專(zhuān)利名稱(chēng)：圖形繪圖裝置、信息記錄媒體的制造方法及母盤(pán)制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及繪制形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形用的曝光圖形的圖形繪圖裝置、以及利用該圖形繪圖裝置繪制的曝光圖形形成的凹凸圖形來(lái)制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)和信息記錄媒體的制造方法。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，對(duì)HDD等磁記錄重放裝置的高密度記錄的要求越來(lái)越高，另一方面作為它的一種實(shí)現(xiàn)方法，正研究利用狹窄軌道來(lái)提高道密度。但是，在利用該方法以力圖實(shí)現(xiàn)高密度紀(jì)錄時(shí)，必須在磁記錄媒體上形成能夠?qū)崿F(xiàn)正確跟蹤伺服的高精度伺服圖形?，F(xiàn)實(shí)情況下，一般是通過(guò)磁頭對(duì)每一道進(jìn)行磁記錄以形成伺服圖形。在這種情況下，隨著越來(lái)越高密度化(道數(shù)增加)，在伺服圖形記錄時(shí)因磁頭定位精度低而引起伺服圖形精度低的情況越來(lái)越明顯，再加上伺服圖形的記錄(形成)所需要的時(shí)間越來(lái)越長(zhǎng)。因此磁記錄重放裝置的制造成本上漲。作為解決這些問(wèn)題的方法，提出了將預(yù)先高精度形成的伺服圖形對(duì)磁記錄媒體的記錄膜通過(guò)磁的方法一次轉(zhuǎn)印的方法、以及在記錄膜上一次形成同樣是高精度的作為伺服圖形的物理凹凸的方法等。
具體來(lái)說(shuō)，作為制造對(duì)磁記錄媒體的記錄膜將伺服圖形等通過(guò)磁的方法一次轉(zhuǎn)印用的信息載體的方法，有在特開(kāi)2000-207738號(hào)公報(bào)所揭示的利用電子束曝光裝置繪制形成伺服圖形等用的曝光圖形來(lái)制造信息載體的方法。在該制造方法中，如該公報(bào)的圖2所示，首先在非磁性基體11上形成的強(qiáng)磁性薄膜12上，利用真空蒸鍍法蒸鍍Au等重金屬，形成重金屬膜。然后形成抗蝕劑膜，以覆蓋成膜的重金屬膜之后，利用光刻法等形成由抗蝕劑膜構(gòu)成的規(guī)定圖形(掩模)。然后，用形成的圖形利用干法刻蝕法等來(lái)腐蝕重金屬膜，通過(guò)這樣在強(qiáng)磁性薄膜12上形成曝光位置參照標(biāo)記21、21…及圖形中心標(biāo)記22。然后，在強(qiáng)磁性薄膜12上涂布電子束感光性抗蝕劑13，以覆蓋形成的曝光位置參照標(biāo)記21、21…及圖形中心標(biāo)記22。通過(guò)這樣，制成被繪圖試樣87。
然后，如該公報(bào)的圖1所示，將被繪圖試樣87放置在電子束繪圖裝置81上。這時(shí)，一面驅(qū)動(dòng)XY平臺(tái)88，一面利用電子槍82輸出電子束83，并利用電子檢測(cè)器89檢測(cè)它的反射電子，通過(guò)這樣檢測(cè)出被繪圖試樣87的圖形中心標(biāo)記22的位置。然后，驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)主軸馬達(dá)80，使被繪圖試樣87僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度后，再次檢測(cè)出圖形中心標(biāo)記22的位置，通過(guò)這樣，計(jì)算利用氣動(dòng)主軸馬達(dá)80的被繪圖試樣87的旋轉(zhuǎn)中心與圖形中心標(biāo)記22的位置偏移量。然后，利用電子束繪圖裝置81對(duì)電子束感光性抗蝕劑13繪制信息載體(信息記錄媒體)制造用的圖形。具體來(lái)說(shuō)，一面利用氣動(dòng)主軸馬達(dá)80使被繪圖試樣87旋轉(zhuǎn)，一面利用電子槍82輸出電子束83，照射被繪圖試樣87的電子束感光性抗蝕劑13。這時(shí)，由于照射的電子束83利用曝光位置參照標(biāo)記21產(chǎn)生反射，因此通過(guò)利用電子檢測(cè)器89來(lái)檢測(cè)該反射電子，能夠檢測(cè)出電子束83通過(guò)曝光位置參照標(biāo)記21的瞬間(電子束83的照射位置與曝光位置參照標(biāo)記21重合的瞬間)。
另外，在該電子束繪圖裝置81中，以電子束83通過(guò)曝光位置參照標(biāo)記21的時(shí)刻為基準(zhǔn)，根據(jù)繪圖對(duì)象的圖形形狀，對(duì)電子束83輸出進(jìn)行照射關(guān)閉控制，通過(guò)這樣繪制圖形的一部分。這時(shí)，根據(jù)被繪圖試樣87的旋轉(zhuǎn)中心與中心標(biāo)記22的位置偏移量，利用電子束偏轉(zhuǎn)器85對(duì)電子束83的照射位置進(jìn)行微調(diào)。另外，在被繪圖試樣87旋轉(zhuǎn)一圈之后，驅(qū)動(dòng)XY平臺(tái)88，使被繪圖試樣87(氣動(dòng)主軸馬達(dá)80)僅移動(dòng)電子束83的光點(diǎn)直徑，繼續(xù)進(jìn)行上述的繪圖處理。通過(guò)在遍及被繪圖試樣87的全部表面上進(jìn)行這樣的繪圖工藝，就對(duì)電子束感光性抗蝕劑13繪制信息載體制造用的圖形。然后，對(duì)電子束感光性抗蝕劑13進(jìn)行顯影處理，通過(guò)這樣除去電子束83的非照射部分，形成凹凸圖形，用該凹凸圖形作為掩模，對(duì)強(qiáng)磁性薄膜12進(jìn)行腐蝕，通過(guò)這樣如該公報(bào)的圖3所示，形成薄膜圖形17，完成母信息載體。
特開(kāi)2000-207738號(hào)公報(bào)(第8-10頁(yè)、圖1-3)但是，發(fā)明者研究了以往的電子束繪圖裝置81，結(jié)果發(fā)現(xiàn)了以下那樣的問(wèn)題。即，在該以往的電子束繪圖裝置81中，是利用電子檢測(cè)器89檢測(cè)出電子束83的照射位置與曝光位置參照標(biāo)記21重合的瞬間，以該檢測(cè)的瞬間為基準(zhǔn)，對(duì)電子束83的輸出進(jìn)行照射關(guān)閉控制，通過(guò)這樣在電子束感光性抗蝕劑13上的所希望的位置繪制所希望的圖形。因而，必須在圖形繪圖對(duì)象的被繪圖試樣87上預(yù)先形成曝光位置參照標(biāo)記21、21…。為此，對(duì)于以往的電子束繪圖裝置81存在的問(wèn)題是，由于采用在被繪圖試樣87上形成曝光位置參照標(biāo)記21、21…的工序，因此母信息載體(信息記錄媒體)的制造成本上漲。
本發(fā)明正是鑒于有關(guān)的問(wèn)題而提出的，主要目的在于提供能夠降低信息記錄媒體制造成本的圖形繪圖裝置、信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法及信息記錄媒體的制造方法。

發(fā)明內(nèi)容
能達(dá)到上述目的的本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹(shù)脂層的基材并使該基材旋轉(zhuǎn)而構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、沿著利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)形成的所述基材的旋轉(zhuǎn)面使該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、根據(jù)在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)內(nèi)部生成的內(nèi)部信號(hào)及對(duì)該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的某一個(gè)信號(hào)生成與所述基材的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)的基準(zhǔn)信號(hào)生成部、向所述樹(shù)脂層輸出繪圖用束的束輸出部、以及控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)同時(shí)控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時(shí)刻的控制部，能夠在所述樹(shù)脂層上繪制構(gòu)成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構(gòu)成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長(zhǎng)度要窄的所述繪圖用束而構(gòu)成，所述控制部通過(guò)交替多次進(jìn)行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理，在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形，所述部分繪圖處理是在利用所述基準(zhǔn)信號(hào)生產(chǎn)部輸出所述基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)，在僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，在所述樹(shù)脂層上繪制所述圖形的寬度方向的一部分，所述繪圖位置改變處理是將利用該部分繪圖處理進(jìn)行的所述一部分繪圖位置，向接近利用所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的所述基材旋轉(zhuǎn)中心的方向及從該規(guī)定中心離開(kāi)的方向的某一個(gè)規(guī)定的方向一側(cè)在所述有效繪圖寬度的范圍內(nèi)改變。另外，本發(fā)明中的所謂“圖形的寬度”意思是指沿相對(duì)基材的旋轉(zhuǎn)中心的接近或離開(kāi)方向的圖形的尺寸，所謂“圖形的長(zhǎng)度”，意思是指沿基材的旋轉(zhuǎn)方向的圖形的尺寸。
另外，本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹(shù)脂層的基材并使該基材旋轉(zhuǎn)而構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、沿著利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)形成的所述基材的旋轉(zhuǎn)面使該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、根據(jù)在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)內(nèi)部生成的內(nèi)部信號(hào)及對(duì)該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的某一個(gè)信號(hào)生成與所述基材的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)的基準(zhǔn)信號(hào)生成部、向所述樹(shù)脂層輸出繪圖用輸導(dǎo)束輸出部、以及控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)同時(shí)控制所述束偏轉(zhuǎn)部產(chǎn)生的所述繪圖用束的偏轉(zhuǎn)方向而且控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時(shí)刻的控制部，能夠在所述樹(shù)脂層上繪制構(gòu)成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構(gòu)成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長(zhǎng)度要窄的所述繪圖用束而構(gòu)成，所述控制部通過(guò)進(jìn)行繪圖處理，在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形，所述繪圖處理是在利用所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部輸出所述基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)，在僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，同時(shí)控制所述束偏轉(zhuǎn)部，沿要繪圖的所述圖形的寬度方向使所述繪圖用束往復(fù)運(yùn)動(dòng)，來(lái)繪制該圖形。
在這種情況下，最好能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。另外，在本說(shuō)明中，一個(gè)伺服圖形假設(shè)由多個(gè)四邊形的圖形(標(biāo)記點(diǎn))而構(gòu)成。
另外，最好能夠繪制構(gòu)成對(duì)前述至少一種圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
再有，最好構(gòu)成所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部，使得在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間中輸出多次所述基準(zhǔn)信號(hào)。
另外，最好能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的多個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的所述曝光圖形，構(gòu)成所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部，使得在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)輸出該基材的每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準(zhǔn)信號(hào)。另外，在本說(shuō)明書(shū)中，將繪制一個(gè)伺服圖形的區(qū)域稱(chēng)為伺服圖形區(qū)。
另外，本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法，采用所述圖形繪圖裝置在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)。
另外，本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體的制造方法，使用信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤(pán)上被形成的凹凸圖形、對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體。
另外，本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體的制造方法，是采用所述圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，由于通過(guò)交替多次進(jìn)行在輸出基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后使繪圖用束輸出來(lái)繪制圖形的寬度方向的一部分的部分繪圖處理、以及改變利用部分繪圖處理進(jìn)行的繪圖位置的繪圖位置改變處理，在樹(shù)脂層上繪制曝光圖形，能夠不需要對(duì)基材形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的制造成本。因而，能夠降低使用該凹凸圖形制造的信息記錄媒體制造用母盤(pán)及使用信息記錄媒體制造用母盤(pán)制造的信息記錄媒體的制造成本。另外，由于僅通過(guò)適當(dāng)改變?cè)O(shè)定直到使繪圖用束輸出之前的待機(jī)時(shí)間，能夠繪制附加所希望的斜角的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形等的信息的記錄媒體。再有，由于不需要基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記，因此例如在采用該圖形繪圖裝置繪制制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)用的曝光圖形時(shí)，能不需要形成中心位置確定用標(biāo)記、以及使中心位置確定用標(biāo)記與基材旋轉(zhuǎn)中心一致的處理，結(jié)果能夠正確而且容易地繪制曝光圖形。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，由于通過(guò)執(zhí)行在輸出基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后使繪圖用束輸出同時(shí)沿要繪圖的圖形的寬度方向使繪圖用束往復(fù)運(yùn)動(dòng)來(lái)繪制圖形的繪圖處理，在樹(shù)脂層上繪制曝光圖形，能夠不需要對(duì)基材形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用母盤(pán)及使用信息記錄媒體制造用母盤(pán)制造的信息記錄媒體的制造成本。另外，由于僅通過(guò)適當(dāng)改變?cè)O(shè)定使繪圖用束往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向，能夠繪制附加所希望的斜角的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。再有，由于不需要基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記，因此例如在采用該圖形繪圖裝置繪制制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)用的曝光圖形時(shí)，能夠不需要形成中心位置確定用標(biāo)記、以及使中心位置確定用標(biāo)記與基材旋轉(zhuǎn)中心一致的處理，結(jié)構(gòu)能夠正確而且容易地繪制曝光圖形。
再有，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，通過(guò)繪制包含伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的曝光圖形，能夠制造可正確記錄重放的信息記錄媒體。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，通過(guò)繪制附加的預(yù)先規(guī)定的斜角的曝光圖形來(lái)進(jìn)行制造，能夠制造在該盤(pán)片外圈部及盤(pán)片內(nèi)圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。
再有，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，通過(guò)在使基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)基準(zhǔn)信號(hào)生成部輸出多次基準(zhǔn)信號(hào)，與例如基材每旋轉(zhuǎn)一圈僅輸出一次基準(zhǔn)信號(hào)的結(jié)構(gòu)相比，從各基準(zhǔn)信號(hào)輸出的時(shí)刻起到開(kāi)始伺服圖形等的繪圖的時(shí)刻為止的時(shí)間要縮短，結(jié)果對(duì)基材的每一圈能夠分別正確繪制應(yīng)該繪制的伺服圖形等。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置，由于通過(guò)在使基材旋轉(zhuǎn)1圈的期間內(nèi)基準(zhǔn)信號(hào)生成部?jī)H輸出應(yīng)該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)數(shù)量的基準(zhǔn)信號(hào)，能夠根據(jù)各自對(duì)應(yīng)輸出的基準(zhǔn)信號(hào)輸出，決定對(duì)于全部伺服圖形的繪圖開(kāi)始時(shí)刻，因此對(duì)基材的每一圈能夠更正確繪制應(yīng)該繪制的伺服圖形等。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法，由于通過(guò)對(duì)利用上述圖形繪圖裝置繪制了曝光圖形的樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，使用該形成的凹凸圖形并對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)，這樣進(jìn)行制造，能夠不需要對(duì)基材形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低信息記錄媒體制造用原盤(pán)的制造成本。在這種情況下，通過(guò)繪制對(duì)構(gòu)成各伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的每個(gè)圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角的曝光圖形來(lái)進(jìn)行制造，能夠制造可制成在盤(pán)片外圈部及盤(pán)片內(nèi)圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體的信息記錄媒體制造用母盤(pán)。另外，在利用上述繪圖裝置繪制曝光圖形時(shí)，通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)與接著應(yīng)該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進(jìn)行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因而，能夠制造一次可形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的信息記錄媒體制造用母盤(pán)。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體的制造方法，由于通過(guò)采用上述的信息記錄媒體制造用母盤(pán)，形成與利用上述圖形繪圖裝置繪制的曝光圖形相對(duì)應(yīng)的凹凸圖形，而降低信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造成本，因此能夠降低信息記錄媒體的制造成本。另外，通過(guò)使用具有對(duì)該盤(pán)片外圈部分及盤(pán)片內(nèi)圈部分所對(duì)應(yīng)部位的各伺服圖形附加斜角的凹凸圖形的信息記錄媒體制造用母盤(pán)，能夠正確讀取各伺服圖形等。在這種情況下，在利用上述繪圖裝置繪制曝光圖形時(shí)，通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)與接著應(yīng)該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進(jìn)行部分繪圖處理，來(lái)制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因此，能夠一次形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
另外，根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體的制造方法，由于通過(guò)對(duì)信息記錄媒體用中間體上形成的樹(shù)脂層利用上述圖形繪圖裝置繪制曝光圖形之后進(jìn)行規(guī)定的處理，利用這樣形成的凹凸圖形來(lái)進(jìn)行制造，與檢測(cè)出基準(zhǔn)位置特定用標(biāo)記等開(kāi)始圖形繪制的方法相比，能夠不需要對(duì)信息記錄媒體用中間體形成基準(zhǔn)位置特定用標(biāo)記等，因此能夠降低信息記錄媒體的制造成本。在這種情況下，通過(guò)繪制對(duì)構(gòu)成各伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的每個(gè)圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角的曝光圖形來(lái)進(jìn)行制造，能夠制造在盤(pán)片外圈部及盤(pán)片內(nèi)圈部可正確讀取各伺服圖形等的信息記錄媒體。另外，在繪制曝光圖形時(shí)，由于通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)與接著應(yīng)該繪制的伺服圖形之間形成數(shù)據(jù)道圖形進(jìn)行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形，因此能夠一次形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。


圖1所示為繪圖裝置1的構(gòu)成方框圖。
圖2為利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的繪圖對(duì)象即基材10的剖視圖。
圖3為利用由繪圖裝置1繪制的曝光圖形P而制造的磁記錄媒體15的平面示意圖。
圖4所示為基材10上繪制的曝光圖形P的一個(gè)例子的圖形。
圖5為利用繪圖裝置1進(jìn)行的繪圖處理20的流程圖。
圖6為利用繪圖裝置1在盤(pán)片外圈部OD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖7為利用繪圖裝置1在盤(pán)片中間部MD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖8為利用繪圖裝置1在盤(pán)片外內(nèi)部ID繪制的曝光圖形P的圖形。
圖9為將利用繪圖裝置1繪制了曝光圖形P的基材10進(jìn)行顯影而形成凹凸圖形P1的狀態(tài)的剖視圖。
圖10為制成在凹凸圖形P1上依次形成成膜層11a及電解鎳層11b的壓印模11的狀態(tài)的剖視圖。
圖11所示為使用壓印模11利用壓印法制造磁記錄媒體15的工序的中間體15m及壓印模11的剖視圖。
圖12為將壓印模11的凹凸圖形P1向樹(shù)脂層15c轉(zhuǎn)印狀態(tài)的中間體15m的剖視圖。
圖13為采用形成了凹凸圖形P2的樹(shù)脂層15c作為掩模對(duì)磁性層15b進(jìn)行腐蝕狀態(tài)的磁記錄媒體15的剖視圖。
圖14為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤(pán)片外圈部OD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖15為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤(pán)片中間部MD繪制的曝光圖形P的圖形。
圖16為利用繪圖裝置1的其它繪圖方法在盤(pán)片內(nèi)圈部ID繪制的曝光圖形P的圖形。
圖17為利用繪圖裝置1的另外的其它繪圖方法在盤(pán)片外圈部分OD繪制的曝光圖形P的圖形。
1電子束繪圖裝置2X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)3轉(zhuǎn)盤(pán)4束發(fā)生器5關(guān)閉控制部6束成形器7束偏轉(zhuǎn)器8控制部9存儲(chǔ)部10基材10a硅晶片10b樹(shù)脂層11壓印模15磁記錄媒體15c樹(shù)脂層15m中間體20繪圖處理DP繪圖順序數(shù)據(jù)EB電子束H記錄重放頭P曝光圖形P1～P4凹凸圖形
PDO、PDM、PDI數(shù)據(jù)道圖形PSO、PSM、PSI伺服圖形PSO1、PSO2……，PSM1、PSM2……，PSI1、PSI2……圖形PSO11、PSO12……，PSM11、PSM12……，PSI11、PSI12……繪圖區(qū)S1基準(zhǔn)信號(hào)θI、θO斜角具體實(shí)施方式
以下參照附圖，說(shuō)明本發(fā)明有關(guān)的圖形繪圖裝置、信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法及信息記錄媒體的制造方法的最佳形態(tài)。
首先參照附圖，說(shuō)明電子束繪圖裝置1的構(gòu)成。
電子束繪圖裝置(以下也稱(chēng)為“繪圖裝置”)1相當(dāng)于本發(fā)明的圖形繪圖裝置，如圖1所示，具有X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2、轉(zhuǎn)盤(pán)3、束發(fā)生部4、關(guān)閉控制部5、束成形部6、束偏轉(zhuǎn)器7、控制部8及存儲(chǔ)部9，它是利用束發(fā)生部4輸出電子束EB(本發(fā)明的曝光用束的一個(gè)例子)、能夠在基材10上繪制信息記錄媒體制造用的曝光圖形P(參照?qǐng)D4)而構(gòu)成。在這種情況下，基材10是制造壓印模11(本發(fā)明的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的一個(gè)例子，參照?qǐng)D11)，如圖2所示，在圓板狀硅晶片10a的表面形成樹(shù)脂層10b(作為一個(gè)例子，是涂布具有電子束感光性的負(fù)型抗蝕劑而形成的抗蝕劑層)。在這種情況下，樹(shù)脂層10b的厚度作為一個(gè)例子是規(guī)定為100nm左右。
另外，使用基材10制成的壓印模11是制造圖3所示的離散道型磁記錄媒體15(本發(fā)明的信息記錄媒體的一個(gè)例子)用的母盤(pán)，如后所述，將利用繪圖裝置1在樹(shù)脂層10b上繪制的曝光圖形P進(jìn)行顯影、再通過(guò)將這樣形成的凹凸圖形P1(參照?qǐng)D9)進(jìn)行轉(zhuǎn)印而制成。再有，使用壓印模11制造的磁記錄媒體15與使磁記錄媒體15旋轉(zhuǎn)的電動(dòng)機(jī)、和對(duì)磁記錄媒體15進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄重放的記錄重放頭H(形成記錄頭及重放頭的懸浮頭滑塊)等一起，裝入殼體內(nèi)(未圖示)，構(gòu)成磁記錄裝置(硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器)。在這種情況下，采用如圖3所示的結(jié)構(gòu)，即在該磁記錄裝置中，一面以旋轉(zhuǎn)中心O15為中心，使磁記錄媒體15沿箭頭B的方向旋轉(zhuǎn)，一面以擺動(dòng)中心OH為中心，使臂A沿箭頭C的方向擺動(dòng)，通過(guò)這樣使記錄重放頭H向磁記錄媒體15上的規(guī)定半徑位置移動(dòng)，對(duì)磁記錄媒體15進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄重放。
在這種情況下，如圖3中用實(shí)線所示，在記錄重放頭H位于磁記錄媒體15的盤(pán)片中間部MD的中間道MT上的在軌狀態(tài)下，相對(duì)于記錄重放頭H的寬度方向平行線段與相對(duì)于中間道MT的寬度方向平行的線段中間互相平行。另外，如該圖中點(diǎn)劃線所示，在記錄重放頭H位于盤(pán)片外圈部OD的外圈道OT上的軌狀態(tài)下，相對(duì)于記錄重放頭H的寬度方向平行的線段與相對(duì)于外圈道OT的寬度方向平行的線段之間產(chǎn)生斜角θO。另外，如該圖中雙點(diǎn)劃線所示，在記錄重放頭H位于盤(pán)片內(nèi)圈部ID的內(nèi)圈道IT上的在軌狀態(tài)下，相對(duì)于記錄重放頭H的寬度方向平行的線段與相對(duì)于內(nèi)圈道IT的寬度方向平行的線段之間產(chǎn)生斜角θI在這種情況下，在該磁記錄媒體15中，如后所述，利用磁性層上形成的凹凸圖形，形成能夠確定位于形成同心圓狀的各道上用的脈沖串(burst)圖形、道編號(hào)及扇區(qū)(伺服圖形區(qū))編號(hào)等各種信息的伺服圖形。因而，為了能夠正確讀取構(gòu)成伺服圖形的各圖形，必須考慮在磁記錄媒體15的盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID存在的斜角θO及θI，使得各圖形的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向在磁記錄媒體15的整個(gè)表面(整個(gè)區(qū)域)分別一致。具體來(lái)說(shuō)，如圖4所示，關(guān)于中間道MT、MT……的伺服圖形PSM、PSM……，通過(guò)分別形成近似矩形的各圖形PSM1、PSM2……，能夠使各圖形PSM1、PSM2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致。
與上不同的是，關(guān)于外圈道OT、OT……的伺服圖形PSO、PSO……，為了使各圖形PSO1、PSO2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致，必須對(duì)各圖形PSO1、PSO2……附加斜角θO，分別形平行四邊行。另外，關(guān)于內(nèi)圈道IT、IT……的伺服圖形PSI、PSI……，為了使各圖形PSI1、PSI2……的寬度方向的邊與記錄重放頭H的讀取寬度方向一致，必須對(duì)各圖形PSI1、PSI2……附加斜角θI，分別形成平行四邊形。另外，在磁記錄媒體15中，作為一個(gè)例子，對(duì)于1道(磁記錄媒體15的每一圈)規(guī)定有200處伺服圖形區(qū)，在各伺服圖形區(qū)內(nèi)分別形成一個(gè)伺服圖形，在磁記錄媒體15旋轉(zhuǎn)1圈期間，通過(guò)記錄重放頭H讀取200處的伺服圖形，進(jìn)行跟蹤伺服控制。
另外，X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2相當(dāng)于本發(fā)明的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，沿著利用轉(zhuǎn)盤(pán)3而旋轉(zhuǎn)的基材10的旋轉(zhuǎn)面使轉(zhuǎn)盤(pán)3移動(dòng)。轉(zhuǎn)盤(pán)3相當(dāng)于本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，能夠放置基材10而構(gòu)成，在控制部8的控制下使基材10旋轉(zhuǎn)，使得繪圖速度成為恒定的線速度(作為一個(gè)例子是230mm/s)。另外，轉(zhuǎn)盤(pán)3相當(dāng)于本發(fā)明的基準(zhǔn)信號(hào)生成部，根據(jù)在其內(nèi)部與盤(pán)的旋轉(zhuǎn)同步生成的信號(hào)(作為一個(gè)例子是每一圈產(chǎn)生36000個(gè)脈沖的脈沖信號(hào)，即本發(fā)明的內(nèi)部信號(hào))，生成與基材10的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)S1，(作為一個(gè)例子是在使基材10旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)輸出200次磁記錄媒體15每旋轉(zhuǎn)一圈的伺服圖形區(qū)的數(shù)量)的基準(zhǔn)信號(hào)。束發(fā)生部4與關(guān)閉控制部5一起構(gòu)成本發(fā)明的束輸出部，生成并輸出在基材10的樹(shù)脂層10b上繪制曝光圖形P用的電子束EB。關(guān)閉控制部5根據(jù)控制部8的控制，對(duì)利用束發(fā)生部4的電子束EB的輸出進(jìn)行照射/關(guān)閉控制。束成形部6具有束成形透鏡及孔眼(未圖示)等，將束發(fā)生部4輸出的電子束EB成形(形成小直徑)，使得其有效繪圖寬度作為一個(gè)例子達(dá)到30nm左右。在這種情況下，如圖6所示，在用該繪圖裝置1繪制例如伺服圖形PSO的圖形PSO1時(shí)，照射其有效繪圖寬度比圖形PSO1的寬度要窄的電子束EB(作為一個(gè)例子，其有效繪圖寬度為圖形PSO1寬度的1/8左右的電子束EB)，分8次繪制圖形PSO1。另外，關(guān)于數(shù)據(jù)道圖形PSO等(參照?qǐng)D6)，由于其道寬TW比伺服圖形PSO等的寬度要窄，因此分4次照射上述的電子束EB進(jìn)行繪圖。束偏轉(zhuǎn)器7根據(jù)控制部8的控制，使利用束成形部6成形的電子束EB產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，改變對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置。
控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，使基材10與轉(zhuǎn)盤(pán)子一起移動(dòng)，同時(shí)控制轉(zhuǎn)盤(pán)3，使基材10旋轉(zhuǎn)。另外，控制部8根據(jù)轉(zhuǎn)盤(pán)3(基準(zhǔn)信號(hào)生成部)輸出的基準(zhǔn)信號(hào)S1，控制束發(fā)生器4，關(guān)閉控制部5及束偏轉(zhuǎn)器7，通過(guò)這樣對(duì)利用轉(zhuǎn)盤(pán)3旋轉(zhuǎn)的基材10的樹(shù)脂層10b的規(guī)定位置照射電子束EB。存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)能夠確定對(duì)基材10應(yīng)該繪制的曝光圖形P的繪圖順序的繪圖順序數(shù)據(jù)DP。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出之后對(duì)關(guān)閉控制部5能夠確定每個(gè)伺服圖形到開(kāi)始電子束EB照射為止的待機(jī)時(shí)間的信息、以及能夠確定構(gòu)成各伺服圖形的各圖形沿道方向的長(zhǎng)度(即利用關(guān)閉控制部5對(duì)電子束EB進(jìn)行ON控制的時(shí)間)的數(shù)據(jù)。
下面參照

利用繪圖裝置1在基材10上繪制曝光圖形P的方法。
首先，使樹(shù)脂層10b的形成面向上，將基材10放置在轉(zhuǎn)盤(pán)3上。然后，控制部8開(kāi)始圖5所示的繪圖處理20。在該繪圖處理20中，控制部8首先控制轉(zhuǎn)盤(pán)3，使基材10旋轉(zhuǎn)，使得在規(guī)定的繪圖位置(半徑位置)達(dá)到所希望的繪圖速度(線速度)(步驟21)。然后，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，使基材10與轉(zhuǎn)盤(pán)3一起沿其半徑方向移動(dòng)，通過(guò)這樣進(jìn)行定位，使得對(duì)基材10的曝光圖形P的繪圖開(kāi)始位置位于束發(fā)生部4的正下方(步驟22，以下將該移動(dòng)處理也稱(chēng)為“半徑方向的定位”)。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，作為一個(gè)例子是從磁記錄媒體15的盤(pán)片外圈部OD所對(duì)應(yīng)的部位開(kāi)始繪制曝光圖形P。因而，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，進(jìn)行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8監(jiān)視由轉(zhuǎn)盤(pán)3是否輸出了基準(zhǔn)信號(hào)S1(步驟23)，同時(shí)在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判斷是否經(jīng)過(guò)了一直到開(kāi)始繪制繪圖對(duì)象的伺服圖形PSO為止的待機(jī)時(shí)間(步驟24)。
具體來(lái)說(shuō)，如圖6所示，利用該繪圖裝置1在繪制例如伺服圖形PSO中的圖形PSO1時(shí)，對(duì)將該圖形PSO1沿其寬度方向分割的繪圖區(qū)域PSO11～PSO18的8個(gè)區(qū)域的每個(gè)區(qū)域進(jìn)行繪圖。因而，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為箭頭O1所示的位置，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSO11的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射/關(guān)閉控制(電子束的輸出及停止輸出的控制)(步驟25)。另外，在該圖中，圖中所示的雖然是使電子束EB的照射位置沿箭頭01～08的方向移動(dòng)，但實(shí)際上是通過(guò)使基材10從該圖的右邊向左邊移動(dòng)(旋轉(zhuǎn))，而使電子束EB的照射位置對(duì)基材10產(chǎn)生相對(duì)移動(dòng)。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束繪圖區(qū)域PSO11的繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSO11的繪圖結(jié)束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，僅在待機(jī)直到開(kāi)始繪制圖形PSO2的繪圖區(qū)域PSO21的時(shí)刻t12s到來(lái)為止的時(shí)間t11off之后，在時(shí)刻t12s到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的輸出，在時(shí)刻t12e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSO21的繪圖結(jié)束。然后，控制部8對(duì)于圖形PSO3、PSO4……(參照?qǐng)D4)，也同樣繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSO(及數(shù)據(jù)道圖形PDO)的部分繪圖結(jié)束的時(shí)刻，判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈(每一圈)應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSO、PSO……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟26)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)(判斷為還存在應(yīng)該繪圖的各伺服圖形PSO、PSO……時(shí))，返回步驟23，監(jiān)視基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出。這時(shí)，在由轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，控制部8與對(duì)于上述的伺服圖形PSO的繪圖處理相同，繪制沒(méi)有開(kāi)始繪圖的伺服圖形PSO的圖形PSO1、PSO2……的繪圖區(qū)域PSO11、PSO21……。
另外，在基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結(jié)束時(shí)(步驟26)，控制部8判斷基材10上應(yīng)該繪制的整個(gè)曝光圖形P的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟27)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，判斷不驅(qū)動(dòng)X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2而利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB偏轉(zhuǎn)是否能夠繪制接下來(lái)的各繪圖區(qū)域(步驟28)。這時(shí)，在判斷為能夠繪制時(shí)，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為圖6中的箭頭O2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個(gè)例子)。另外，在該例子中，是采用通過(guò)束偏轉(zhuǎn)器7產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)來(lái)改變電子束EB的照射位置的結(jié)構(gòu)，但不一定必須用束偏轉(zhuǎn)器7，也可以采用通過(guò)X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2使轉(zhuǎn)盤(pán)3(基材10)的移動(dòng)來(lái)改變電子束EB的照射位置的結(jié)構(gòu)。在采用該結(jié)構(gòu)時(shí)，執(zhí)行前述的步驟22以代替上述的步驟28及29。
然后，控制部8僅在待機(jī)從利用轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSO12的時(shí)刻t21s到來(lái)為止的時(shí)間t2w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的其它一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射/關(guān)閉控制(步驟25)。接著，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束繪圖區(qū)域PSO12的繪圖的時(shí)刻t21e到來(lái)為止的時(shí)間t21on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t21e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSO12的繪圖結(jié)束。
在這種情況下，存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP中，記錄有使基材10的第二圈中基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出之后到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSO12的時(shí)刻t21s為止的時(shí)間t2w比基材10的第一圈中基準(zhǔn)信號(hào)s1輸出之后到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSO11的時(shí)刻t11s為止的時(shí)間t1w要短時(shí)間t0的信息。在這種情況下，關(guān)于時(shí)間t0，它是考慮到前述的斜角θO的存在而規(guī)定的，使得連接繪圖區(qū)域PSO11的繪圖開(kāi)始位置與繪圖區(qū)域PSO12的繪圖開(kāi)始位置的線段相對(duì)于在外圈道OT上的記錄重放頭H的寬度方向平行。因而，如圖6所示，根據(jù)該繪圖順序數(shù)據(jù)DP而繪制的繪圖區(qū)域PSO12與繪圖區(qū)域PSO11相比，向跟前移動(dòng)了時(shí)間t0的期間內(nèi)基材10移動(dòng)的距離(更靠近基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)間t0的束發(fā)生部4正下方的位置一側(cè))進(jìn)行繪圖。其結(jié)果，繪圖區(qū)域PSO11與PSO12產(chǎn)生與斜角θO相對(duì)應(yīng)的位置偏移。
然后，控制部8進(jìn)行圖形PSO2的繪圖區(qū)域PSO22的繪圖。在這之后，控制部8對(duì)于圖形PSO3、PSO4…(參照?qǐng)D4)也同樣，繪制第二個(gè)繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSO(及數(shù)據(jù)道圖形PDO)的部分繪圖結(jié)束時(shí)刻，判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSO、PSO…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟26)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，返回步驟23，監(jiān)視基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出。另外，在由轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，控制部8與對(duì)于上述的伺服圖形PSO的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSO12、PSO22…。將這一連串的部分繪圖處理(步驟23～29)在基材10例如旋轉(zhuǎn)8圈之后連續(xù)重復(fù)執(zhí)行。
另外，利用該繪圖裝置1在對(duì)于構(gòu)成伺服圖形PSO的各圖形的寬度方向一部分(在上述例子中的繪圖區(qū)域PSO13、PSO23…等)的繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)于與接著應(yīng)該繪制伺服圖形PSO的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形PDO(參照?qǐng)D6)的道寬TW的一部分進(jìn)行繪圖處理。在這種情況下，關(guān)于數(shù)據(jù)道圖形PDO的繪圖處理，是與伺服圖形PSO等的繪圖處理相同，如后所述，伺服圖形PSO的繪圖與數(shù)據(jù)道圖形PDO的繪圖是交替連續(xù)進(jìn)行。通過(guò)這樣，在各圖形PSO1、PSO2…的繪圖區(qū)域PSO18、PSO28…的繪圖結(jié)束時(shí)，對(duì)于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結(jié)束。以下為了容易理解本發(fā)明，主要對(duì)于伺服圖形的繪圖處理進(jìn)行說(shuō)明。
然后，控制部8對(duì)于第二道(比各伺服圖形PSO、PSO…的繪圖已經(jīng)結(jié)束的道更內(nèi)圈一側(cè)的道)的各伺服圖形PSO、PSO進(jìn)行繪圖的情況下，在判斷為利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB的偏轉(zhuǎn)難以繪制各繪圖區(qū)域PSO11、PSO21…時(shí)(步驟28)，就控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2進(jìn)行半徑方向的定位(步驟22，本法發(fā)明的繪圖位置改變處理的其它一個(gè)例子)。在這之后，控制部8通過(guò)重復(fù)進(jìn)行上述步驟23～29的一連串處理，來(lái)對(duì)于第二道繪制各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。另外，控制部8對(duì)于第三道及以后的各道也同樣，繪制各伺服圖形PSO、PSO…及數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有越是內(nèi)圈側(cè)的道，前述的時(shí)間to越短的數(shù)據(jù)。因而，對(duì)于繪制的伺服圖形PSO、PSO…，越是內(nèi)圈側(cè)的道，對(duì)圖形PSO1、PSO2…所附加的斜角θO越小。
另外，在對(duì)于與中間道MT相對(duì)應(yīng)的道繪制伺服圖形PSM、PSM…時(shí)，檢測(cè)由轉(zhuǎn)盤(pán)3是否輸出了基準(zhǔn)信號(hào)S1(步驟23)，同時(shí)在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判斷是否經(jīng)過(guò)了一直到開(kāi)始繪制圖對(duì)象的伺服圖形PSM為止的待機(jī)時(shí)間(步驟24)。具體來(lái)說(shuō)，如圖7所示，控制部8首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為箭頭M1所示的位置，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻to到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSM11的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的關(guān)閉控制(步驟25)。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束繪圖區(qū)域PSM11的繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5與輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSM11的繪圖結(jié)束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，繪制圖形PSM2的繪圖區(qū)域PSM21。同樣，控制部8對(duì)于圖形PSM3、PSM4…(參照?qǐng)D4)也相同，繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSM、PSM…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束，在每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結(jié)束時(shí)(步驟26)，判斷基材上應(yīng)該繪制的整個(gè)曝光圖形P的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟27)。另外，在判斷為整個(gè)曝光圖形的繪圖沒(méi)有結(jié)束時(shí)，控制部8判斷利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB偏轉(zhuǎn)是否能夠繪制接下來(lái)的各繪圖區(qū)域(步驟28)。在判斷為能夠繪制時(shí)，則控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為箭頭M2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個(gè)例子)。
然后，控制部8僅在待機(jī)從利用轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSM12的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射關(guān)閉控制(步驟25)。在這種情況下，在進(jìn)行伺服圖形PSM的繪圖時(shí)，由于不需要附加斜角θO及θI，因此控制部?jī)H待機(jī)與繪制繪圖區(qū)域PSM11時(shí)待機(jī)的時(shí)間t1w相同的時(shí)間。開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSM12。同樣，在繪制繪圖區(qū)域PSM22之后，控制部8對(duì)于圖形PSM3、4…(參照?qǐng)D4)也相同，繪制第二個(gè)繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSM的部分繪圖結(jié)束時(shí)刻，判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSM、PSM…的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟26)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，返回步驟23，監(jiān)視基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出。另外，在由轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，控制部8與對(duì)于上述的伺服圖形PSM的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSM12、PSM22…。將這一連串大部分繪圖處理(步驟23～29)在基材10旋轉(zhuǎn)8圈之間連續(xù)重復(fù)執(zhí)行，通過(guò)這樣各圖形PSM1、PSM2…的繪圖區(qū)域PSM18、PSM28…的繪圖結(jié)束，對(duì)于與中間道MT對(duì)應(yīng)的道的各伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…的繪圖結(jié)束。
另外，控制部8對(duì)于與盤(pán)片內(nèi)圈部ID的內(nèi)圈道IT相對(duì)應(yīng)的各道也相同，繪制伺服圖形PSI、PSI…。具體來(lái)說(shuō)，如圖2所示，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為箭頭I所示的位置，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSI11的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射關(guān)閉控制(步驟25)。然后，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束繪圖區(qū)域PSI11的繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSI11的繪圖結(jié)束。
然后，控制部8根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，僅在待機(jī)直到開(kāi)始繪制圖形PSI2的繪圖區(qū)域PSI21的時(shí)刻t12s到來(lái)為止的時(shí)間t11off之后，在時(shí)刻t12s到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的輸出，在時(shí)刻t12e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSI21的繪圖結(jié)束。然后，控制部8對(duì)于圖形PSI3、PSI4……(參照?qǐng)D4)，也同樣繪制最初的繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSI的部分繪圖結(jié)束的時(shí)刻，判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈(每一圈)應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSI、PSI……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟26)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，返回步驟23，監(jiān)視基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出。這時(shí)，在由轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，控制部8與對(duì)于上述的伺服圖形PSI的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSI11、PSI21……。
另外，在基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各繪圖區(qū)域的繪圖結(jié)束時(shí)(步驟26)，控制部8判斷基材10上應(yīng)該繪制的整個(gè)曝光圖形P的繪制是否已經(jīng)結(jié)束(步驟27)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，判斷利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB偏轉(zhuǎn)是否能夠繪制接下來(lái)的各繪圖區(qū)域(步驟28)。這時(shí)，在判斷為能夠繪制時(shí)，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置為箭頭I2所示的位置(步驟29，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的一個(gè)例子)。然后，控制部8僅在待機(jī)從利用轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSI12的時(shí)刻t21s到來(lái)為止的時(shí)間t2w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射關(guān)閉控制(步驟25)。接著，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束繪圖區(qū)域PSI12的繪圖的時(shí)刻t21e到來(lái)為止的時(shí)間t21on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t21e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，繪圖區(qū)域PSI12的繪圖結(jié)束。
在這種情況下，存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP中，記錄有使基材10的第二圈中基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出之后到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSI12的時(shí)刻t21s為止的時(shí)間t2w比基材10的第一圈中基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出之后到開(kāi)始繪制繪圖區(qū)域PSI11的時(shí)刻t11s為止的時(shí)間t1w要長(zhǎng)時(shí)間ti的信息。在這種情況下，關(guān)于時(shí)間ti，它是考慮到前述的斜角θI的存在而規(guī)定的，使得連接繪圖區(qū)域PSI11的繪圖開(kāi)始位置與繪圖區(qū)域PSI12的繪圖開(kāi)始位置的線段相對(duì)于在內(nèi)圈道IT上的記錄重放頭H的寬度方向平行。因而，如圖8所示，根據(jù)該繪圖順序數(shù)據(jù)DP而繪制的繪圖區(qū)域PSI12與繪圖區(qū)域PSI11相比，向前方移動(dòng)了時(shí)間ti的期間內(nèi)基材10移動(dòng)的距離(更遠(yuǎn)離基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0的束發(fā)生部4正下方的位置一側(cè))進(jìn)行繪圖。其結(jié)果，繪圖區(qū)域PSI11與PSI12產(chǎn)生與斜角θI相對(duì)應(yīng)的位置偏移。
然后，控制部8進(jìn)行圖形PSI2的繪圖區(qū)域PSI22的繪圖。在這之后，控制部8對(duì)于圖形PSI3、PSI4……(參照?qǐng)D4)也同樣，繪制第二個(gè)繪圖區(qū)域(本發(fā)明的部分繪圖處理)。然后，控制部8在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSI的部分繪圖結(jié)束時(shí)刻，判斷基材10每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制的各伺服圖形PSI、PSI……的各繪圖區(qū)域的繪圖是否已經(jīng)結(jié)束(步驟26)，在判斷為沒(méi)有結(jié)束時(shí)，返回步驟23，監(jiān)視基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出。另外，在由轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，控制部8與對(duì)于上述的伺服圖形PSI的繪圖處理相同，繪制繪圖區(qū)域PSI12、PSI22……。將這一連串的不法呢繪圖處理(步驟23～29)在基材10旋轉(zhuǎn)8圈之間連續(xù)重復(fù)執(zhí)行。通過(guò)這樣，各圖形PSI1、PSI2……的繪圖區(qū)域PSI18、PSI28……的繪圖結(jié)束，對(duì)于一道的各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……的繪圖結(jié)束。
然后，控制部在對(duì)于比各伺服圖形PSI、PSI……的繪圖已經(jīng)結(jié)束的道更內(nèi)圈一側(cè)的道的各伺服圖形PSI、PSI進(jìn)行繪圖的情況下，在判斷為利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB的偏轉(zhuǎn)難以繪制各繪圖區(qū)域PSI11、PSI21……時(shí)(步驟28)，就控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2進(jìn)行半徑方向的定位(步驟22，本發(fā)明的繪圖位置改變處理的其它一個(gè)例子)。在這之后，控制部8通過(guò)重復(fù)進(jìn)行上述步驟23～29的一連串處理，來(lái)繪制各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……。另外，控制部8對(duì)于再內(nèi)圈的各道也同樣，繪制各伺服圖形PSI、PSI……及數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI……。在這種情況下，繪圖順序數(shù)據(jù)DP中記錄有越是內(nèi)圈側(cè)的道、前述的時(shí)間ti越長(zhǎng)的數(shù)據(jù)。因而，對(duì)于繪制的伺服圖形PSI、PSI……，越是內(nèi)圈側(cè)的道，對(duì)各圖形PSI1、PSI2……所附加的斜角θI越大。將以上一連串的處理(對(duì)于各伺服圖形PSI的部分繪圖處理及對(duì)于各數(shù)據(jù)道圖形PDI的部分繪圖處理)從基材10的外圈部到內(nèi)圈部(從盤(pán)片外圈部OD所對(duì)應(yīng)的部位到盤(pán)片內(nèi)圈部ID所對(duì)應(yīng)的部位)重復(fù)進(jìn)行，在判斷為整個(gè)曝光圖形P的繪圖結(jié)束時(shí)(步驟27)，結(jié)束該繪圖處理20。通過(guò)這樣，對(duì)基材10的樹(shù)脂層10b的曝光圖形P(各伺服圖形及各數(shù)據(jù)道圖形的全部圖形)的繪圖結(jié)束。
這樣，根據(jù)該繪圖裝置1，由于通過(guò)交替多次進(jìn)行部分繪圖處理(繪圖處理20中的步驟23～25)及繪圖位置改變處理(繪圖處理20中的步驟22及29)，在樹(shù)脂層10b上繪制曝光圖形P，所述部分繪圖處理是在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，在僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間(在上述的例子中的時(shí)間t1w、t2w……)之后，使電子束EB輸出，繪制圖形PSO1、PSO2……、PSM1、PSM2……、PSI1、PSI2……的寬度方向的一部分(繪圖區(qū)域PSO11、PSO21……等)，所述繪圖位置改變處理是改變利用部分繪圖處理進(jìn)行的繪圖位置，能夠不需要對(duì)基材10形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過(guò)適當(dāng)改變?cè)O(shè)定直到使電子束EB輸出之前的待機(jī)時(shí)間，能夠繪制附加所希望的斜角θO及θI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO……等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記，因此例如在采用該繪圖裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時(shí)，能夠不需要形成中心位置確定用標(biāo)記、以及使中心位置確定用標(biāo)記與基準(zhǔn)10的旋轉(zhuǎn)中心一致的處理，結(jié)果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
另外，根據(jù)該繪圖裝置，通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)3在使基準(zhǔn)10旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)輸出多次基準(zhǔn)信號(hào)S1，與例如基材10每旋轉(zhuǎn)一圈僅輸出一次基準(zhǔn)信號(hào)的結(jié)構(gòu)相比，從各基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0起到開(kāi)始伺服圖形PSO等的繪圖為止的時(shí)間要縮短，結(jié)果對(duì)基材10的每一圈能夠分別正確繪制應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO、PSO……等。在這種情況下，由于通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)3在使基材10旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)僅輸出應(yīng)該繪制伺服圖形(伺服圖形PSO等)的伺服圖形區(qū)數(shù)量的基準(zhǔn)信號(hào)S1，能夠根據(jù)各自對(duì)應(yīng)輸出的基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出，決定對(duì)于全部伺服圖形的繪圖開(kāi)始時(shí)刻，因此對(duì)基材10的每一圈能夠更正確繪制應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO、PSO……等。
下面參照

采用由繪圖裝置1繪制完成曝光圖形P的基材10制造壓印模11的方法(本發(fā)明的凹凸圖形的形成方法)。
首先，通過(guò)對(duì)繪制完成曝光圖形P的基材10進(jìn)行顯影處理，如圖9所示，除去樹(shù)脂層10b中的沒(méi)有照射電子束EB的部位，而形成凹凸圖形P1。接著，如圖10所示，利用濺射法等形成成膜層11a，以覆蓋凹凸圖形P1，再用該成膜層11a作為電極，通過(guò)鍍層處理，形成電解鎳層11b。通過(guò)這樣，使用這種凹凸圖形P1，在基材10上形成具有將凹凸圖形P1轉(zhuǎn)印的凹凸圖形P2的壓印模11。接著，從Si晶片10a剝離壓印模11，同時(shí)根據(jù)需要，用溶劑等清洗壓印模11。通過(guò)這樣，在完成的壓印模11上形成其平面形狀與利用繪圖裝置1在基材10的樹(shù)脂層10b上繪制的曝光圖形相同平面形狀的凹凸圖形P2。因而，對(duì)于凹凸圖形P2中的盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID所對(duì)應(yīng)部位的各伺服圖形，形成在繪制曝光圖形P時(shí)附加了斜角θO及θI的圖形。
這樣，根據(jù)該壓印模11的制造方法，由于通過(guò)對(duì)利用上述繪圖裝置1繪制了曝光圖形的樹(shù)脂層10b進(jìn)行規(guī)定的處理，將從而形成凹凸圖形P1進(jìn)行轉(zhuǎn)印，這樣進(jìn)行制造，能夠不需要對(duì)基材10形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低壓印模11的制造成本。在這種情況下，通過(guò)繪制對(duì)構(gòu)成各伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形(伺服圖形PSO等)的每個(gè)圖形(圖形PSO1、PSO2……等)附加預(yù)先規(guī)定的斜角θO或θI的曝光圖形P來(lái)進(jìn)行制造，能夠制造在盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO……等的磁記錄媒體15。另外，在利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P時(shí)，通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSO等的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后對(duì)與接著應(yīng)該繪制伺服圖形PSO等的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形PDO等進(jìn)行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因此，能夠制造一次可形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的壓印模11。
下面參照

使用壓印模11來(lái)制造磁記錄媒體15的方法。
首先，如圖11所示，一面對(duì)形成了樹(shù)脂層15c的中間體15m加熱，一面利用壓印法將壓印模11與中間體15m壓緊。通過(guò)這樣，如圖12所示，壓印模11的凹凸圖形P2轉(zhuǎn)印到樹(shù)脂層15c上，在中間體15m上形成凹凸圖形P3。在這種情況下，中間體15m是制造磁記錄媒體15用的中間體，它由在圓板狀的基材15a的表面形成磁性層15b而構(gòu)成。另外，中間體15m實(shí)際上是在基材15a上層疊襯底層、軟磁性層、取向?qū)印⒂涗泴?磁性層15b)及保護(hù)層等而構(gòu)成，但為了對(duì)本發(fā)明容易理解起見(jiàn)，省略了中間體15的詳細(xì)層結(jié)構(gòu)有關(guān)的說(shuō)明及圖示。接著，使用凹凸圖形P3作為掩模，對(duì)中間體15m進(jìn)行腐蝕。這時(shí)，磁性層15b從凹凸圖形P3的凹下部分底面露出，再進(jìn)行腐蝕處理，通過(guò)這樣如圖13所示，在磁性層15b形成凹凸圖形P4。
在這種情況下，凹凸圖形P4由于是用凹凸圖形P2形成的，具體地說(shuō)，是使用將凹凸圖形P2轉(zhuǎn)印的凹凸圖形P3作為掩模形成的，因此凹凸圖形P4的盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID的各伺服圖形與凹凸圖形P2相同，將曝光圖形P在繪圖時(shí)附加斜角θo及θI的圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印。在這之后，對(duì)凹凸圖形P4的凹下部分填充非磁性材料后，例如利用研磨處理使磁性層15b(凹凸圖形P4的凸起的端部)從非磁性材料露出，在磁性層15b的表面形成保護(hù)模等，完成磁記錄媒體15。
這樣，根據(jù)該磁記錄媒體15的制造方法，由于通過(guò)將與利用上述繪圖裝置1繪制的曝光圖形P相對(duì)應(yīng)的凹凸圖形63進(jìn)行轉(zhuǎn)印而形成凹凸圖形P4，降低壓印模11的制造成本。另外，通過(guò)使用具有對(duì)盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID所對(duì)應(yīng)部位的伺服圖形PSO、PSO…、PSI、PSI…附加斜角θO及θI的凹凸圖形P3的壓印模11，能夠正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等。在這種情況下，在壓印模11制造時(shí)的利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P時(shí)，通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)與接著應(yīng)該繪制伺服圖形的伺服圖形區(qū)之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進(jìn)行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形。因而，能夠一次形成附加所希望的斜角的高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
下面參照

利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的其它繪圖方法。
首先。使樹(shù)脂層10b的形成面向上，將基材10放置在轉(zhuǎn)盤(pán)3上之后，控制轉(zhuǎn)盤(pán)3使基材10旋轉(zhuǎn)。然后，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，使基材10與轉(zhuǎn)盤(pán)3一起沿其半徑方向移動(dòng)，通過(guò)這樣進(jìn)行半徑方向的定位。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，作為一個(gè)例子是從磁記錄媒體15的盤(pán)片外圈部OD所對(duì)應(yīng)的部位開(kāi)始繪制曝光圖形P。因而，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，進(jìn)行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8檢測(cè)由轉(zhuǎn)盤(pán)3是否輸出了基準(zhǔn)信號(hào)S1，同時(shí)在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判定是否經(jīng)過(guò)了一直到開(kāi)始繪制繪圖對(duì)象的伺服圖形PSO為止的待機(jī)時(shí)間。
具體來(lái)說(shuō)，如圖14所示，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置與包含應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO的道中心線一致，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制伺服圖形PSO的最初圖形的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射/關(guān)閉控制。同時(shí)，控制部8控制束偏轉(zhuǎn)器7，使電子束B(niǎo)在應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO的寬度方向根據(jù)轉(zhuǎn)盤(pán)3(基材10)的轉(zhuǎn)速進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSO時(shí)，根據(jù)對(duì)伺服圖形PSO內(nèi)的各圖形所應(yīng)該附加的斜角θO及基材10的轉(zhuǎn)速，規(guī)定利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB的偏轉(zhuǎn)方向(往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向)及往復(fù)運(yùn)動(dòng)的速度等各種條件來(lái)進(jìn)行控制。其結(jié)果，電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置如圖14中箭頭011所示呈蛇行形狀。
另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束伺服圖形PSO的最初圖形繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，在樹(shù)脂層10b上繪制伺服圖形PSO的最初圖形。然后，控制部8對(duì)于伺服圖形PSO的第二個(gè)及以后的圖形也同樣進(jìn)行繪制，在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSO的繪圖處理結(jié)束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDO，然后繪制下一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO。通過(guò)重復(fù)進(jìn)行該繪圖處理，對(duì)于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結(jié)束。接著，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，改變電子束EB的照射位置為基材10的靠?jī)?nèi)圈之后，對(duì)于第二道也同樣繪制各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…。再進(jìn)一步控制部8對(duì)于第三道及以后的各道也同樣進(jìn)行繪制。在這種情況下，每一次對(duì)于靠?jī)?nèi)圈道繪制各伺服圖形PSO、PSO…時(shí)，慢慢減小利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向(上述的斜角θO)，通過(guò)這樣繪制附加與每道相對(duì)應(yīng)的斜角θO的各伺服圖形PSO、PSO…。
另外，在對(duì)于與中間道MT相對(duì)應(yīng)的道繪制伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…時(shí)，檢測(cè)由轉(zhuǎn)盤(pán)3是否輸出了基準(zhǔn)信號(hào)S1，同時(shí)在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，如圖15所示，與繪制上述伺服圖形PSO及數(shù)據(jù)道PDO時(shí)相同，僅在待機(jī)規(guī)定的待機(jī)時(shí)間(在這種情況下為時(shí)間t1w)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射/關(guān)閉控制，同時(shí)使束偏轉(zhuǎn)器7偏轉(zhuǎn)，使得電子束EB擺動(dòng)。在這種情況下，在繪制伺服圖形PSM及數(shù)據(jù)道圖形PDM時(shí)，由于不需要附加斜角θO及θI，因此控制部8使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)，使得電子束EB的照射位置根據(jù)基材10的轉(zhuǎn)速相對(duì)于與包含伺服圖形PSM及數(shù)據(jù)道圖形PDM的道中心線垂直的方向呈蛇行形狀。其結(jié)果，電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置如該圖中箭頭所示呈蛇行形狀。通過(guò)這樣，伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…的繪圖結(jié)束。
另外，控制部8對(duì)于盤(pán)片內(nèi)圈部ID的內(nèi)圈道IT相對(duì)應(yīng)的各道，如圖16所示，控制部8首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置與包含應(yīng)該繪制的伺服圖形PSI的道中心線一致，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0到開(kāi)始伺服圖形PSI的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束EB的照射/關(guān)閉控制。同時(shí)，控制部8控制束偏轉(zhuǎn)器7，使電子束EB在應(yīng)該繪制的伺服圖形PSI的寬度方向根據(jù)基材10的轉(zhuǎn)速進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSI時(shí)，根據(jù)對(duì)伺服圖形的PSI內(nèi)的各圖形所附加的斜角θI及基材10的轉(zhuǎn)速，規(guī)定利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB的偏轉(zhuǎn)方向(往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向)及往復(fù)運(yùn)動(dòng)的速度等各種條件來(lái)進(jìn)行控制。其結(jié)果，電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置如該圖中箭頭I11所示呈蛇行形狀。
另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束伺服圖形PSI的最初圖形繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，在樹(shù)脂層10b上繪制伺服圖形PSI的最初圖形。然后，控制部8對(duì)于伺服圖形PSI的第二個(gè)及以后的圖形也同樣進(jìn)行繪制。在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSI的繪圖處理結(jié)束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDI。然后繪制下一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)應(yīng)該繪制的伺服圖形PSI。通過(guò)重復(fù)進(jìn)行該繪圖處理，對(duì)于一道的各伺服圖形PSI、PSI…及各數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI…的繪圖結(jié)束。接著，控制部8控制X-Y移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，改變電子束EB的照射位置為基材10的靠?jī)?nèi)圈之后，對(duì)于下一道也與上述繪圖處理相同，繪制各伺服圖形PSI、PSI…及各數(shù)據(jù)道圖形PDI、PDI…。另外，控制部8對(duì)于進(jìn)一步內(nèi)圈一側(cè)的道也同樣進(jìn)行繪制。在這種情況下，每一次對(duì)于靠?jī)?nèi)圈道繪制各伺服圖形PSI、PSI…時(shí)，慢慢增大利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向(上述的斜角θI)，通過(guò)這樣繪制附加與每道相對(duì)應(yīng)的斜角I的各伺服圖形PSI、PSI…。通過(guò)在遍及基材10的整個(gè)表面進(jìn)行這些繪圖處理，對(duì)基材10的樹(shù)脂層10b進(jìn)行的曝光圖形P的繪圖結(jié)束。
這樣能根據(jù)該繪圖裝置1，由于在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)僅待機(jī)預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間(在這種情況下為時(shí)間t1w等)之后使電子束EB輸出，同時(shí)在應(yīng)該繪制的圖形的寬度方向使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)，來(lái)繪制圖形(伺服圖形PSO等)，進(jìn)行上述的繪圖處理，在樹(shù)脂層10b上繪制曝光圖形P，通過(guò)這樣能夠?qū)?0不需要形成基準(zhǔn)位置確定標(biāo)記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過(guò)適當(dāng)偏轉(zhuǎn)電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向，就能夠繪制附加所希望的斜角θO及OθI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記，因此例如在采用該裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時(shí)，能夠不需要形成中心位置確定用標(biāo)記、以及使中心位置確定用標(biāo)記與基材10的旋轉(zhuǎn)中心一致的處理，結(jié)果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
下面參照

利用繪圖裝置1繪制曝光圖形P的另外的其它繪圖方法。另外，關(guān)于和上述繪圖方法同樣的步驟，則省略其說(shuō)明和圖示。
在上述的繪圖方法中，在繪制伺服圖形PSO時(shí)，是使電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置如圖14中箭頭O11所示那樣呈蛇行形狀，但本發(fā)明不限定與此，也可以如圖17所示，使電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置如箭頭O11a所示那樣呈蛇行形狀。通過(guò)這樣來(lái)繪制伺服圖形PSO。具體來(lái)說(shuō)，控制部8首先控制X-Y…移動(dòng)機(jī)構(gòu)2，進(jìn)行半徑方向的定位，使得基材10的外圈部位于束發(fā)生部4的正下方。然后，控制部8檢測(cè)由轉(zhuǎn)盤(pán)3是否輸出了基準(zhǔn)信號(hào)S1，同時(shí)在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，根據(jù)繪圖順序數(shù)據(jù)DP，判定是否經(jīng)過(guò)了一直到開(kāi)始繪制繪圖對(duì)象的伺服圖形PSO為止的待機(jī)時(shí)間。這時(shí)，控制部8根據(jù)存儲(chǔ)部9存儲(chǔ)的繪圖順序數(shù)據(jù)DP，首先控制束偏轉(zhuǎn)器7，使得電子束EB對(duì)樹(shù)脂層10b的照射位置與包含應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO的道中心線一致，同時(shí)僅在待機(jī)從基準(zhǔn)信號(hào)S1輸出的時(shí)刻t0到開(kāi)始繪制伺服圖形PSO的最初圖形的時(shí)刻t11s到來(lái)為止的時(shí)間t1w(本發(fā)明的待機(jī)時(shí)間的一個(gè)例子)之后，使關(guān)閉控制部5開(kāi)始電子束的照射/關(guān)閉控制。
同時(shí)，控制部8控制束偏轉(zhuǎn)器7，使電子束EB在應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO的寬度方向高速往復(fù)運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，利用該繪圖裝置1，在繪制伺服圖形PSO時(shí)，根據(jù)對(duì)伺服圖形PSO內(nèi)的各圖形所應(yīng)該附加的斜角θO及基材10的轉(zhuǎn)速，規(guī)定利用束偏轉(zhuǎn)器7使電子束EB的偏轉(zhuǎn)方向(往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向)及往復(fù)運(yùn)動(dòng)的速度等各種條件來(lái)進(jìn)行控制。另外，考慮到由于使電子束EB高速往復(fù)運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生的多重曝光，控制部8控制束發(fā)生部4，適當(dāng)調(diào)節(jié)電子束EB的功率。另外，控制部8僅在使電子束EB的輸出開(kāi)始之后到結(jié)束伺服圖形PSO的最初圖形繪圖的時(shí)刻t11e到來(lái)為止的時(shí)間t11on內(nèi)，使關(guān)閉控制部5輸出電子束EB之后，在時(shí)刻t11e到來(lái)的時(shí)刻使關(guān)閉控制部5停止電子束EB的輸出。通過(guò)這樣，在樹(shù)脂層10b上繪制伺服圖形PSO的最初圖形。然后，控制部8對(duì)于伺服圖形PSO的第二個(gè)及以后的圖形也同樣進(jìn)行繪制，在一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形PSO的繪圖處理結(jié)束之后，繪制數(shù)據(jù)道圖形PDO，然后繪制下一個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)應(yīng)該繪制的伺服圖形PSO。通過(guò)重復(fù)進(jìn)行該繪圖處理，對(duì)于第一道的各伺服圖形PSO、PSO…及各數(shù)據(jù)道圖形PDO、PDO…的繪圖結(jié)束。然后，控制部8對(duì)于伺服圖形PSM、PSM…及數(shù)據(jù)道圖形PDM、PDM…以及伺服圖形PSI、PSI…及數(shù)據(jù)道圖形PSI、PDI也同樣進(jìn)行繪圖處理。通過(guò)這樣，對(duì)基材10的樹(shù)脂層10b進(jìn)行的曝光圖形P的繪圖結(jié)束。
這樣，根據(jù)該繪圖裝置1，由于在輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)僅待機(jī)預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間(在這種情況下為時(shí)間t1w等)之后使電子束EB輸出，同時(shí)在應(yīng)該繪制的圖形的寬度方向使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)，來(lái)繪制圖形(伺服圖形PSO等)，進(jìn)行上述的繪圖處理，在樹(shù)脂層10b上繪制曝光圖形P，通過(guò)這樣能夠?qū)?0不需要形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低壓印模11及使用壓印模11制造的磁記錄媒體15的制造成本。另外，由于僅通過(guò)適當(dāng)偏轉(zhuǎn)使電子束EB往復(fù)運(yùn)動(dòng)的方向，就能夠繪制附加所希望的斜角θO及θI的圖形，因此能夠制造可正確讀取各伺服圖形PSO、PSO…等的磁記錄媒體15。再有，由于不需要基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記，因此例如在采用該繪圖裝置1繪制制造壓印模11用的曝光圖形P時(shí)，能夠不需要形成中心位置確定用標(biāo)記、以及使中心位置確定用標(biāo)記與基材10的旋轉(zhuǎn)中心一致的處理，結(jié)果能夠正確而且容易繪制曝光圖形P。
另外，本發(fā)明不限定于上述本發(fā)明的構(gòu)成及方法。例如，在上述的方法中說(shuō)明的例子是，在繪制曝光圖形P之后，形成凹凸圖形P1，再轉(zhuǎn)印該凹凸圖形P1，制成壓印模11，但本發(fā)明不限定于此，也可以在中間體15m上形成的樹(shù)脂層15c上利用繪圖裝置1直接繪制曝光圖形P，再通過(guò)顯影處理，形成凹凸圖形P3，使用該凹凸圖形P3作為掩模，制造磁記錄媒體15。根據(jù)利用該方法制造的磁記錄媒體15，通過(guò)利用在中間體15m上形成的樹(shù)脂層15c上由繪圖裝置1繪制的曝光圖形P所對(duì)應(yīng)的凹凸圖形P3來(lái)制造，與檢測(cè)基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等開(kāi)始圖形繪制的方法相比，由于對(duì)中間體15m不需要形成基準(zhǔn)位置確定用標(biāo)記等，因此能夠降低磁記錄媒體15的制造成本，在這種情況下，通過(guò)繪制對(duì)構(gòu)成各伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的每個(gè)圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角θO及θI的曝光圖形P來(lái)進(jìn)行制造，能夠制造在盤(pán)片外圈部OD及盤(pán)片內(nèi)圈部ID可正確讀取各伺服圖形等的磁記錄媒體15。另外，在繪制曝光圖形P時(shí)，由于通過(guò)對(duì)構(gòu)成一個(gè)伺服圖形的各圖形進(jìn)行部分繪圖處理結(jié)束之后，對(duì)與接著應(yīng)該繪制的伺服圖形之間形成的數(shù)據(jù)道圖形進(jìn)行部分繪圖處理，能夠一次繪制伺服圖形及數(shù)據(jù)道圖形，因此能夠一次形成高精度的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形。
另外，在上述的方法中說(shuō)明的例子是，使用在中間體15m上形成的凹凸圖形P3作為掩模，對(duì)中間體15m進(jìn)行腐蝕，從而制造磁記錄媒體15，但本發(fā)明的信息記錄媒體的制造方法不限定與此，也可以采用分離法形成凹凸圖形P4，從而制造磁記錄媒體15。再有，在上述的方法中說(shuō)明的例子是，照射電子束EB，來(lái)繪制曝光圖形EB，但本發(fā)明的繪圖用束不限定于電子束EB，可以采用任意的能量射線。另外說(shuō)明了離散道型磁記錄媒體15及為了制造該磁記錄媒體15而制造壓印模11用的曝光圖形P的繪圖方法，但本發(fā)明的信息記錄媒體不限定于離散道型磁記錄媒體，也包含在伺服圖形形成時(shí)采用本發(fā)明有關(guān)的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法及信息記錄媒體的制造方法的磁記錄媒體(僅伺服圖形部形成凹凸圖形的媒體)、或者將數(shù)據(jù)記錄區(qū)分割成網(wǎng)狀或點(diǎn)狀(使各數(shù)據(jù)記錄用道在其長(zhǎng)度方向(媒體的旋轉(zhuǎn)方向)也分離成多個(gè)磁記錄部分)而形成的數(shù)據(jù)記錄部(磁性體部)呈島狀孤立的所謂模板媒體。
再有，在上述繪圖裝置1中采用的構(gòu)成是，根據(jù)轉(zhuǎn)盤(pán)3在其內(nèi)部與盤(pán)的旋轉(zhuǎn)同步生成的脈沖信號(hào)(內(nèi)部信號(hào))，生成與基材10的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)S1，向控制部8輸出，但本發(fā)明的基準(zhǔn)信號(hào)生成部的構(gòu)成不限定與此，例如可以采用控制部8根據(jù)使轉(zhuǎn)盤(pán)3旋轉(zhuǎn)用的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)生成與基材10的旋轉(zhuǎn)同步基準(zhǔn)信號(hào)S1、同時(shí)將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)型轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出的構(gòu)成。再有，也可以采用下述的構(gòu)成，即另外設(shè)置生成使轉(zhuǎn)盤(pán)3旋轉(zhuǎn)用的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的驅(qū)動(dòng)信號(hào)生成部，該驅(qū)動(dòng)信號(hào)生成部根據(jù)旋轉(zhuǎn)信號(hào)生成與基材10的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)S1，向控制部8輸出，同時(shí)將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)向轉(zhuǎn)盤(pán)3輸出。另外，關(guān)于基材10每旋轉(zhuǎn)一圈的基準(zhǔn)信號(hào)S1的輸出數(shù)，不限定于上述例子，只要基材10每旋轉(zhuǎn)一圈輸出一次及一次以上，就可以規(guī)定為任意的輸出數(shù)。再有，是以在Si晶片10a的表面上涂有負(fù)型抗蝕劑(樹(shù)脂層10b)來(lái)繪制曝光圖形P為例進(jìn)行說(shuō)明的，但作為本發(fā)明的樹(shù)脂層的形成材料不限定于負(fù)型抗蝕劑，可以使用正型抗蝕劑等各種樹(shù)脂材料。
權(quán)利要求
1.一種圖形繪圖裝置，其特征在于，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹(shù)脂層的基材并使該基材旋轉(zhuǎn)而構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、沿著利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)形成的所述基材的旋轉(zhuǎn)面使該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、根據(jù)在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)內(nèi)部生成的內(nèi)部信號(hào)及對(duì)該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的某一個(gè)信號(hào)生成與所述基材的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)的基準(zhǔn)信號(hào)生成部、向所述樹(shù)脂層輸出繪圖用束的束輸出部、以及控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)同時(shí)控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時(shí)刻的控制部，能夠在所述樹(shù)脂層上繪制構(gòu)成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比構(gòu)成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長(zhǎng)度要窄的所述繪圖用束而構(gòu)成，所述控制部通過(guò)交替多次進(jìn)行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理，在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形，所述部分繪圖處理是在利用所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部輸出所述基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)，在僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，在所述樹(shù)脂層上繪制所述圖形的寬度方向的一部分，所述繪圖位置改變處理是將利用該部分繪圖處理進(jìn)行的所述一部分繪圖位置，向接近利用所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的所述基材旋轉(zhuǎn)中心的方向及從該旋轉(zhuǎn)中心離開(kāi)的方向的某一個(gè)規(guī)定的方向一側(cè)在所述有效繪圖寬度的范圍內(nèi)改變。
2.一種圖形繪圖裝置，其特征在于，包括能夠放置在其表面形成為了形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形的樹(shù)脂層的基材并使該基材旋轉(zhuǎn)而構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、沿著利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)形成的所述基材的旋轉(zhuǎn)面使該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、根據(jù)在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)內(nèi)部生成的內(nèi)部信號(hào)及對(duì)該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的某一個(gè)信號(hào)生成與所述基材的旋轉(zhuǎn)同步的基準(zhǔn)信號(hào)的基準(zhǔn)信號(hào)生成部、向所述樹(shù)脂層輸出繪圖用束的束輸出部、使該束輸出部輸出的所述繪圖用束偏轉(zhuǎn)的束偏轉(zhuǎn)部、以及控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)同時(shí)控制所述束偏轉(zhuǎn)部產(chǎn)生的所述繪圖用束的偏振方向而且控制利用所述束輸出部的所述繪圖用束的輸出及輸出停止時(shí)刻的控制部，能夠在所述樹(shù)脂層上繪制構(gòu)成形成所述凹凸圖形用的同心圓狀曝光圖形，所述束輸出部能夠使其有效繪圖寬度比構(gòu)成所述曝光圖形的各圖形的寬度及長(zhǎng)度要窄的所述繪圖用束而構(gòu)成，所述控制部通過(guò)進(jìn)行繪圖處理，在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形，所述繪圖處理是在利用所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部輸出所述基準(zhǔn)信號(hào)時(shí)，在僅待機(jī)了預(yù)先規(guī)定的待機(jī)時(shí)間之后，控制所述束輸出部，使所述繪圖用束輸出，同時(shí)控制所述束偏轉(zhuǎn)部，沿要繪圖的所述圖形的寬度方向使所述繪圖用束往復(fù)運(yùn)動(dòng)，來(lái)繪制該圖形。
3.如權(quán)利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。
4.如權(quán)利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的伺服圖形及數(shù)據(jù)記錄用的數(shù)據(jù)道圖形的至少一種圖形的所述曝光圖形。
5.如權(quán)利要求3所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成對(duì)所述至少一種圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
6.如權(quán)利要求4所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成對(duì)所述至少一種圖形附加預(yù)先規(guī)定的斜角的所述曝光圖形。
7.如權(quán)利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間中輸出多次所述基準(zhǔn)信號(hào)。
8.如權(quán)利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間中輸出多次所述基準(zhǔn)信號(hào)。
9.如權(quán)利要求1所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的多個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的所述曝光圖形，所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)輸出該基材每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準(zhǔn)信號(hào)。
10.如權(quán)利要求2所述的圖形繪圖裝置，其特征在于，能夠繪制構(gòu)成包含跟蹤伺服用的多個(gè)伺服圖形區(qū)內(nèi)的伺服圖形的所述曝光圖形，所述基準(zhǔn)信號(hào)生成部在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基材旋轉(zhuǎn)一圈的期間內(nèi)輸出該基材每旋轉(zhuǎn)一圈應(yīng)該繪制所述伺服圖形的所述伺服圖形區(qū)數(shù)量的所述基準(zhǔn)信號(hào)。
11.一種信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1所述的圖形繪圖裝置在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)。
12.一種信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法，其特征在于，采用權(quán)利要求2所述的圖形繪圖裝置在所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，使用該形成的凹凸圖形并對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體制造用母盤(pán)。
13.一種信息記錄媒體制造方法，其特征在于，使用由權(quán)利要求11所述的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤(pán)上被形成的凹凸圖形、對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體。
14.一種信息記錄媒體制造方法，其特征在于，使用由權(quán)利要求12所述的信息記錄媒體制造用母盤(pán)的制造方法的信息記錄媒體制造用母盤(pán)上被形成的凹凸圖形、對(duì)該凹凸圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印，制造信息記錄媒體。
15.一種信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1所述的圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成的所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
16.一種信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，采用權(quán)利要求2所述的圖形繪圖裝置在作為所述基材的信息記錄媒體用中間體上形成的所述樹(shù)脂層上繪制所述曝光圖形之后，對(duì)該樹(shù)脂層進(jìn)行規(guī)定的處理，形成所述凹凸圖形，利用該形成的凹凸圖形制造信息記錄媒體。
全文摘要
本發(fā)明是為了降低信息記錄媒體的制造成本。能夠繪制構(gòu)成形成信息記錄媒體制造用的凹凸圖形用的曝光圖形P，束輸出部能夠輸出其有效繪圖寬度比各圖形PSO1、PSO2…的寬度及長(zhǎng)度要窄的電子束EB而構(gòu)成，控制部通過(guò)交替多次進(jìn)行部分繪圖處理及繪圖位置改變處理來(lái)繪制曝光圖形P，該部分繪圖處理是在利用基準(zhǔn)信號(hào)生成部輸出基準(zhǔn)信號(hào)S1時(shí)，在僅待機(jī)預(yù)先規(guī)定的時(shí)間t1w、t1w…之后，使束輸出部輸出電子束EB，繪制圖形PSO1、PSO2…的寬度方向的一部分(繪圖區(qū)域PSO11、PSO12…)，該繪圖位置改變處理是將利用部分繪圖處理進(jìn)行的一部分繪圖位置，向基材的旋轉(zhuǎn)中心側(cè)在有效繪圖寬度的范圍內(nèi)改變。
文檔編號(hào)G11B5/855GK1645257SQ20051000417
公開(kāi)日2005年7月27日 申請(qǐng)日期2005年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月13日
發(fā)明者添野佳一 申請(qǐng)人:Tdk股份有限公司