhǔn)將浮動(dòng)塊和懸架相接合時(shí),可將該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域作為基準(zhǔn)來進(jìn)行接合,并且可以很好地保持該懸架在該浮動(dòng)塊內(nèi)產(chǎn)生的正壓力和負(fù)壓力之間的平衡。因此,可以使該浮動(dòng)塊的飛行姿態(tài)和電特性穩(wěn)定。
另外,該刻入?yún)^(qū)域常常位于該浮動(dòng)塊的中心部分內(nèi),并且如果將該刻入?yún)^(qū)域的質(zhì)心(質(zhì)量中心)作為基準(zhǔn),則通??梢詼?zhǔn)確地設(shè)定懸架的接合部位。
應(yīng)當(dāng)指出,在目前的磁頭中,ABS中的刻入?yún)^(qū)域和其它區(qū)域之間的階梯(step)已經(jīng)變得更小以便降低飛行高度。因此,由于一般可見光的波長(zhǎng)較長(zhǎng),所以難以可靠地檢測(cè)到該階梯(即,不能清楚地識(shí)別該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域)。紫外(UV)光的波長(zhǎng)比一般可見光的波長(zhǎng)短。根據(jù)本發(fā)明,可通過用UV光照射該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域,并用一UV光檢測(cè)相機(jī)捕捉所反射的UV光,來可靠地識(shí)別難以用一般可見光檢測(cè)出的該刻入?yún)^(qū)域和該其它區(qū)域之間的階梯。因此,通過UV光照射和用UV光檢測(cè)相機(jī)捕捉所反射的UV光,可以可靠地識(shí)別該刻入?yún)^(qū)域和其它區(qū)域。因此,可以提高基準(zhǔn)的精確度。
如上所述,根據(jù)本發(fā)明,提供一種用于將其上形成有一ABS的一浮動(dòng)塊和一懸架相接合的制造磁頭的方法,該方法包括拍攝其上形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面,從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和形成在該ABS內(nèi)的一刻入?yún)^(qū)域,計(jì)算在接合該懸架用作引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn),并且根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合??蛇x擇地,提供一種用于將其上形成有一ABS的一浮動(dòng)塊和一懸架相接合的制造磁頭的方法,該方法包括拍攝其上形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面,拍攝該浮動(dòng)塊的外部形狀,從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和形成在該ABS內(nèi)的一刻入?yún)^(qū)域,計(jì)算在接合該懸架時(shí)用作引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn),將該基準(zhǔn)和該浮動(dòng)塊的外部形狀之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息,當(dāng)將該懸架與該浮動(dòng)塊相接合時(shí),測(cè)量該浮動(dòng)塊的外部形狀并將該測(cè)量值與該關(guān)聯(lián)信息相對(duì)照以讀出該基準(zhǔn),并根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。因此,可以使在該空氣軸承表面(ABS)中產(chǎn)生的正壓力和負(fù)壓力圍繞該懸架達(dá)到很好的平衡,并可獲得穩(wěn)定的飛行姿態(tài)和良好的電特性。
圖1是利用根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的制造磁頭的方法制成的磁頭的透視圖;圖2是示出根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的制造磁頭的方法的工藝說明圖;以及圖3是示出用于區(qū)分一浮動(dòng)塊的一ABS和一刻入?yún)^(qū)域的步驟的說明圖,其中在圖的左側(cè)示出圖像處理前的狀態(tài),而在圖的右側(cè)示出圖像處理后即二值化處理后的狀態(tài)。
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的制造磁頭的方法的具體優(yōu)選實(shí)施例。
圖1是利用根據(jù)本實(shí)施例的制造磁頭的方法制成的磁頭的透視圖。參見圖1,利用根據(jù)本實(shí)施例的制造磁頭的方法制成的磁頭10包括一浮動(dòng)塊12和一固定在該浮動(dòng)塊12上的懸架14,在該浮動(dòng)塊12中結(jié)合有巨磁阻(GMR)元件。該懸架14包括一粘接并固定在浮動(dòng)塊12上的撓曲部(flexure)16,一通過點(diǎn)焊連接在該撓曲部16上的承載梁18,和一為在浮動(dòng)塊12上形成的GMR元件提供配線(wirings)的柔性印刷電路(FPC)(來示出)。
在該浮動(dòng)塊12的與固定在一HDD的主軸馬達(dá)上的一磁盤(未示出)相對(duì)的一側(cè)上形成一ABS。由于該ABS(的存在),因而在浮動(dòng)塊12和高速旋轉(zhuǎn)的磁盤之間產(chǎn)生正壓力和負(fù)壓力,并且可使浮動(dòng)塊12在任意高度上在該磁盤之上飛行。該ABS包括一刻入?yún)^(qū)域24和一其它區(qū)域20。
另外,粘接并固定在浮動(dòng)塊12上的撓曲部16由一金屬薄板制成,并且可在浮動(dòng)塊12的向上和向下的方向、傾斜方向以及彎曲方向上變形。因此可以吸收安裝時(shí)出現(xiàn)的磁盤表面的擺動(dòng)、傾斜等。
點(diǎn)焊連接在撓曲部16上的承載梁18由與撓曲部16類似的金屬薄板制成,并且產(chǎn)生一恒定載荷,該載荷平衡通過一彈簧的推力而施加在浮動(dòng)塊12上的提升力。從而將浮動(dòng)塊12壓靠在磁盤的表面上。應(yīng)當(dāng)指出,在承載梁18的兩個(gè)端部的每一個(gè)上均設(shè)置有一彎曲件22,從而確保相對(duì)于HDD的搜索方向(即磁盤的平面內(nèi)方向)的剛度。
當(dāng)采用根據(jù)本實(shí)施例的制造磁頭的方法制造的磁頭10時(shí),通過圖像處理可識(shí)別ABS和通過離子研磨或類似方法在ABS中形成的刻入?yún)^(qū)域24,并且以被識(shí)別出的刻入?yún)^(qū)域24的質(zhì)心G26作為基準(zhǔn)點(diǎn)(基準(zhǔn))進(jìn)行計(jì)算。使用一分配器或類似物在與質(zhì)心G26相對(duì)應(yīng)的該浮動(dòng)塊12上的一撓曲接合表面28中的一個(gè)位置上涂敷粘合劑,并且將該質(zhì)心G26作為基準(zhǔn)來進(jìn)行該撓曲部16的接合。
通過將確定浮動(dòng)塊12的飛行姿態(tài)的該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24作為基準(zhǔn)而將浮動(dòng)塊12和撓曲部16(即懸架14的一側(cè))粘接在一起,可以使在撓曲部16附近產(chǎn)生的浮動(dòng)塊12的正壓力和負(fù)壓力很好地平衡,從而使浮動(dòng)塊12的飛行姿態(tài)穩(wěn)定并獲得良好的電特性。
下面說明用于制造具有這種構(gòu)造的磁頭10的過程。
圖2是示出根據(jù)本實(shí)施例的制造磁頭的方法的工藝說明圖。
在進(jìn)行如下的處理之前,通過離子研磨工藝在浮動(dòng)塊上形成該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24,并且隨后利用切片機(jī)(slicer)對(duì)該浮動(dòng)塊切片。
參見圖2,然后使一環(huán)形的UV燈30接近浮動(dòng)塊12的切片的一側(cè),其上形成有該其它區(qū)域20和刻入?yún)^(qū)域24。然后進(jìn)行UV照射。一UV光檢測(cè)相機(jī)32設(shè)置在該環(huán)形UV燈30的中心部分內(nèi),從而可以拍攝由浮動(dòng)塊12反射的UV光。另外,該UV光檢測(cè)相機(jī)32與一圖像處理裝置34和一坐標(biāo)計(jì)算裝置36相連接。該圖像處理裝置34對(duì)由該UV光檢測(cè)相機(jī)32拍攝到的浮動(dòng)塊12的圖像進(jìn)行二值化處理,從而可以在圖像上使該其它區(qū)域20和刻入?yún)^(qū)域24彼此區(qū)分開。
下面說明圖像處理裝置34所進(jìn)行的二值化處理的細(xì)節(jié)。
圖3是示出用于區(qū)分浮動(dòng)塊中的刻入部分和其它部分的步驟的說明圖,其中圖的左側(cè)示出圖像處理之前的狀態(tài),圖的右側(cè)示出圖像處理之后即二值化處理之后的狀態(tài)。
在圖3的左側(cè)示出如上所述的由該UV光檢測(cè)相機(jī)拍攝的圖像。該其它區(qū)域20是已進(jìn)行拋光的光滑平面。而該刻入?yún)^(qū)域24是已通過離子研磨處理過的粗糙表面。因此,當(dāng)該其它區(qū)域20和刻入?yún)^(qū)域24反射光時(shí),該其它區(qū)域20和刻入?yún)^(qū)域24的反射率有很大差別(即,該其它區(qū)域20的反射率大,而刻入?yún)^(qū)域24的反射率小)。因此,如果預(yù)先在由該其它區(qū)域20所反射的光的數(shù)量和由該刻入?yún)^(qū)域24所反射的光的數(shù)量之間設(shè)定一分層標(biāo)準(zhǔn)(slice level),則可將該其它區(qū)域20和刻入?yún)^(qū)域24分成單色數(shù)據(jù)值0和1(換句話說,白色和黑色)。
在圖3的右側(cè)示出已根據(jù)這一思想進(jìn)行了二值化處理的圖像。
應(yīng)當(dāng)指出,在本實(shí)施例中用UV光作為對(duì)浮動(dòng)塊12的照射光。UV光的波長(zhǎng)比一般可見光的波長(zhǎng)短。因此,可以可靠地捕捉到作為明區(qū)和暗區(qū)的該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24之間的階梯。因此,即使隨著飛行量的減少該階梯變得更小,仍可利用UV光和檢測(cè)該UV光的UV光檢測(cè)相機(jī)32可靠地檢測(cè)到該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24之間的階梯。
應(yīng)當(dāng)指出,盡管在本實(shí)施例中使用UV燈30和UV光檢測(cè)相機(jī)32作為檢測(cè)該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24之間的階梯的手段,但是也可使用其它方式。例如,也可使用一種利用激光多普勒效應(yīng)(laser Doppler)原理或類似物的測(cè)量方法(換句話說,可以使用任何能夠?qū)Φ玫降臄?shù)據(jù)進(jìn)行二值化處理的方法)。
在完成對(duì)該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24的二值化處理后,坐標(biāo)計(jì)算裝置36計(jì)算該刻入?yún)^(qū)域24的質(zhì)心G26,并將該質(zhì)心G26用作基準(zhǔn)點(diǎn)。
除了計(jì)算質(zhì)心G26之外,該坐標(biāo)計(jì)算裝置36還計(jì)算關(guān)于浮動(dòng)塊12的外部形狀的位置信息(參見圖2中的點(diǎn)A,B,C和D,其成為浮動(dòng)塊12的四個(gè)角)。然后該坐標(biāo)計(jì)算裝置36使該質(zhì)心G26的位置信息與該浮動(dòng)塊12的外部形狀的位置信息相關(guān)聯(lián),并將其存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息38。
在坐標(biāo)計(jì)算裝置36如此記錄浮動(dòng)塊12的單個(gè)片的關(guān)聯(lián)信息38之后,在下一個(gè)步驟中,即將該浮動(dòng)塊與該撓曲部接合的步驟40中,利用環(huán)形燈42用光照射該浮動(dòng)塊12的撓曲接合表面28的一側(cè)(該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24的后表面一側(cè))。一設(shè)置在該環(huán)形燈42的中心部分內(nèi)的光檢測(cè)相機(jī)44拍攝由該浮動(dòng)塊12反射的光。然后,用一圖像處理和坐標(biāo)計(jì)算裝置48從由該光檢測(cè)相機(jī)44拍攝的浮動(dòng)塊12的外部形狀圖像46檢測(cè)該浮動(dòng)塊12的外部形狀的位置信息(參見圖2中的點(diǎn)A,B,C和D,其成為浮動(dòng)塊12的四個(gè)角)。通過使浮動(dòng)塊12的外部形狀的位置信息與上述來自坐標(biāo)計(jì)算裝置38的關(guān)聯(lián)信息38相對(duì)照,可找到質(zhì)心G26的坐標(biāo)。
在利用圖像處理和坐標(biāo)計(jì)算裝置48找到質(zhì)心G26的坐標(biāo)后,使用一分配器(未示出)在該質(zhì)心G26的坐標(biāo)處將粘合劑涂敷在該撓曲接合表面28上。然后可通過將質(zhì)心G26作為基準(zhǔn)來進(jìn)行浮動(dòng)塊12和撓曲部16的定位,以及進(jìn)行對(duì)浮動(dòng)塊12和撓曲部16的粘接。
應(yīng)當(dāng)指出,盡管在本實(shí)施例的說明中將刻入?yún)^(qū)域24的質(zhì)心用作基準(zhǔn)點(diǎn),但是也可利用其它的點(diǎn)。也可從該其它區(qū)域20中計(jì)算出一基準(zhǔn)點(diǎn),并且還可以利用該其它區(qū)域20和該刻入?yún)^(qū)域24之間的表面積的比率等來計(jì)算出一基準(zhǔn)點(diǎn)??筛鶕?jù)磁頭10的說明書、使用的制造設(shè)備等適當(dāng)?shù)卦O(shè)定計(jì)算基準(zhǔn)點(diǎn)的方法。另外,盡管在本實(shí)施例中使用一個(gè)點(diǎn)(基準(zhǔn)點(diǎn))作為基準(zhǔn),但是在這方面沒有限制,必要時(shí)也可用一條線(基準(zhǔn)線)作為基準(zhǔn)。
本申請(qǐng)要求2003年11月14日提交的日本專利申請(qǐng)No.2003-385001的優(yōu)先權(quán),因此該專利申請(qǐng)作為本文的參考。
權(quán)利要求
1.一種制造磁頭的方法,該方法用于將其上形成有一空氣軸承表面(ABS)的一浮動(dòng)塊與一懸架相接合,該方法包括拍攝其上形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面;從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和在該ABS內(nèi)形成的一刻入?yún)^(qū)域;計(jì)算用作接合該懸架時(shí)的引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn);以及根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。
2.一種根據(jù)權(quán)利要求1的制造磁頭的方法,其特征在于,該基準(zhǔn)包括該刻入?yún)^(qū)域的質(zhì)心。
3.一種根據(jù)權(quán)利要求1的制造磁頭的方法,其特征在于,該拍攝包括用紫外(UV)光照射該浮動(dòng)塊,并用一UV光檢測(cè)相機(jī)拍攝從該浮動(dòng)塊反射的光。
4.一種制造磁頭的方法,該方法用于將其上形成有一空氣軸承表面(ABS)的一浮動(dòng)塊與一懸架相接合,該方法包括拍攝其上形成有該ABS的該浮動(dòng)塊的一表面;拍攝該浮動(dòng)塊的外部形狀;從拍攝的圖像中識(shí)別該ABS和在該ABS內(nèi)形成的一刻入?yún)^(qū)域;計(jì)算用作接合該懸架時(shí)的引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn);將該基準(zhǔn)和該浮動(dòng)塊的外部形狀之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息;當(dāng)將該懸架與該浮動(dòng)塊相接合時(shí),測(cè)量該浮動(dòng)塊的外部形狀,并通過使該測(cè)量值和該關(guān)聯(lián)信息相對(duì)照來讀出該基準(zhǔn);以及根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。
5.一種根據(jù)權(quán)利要求4的制造磁頭的方法,其特征在于,該基準(zhǔn)包括該刻入?yún)^(qū)域的質(zhì)心。
6.一種根據(jù)權(quán)利要求4的制造磁頭的方法,其特征在于,該拍攝包括用紫外(UV)光照射該浮動(dòng)塊,并用一UV光檢測(cè)相機(jī)拍攝從該浮動(dòng)塊反射的光。
全文摘要
本發(fā)明提供一種制造磁頭的方法,其中可通過將確定飛行特性的ABS方式作為基準(zhǔn)進(jìn)行一浮動(dòng)塊和一懸架的粘接,并且在浮動(dòng)塊或懸架上不需要特殊的構(gòu)造。該方法涉及一種用于將其上形成有一空氣軸承表面(ABS)的一浮動(dòng)塊與一懸架相接合的制造磁頭的方法。拍攝其上形成有該ABS表面的該浮動(dòng)塊的一表面,并從拍攝出的圖像中識(shí)別該ABS和在該ABS內(nèi)形成的一刻入?yún)^(qū)域。然后,計(jì)算用作接合該懸架時(shí)的引導(dǎo)的一個(gè)基準(zhǔn),并根據(jù)該基準(zhǔn)將該浮動(dòng)塊與該懸架相接合。因此,可以使在ABS中產(chǎn)生的正壓力和負(fù)壓力圍繞懸架很好地平衡,從而可以穩(wěn)定飛行姿態(tài)和電特性。
文檔編號(hào)G11B5/60GK1617232SQ20041009104
公開日2005年5月18日 申請(qǐng)日期2004年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月14日
發(fā)明者高貫一明, 進(jìn)藤修, 中尾明正, 金子正明, 山口哲 申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社