專利名稱：光束發(fā)射源設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)的發(fā)射源(radiationsource)設(shè)備以及一種包括這種發(fā)射源設(shè)備的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置。更具體地說，本發(fā)明涉及用于二維光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器和三維光學(xué)存儲(chǔ)器的一種發(fā)射源設(shè)備和一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備，所述二維光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器是諸如致密盤、數(shù)字多能光盤和藍(lán)光盤存儲(chǔ)器等的應(yīng)用，且所述三維光學(xué)存儲(chǔ)器是諸如全息存儲(chǔ)器等的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)US6654183B2描述了一種將光束轉(zhuǎn)換成準(zhǔn)直平頂束(collimated flat-top beam)的系統(tǒng)。該系統(tǒng)能夠?qū)⒅T如高斯光束等基本上不均勻的輸入光束轉(zhuǎn)換成基本上均勻的輸出光束。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)US2002/0191236A1描述了一種利用光束切趾法(beam apodization)改良全息記錄的方法。在這種已知的方法中，來自激光器的激光束的極不均勻的強(qiáng)度分布被用來提高所記錄的全息圖像的質(zhì)量。
來自US2002/0191236A1的已知方法具有效率低的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種用于光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)的發(fā)射源設(shè)備以及一種包括這種發(fā)射源設(shè)備的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，具有改善的效率，特別是對(duì)于光學(xué)數(shù)據(jù)的讀取和/或?qū)懭刖哂刑岣叩男阅堋?br> 該目標(biāo)通過如權(quán)利要求1所限定的發(fā)射源設(shè)備和由權(quán)利要求14所限定的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備來實(shí)現(xiàn)。對(duì)本發(fā)明的有益擴(kuò)展記載于從屬權(quán)利要求中。
本發(fā)明具有這樣的優(yōu)點(diǎn)光束成形器元件、準(zhǔn)直元件和輸出耦合器構(gòu)建成一個(gè)用于光束發(fā)射元件的光學(xué)諧振器。這樣，光束成形器和準(zhǔn)直元件都被布置在光束發(fā)射元件與輸出耦合器之間的光路中。由此，光學(xué)諧振器內(nèi)部的能量損耗就減少了，從而獲得了高的效率。此外，發(fā)射源設(shè)備輸出一個(gè)具有幾乎扁平的強(qiáng)度分布的圓形發(fā)射光束，從而，對(duì)發(fā)射源設(shè)備外部的發(fā)射光束的進(jìn)一步成形和準(zhǔn)直就不必要了。
在權(quán)利要求2和3中限定的措施具有對(duì)準(zhǔn)直元件提供圓形發(fā)射光束的優(yōu)點(diǎn)。這樣，通過與準(zhǔn)直元件的組合，獲得了光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器應(yīng)用中的高效光分布和低噪聲系數(shù)。
在權(quán)利要求5中限定的措施具有這樣的優(yōu)點(diǎn)根據(jù)應(yīng)用能夠形成具有扁平強(qiáng)度分布或具有輕度反向強(qiáng)度分布的發(fā)射光束輸出。扁平強(qiáng)度分布可用扁平強(qiáng)度分布準(zhǔn)直透鏡來獲得。這對(duì)于二維記錄系統(tǒng)是優(yōu)選的，其中發(fā)射光束的連緣強(qiáng)度大于中心強(qiáng)度的60％。
在權(quán)利要求9中限定的措施具有這樣的優(yōu)點(diǎn)能夠方便地改變發(fā)射光束輸出的波長(zhǎng)。這種波長(zhǎng)的控制可通過在權(quán)利要求10中限定的措施來提供。
在權(quán)利要求11中限定的措施具有這樣的優(yōu)點(diǎn)對(duì)于從發(fā)射源設(shè)備輸出的發(fā)射光束的波長(zhǎng)提供了調(diào)整和控制而不需要任何機(jī)械移動(dòng)部件。由此，鏡面元件可以包括一個(gè)液晶鏡面。
在權(quán)利要求12中限定的措施具有進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)入射到鏡面元件的不同波長(zhǎng)的發(fā)射光束至少接近于相互平行。這樣，可以將鏡面元件設(shè)置成使得不同波長(zhǎng)的發(fā)射光束垂直入射到鏡面元件的表面上。由此，發(fā)射光束在鏡面元件上的反射被改善了，從而發(fā)射源設(shè)備的效率在所提供的整個(gè)頻率范圍上被提高。
在權(quán)利要求13中限定的措施具有這樣的優(yōu)點(diǎn)不同波長(zhǎng)的發(fā)射光束在鏡面元件上的反射被進(jìn)一步提高。
本發(fā)明的這些及其它優(yōu)點(diǎn)將通過下面對(duì)實(shí)施例的說明而變得顯而易見。


從下面參照附圖對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的描述，本發(fā)明將變得易于理解。在附圖中，相同的附圖標(biāo)記代表相同的部分，其中圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備；圖2示出了描述發(fā)射光束的不同強(qiáng)度分布的圖；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備；
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備；以及圖6示出了包括圖1、3、4和5中任一幅所示的發(fā)射源設(shè)備的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備。
具體實(shí)施例方式
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備1。該發(fā)射源設(shè)備1可應(yīng)用于光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)中，特別是二維光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器和三維全息存儲(chǔ)器中。該光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)可以使用致密盤、數(shù)字通用盤、藍(lán)光光盤、用于全息存儲(chǔ)的存儲(chǔ)介質(zhì)或其它光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)。但是，本發(fā)明的發(fā)射源設(shè)備1并不限于在此提及的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)，而也可以用于其它應(yīng)用中。
如圖1所示，該發(fā)射源設(shè)備1包括光束發(fā)射(radiation-emitting)元件2。該光束發(fā)射元件2包括半導(dǎo)體激光器3，并可以包括諸如透鏡等其它元件。該光束發(fā)射元件2正發(fā)出一個(gè)橢圓形發(fā)射光束4。該橢圓形發(fā)射光束4可以，例如包括具有縱橫比為1∶3或2∶3的橢圓形光束輪廓。由此，該發(fā)射光束4在平行于半導(dǎo)體激光器3的工作區(qū)域的(即平行于偏振軸)平面內(nèi)的發(fā)散度比垂直方向低2至3倍。
發(fā)射光束4被輸入至一個(gè)光束成形器元件5，用于將從光束發(fā)射元件2發(fā)出的發(fā)射光束4形成具有圓形光束輪廓的發(fā)射光束。這樣，從光束成形器元件5輸出的發(fā)射光束6具有至少接近1的縱橫比。
該圓形發(fā)射光束6被輸入至準(zhǔn)直元件7。設(shè)置該準(zhǔn)直元件7以對(duì)該發(fā)射光束6進(jìn)行準(zhǔn)直，并產(chǎn)生一個(gè)至少接近扁平的強(qiáng)度分布。由此，該準(zhǔn)直元件7可以是或包括一個(gè)扁平強(qiáng)度分布透鏡或反向強(qiáng)度分布透鏡。對(duì)于使用空間光調(diào)制器的全息系統(tǒng)，反向強(qiáng)度分布透鏡是優(yōu)選的。下面參照?qǐng)D2說明不同的光束輪廓。
在圖1中，準(zhǔn)直元件7輸出具有圓形光束輪廓和至少接近扁平強(qiáng)度分布的發(fā)射光束8。該發(fā)射光束8入射到一個(gè)輸出耦合器9。該輸出耦合器9包括安裝在透明基底11上的布拉格反射鏡10。該布拉格反射鏡10將入射發(fā)射光束8的一部分反射回光束發(fā)射元件2。由此，該反射的發(fā)射光束8接連通過準(zhǔn)直元件7和光束成形器元件5。因此，在光束成形器元件5和準(zhǔn)直元件7之間，對(duì)于反射的光束再一次獲得與發(fā)射光束6相應(yīng)的縱橫比和強(qiáng)度分布。并且，在光束發(fā)射元件2和光束成形器元件5之間，通過反射的光束再一次獲得與發(fā)射光束4相應(yīng)的光束輪廓的縱橫比和強(qiáng)度分布。因此，光束的損失降低了，并對(duì)于發(fā)射源設(shè)備1獲得了高的效率。
沒有反射回到光束發(fā)射元件2的發(fā)射光束8的一部分通過布拉格反射器10和透明基底11，并作為發(fā)射源設(shè)備1的輸出發(fā)射光束12而被輸出。
光束發(fā)射元件可以是或包括一個(gè)增益介質(zhì)，或可以是或包括半導(dǎo)體激光器或半導(dǎo)體激光芯片，例如用于致密盤或數(shù)字通用盤系統(tǒng)中的激光器。特別地，光束發(fā)射元件2可以包括在自由工作模式下具有70mW的輸出功率和波長(zhǎng)為405nm的半導(dǎo)體激光器3。
圖2示出了發(fā)射源設(shè)備1的輸出發(fā)射光束12的強(qiáng)度分布的圖。在橫坐標(biāo)的軸15上，顯示了垂直于發(fā)射光束12的傳播方向的方向。在縱坐標(biāo)的軸16上，顯示了發(fā)射光束12的強(qiáng)度。實(shí)線17表示高斯強(qiáng)度分布的強(qiáng)度分布。發(fā)射光束4可以具有這種高斯強(qiáng)度分布。實(shí)線18顯示了扁平強(qiáng)度分布。在這種情況下，在中心19處發(fā)射光束的強(qiáng)度等于在邊緣20的區(qū)域中的強(qiáng)度。虛線21表示反向強(qiáng)度分布。由此，在邊緣20中的邊緣強(qiáng)度略高于在發(fā)射光束的中心19處的中心強(qiáng)度。因此，虛線21表示接近扁平的強(qiáng)度分布。輸出發(fā)射光束12可以包括實(shí)線18或虛線21所示的強(qiáng)度分布。發(fā)射光束8的強(qiáng)度分布與發(fā)射光束12的強(qiáng)度分布相當(dāng)。
圖3示出了本發(fā)明的發(fā)射源設(shè)備1的第二實(shí)施例。在該第二實(shí)施例中，從準(zhǔn)直元件7輸出的發(fā)射光束8入射到輸出耦合器9的折射光柵25上。該折射光柵25作為一個(gè)調(diào)節(jié)光柵并且安裝在基底26上。該基底26不必要是透明的。發(fā)射光束8相對(duì)于折射光柵25的入射角至少接近45°。這樣，輸出發(fā)射光束12的光束輪廓的縱橫比等于至少接近光束8的縱橫比。因此，輸出發(fā)射光束12也具有圓形光束輪廓。
安裝在基底26上的折射光柵25是可機(jī)械移動(dòng)的。一個(gè)相對(duì)于發(fā)射元件2而固定的軸承27、光束成形器元件5和準(zhǔn)直元件7確定了用于調(diào)節(jié)折射光柵25和基底26的旋轉(zhuǎn)軸。這種調(diào)節(jié)可以沿順時(shí)針或逆時(shí)針方向28而進(jìn)行。例如對(duì)于400nm的波長(zhǎng)，由于入射角大約為45°，折射光柵的刻線優(yōu)選為每毫米約3000線。對(duì)于10nm的跨距，入射角的總變化為25mrad。這種變化是通過壓電元件29實(shí)施的。壓電元件29連到基底26上并與軸承27相對(duì)，并固定在與光束發(fā)射元件2相對(duì)的一側(cè)。這樣，可通過向壓電元件29施加電壓而控制輸出發(fā)射光束12的波長(zhǎng)。
將反射的發(fā)射光束8的第一級(jí)引導(dǎo)回光束發(fā)射元件2的半導(dǎo)體激光器3是有利的。發(fā)射光束8的零級(jí)反射于是作為輸出發(fā)射光束12。在第二實(shí)施例中，輸出耦合器包括折射光柵25、基底26、軸承27和壓電元件29。
圖4示出了本發(fā)明的第三實(shí)施例。第三實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備1包括反射元件25和鏡面元件40。由此，該發(fā)射元件25是一個(gè)折射光柵25。安裝在基底26上的該折射光柵25和所述鏡面元件40相對(duì)于光束發(fā)射元件2固定。
來自光束發(fā)射元件2的發(fā)射光束4傳播通過光束成形器元件5和準(zhǔn)直元件7，并接著在折射光柵25上發(fā)散。來自折射光柵25的第零級(jí)反射被用于輸出耦合輸出的發(fā)射光束12。此外，從折射光柵25以第一級(jí)反射的發(fā)射光束37被一個(gè)聚焦透鏡39聚焦到鏡面元件40上。該鏡面元件40包括一個(gè)可變換反射區(qū)43，它被設(shè)置為鏡面元件40的高反射部分。從該反射區(qū)43，發(fā)射光束37經(jīng)由所有光學(xué)元件39、25、7和5而反饋進(jìn)入光束發(fā)射元件2。鏡面元件40的反射區(qū)43是聚焦透鏡39的聚焦平面。
當(dāng)不同波長(zhǎng)離開折射光柵25時(shí)，它們將會(huì)具有不同的方向，并因此被聚焦透鏡39聚焦在鏡面元件40的表面46上的不同位置。通過將不同的像素打開和關(guān)閉，可以選擇鏡面元件40的不同反射區(qū)域44以選擇一個(gè)合適的波長(zhǎng)。因此，可以不用機(jī)械移動(dòng)部件而調(diào)節(jié)輸出發(fā)射光束12的波長(zhǎng)。通過下面對(duì)本發(fā)明的第四實(shí)施例的說明，第三實(shí)施例也將變得顯而易見。
圖5示出了本發(fā)明的第四實(shí)施例。第四實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備1包括反射元件25，它是一個(gè)折射光柵25。而且，發(fā)射源設(shè)備1包括另一個(gè)反射元件35，它也是一個(gè)折射光柵35。該折射光柵35安裝在一個(gè)基底36上，該基底36不必要是透明的。安裝在基底26上的折射光柵25和安裝在基底36上的折射光柵35相對(duì)于光束發(fā)射元件2固定。
發(fā)射光束8以零級(jí)入射到折射光柵25，且發(fā)射光束37以第一級(jí)從折射光柵25反射到另一折射光柵35。該發(fā)射光束37以第一級(jí)入射到折射光柵35，且發(fā)射光束38從折射光柵35以零級(jí)反射。發(fā)射光束37透過用于將發(fā)射光束38聚焦在鏡面元件40上的聚焦透鏡39。由此，將鏡面元件40設(shè)置于聚焦透鏡39的焦點(diǎn)處是有利的。該鏡面元件40被設(shè)置成在可變換反射區(qū)域43處反射入射的發(fā)射光束38。反射區(qū)域43可以變換為鏡面元件40的另一反射區(qū)域，例如反射區(qū)域44。放置于聚焦透境39與鏡面元件40之間的折射光柵35將把從鏡面元件40反射的發(fā)射光束38衍射回到其初始方向。
由此，至少一部分發(fā)射光束38經(jīng)由折射光柵35和折射光柵25而被反射回光束發(fā)射元件2，這樣就為一個(gè)特定波長(zhǎng)建立了一個(gè)外部諧振器。
折射光柵25的表面41被設(shè)置為與折射光柵35的表面42平行。如果將反射區(qū)域43變換為反射區(qū)域44，則選擇了一條不同的光路，該光路由虛線表示。在這種情況下，由于波長(zhǎng)取決于來自折射光柵25的第一級(jí)反射的方向，第一級(jí)反射的發(fā)射光束37′被選擇。該發(fā)射光束37′被入射到折射光柵35上。因此發(fā)射光束38′以零級(jí)從折射光柵35上反射。發(fā)射光束37′透過聚焦透鏡39，從而發(fā)射光束38′在反射區(qū)域44處聚焦于鏡面元件40。因?yàn)楸砻?1和42的平行設(shè)置，光束38、38′的傳播方向相互平行。因此，可以設(shè)置鏡面元件40以使光束38和光束38′在鏡面元件40的表面46上的入射角都為90°。因此，在鏡面元件40上的反射效率高，并幾乎與所選波長(zhǎng)無關(guān)。
鏡面元件40連接于控制單元45，其中該控制單元45控制反射區(qū)域43、44在鏡面元件40的屏幕上的位置。由此，控制單元45控制輸出發(fā)射光束12的波長(zhǎng)，該輸出發(fā)射光束12是從折射光柵25以零級(jí)反射的。
在本發(fā)明的第四實(shí)施例中，輸出耦合器9包括安裝在基底26上的折射光柵25、安裝在基底36上的折射光柵35、聚焦透鏡39和連接于控制單元45的鏡面元件40。根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的發(fā)射源設(shè)備1的輸出耦合器9具有這樣的優(yōu)點(diǎn)發(fā)射光束12的波長(zhǎng)可以相對(duì)快速地被調(diào)節(jié)，而無需在諧振器中使用移動(dòng)部件。而且可以在發(fā)射源設(shè)備1的調(diào)節(jié)范圍的外部端點(diǎn)處獲得更低的損耗。
圖6示出了用于光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備50，其包括根據(jù)第一、第二、第三或第四實(shí)施例中任一個(gè)的發(fā)射源設(shè)備1。該光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備50還包括用于對(duì)光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器進(jìn)行讀取和寫入操作的讀/寫單元51。從發(fā)射源設(shè)備1輸出的輸出發(fā)射光束12被施加到該讀/寫單元51。特別地，空間全息數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器需要具有長(zhǎng)相干長(zhǎng)度的發(fā)射源，并且為了波長(zhǎng)多路復(fù)用還需要可調(diào)節(jié)源。發(fā)射源設(shè)備1解決了關(guān)于光路效率的問題。對(duì)于二維光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，發(fā)射源設(shè)備1還可以被設(shè)置成提供單個(gè)縱向模式。這具有小的光學(xué)反饋靈敏度的優(yōu)點(diǎn)，并因此提高了信噪比。對(duì)于全息存儲(chǔ)器，為了能夠?qū)懭霗C(jī)構(gòu)中的空間光調(diào)制器的所有像素進(jìn)行均等地尋址，需要扁平的強(qiáng)度分布。在讀取時(shí)，相應(yīng)需要CCD照相機(jī)。但是，通常來說，取決于應(yīng)用，高至10個(gè)百分比的強(qiáng)度變化是可以容受的。
盡管已經(jīng)揭示了本發(fā)明的示例實(shí)施例，但對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以進(jìn)行各種變化和修改來取得本發(fā)明的一些優(yōu)點(diǎn)。對(duì)發(fā)明主旨的這些修改由所附權(quán)利要求所概括，其中的附圖標(biāo)記不應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是對(duì)本發(fā)明范圍的限制。另外，在說明書和所附權(quán)利要求書中，“包括”的意義不應(yīng)當(dāng)理解為排除了其它元件或步驟。此外，“一”或“一個(gè)”并不排除多個(gè)的存在，且單個(gè)處理器或其它單元可以完成權(quán)利要求中引用的多個(gè)裝置的功能。而且，發(fā)射光束的波長(zhǎng)并不限于可見光譜。
權(quán)利要求
1.一種用于光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)的發(fā)射源設(shè)備(1)，該發(fā)射源設(shè)備包括用于發(fā)射光束的至少一個(gè)光束發(fā)射元件(2)，至少一個(gè)光束成形器元件(5)，其用于將從所述光束發(fā)射元件發(fā)出的發(fā)射光束成形為至少接近圓形的發(fā)射光束，至少一個(gè)準(zhǔn)直元件(7)，其中來自所述光束成形器元件的所述圓形發(fā)射光束被輸入到所述準(zhǔn)直元件，且所述準(zhǔn)直元件被設(shè)置為輸出具有至少接近扁平的強(qiáng)度分布的發(fā)射光束，以及至少一個(gè)輸出耦合器(9)，其被設(shè)置成部分地將來自所述準(zhǔn)直元件的所述發(fā)射光束至少間接地反射回所述光束發(fā)射元件并且輸出一個(gè)輸出發(fā)射光束(12)。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述光束發(fā)射元件(2)包括發(fā)出橢圓形發(fā)射光束的半導(dǎo)體激光器(3)
3.如權(quán)利要求2所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述光束成形器元件(5)將從所述光束發(fā)射元件輸出的所述橢圓形發(fā)射光束成形為所述圓形發(fā)射光束。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述準(zhǔn)直元件(7)包括至少一個(gè)準(zhǔn)直透鏡。
5.如權(quán)利要求1或4所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述準(zhǔn)直元件(7)被設(shè)置為輸出具有邊緣強(qiáng)度的發(fā)射光束，該邊緣強(qiáng)度至少略高于或等于所述發(fā)射光束的中心強(qiáng)度。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述輸出耦合器(9)包括至少一個(gè)反射元件(10、25、35)。
7.如權(quán)利要求6所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述反射元件是布拉格反射器(10)。
8.如權(quán)利要求6所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述反射元件是折射光柵。
9.如權(quán)利要求8所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述反射元件被設(shè)置為可移動(dòng)的，以改變所述發(fā)射光束在所述反射元件上的入射角。
10.如權(quán)利要求9所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述反射元件通過一個(gè)壓電元件(29)而可以移動(dòng)，用以控制所述輸出發(fā)射光束的波長(zhǎng)。
11.如權(quán)利要求1或8所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，所述輸出耦合器包括鏡面元件(40)，其中所述鏡面元件被設(shè)置為在一個(gè)可變換反射區(qū)域上反射入射的發(fā)射光束，且所述發(fā)射源設(shè)備包括控制單元(45)，用以控制所述反射區(qū)域在鏡面元件(40)上的位置，以設(shè)定所述發(fā)射光束輸出的波長(zhǎng)。
12.如權(quán)利要求11所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，還包括另一個(gè)反射元件，其中設(shè)置所述另一反射元件以使所述另一反射元件(35)的表面至少盡量與所述反射元件的表面平行。
13.如權(quán)利要求11所述的發(fā)射源設(shè)備，其特征在于，還包括用于將發(fā)射光束聚焦至鏡面元件上的至少一個(gè)聚焦透鏡(39)。
14.一種用于光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備(50)，包括如權(quán)利要求1至13的任一個(gè)所述的發(fā)射源設(shè)備。
全文摘要
對(duì)于光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器應(yīng)用，例如全息存儲(chǔ)器應(yīng)用，需要扁平強(qiáng)度分布的發(fā)射光束(12)。本發(fā)明的發(fā)射源設(shè)備(1)包括在半導(dǎo)體激光器(3)和輸出耦合器(9)之間的光束成形器元件(5)和準(zhǔn)直元件(7)，并提供具有增強(qiáng)效率的這種發(fā)射光束(12)。因此提供了一個(gè)外部諧振器。另外，能夠提供對(duì)輸出發(fā)射光束(12)的波長(zhǎng)相對(duì)快速的調(diào)節(jié)。
文檔編號(hào)G11B7/135GK101065801SQ200580040840
公開日2007年10月31日 申請(qǐng)日期2005年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月29日
發(fā)明者G·特胡夫特, J·J·H·B·施萊彭, F·J·P·舒爾曼斯, T·W·圖克 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司