專利名稱：測量浮動塊安裝位置的方法和裝置，以及應(yīng)用該裝置的磁頭制造系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及當(dāng)將一磁頭浮動塊安裝到用于支承該磁頭浮動塊的一所謂懸架上時用于測量該磁頭浮動塊的安裝位置的方法和裝置，該磁頭浮動塊用在磁記錄裝置例如硬盤(以下簡稱為“HDD”)中。本發(fā)明還涉及一種磁頭制造系統(tǒng)，該系統(tǒng)用于在應(yīng)用該測量裝置確認(rèn)磁頭浮動塊的安裝位置之后，將磁頭浮動塊固定到一懸架上以估測磁頭浮動塊固定到懸架上的狀態(tài)。
背景技術(shù)：
圖10A是表示一磁頭的頭部的示意性結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖，并且圖10B是表示該磁頭的頭部的示意性結(jié)構(gòu)的俯視圖。該磁頭包括一由金屬制成的片簧構(gòu)成的承載梁3，一除了其要被支承在該處的頭部以外均粘合在承載梁3上的撓性件5，以及一粘合在撓性件5上以便被支承在該處的磁頭浮動塊1。撓性件5粘合在承載梁3上，因此撓性件5和承載梁3幾乎成為一個整體，并且作為磁頭中的一懸架7。撓性件5包括主體部分5a，和一矩形舌片5b。僅僅該矩形舌片5b的頭部一側(cè)連接到撓性主體5a上，它的其它側(cè)被(從主體)切開。
一朝該撓性件5一側(cè)突出的凹座(dimple)11形成在承載梁3的頭部處。凹座11對舌片5b施加推力以使舌片5b獨立于撓性主體5a而變得幾乎平行于承載梁3。凹座11通過其上固定有磁頭浮動塊1的舌片5b推動磁頭浮動塊1，并且因此可以在實際的記錄/再現(xiàn)操作中保持一最佳的姿態(tài)(參見JP H11-185416A和JP H 06-215511A)。
迄今，在用于將磁頭浮動塊1安裝到承載梁3上的操作中，測量懸架7自身的位置或者觀察孔7a和形成于懸架7上的旋轉(zhuǎn)孔7b的位置，并且根據(jù)測量結(jié)果確定磁頭浮動塊1的固定位置。另外，獲得磁頭浮動塊1的中心線，并且該中心線也被用作測量的參數(shù)。
因為HDD的記錄密度越來越高，硬盤的軌道寬度越來越窄，并且對應(yīng)于減小的軌道寬度的磁頭也變得越來越小型化和輕巧。在這種情況，就要求當(dāng)磁頭浮動塊安置和安裝到小型化的磁頭上的同時實現(xiàn)較高的精確性。還要求提高在實際的記錄/再現(xiàn)操作中磁頭中心部分的姿態(tài)的穩(wěn)定性。本質(zhì)上，當(dāng)將磁頭中心部分固定到懸架上時，如果考慮到在固定操作中磁頭中心部分的姿態(tài)的穩(wěn)定性，那么必須將凹座的形成位置作為參考來確定磁頭中心部分的安裝位置。
然而，從以前所參照的圖10A和10B可以明顯看到，由于舌片突出以致覆蓋在凹座表面上，所以到目前為止認(rèn)為直接測量凹座的形成位置是不可能的。此外，隨著磁頭中心部分和凹座的小型化，通過傳統(tǒng)方法，即利用該中心部分的中心線，觀察孔，以及旋轉(zhuǎn)孔的測量磁頭浮動塊的安裝位置的方法，變得難以確定一個合適的固定位置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是根據(jù)上面提到的情況做出的，因此本發(fā)明的一個目的是提供一種測量磁頭浮動塊在懸架上的安裝位置的方法和裝置，其均能夠精確地確定懸架上的凹座位置和精確地確定磁頭浮動塊的安裝位置。本發(fā)明的另外一個目的是提供一種磁頭制造系統(tǒng)，該系統(tǒng)用于在應(yīng)用該測量裝置確認(rèn)磁頭浮動塊的安裝位置之后，將該磁頭浮動塊固定到一懸架上。
為了解塊上述問題，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝于該處的一懸架上的預(yù)定位置的方法，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該方法包括獲得在該懸架的延伸的X-Y平面內(nèi)的該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)；從基本垂直于該X-Y平面的方向向形成在一凹座的凸面的背面內(nèi)的一凹面照射光線而對該凹座進行拍攝以獲得該凹座的圖像，從而根據(jù)該圖像在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)獲得該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)，其中該凹座形成在該懸架上以使該凸面位于該磁頭浮動塊將要安裝于其上的該懸架的一側(cè)；對該基準(zhǔn)部的中心部分和該凹座的中心部分進行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，以便根據(jù)該所得到的圖像以及至少該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)和該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)之一獲得該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，從而利用所得到的該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和所得到的該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)獲得該預(yù)定方向；在該X-Y平面上沿該懸架的延伸方向獲得一中心線的X-Y坐標(biāo)和該磁頭浮動塊的一中心點的X-Y坐標(biāo)；以及通過使該磁頭浮動塊的中心線與該預(yù)定方向一致，并使該磁頭浮動塊的中心點的X-Y坐標(biāo)與該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)一致而獲得在該處該磁頭浮動塊將要安裝到該懸架上的該懸架的一個位置。
在該方法的另一方面中，優(yōu)選地獲得該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)包括在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)從不同方向?qū)υ摪甲耐姑孢M行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，從而根據(jù)該所得到的相應(yīng)的圖像獲得在該平面內(nèi)該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)，并且通過對該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)增加一位置偏移量而確定該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，該位置偏移量是該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)和根據(jù)所述圖像獲得的該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)之間的位置偏移量。
此外，為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝于該處的一懸架上的一預(yù)定位置的方法，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一指示物和一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該方法包括
在該懸架延伸的X-Y平面內(nèi)獲得該指示物的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)；在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)從不同方向?qū)σ话甲耐姑孢M行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，其中該凹座形成在該懸架上以便在該磁頭浮動塊將要安裝于其上的該懸架的一側(cè)上具有凸面，由此從所得到的相應(yīng)的圖像獲得該凸面的頂部在該平面內(nèi)的第一X-Y坐標(biāo)；對該指示物或該基準(zhǔn)部的中心部分進行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，以便根據(jù)從該所得到的圖像以及至少該指示物的中心部分的所述X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的所述X-Y坐標(biāo)之一獲得的該指示物的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，來獲得該凹座的凸面的頂部的第二X-Y坐標(biāo)，由此利用該指示物和該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)以及該凹座的凸面的頂部的第二X-Y坐標(biāo)來獲得該預(yù)定方向；在該平面上沿該懸架的延伸方向獲得該磁頭浮動塊的一中心線的X-Y坐標(biāo)和一中心點的X-Y坐標(biāo)；以及通過使該磁頭浮動塊的中心線和該預(yù)定方向一致，并使該磁頭浮動塊的中心點的X-Y坐標(biāo)和該凹座的凸面頂部的第二X-Y坐標(biāo)一致，來獲得在該處磁頭浮動塊將要安裝到該懸架上的該懸架的一個位置。
此外，為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置，該裝置用于測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝在該處的一懸架上的預(yù)定位置，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一指示物和一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置包括一上部相機和一下部相機，該相機分別具有垂直于該懸架的延伸平面的相對的拍攝光軸；一前部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并指向該懸架的拍攝光軸；一側(cè)部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并從與該前部相機的拍攝光軸不同的方向指向該懸架的拍攝光軸；以及控制裝置，該裝置根據(jù)用該上部相機、該下部相機、該前部相機和該側(cè)部相機拍攝到的該懸架的圖像，來獲得形成在該磁頭浮動塊要安裝于其上的該懸架的一側(cè)上的一凸面的頂部和形成在該懸架上的一基準(zhǔn)部之間的位置關(guān)系。
此外，為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種磁頭制造系統(tǒng)，該系統(tǒng)用于在一懸架上的一預(yù)定位置內(nèi)沿一預(yù)定方向安裝一磁頭浮動塊，該懸架具有形成在該磁頭浮動塊將要安裝于其上的一側(cè)上的一凸面和一基準(zhǔn)部，該磁頭制造系統(tǒng)包括一磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置，該裝置用于測量該磁頭浮動塊將要安裝于該處的該懸架上的預(yù)定位置；和一磁頭浮動塊安裝裝置，該裝置用于在該懸架上的預(yù)定位置內(nèi)安裝該磁頭浮動塊，該磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置包括一上部相機和一下部相機，該相機分別具有指向該懸架的延伸平面的相對的拍攝光軸；一前部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并指向該懸架的拍攝光軸；一側(cè)部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并從與該前部相機的拍攝光軸不同的方向指向該懸架的拍攝光軸；以及控制裝置，該裝置根據(jù)用該上部相機、該下部相機、該前部相機和該側(cè)部相機拍攝到的該懸架的圖像，來獲得形成在該磁頭浮動塊要安裝于其上的該懸架的一側(cè)上的一凸面的頂部和形成在該懸架上的一基準(zhǔn)部之間的位置關(guān)系。
應(yīng)指出上述第一X-Y坐標(biāo)表示當(dāng)用側(cè)部相機，前部相機和下部相機獲得在凹座中的凸面的頂部或凹面的最深部分時所使用的X-Y坐標(biāo)系。同樣，上述第二X-Y坐標(biāo)系表示當(dāng)利用參數(shù)，例如沿懸架的延伸方向延伸的懸架的中心線的位置將磁頭浮動塊安裝到懸架上時所使用的坐標(biāo)系。這些單個的相機優(yōu)選分別布置在正交的坐標(biāo)軸上。但是，只要最終能獲得目標(biāo)點的第一和第二X-Y坐標(biāo)，則該單個相機的布置位置并不局限于在該正交坐標(biāo)系的軸線上的位置。此外，在實施例或類似示例中將對作為第一和第二基準(zhǔn)孔的一觀察孔和一旋轉(zhuǎn)孔作為基準(zhǔn)部進行說明。但是，只要該基準(zhǔn)部能成為可用于確定該懸架的中心線、一特定部分的位置等的指示物，該基準(zhǔn)部并不局限于這些孔。
根據(jù)本發(fā)明，可以獲得迄今一直用作基準(zhǔn)部的觀察孔和旋轉(zhuǎn)孔與凹座之間的精確的位置關(guān)系。因此，對磁頭浮動塊在懸架上的安裝位置的估測通過用于支承磁頭浮動塊的該凹座的中心位置作為基準(zhǔn)來確定。結(jié)果，可以產(chǎn)生以下效果提高了在小型化磁頭中安裝磁頭浮動塊的精確性，并且還提高了在實際的記錄/再現(xiàn)操作中磁頭中心部分的姿態(tài)的穩(wěn)定性。
通常，通過使要形成承載梁的金屬薄板進行壓力加工來獲得該凹座。通常，通過在一具有凹面類部分的下型箱和一具有凸面類部分的上型箱之間夾入一金屬薄板而進行該壓力加工以使該金屬薄板變形。還可能在該下型箱的凹面的頂部(最下凹的部分)和該上型箱的凸面的頂部之間發(fā)生位置偏移。根據(jù)本發(fā)明，已經(jīng)注意到在這些頂部之間的位置偏移，從而可以識別該偏移。從而即使當(dāng)這種位置偏移發(fā)生時，也可以將磁頭浮動塊精確地安裝在該凹座的頂部。
圖5是表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的測量裝置的構(gòu)造的框圖；圖6是表示獲得凹座的凹面的最深部分的過程的流程圖；圖7是表示獲得在凹座中凹面的最深部分與凸面的頂部之間沿X-Y坐標(biāo)系的位置偏移量的過程的流程圖；圖8是表示使凹座的凸面的頂部和磁頭浮動塊的中心在X-Y坐標(biāo)系上相互一致的過程的流程圖；圖9A是在根據(jù)本發(fā)明第二實施例將磁頭浮動塊安裝在一懸架上的狀態(tài)下的主要部分的示意性側(cè)視圖；圖9B是在根據(jù)本發(fā)明第二實施例將磁頭浮動塊安裝在該懸架上的狀態(tài)下的主要部分的示意性俯視圖；圖10A是在根據(jù)相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)將磁頭浮動塊安裝在一懸架上的狀態(tài)下的主要部分的示意性側(cè)視圖；以及圖10B是在根據(jù)相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)將磁頭浮動塊安裝在該懸架上的狀態(tài)下的主要部分的示意性俯視圖。
具體實施例方式
下面將參考


根據(jù)本發(fā)明一種實施方式的測量裝置的主要部分的示意性結(jié)構(gòu)。圖1A是根據(jù)本發(fā)明的測量裝置的示意性俯視圖，圖1B是根據(jù)本發(fā)明的測量裝置的示意性側(cè)視圖。根據(jù)本發(fā)明的測量裝置100包括一懸架7要放置于其上的X臺15、一支承X臺15的Y臺17、一支承Y臺17的座19、一下部相機21、一側(cè)部相機23、一前部相機25和一上部相機27。該X臺15由Y臺17支承以便沿圖中箭頭所示方向(沿X方向)被驅(qū)動。另外，Y臺17由座19支承以便沿垂直于圖中X方向的方向被驅(qū)動。
前部相機25具有一包含在懸架7的一延伸平面內(nèi)或平行于懸架7的延伸平面且指向懸架7的拍攝光軸。另外，側(cè)部相機23具有一容納在懸架7的延伸平面內(nèi)或平行于懸架7的延伸平面且指向懸架7從而垂直于前部相機25的拍攝光軸的拍攝光軸。下部相機21設(shè)置在凹座11的中心的幾乎正下方，且具有一垂直于承載梁3的延伸平面的拍攝光軸。應(yīng)指出前部相機25和側(cè)部相機23還可以設(shè)置成具有位于平行于上述懸架7的延伸平面的相應(yīng)平面內(nèi)的不同拍攝光軸。
在X臺15上支承懸架7的頭部以便其頭部沿X方向伸出。在這種狀態(tài)下，X臺15被沿X方向驅(qū)動，從而在懸架7上設(shè)置一觀察孔、一旋轉(zhuǎn)孔和一凹座以作為將被測量的部分而進入各個上部相機27，下部相機21，側(cè)部相機23和前部相機25的視場內(nèi)。應(yīng)指出可將一透射光源設(shè)置在越過懸架7而與相機相對的位置上，例如如圖1A所示用于側(cè)部相機23的透射光源29，以提高該相機所拍攝的懸架圖像的對比度。
接著，下文將對一種應(yīng)用具有圖1A和1B所示的結(jié)構(gòu)的測量裝置的(測量)方法進行說明，該方法包括對凹座進行實際拍攝以獲得該凹座的凸面的頂部位置。凹座11是利用壓力加工通過在由金屬薄板制成的承載梁3的端部附近形成向上的突起部而得到。在本發(fā)明中，用下部相機21對凹座11的凹面進行拍攝，從而得到凹座11的凹面的中心位置。更具體地，將一環(huán)狀光源或一同軸光源(未示出)設(shè)置在下部相機21的周向，并用這一光源照射凹座11的背面?zhèn)?，由此得到如圖2所示的圖像。照射到凹座11的光線被凹座11的凹面的最深部分或其鄰近部分所反射，從而在凹座11的內(nèi)表面中形成一圖像12。
在所拍攝的圖像中，該凹面的外周向11c被顯示為一環(huán)狀黑暗部分的外周向，并且基本垂直于照射光的光軸的該最深部分11a被顯示為該黑暗部分中心處的一亮點(圖像12)。適當(dāng)?shù)胤胖迷摥h(huán)狀光源(未示出)，由此該圖像12的中心與凹座11的中心相一致。由于凹座11的凹面由與凹座11周向上的承載梁3的背面相同的材料制成，所以凹座11與承載梁3之間的邊界或類似界限作為圖像本質(zhì)上難以識別。然而，使用圖像12能容易地獲得凹座11的中心部分的X-Y坐標(biāo)。應(yīng)指出，假設(shè)調(diào)節(jié)X-Y坐標(biāo)的平面是一基本上平行于懸架7的延伸平面的平面。
通過上述結(jié)構(gòu)，能容易地識別凹座11的中心部分的X-Y坐標(biāo)。利用由常規(guī)結(jié)構(gòu)所得到的觀察孔7a和旋轉(zhuǎn)孔7b的中心部分的X-Y坐標(biāo)與凹座11的中心部分的X-Y坐標(biāo)之間的關(guān)系，可以使磁頭浮動塊1的中心與凹座11的中心一致。此外，能容易地使磁頭浮動塊1的安裝方向與所需的方向一致。因此，可以提供這樣的磁頭，其中即使使用更微型的磁頭浮動塊1，也可以減少在記錄/再現(xiàn)操作中磁頭浮動塊1的浮動量，并且在該操作過程中保持磁頭浮動塊1的姿態(tài)穩(wěn)定。
這里，如上所述，在凹座11的形成表面上，凹座11可能在前面?zhèn)?凸面)的頂部和背面?zhèn)?凹面)的最深部分之間存在位置偏移。在磁頭浮動塊1中，凹座11的凸面的頂部與凹座11的中心需要相互一致。然而，由于位置偏移的影響，可能不能精確識別凹座11的頂部位置。隨著磁頭浮動塊進一步小型化，這種趨勢被認(rèn)為是不能忽略的。
本發(fā)明中，則可以實際獲得凹座11的凸面的頂部位置。圖3示意性地示出在實際測量中側(cè)部相機23和前部相機25與懸架7之間的位置關(guān)系。為了識別凹座11的頂部，用前部相機25和側(cè)部相機23拍攝凹座11，該側(cè)部相機23位于與前部相機25的平面基本相同的平面上并且適于從垂直于前部相機25的拍攝方向的方向拍攝凹座11。根據(jù)在各相機23和25的拍攝區(qū)域內(nèi)所識別的凹座11的頂部位置，能得到在懸架7的延伸平面上的凹座11的頂部的X-Y坐標(biāo)。
通常，凹座11緊密接觸形成在撓性件5上的舌片5b，以便從一撓性件主體部分5a向上推動舌片5b。這樣，凹座11的頂部插入貫穿形成在撓性件主體5a上的舌片5b的孔。因此，在凹座11采取正常姿態(tài)的情況下，很難通過側(cè)部相機23或前部相機25對凹座11進行拍攝。為此，在本實施方式中，設(shè)有一適于吸住和保持舌片5b的舌片保持吸嘴31。舌片5b被舌片保持吸嘴31吸住，并且在此狀態(tài)下，該舌片保持吸嘴31向上移動，由此舌片5b從凹座11的頂部分離，這使得凹座11的頂部能被側(cè)部相機23和前部相機25進行拍攝。
應(yīng)指出，當(dāng)舌片保持吸嘴31的移動量過大，或當(dāng)處于移動狀態(tài)的保持時間過長時，撓性件5可能變形。因此，用舌片保持吸嘴31使舌片5b離開凹座11的頂部的量以及其遠(yuǎn)離所需的時間優(yōu)選盡可能地減少。另外，在某些情況下，利用舌片保持吸嘴31識別凹座11頂部的過程可以與實際在舌片5b上安裝磁頭浮動塊1的過程分開來進行。
接著，下面將對包括獲得凹座11的形成表面中的前面?zhèn)?凸面)的頂部和背面(凹面)的最深部分(最深部分)之間的位置偏移的方法進行說明。圖4示出當(dāng)獲得位置偏移時，下部相機21、側(cè)部相機23和前部相機25的布置。用下部相機21對凹座11的凹面進行拍攝，以獲得凹面的最深部分11a在X-Y平面(懸架7的延伸表面)的X-Y坐標(biāo)。同時，用前部相機25和側(cè)部相機23對凹座11的凸面進行拍攝，以獲得凸面的頂部11b在一X-Y平面內(nèi)的X-Y坐標(biāo)。盡管這些X-Y平面實際上是與懸架7的延伸方向平行的平面，但對凹座11的凹面的最深部分11a與凹座11的凸面的頂部11b之間在X-Y坐標(biāo)系上的結(jié)果的位移偏移量的計算與這些X-Y平面之間的距離無關(guān)。
通過上述操作，可以預(yù)先獲得凹座11的凹面的最深部分11a與凹座11的凸面的頂部11b之間在X-Y坐標(biāo)系上的所得到的位置偏移量，以及凹座11的凹面的最深部分11a與凸面的頂部11b之間在X-Y坐標(biāo)系上的位置偏移的方向。在用于實際安裝磁頭浮動塊1的過程中，僅用下部相機21確認(rèn)凹座11的位置以確定磁頭浮動塊1的安裝位置。在這種情況下，僅用帶有一定位置偏移量的下部相機21等進行該確認(rèn)。磁頭浮動塊1在懸架7上的安裝位置可以通過這種方式確定，由此即使當(dāng)磁頭浮動塊1進一步小型化和重量變輕時，磁頭浮動塊1的浮動量也會變小，從而能制造出可以進行良好的記錄/再現(xiàn)操作的磁頭。
應(yīng)指出，本發(fā)明旨在使凹座11的凸面的頂部11b的X-Y坐標(biāo)與磁頭浮動塊1的中心位置的X-Y坐標(biāo)相一致，并使頂部11b與觀察孔7a的連線的方向與要沿其設(shè)置磁頭浮動塊1的預(yù)定方向一致。這樣，如果凹座11的凹面的最深部分的X-Y坐標(biāo)與凹座11的凸面的頂部的X-Y坐標(biāo)一致，則用于獲得凸面的頂部的X-Y坐標(biāo)的過程是不必要的。另外，如果能將一個目標(biāo)物設(shè)在不同于凹座11的凹面的最深部分11a的部分內(nèi)——用該目標(biāo)物可以分析出凹座11的凸面的頂部的X-Y坐標(biāo)，則用于獲得凹座11的凹面的最深部分11a的位置的過程可以用獲得該目標(biāo)物的坐標(biāo)的過程來代替。另外，在本實施方式中，穿過該懸架的觀察孔和旋轉(zhuǎn)孔作為基準(zhǔn)部。然而，基準(zhǔn)部的結(jié)構(gòu)并不限于這些基準(zhǔn)孔的形式。因此，包括各種形式如標(biāo)記物和懸架的外形的結(jié)構(gòu)都能用作該基準(zhǔn)部。
第一實施例下面將參照圖5的框圖說明一種根據(jù)本發(fā)明第一實施例的測量凹座的位置的裝置，以及一種利用該測量裝置將磁頭浮動塊安裝到懸架上的磁頭制造系統(tǒng)。應(yīng)指出由于上文已經(jīng)參照圖1A和1B對該(測量裝置的)構(gòu)造的主要部分的細(xì)節(jié)進行了說明，因此為了簡便這里省略對該構(gòu)造的說明。測量裝置100包括上部相機27、下部相機21、前部相機23和側(cè)部相機25，這些相機連接到控制裝置35?？刂蒲b置35對由上部相機27、下部相機21、前部相機23和側(cè)部相機25所拍攝的圖像進行圖像分析以獲得例如觀察孔、凹座11的中心等的X-Y坐標(biāo)、布置等。
另外，控制裝置35執(zhí)行以下操作驅(qū)動X臺15和Y臺17以用于將懸架7固定地保持在使懸架7位于每個上部相機27、下部相機21、前部相機23和側(cè)部相機25的視場中心部分的操作；傳送懸架7到一傳輸裝置37或一浮動塊安裝裝置39的操作；或類似操作，此外，控制裝置35根據(jù)所得到的凹座11的中心的X-Y坐標(biāo)等獲得磁頭浮動塊1在懸架7上的安裝位置等，以執(zhí)行在浮動塊安裝裝置39中的位置控制。應(yīng)指出，與所得到的凹座11的中心的X-Y坐標(biāo)等有關(guān)的所有數(shù)據(jù)都存儲在存儲裝置41中，并且當(dāng)要將磁頭浮動塊1安裝到懸架7上時，從該存儲裝置41讀取數(shù)據(jù)以用于位置控制。
測量裝置100以組件的形式構(gòu)成，并適于連接到位于測量裝置100下游的磁頭浮動塊安裝裝置39等，以便可以執(zhí)行適當(dāng)?shù)陌惭b過程。在這種情況下，例如，可以不將懸架7直接傳送到安裝裝置39，而是通過獨立的傳輸裝置37將其傳送到浮動塊安裝裝置39。測量裝置100與傳輸裝置37和浮動塊安裝裝置39相連接，從而構(gòu)成磁頭制造系統(tǒng)。
圖6是示出用測量裝置100實際獲得凹座11的中心位置的過程的流程圖。在測量凹座11在懸架7上的形成位置過程中，將懸架7設(shè)置在X臺15上以開始實際測量過程。在測量過程中，首先，在步驟3，用下部相機21拍攝一基準(zhǔn)孔1，例如觀察孔7a，以獲得該基準(zhǔn)孔1的中心的第一X-Y坐標(biāo)。在隨后的步驟4中，用下部相機21拍攝一基準(zhǔn)孔2，例如旋轉(zhuǎn)孔7b，以獲得該基準(zhǔn)孔2的中心的第一X-Y坐標(biāo)。通過這些操作可以確認(rèn)懸架7相對于X臺15的放置狀態(tài)。所有與這些基準(zhǔn)孔1和2的中心的X-Y坐標(biāo)等有關(guān)的數(shù)據(jù)都存儲在存儲裝置41中。
在完成上述的過程后，在步驟5中，用下部相機21拍攝凹座11的凹面部分?？刂蒲b置35根據(jù)以圖2所示的形式獲得的凹座11的凹面的最深部分11a的圖像12獲得凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐標(biāo)。根據(jù)已經(jīng)得到的基準(zhǔn)孔1和2的中心的第一X-Y坐標(biāo)可獲得凹座11的中心(在這種情況下為凹面的最深部分11a)在懸架7(承載梁3)上的實際布置情況。當(dāng)在凹座11的凸面的頂部11b與凹座11的凹面的最深部分11a之間在X-Y坐標(biāo)系上不發(fā)生稍后將要說明的位置偏移時，可以根據(jù)已經(jīng)通過上文所說明的操作獲得的數(shù)據(jù)執(zhí)行將磁頭浮動塊1安裝到懸架7上的過程。
接著，下面將參照圖7的流程圖來說明獲得凹座11的凸面的頂部11b與凹座11的凹面的最深部分11a之間的位置偏移量的過程。在這個過程中，將舌片保持吸嘴31移動靠近放置在X臺15上的懸架7中的舌片5b(步驟13)。舌片5b被吸住并進一步被向上保持一預(yù)定量，由此獲得一種能夠拍攝凹座11的凸面的狀態(tài)(步驟14和15)。
在這種狀態(tài)下，開始一個用于獲得凹座11的實際中心的位置偏移量的操作(步驟16)。在這一操作中，首先，在步驟17中，用下部相機21拍攝凹座11的凹面，以便根據(jù)在控制裝置35中的拍攝結(jié)果獲得凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐標(biāo)。隨后，用側(cè)部相機23拍攝凹座11的凸面以便通過控制裝置35獲得凸面的頂部11b沿X方向的第一X-Y坐標(biāo)。另外，在步驟19中，用前部相機21拍攝凹座11的凸面以便通過控制裝置35獲得凸面的頂部11b沿Y方向的第一X-Y坐標(biāo)。
從所得到的凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐標(biāo)，和所得到的凹座11的凸面的頂部11b的第一X-Y坐標(biāo)，可得到位置偏移量和位置偏移方向。與凹面的最深部分11a的第一X-Y坐標(biāo)和凸面的頂部11b的第一X-Y坐標(biāo)有關(guān)的所有數(shù)據(jù)、凸面的頂部11b和凹面的最深部分11a之間的位置偏移量等均存儲在存儲裝置41中。之后，停止舌片保持吸嘴31的保持操作以縮回舌片保持吸嘴31(步驟20至22)。通過上述操作，可得到凹座11的凸面的頂部11b與凹座11的凹面的最深部分11a之間的位置偏移量。
接著，下面將說明根據(jù)通過上述操作所獲得的測量值將磁頭浮動塊1安裝到懸架7上的過程。圖8是示出這一過程進行的流程圖。在此過程中，用下部相機21拍攝穿過放置在X臺15上的懸架7的基準(zhǔn)孔1或2，以便獲得基準(zhǔn)孔1或2的中心的第二X-Y坐標(biāo)(步驟33)。將所得到的基準(zhǔn)孔1或2的中心的第二X-Y坐標(biāo)與先前存儲在存儲裝置41中的基準(zhǔn)孔1或2的中心的第一X-Y坐標(biāo)相比較。在隨后的步驟34中，用下部相機21拍攝凹座11的凹面以獲得凹座11的凹面的最深部分11a的第二X-Y坐標(biāo)。然后，從存儲裝置41中讀取有關(guān)先前獲得的基準(zhǔn)孔1或2的第一X-Y坐標(biāo)，以及從凹面的最深部分11a的第一X-Y坐標(biāo)和從凸面的頂部11b的第一X-Y坐標(biāo)所獲得的位置偏移量的數(shù)據(jù)。然后，根據(jù)這些數(shù)據(jù)得到一個第二X-Y坐標(biāo)系和一個成為安裝磁頭浮動塊1的基準(zhǔn)的基準(zhǔn)點。
接著，用上部相機27拍攝磁頭浮動塊1(步驟35)。該磁頭浮動塊1基本為長方體的形狀。這樣，從上側(cè)拍攝磁頭浮動塊1，并對所得到的圖像進行圖像分析，由此得到在與懸架7的延伸平面平行的一平面內(nèi)的一中心部分和一中心線。在實際的安裝過程中，將磁頭浮動塊1安裝到舌片5b上，以便在X-Y平面上(懸架7的延伸平面)磁頭浮動塊1的中心部分的X-Y坐標(biāo)與凹座11的凹面的頂部11b的第二X-Y坐標(biāo)相一致。應(yīng)指出，由于實際執(zhí)行安裝過程的裝置不包括任何與常規(guī)使用的裝置的部件顯著不同的部件，因此為簡便起見這里省略對該裝置的說明。另外，在安裝過程中，同時使磁頭浮動塊1的中心線與從凹座11和基準(zhǔn)孔1和2所得到的且磁頭浮動塊1將沿其設(shè)置的預(yù)定方向一致。
第二實施例本發(fā)明旨在使在X-Y坐標(biāo)系內(nèi)凹座11的凸面的頂部11b的X-Y坐標(biāo)與磁頭浮動塊1的中心位置一致，并且還使得連接頂部11b和觀察孔7a的線與磁頭浮動塊1將沿其設(shè)置的預(yù)定方向一致。在第一實施例中，已經(jīng)對懸架7具有與相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)中相同的觀察孔7a和旋轉(zhuǎn)孔7b的情況進行了說明。然而，不能用側(cè)部相機23從側(cè)面對這些孔7a和7b進行拍攝。因此，在第一實施例中，可獲得凹座11的凹面的最深部分11a的位置，并且可獲得凹座11的凹面的最深部分11a與凹座11的凸面的頂部11b之間的位置關(guān)系，由此通過測量凹座11的凹面可以獲得不能在實際的磁頭浮動塊安裝過程中測量的頂部11b的X-Y坐標(biāo)。
在本實施例中，如圖9A和9B所示，在懸架7上形成代替觀察孔7a的一突起部7a’，該突起部7a’在X-Y坐標(biāo)系上的位置可以用側(cè)部相機23、前部相機25和下部相機21進行測量。也就是說，該突起部7a’形成為從與用于安裝磁頭浮動塊1的懸架7的安裝表面相對的懸架7的表面突出。用側(cè)部相機23所得到的凹座11的凸面的頂部11b與懸架7的突起部7a’之間在X-Y坐標(biāo)系上的位置關(guān)系，可通過用側(cè)部相機23拍攝該突起部7a’所得到的圖像而獲得。另外，用前部相機25所得到的凹座11的凸面的頂部11b與懸架7的突起部7a’之間在X-Y坐標(biāo)系上的位置關(guān)系，可通過用前面相機25拍攝該突起部7a’所得到的圖像而獲得。
即使當(dāng)在實際安裝過程中對于單個懸架不直接測量凹座11的頂部11b的X-Y坐標(biāo)時，也能通過利用以上述方式獲得的突起部7a’的X-Y坐標(biāo)和凹座11的凸面的頂部11b的X-Y坐標(biāo)之間的關(guān)系根據(jù)突起部7a’和該基準(zhǔn)孔的X-Y坐標(biāo)而獲得凹座11的凸面的頂部11b的X-Y坐標(biāo)。因此，利用獲得突起部7a’的位置的過程來代替在第一實施例中執(zhí)行的用于獲得凹座11的凹面的最深部分11a的位置的過程，由此得到與第一實施例中相同的結(jié)果。應(yīng)指出突起部7a’的形狀并不限于突出的形狀，因此可采用任意的物體，只要該物體具有能在其存在位置被前部相機25和側(cè)部相機23確認(rèn)的作為指示的形狀即可。由于其它構(gòu)成部件與第一實施例相同，因此為簡便起見在此省略對它們的說明。
如上文所述，本發(fā)明的實施具有以下效果提高了磁頭浮動塊在小型化磁頭中的安裝精度，并且還提高了在實際記錄/再現(xiàn)操作中磁頭中心部分的姿態(tài)的穩(wěn)定性。
本申請要求2003年10月29日提交的日本專利申請No.2003-368462的優(yōu)先權(quán)，該申請在此作為參考。
權(quán)利要求
1.一種測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝于該處的一懸架上的預(yù)定位置的方法，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該方法包括獲得在該懸架延伸的X-Y平面內(nèi)的該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)；從基本垂直于該X-Y平面的方向向形成在一凹座的凸面的背面內(nèi)的一凹面照射光線而對該凹座進行拍攝以獲得該凹座的圖像，從而根據(jù)該圖像在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)獲得該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)，其中該凹座形成在該懸架上以使該凸面位于該磁頭浮動塊將要安裝于其上的該懸架的一側(cè)；對該基準(zhǔn)部的中心部分和該凹座的中心部分進行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，以便根據(jù)該所得到的圖像以及至少該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)和該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)之一獲得該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，從而利用所得到的該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和所得到的該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)獲得該預(yù)定方向；在該X-Y平面上沿該懸架的延伸方向獲得一中心線的X-Y坐標(biāo)和該磁頭浮動塊的一中心點的X-Y坐標(biāo)；以及通過使該磁頭浮動塊的中心線與該預(yù)定方向一致，并使該磁頭浮動塊的中心點的X-Y坐標(biāo)與該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)一致而獲得在該處該磁頭浮動塊將要安裝到該懸架上的該懸架的一個位置。
2.一種根據(jù)權(quán)利要求1的測量磁頭浮動塊的安裝位置的方法，其中獲得該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)包括在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)從不同方向?qū)υ摪甲耐姑孢M行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，從而根據(jù)該所得到的相應(yīng)的圖像獲得在該平面內(nèi)該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)，并且通過對該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)增加一位置偏移量而確定該凹座的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，該位置偏移量是該凸面的頂部的第一X-Y坐標(biāo)和根據(jù)所述圖像獲得的該凹座的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)之間的位置偏移量。
3.一種測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝于該處的一懸架上的一預(yù)定位置的方法，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一指示物和一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該方法包括在該懸架延伸的X-Y平面內(nèi)獲得該指示物的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的第一X-Y坐標(biāo)；在一平行于該X-Y平面的平面內(nèi)從不同方向?qū)σ话甲耐姑孢M行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，其中該凹座形成在該懸架上以便在該磁頭浮動塊將安裝于其上的該懸架的一側(cè)上具有凸面，由此從所得到的相應(yīng)的圖像獲得該凸面的頂部在該平面內(nèi)的第一X-Y坐標(biāo)；對該指示物或該基準(zhǔn)部的中心部分進行拍攝以獲得相應(yīng)的圖像，以便根據(jù)從該所得到的圖像以及至少該指示物的中心部分的所述X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的所述X-Y坐標(biāo)之一獲得的該指示物的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)和該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)，來獲得該凹座的凸面的頂部的第二X-Y坐標(biāo)，由此利用該指示物和該基準(zhǔn)部的中心部分的第二X-Y坐標(biāo)以及該凹座的凸面的頂部的第二X-Y坐標(biāo)來獲得該預(yù)定方向；在該平面上沿該懸架的延伸方向獲得該磁頭浮動塊的一中心線的X-Y坐標(biāo)和一中心點的X-Y坐標(biāo)；以及通過使該磁頭浮動塊的中心線和該預(yù)定方向一致，并使該磁頭浮動塊的中心點的X-Y坐標(biāo)和該凹座的凸面頂部的第二X-Y坐標(biāo)一致，來獲得在該處磁頭浮動塊將要安裝到該懸架上的該懸架的位置。
4.一種磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置，該裝置用于測量一用于磁頭的磁頭浮動塊將要安裝在該處的一懸架上的預(yù)定位置，其中該磁頭浮動塊將要安裝在具有一指示物和一基準(zhǔn)部的該懸架上的該預(yù)定位置內(nèi)，以使該磁頭浮動塊沿預(yù)定方向定向，該磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置包括一上部相機和一下部相機，該相機分別具有垂直于該懸架的延伸平面的相對的拍攝光軸；一前部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并指向該懸架的拍攝光軸；一側(cè)部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并從與該前部相機的拍攝光軸不同的方向指向該懸架的拍攝光軸；以及控制裝置，該裝置根據(jù)用該上部相機、該下部相機、該前部相機和該側(cè)部相機拍攝到的該懸架的圖像，來獲得形成在該磁頭浮動塊要安裝于其上的該懸架的一側(cè)上的一凸面的頂部和形成在該懸架上的一基準(zhǔn)部之間的位置關(guān)系。
5.一種磁頭制造系統(tǒng)，該系統(tǒng)用于在一懸架上的一預(yù)定位置內(nèi)沿一預(yù)定方向安裝一磁頭浮動塊，該懸架具有形成在該磁頭浮動塊將要安裝于其上的一側(cè)上的一凸面和一基準(zhǔn)部，該磁頭制造系統(tǒng)包括一磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置，該裝置用于測量該磁頭浮動塊將要安裝于該處的該懸架上的預(yù)定位置；和一磁頭浮動塊安裝裝置，該裝置用于在該懸架上的預(yù)定位置內(nèi)安裝該磁頭浮動塊，該磁頭浮動塊安裝位置的測量裝置包括一上部相機和一下部相機，該相機分別具有指向該懸架的延伸平面的相對的拍攝光軸；一前部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并指向該懸架的拍攝光軸；一側(cè)部相機，該相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面上并從與該前部相機的拍攝光軸不同的方向指向該懸架的拍攝光軸；以及控制裝置，該裝置根據(jù)用該上部相機、該下部相機、該前部相機和該側(cè)部相機拍攝到的該懸架的圖像，來獲得形成在該磁頭浮動塊要安裝于其上的該懸架的一側(cè)上的一凸面的頂部和形成在該懸架上的一基準(zhǔn)部之間的位置關(guān)系。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于獲得懸架上的一適當(dāng)位置的測量裝置，在該位置要將更小型的磁頭浮動塊安裝到該懸架上，該裝置包括一前部相機和一側(cè)部相機，該前部相機具有位于一平行于該懸架的延伸平面的平面內(nèi)并指向該懸架的拍攝光軸，該側(cè)部相機具有位于該平行平面內(nèi)且不同于該前部相機的拍攝光軸的拍攝光軸。通過這些相機獲得形成在懸架上的一凹座的凸面的頂部的坐標(biāo)。該所得到的坐標(biāo)和該凹座的凹面的最深部分的坐標(biāo)相互關(guān)聯(lián)，由此，在實際的磁頭浮動塊安裝中，可測量該易于識別的凹座的凹面的最深部分。
文檔編號G11B5/60GK1637865SQ20041010472
公開日2005年7月13日 申請日期2004年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月29日
發(fā)明者早見健一, 金子正明 申請人:Tdk株式會社