專利名稱：頭、頭懸架組件和設(shè)有該頭懸架組件的盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用在盤裝置例如磁盤裝置內(nèi)的頭、設(shè)有該頭的頭懸架組件以及設(shè)有該頭懸架組件的盤裝置。
背景技術(shù)：
盤裝置例如磁盤裝置包括殼體內(nèi)的磁盤、支承該盤并使該盤旋轉(zhuǎn)的主軸馬達(dá)、向該盤寫入信息并從該盤讀取信息的磁頭和支承該磁頭以便相對于該盤移動的托架組件。該托架組件包括被可搖擺地支承的臂和從該臂延伸出的懸架。該磁頭支承在該懸架的延伸端部上。該磁頭具有安裝在懸架上的滑動器以及位于該滑動器上的頭部。該頭部包括用于讀取的再現(xiàn)元件和用于寫入的記錄元件。
滑動器具有與磁盤的記錄表面相面對的對向面?；瑒悠鞯膶ο蛎嫘纬蔀榫哂凶鳛樨?fù)壓生成部的負(fù)壓腔，以用于生成負(fù)壓。懸架向滑動器施加給定的頭荷重，該荷重朝向磁盤的磁記錄層。當(dāng)磁盤裝置動作時，在旋轉(zhuǎn)的磁盤和滑動器之間產(chǎn)生空氣流。因此，滑動器的對向面受到與由負(fù)壓腔生成的負(fù)壓相對的正壓，即，使滑動器在磁盤的記錄表面上方浮動的力。通過使浮動力和頭荷重平衡，可使滑動器在磁盤記錄表面的上方保持固定間隙地浮動。
預(yù)計滑動器的浮動高度在磁盤上的任何徑向位置處都基本相同。磁盤的旋轉(zhuǎn)頻率是恒定的，而其圓周速度根據(jù)徑向位置變化。由于磁頭由旋轉(zhuǎn)托架組件定位，此外偏航角(空氣流方向(軌跡方向)和滑動器的中心線之間的角)也根據(jù)磁盤上的徑向位置而變化，因此，在設(shè)計滑動器時，必須通過適當(dāng)?shù)乩蒙鲜鰞蓚€根據(jù)徑向位置變化的參數(shù)來限制可歸因于磁盤上的徑向位置的浮動高度的改變。
隨著近年來對記錄密度的改進(jìn)，已經(jīng)促進(jìn)了滑動器的微型化，并已經(jīng)研究所謂的皮米滑動器、飛米滑動器等。如果將滑動器微型化以減小其橫向尺寸，則易于使滑動器圍繞其縱向軸線滾轉(zhuǎn)或擺動?；瑒悠鞯臐L轉(zhuǎn)角根據(jù)在磁盤上的徑向位置而變化。如果滑動器的滾轉(zhuǎn)角改變，則記錄/再現(xiàn)特性會變動。
為了防止?jié)L轉(zhuǎn)角的變動，例如，在特開平9-330510號公報中提出了一種新穎的磁頭滑動器。在此磁頭滑動器中，滑動器的負(fù)壓生成部被分割成多個部分以分散負(fù)壓分布的梯度，從而即使偏航角增加仍可抑制滑動器滾轉(zhuǎn)。
但是，如果負(fù)壓生成部被如此分割以用于分散，則該負(fù)壓生成部的設(shè)計靈活性降低并且該負(fù)壓生成部的面積減小，從而可能導(dǎo)致負(fù)壓減小。在此情況下，難以使滑動器保持穩(wěn)定的浮動姿態(tài)，因此可能破壞記錄/再現(xiàn)特性的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是針對這些情況提出的，本發(fā)明的目的是提供一種頭，該頭設(shè)計成在不引起負(fù)壓損失的情況下抑制滾轉(zhuǎn)(roll)，從而提高穩(wěn)定性和可靠性，本發(fā)明還提供了盤裝置和具有該頭的頭懸架組件。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種頭，該頭包括滑動器，該滑動器具有與可旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的表面相對的對向面，該滑動器通過記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在記錄介質(zhì)表面和該對向面之間的空氣流而浮動(flow)；以及設(shè)置在該滑動器上的頭部，該頭部向記錄介質(zhì)記錄信息并再現(xiàn)該記錄介質(zhì)上的信息；其特征在于該滑動器的對向面具有沿空氣流的方向延伸的縱向方向和與該縱向方向垂直的橫向方向；該滑動器具有形成在該對向面內(nèi)并產(chǎn)生負(fù)壓的負(fù)壓腔、從該對向面突出并且位于該負(fù)壓腔的相對于空氣流的上游側(cè)的先導(dǎo)臺階部、以及設(shè)置在該先導(dǎo)臺階部上并且面對記錄介質(zhì)的先導(dǎo)墊；該先導(dǎo)墊具有流入端邊緣和多個凹部，該流入端邊緣位于所述空氣流的上游側(cè)并在先導(dǎo)臺階部的橫向方向的全長范圍內(nèi)延伸，所述凹部分別在該流入端邊緣開口并從該流入端邊緣沿縱向方向延伸。


結(jié)合在說明書中并構(gòu)成說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的實施例，并且與上文給出的概括說明以及下文給出的對實施例的詳細(xì)說明一起來解釋本發(fā)明的原理。
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的硬盤驅(qū)動器(下文稱為HDD)的俯視圖；圖2是示出包括HDD的磁頭的部分的放大側(cè)視圖；圖3是示出磁頭的滑動器的盤對向面?zhèn)鹊耐敢晥D；圖4是示出滑動器的盤對向面?zhèn)鹊母┮晥D；圖5是示出滑動器的側(cè)視圖；圖6A、6B和6C是分別示意性地示出示例A和B的滑動器以及比較示例的滑動器的俯視圖；圖7是在磁盤的不同周向位置處實施例以及比較示例的滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值的圖表；圖8是示出實施例和比較示例的滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角隨圓周速度的變化而變動的圖表；圖9是示出實施例和比較示例的滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角隨偏航角的變化而變動的圖表；圖10示出實施例和比較示例的滑動器在磁盤的周向位置處的浮動滾轉(zhuǎn)角的圖表；圖11A、11B和11C是示意性地示出在滑動器的先導(dǎo)墊內(nèi)具有不同長度的凹部的三種滑動器實施例的俯視圖；圖12是示出先導(dǎo)墊內(nèi)的凹部的放大俯視圖；圖13是示出先導(dǎo)墊內(nèi)的凹部的長度之間的比率與在磁盤的各周向位置處的浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值之間的關(guān)系的曲線圖；
圖14A和14B是示意性地示出相互比較的皮米滑動器和佩托滑動器(pemto-slider)的俯視圖；圖15是比較性地示出皮米滑動器和佩托滑動器各自在磁盤的各位置處的浮動滾轉(zhuǎn)角的曲線圖；圖16是示出皮米滑動器和佩托滑動器在磁盤的各位置處的浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值的柱狀圖；圖17是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的HDD的滑動器的盤對向面?zhèn)鹊母┮晥D。
具體實施例方式
下面將參照附圖對其中將根據(jù)本發(fā)明的盤裝置應(yīng)用于HDD的實施例進(jìn)行詳細(xì)說明。
圖1是示出取下頂蓋的HDD的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2示出處于浮動(飛行)狀態(tài)的磁頭。如圖1中所示，HDD包括形式為頂部開口的矩形盒的殼體12和頂蓋(未示出)，該頂蓋通過螺釘旋擰到該殼體上并封閉該殼體的頂部開口。
殼體12容納有用作記錄介質(zhì)的磁盤16、主軸馬達(dá)18、磁頭以及一托架組件22。主軸馬達(dá)18用作支承磁盤并使磁盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部分。磁頭用于向磁盤寫入信息以及從磁盤讀取信息。托架組件22支承磁頭以使其相對于磁盤16移動。殼體12還含有音圈馬達(dá)(VCM)24、斜坡加載機(jī)構(gòu)25、基板單元21等。VCM 24使托架組件搖擺和定位。當(dāng)磁頭移動到盤的最外周時，斜坡加載機(jī)構(gòu)25將磁頭保持在離開磁盤的退避位置?；鍐卧?1具有頭IC等。
在殼體12的底壁的外表面上旋擰有印刷電路板(未示出)。該電路板通過基板單元21控制主軸馬達(dá)18、VCM 24和磁頭的各自的操作。
磁盤16分別在其上表面和下表面上具有磁記錄層。磁盤16安裝在主軸馬達(dá)18的轂(未示出)的外周上，并通過夾持彈簧17固定在該轂上。當(dāng)馬達(dá)18被驅(qū)動時，磁盤16沿箭頭B的方向以例如4200rpm的給定速度旋轉(zhuǎn)。
托架組件22包括固定在殼體12的底壁上的軸承部分26以及從該軸承部分延伸出的臂32。這些臂32設(shè)置成平行于磁盤16的表面并彼此間隔開。它們從軸承部分26沿相同的方向延伸出。托架組件22設(shè)置有懸架38，每個懸架均由可彈性變形的細(xì)長板簧形成。由板簧形成的懸架38的各自的基端/近端通過點焊或粘接固定在臂32的相應(yīng)前端/遠(yuǎn)端上并從該臂延伸。每個懸架38均可與其相應(yīng)的臂32一體地形成。臂32和懸架38構(gòu)成頭懸架。頭懸架和磁頭構(gòu)成頭懸架組件。
如圖2所示，每個磁頭40都具有形狀基本為直立方體的滑動器42和在該滑動器上的用于記錄和再現(xiàn)的頭部44。磁頭固定在設(shè)置于懸架38的遠(yuǎn)端部的平衡簧41上。通過懸架38的彈性將指向磁盤16表面的頭荷重L施加到每個磁頭40上。
如圖1所示，托架組件22具有從軸承部分26沿與臂32相反的方向延伸出的支承框架45。此支承框架支承著構(gòu)成VCM 24的一部分的音圈47。支承框架45由合成樹脂一體地模制在音圈47的外周上。音圈47位于一對固定在殼體12上的軛狀件49之間。音圈47與軛狀件和固定在其中一個軛狀件上的磁體(未示出)一起構(gòu)成VCM 24。如果對音圈47通電，則托架組件22繞軸承部分26搖擺，并且磁頭40移動并定位到磁盤16的期望的軌道上。
斜坡加載機(jī)構(gòu)25包括斜坡件51和突出部53。該斜坡件51設(shè)置在殼體12的底壁上并位于磁盤16的外側(cè)。突出部53從每個懸架38的遠(yuǎn)端延伸出。當(dāng)托架組件22搖擺到磁盤16外側(cè)的退避位置時，每個突出部53與形成在斜坡件51上的斜面相接合。此后，通過斜面的傾斜將突出部53引向上，從而卸載磁頭40。
下面將詳細(xì)說明磁頭40的構(gòu)造。圖3是示出磁頭的滑動器的透視圖，圖4是滑動器的俯視圖，圖5是滑動器的側(cè)視圖。
如圖3至5所示，磁頭40具有形狀基本為直立方體的滑動器42?；瑒悠骶哂忻鎸χ疟P16的表面的矩形的盤對向面或空氣支承表面(ABS表面)43。盤對向面43的縱向方向在下文將被稱為第一方向X，而垂直于該方向的橫向方向稱為第二方向Y。此外，表面43具有沿第一方向X延伸的中心軸線D。
磁頭40構(gòu)造成浮動型的頭?；瑒悠?2通過磁盤16旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在盤表面和盤對向面43之間的空氣流C而浮動。當(dāng)HDD運行時，滑動器42的盤對向面43總是在與盤表面有一定間隙的情況下面對該盤表面。空氣流C的方向與磁盤16的旋轉(zhuǎn)方向B一致?；瑒悠?2相對于磁盤16的表面定位，從而盤對向面43的第一方向X與空氣流C的方向基本一致。
盤對向面43上突出地設(shè)置有面對盤表面的基本為矩形的先導(dǎo)臺階部50。該先導(dǎo)臺階部形成為覆蓋盤對向面43的相對于空氣流C的方向的上游區(qū)域的2/5左右。盤對向面43上突出地設(shè)置有一對側(cè)臺階部46。所述側(cè)臺階部沿盤對向面43的長邊延伸，并且以一定間隔相互面對。側(cè)臺階部46從先導(dǎo)臺階部50向滑動器42的下游端延伸。臺階部50和46作為一個整體基本形成U形，該U形在上游側(cè)封閉且朝下游側(cè)開口。
為了維持磁頭40的傾斜角/俯仰角，在先導(dǎo)臺階部50上突出地設(shè)置通過空氣膜支承滑動器42的先導(dǎo)墊52。先導(dǎo)墊52沿第二方向Y在該先導(dǎo)墊52的整個橫向區(qū)域連續(xù)延伸，并形成在從滑動器42的流入端偏離向下游側(cè)的位置。先導(dǎo)墊52位于滑動器42的相對于空氣流C的流入側(cè)。在每個側(cè)臺階部46上都形成有連接到先導(dǎo)墊52的側(cè)墊48。先導(dǎo)墊52和側(cè)墊48基本相互齊平并且面對磁盤表面。
如圖3和4所示，先導(dǎo)墊52形成有多個例如三個凹部70a、70b和70c以便產(chǎn)生正壓。凹部70a、70b和70c開口朝向磁盤表面，并位于先導(dǎo)墊52的空氣流C流入側(cè)的隆起部分—即流入端邊緣52a—內(nèi)。在先導(dǎo)墊52的流入端側(cè)，流入端邊緣52a限定了沿橫向方向從先導(dǎo)墊的一端延伸到另一端的端部邊緣。
所述三個凹部70a、70b和70c相對于盤對向面43的中心軸線D對稱地設(shè)置。凹部70a構(gòu)成位于中心軸線D上的中央凹部，而凹部70b和70c分別構(gòu)成設(shè)置在中心軸線D的兩側(cè)并且位于先導(dǎo)墊52的橫向兩端的側(cè)凹部。凹部70b和70c位于關(guān)于第一方向X彼此相同/齊平的位置，并相對于凹部70a向流出端側(cè)錯開(stagger)。
在本實施例中，凹部70a、70b和70c均為矩形。位于中央的凹部70a由一對側(cè)邊緣71a和一個底邊緣71b限定。側(cè)邊緣71a分別從先導(dǎo)墊52的流入端邊緣52a基本與第一方向X平行地延伸。底邊緣71b基本與第二方向Y平行地延伸，并連接側(cè)邊緣的相應(yīng)延伸端部。因此，凹部70a具有兩個與流入端邊緣52a連接的開口端邊緣71c。凹部70a用于當(dāng)空氣流C沖擊側(cè)邊緣71a和底邊緣71b時產(chǎn)生正壓。
類似地，凹部70b和70c均由一對側(cè)邊緣和一個底邊緣限定。所述側(cè)邊緣分別從先導(dǎo)墊52的流入端邊緣52a基本與第一方向X平行地延伸。底邊緣基本與第二方向Y平行地延伸，并連接側(cè)邊緣的相應(yīng)延伸端部。凹部70b和70c均具有兩個與流入端邊緣52a連接的開口端邊緣。
凹部70a、70b和70c各自的沿第一方向X的長度L2、L3和L4約為盤對向面43的沿第一方向X的長度L1的5％或更多。凹部70b和70c各自的長度L3和L4設(shè)定為彼此相等，而凹部70a的長度L2稍大于長度L3和L4。
凹部70a、70b和70c各自的沿第二方向Y的寬度W2、W3和W4約為盤對向面43的沿第二方向Y的寬度W1的5％或更多。凹部70b和70c各自的寬度W3和W4設(shè)定為彼此相等，而凹部70a的寬度W2大于寬度W3和W4，例如約為2.5倍。
每個側(cè)墊48內(nèi)均形成有凹部56。該凹部56開口朝向磁盤表面以及盤對向表面43的流入端。該凹部為矩形并且由一對側(cè)邊緣和一個底邊緣限定。所述側(cè)邊緣基本與第一方向X平行地延伸。該底邊緣基本與第二方向Y平行地延伸并連接側(cè)邊緣的相應(yīng)延伸端。
如圖3至5所示，在盤對向面43的基本位于中央的部分形成有負(fù)壓腔54。該負(fù)壓腔是由該對側(cè)臺階部46和該先導(dǎo)臺階部50限定的凹部。負(fù)壓腔54形成于先導(dǎo)臺階部50的相對于空氣流C方向的下游側(cè)并開口朝向下游側(cè)。負(fù)壓腔54設(shè)計成在HDD內(nèi)可實現(xiàn)的每個偏航角處都能在盤對向面43的中心部產(chǎn)生負(fù)壓。
滑動器42具有基本為矩形的尾部臺階部60，該尾部臺階部在盤對向面43的相對于空氣流C方向的下游側(cè)的端部上突出。該尾部臺階部位于負(fù)壓腔54的下游側(cè)，并基本處在盤對向面43的相對于其橫向方向的中央位置。尾部臺階部60上突出地設(shè)置有尾部墊66，該尾部墊面對磁盤表面。
磁頭40的頭部44具有用于在磁盤16上記錄和再現(xiàn)信息的記錄元件和再現(xiàn)元件。所述記錄和再現(xiàn)元件埋置在滑動器42的相對于空氣流C的方向的下游端部中。這些元件具有形成在尾部墊66內(nèi)的讀/寫縫隙64。
如圖2中所示，以此方式構(gòu)成的磁頭40以傾斜姿態(tài)浮動，從而使頭部44的讀/寫縫隙64最接近磁盤表面。
根據(jù)以此方式構(gòu)造的HDD和頭懸架組件，磁頭40通過磁盤16旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在盤表面和盤對向面43之間的空氣流C而浮動。當(dāng)HDD運行時，滑動器42的盤對向面43總是在與盤表面有一定間隙的情況下面對該盤表面。根據(jù)以上述方式構(gòu)造的磁頭40，位于盤對向面43的中央部內(nèi)的負(fù)壓腔54可穩(wěn)定地產(chǎn)生負(fù)壓。先導(dǎo)墊52內(nèi)的凹部70a、70b和70c可產(chǎn)生正壓，從而抑制滑動器42滾轉(zhuǎn)。即使滑動器相對于磁盤的偏航角變動，仍可抑制滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角的變動從而提高穩(wěn)定性和可靠性。
針對與根據(jù)本實施例的滑動器相類似的三個滑動器(示例A和B以及比較示例)來模擬浮動滾轉(zhuǎn)角的變動。在示例A中，如圖6A所示，先導(dǎo)墊52具有凹部70a、70b和70c。在示例B中，如圖6B所示，先導(dǎo)墊52僅具有兩個凹部70b和70c。在比較示例中，如圖6C所示，先導(dǎo)墊無凹部。這三個滑動器的先導(dǎo)墊面積相同，僅在凹部的存在方面存有差別。
對示例A和B以及比較示例中滑動器的從磁盤內(nèi)周到磁盤外周的整個區(qū)域的相應(yīng)浮動滾轉(zhuǎn)角進(jìn)行模擬。如圖7所示，模擬結(jié)果是示例A和B的滑動器的在各個周位置的浮動滾轉(zhuǎn)角的平均值(絕對值)遠(yuǎn)低于比較示例。具體地，示例A的滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角平均值比比較示例小70％左右。
對示例A和B中滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角變動的減小進(jìn)行分析。首先，在圓周速度和偏航角相互獨立地改變的情況模擬浮動滾轉(zhuǎn)角。如圖8所示，在示例A和B以及比較示例的滑動器中的任何一個內(nèi)，當(dāng)圓周速度從盤的外周處的3.5m/s降到盤的內(nèi)周處的1.9m/s時，依賴于圓周速度的改變的浮動滾轉(zhuǎn)角向負(fù)的方向傾斜。
但是，如圖9所示，如果偏航角從盤的外周處的-4度變?yōu)閮?nèi)周處的18度，則在比較示例中滾轉(zhuǎn)角向負(fù)的方向傾斜；而在示例A和B中，與滾轉(zhuǎn)角隨圓周速度的改變而變動時的情況相反，滾轉(zhuǎn)角向正的方向傾斜或沿抵消負(fù)傾斜的方向傾斜。因此，如圖10所示，與比較示例中的滑動器相比，示例A和B中的滑動器可減小與周向位置的改變(圓周速度改變和偏航角改變)相伴的浮動滾轉(zhuǎn)角變動。
下面將說明用于減小與周向位置的改變相伴的浮動滾轉(zhuǎn)角變動的機(jī)構(gòu)。在限制滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角變動方面，先導(dǎo)墊的與空氣流C相對的邊(流入端邊緣)越長，則浮動滾轉(zhuǎn)角的調(diào)節(jié)靈活性就越高。因此，在示例A和B的滑動器中，通過在先導(dǎo)墊上設(shè)置凹部70a、70b和70c來增加接收空氣流C的邊的長度和數(shù)量，如表1所示。
表1

此外，先導(dǎo)墊內(nèi)的凹部越深或長度L越大，先導(dǎo)墊的邊(流入端邊緣)就越長，而且可更有效地抑制浮動滾轉(zhuǎn)角變動。如圖11A、11B和11C所示，制備三種先導(dǎo)墊的面積相同但凹部70a、70b和70c的長度L不同的滑動器。對這些滑動器以及比較示例的滑動器在各周向位置處的浮動滾轉(zhuǎn)角變動進(jìn)行模擬。在圖11A、11B和11C所示的三個滑動器中，凹部的長度L分別占盤對向面(滑動器)的長度L1的5％、13％和15％。如圖12所示，每個凹部的長度L都是在盤對向面的第一方向X上從先導(dǎo)墊52的流入端邊緣52a到凹部的底邊緣的最短長度，而每個凹部的寬度W都是在與盤對向面的第二方向Y平行的方向上的寬度。
如圖13所示，隨著每個凹部的長度L與盤對向面的長度L1的比率的增加，在各周向位置處的滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值減小?？梢钥闯?，特別地，如果長度比率超過5％則平均值大大減小。相反地，如果比率超過13％，則浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值傾向于增加。因此，根據(jù)先導(dǎo)墊的尺寸，先導(dǎo)墊上各凹部的長度優(yōu)選為盤對向面的長度的5％或更大，更優(yōu)選為5％到13％。
對示例A和比較示例的滑動器的壓力分布進(jìn)行檢查。在示例A的滑動器中，由先導(dǎo)墊部產(chǎn)生的正壓的分布基本上為三角形，該三角形的斜邊朝向盤的內(nèi)周向和外周向。因此，先導(dǎo)墊可平衡地接納偏轉(zhuǎn)的空氣流，從而抑制浮動滾轉(zhuǎn)角變動。
上述的減小浮動滾轉(zhuǎn)角的效果適用于較小的滑動器。圖14A和14B示出用于進(jìn)行尺寸比較的皮米滑動器和佩托滑動器(pemto-slider)。表2示出皮米滑動器、佩托滑動器和飛米滑動器各自的長度和寬度。
表2

圖15示出皮米滑動器和佩托滑動器在盤的內(nèi)周、中間區(qū)域和外周處的浮動滾轉(zhuǎn)角。圖16示出皮米滑動器和佩托滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角的絕對值的平均值。從這些附圖中可見，比皮米滑動器窄的佩托滑動器的浮動滾轉(zhuǎn)角變動比較大。因此，與比目前為主流的皮米滑動器窄30％的、寬度為0.7mm的佩托滑動器和飛米滑動器相比，本實施例的滑動器的構(gòu)型特別有效地減小了浮動滾轉(zhuǎn)角變動。例如，本實施例可應(yīng)用于長度為1.250mm或更小且寬度為0.7mm或更小的佩托滑動器和飛米滑動器。
如上所述，根據(jù)本實施例，在滑動器的先導(dǎo)墊的流入端側(cè)設(shè)置多個凹部，從而不會損失負(fù)壓面積。因此，可減小當(dāng)滑動器從旋轉(zhuǎn)的盤的內(nèi)周向外周移動時浮動滾轉(zhuǎn)角的變動。因此，所獲得的頭、頭懸架組件和HDD具有改進(jìn)的穩(wěn)定性和可靠性。盡管已經(jīng)說明了本發(fā)明的特定實施例，但是這些實施例僅作為示例而不是用于限制本發(fā)明的范圍。實際上，此處所說明的新穎的方法和系統(tǒng)可通過多種其它形式實現(xiàn)；此外，在不脫離本發(fā)明的精神的情況下，可對此處所述的方法和系統(tǒng)進(jìn)行各種省略、替代和改變。所附的權(quán)利要求及其等效方案覆蓋了這些落入本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)的形式或修改。
在上述實施例中，先導(dǎo)墊的凹部設(shè)置在盤對向面的中心軸線上以及中心軸線的兩側(cè)。但是，如圖17所示的另一個實施例，可省略位于中心軸線上的凹部。在此情況下，可在中心軸線的一側(cè)設(shè)置多個或者例如兩個凹部70a和70b，而在另一側(cè)設(shè)置另兩個凹部70c和70d。在圖17所示的實施例中，其它構(gòu)型與前述實施例相同。因此，使用相同的標(biāo)號來指示兩個實施例的相同部分，并省略對那些部分的詳細(xì)說明?？傊诙嵤├商峁┡c第一實施例相同的功能或效果。
此外，凹部并不局限于矩形，而可替代為各種其它形狀，例如三角形、多邊形、圓形和橢圓形。優(yōu)選地，在此情況下，每個凹部的開口端應(yīng)具有兩個與先導(dǎo)墊的流入端邊緣連接的開口端邊緣。此外，本發(fā)明并不局限于皮米滑動器、佩托滑動器和飛米滑動器，而是還可應(yīng)用于任何其它的尺寸較大的滑動器。
權(quán)利要求
1.一種頭，該頭包括滑動器，該滑動器具有與可旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的表面相對的對向面，并通過所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在該記錄介質(zhì)表面和該對向面之間的空氣流而浮動；以及設(shè)置在該滑動器上的頭部，該頭部向所述記錄介質(zhì)記錄信息并再現(xiàn)所述記錄介質(zhì)上的信息，其特征在于該滑動器的對向面具有沿所述空氣流的方向延伸的縱向方向和垂直于該縱向方向的橫向方向，該滑動器具有形成在該對向面內(nèi)并用于產(chǎn)生負(fù)壓的負(fù)壓腔、從該對向面突出并且位于該負(fù)壓腔的相對于所述空氣流的上游側(cè)的先導(dǎo)臺階部、以及設(shè)置在該先導(dǎo)臺階部上并且面對所述記錄介質(zhì)的先導(dǎo)墊；該先導(dǎo)墊具有流入端邊緣和多個凹部，該流入端邊緣位于所述空氣流的上游側(cè)并在所述先導(dǎo)臺階部的所述橫向方向的全長范圍內(nèi)延伸，所述凹部分別在該流入端邊緣開口并從該流入端邊緣沿所述縱向方向延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭，其特征在于，所述盤對向面具有沿所述縱向方向延伸的中心軸線，所述凹部包括位于該中心軸線上的中央凹部以及在該中心軸線的兩側(cè)均設(shè)置至少一個的側(cè)凹部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭，其特征在于，所述側(cè)凹部位于關(guān)于所述縱向方向彼此齊平的位置，并相對于所述中央凹部向所述空氣流的下游側(cè)錯開。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的頭，其特征在于，所述中央凹部在所述橫向方向上的寬度大于每個側(cè)凹部在所述橫向方向上的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭，其特征在于，所述盤對向面具有沿所述縱向方向延伸的中心軸線；所述凹部包括側(cè)凹部，在該中心軸線的兩側(cè)均設(shè)有至少一個側(cè)凹部。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的頭，其特征在于，所述凹部相對于所述中心軸線對稱地設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭，其特征在于，所述凹部中的每一個沿所述縱向方向的長度均為所述對向面在縱向方向上的長度的5％或更大。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的頭，其特征在于，所述凹部中的每一個沿所述橫向方向的長度均為所述對向面在橫向方向的長度的5％或更大。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的頭，其特征在于，所述凹部中的每一個的形式均為矩形，該矩形由從所述先導(dǎo)墊的所述流入端邊緣沿所述縱向方向延伸的一對側(cè)邊緣和沿所述橫向方向延伸的底邊緣限定。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的頭，其特征在于，所述滑動器沿所述縱向方向的長度在1.25mm以內(nèi)、沿所述橫向方向的長度在0.7mm以內(nèi)。
11.一種用在盤裝置中的頭懸架組件，該盤裝置包括盤形記錄介質(zhì)和支承該記錄介質(zhì)并使該記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部分，該頭懸架組件包括頭，該頭具有滑動器，該滑動器具有與所述記錄介質(zhì)的表面相對的對向面，并通過所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在該記錄介質(zhì)表面和該對向面之間的空氣流而浮動；該頭還具有設(shè)置在該滑動器上的頭部，該頭部向所述記錄介質(zhì)記錄信息并再現(xiàn)所述記錄介質(zhì)上的信息；以及頭懸架，該頭懸架支承該頭以便該頭相對于所述記錄介質(zhì)移動，并向該頭施加朝向所述記錄介質(zhì)表面的頭荷重，其特征在于該滑動器的對向面具有沿所述空氣流的方向延伸的縱向方向和垂直于該縱向方向的橫向方向，該滑動器具有形成在該對向面內(nèi)并用于產(chǎn)生負(fù)壓的負(fù)壓腔、從該對向面突出并且位于該負(fù)壓腔的相對于所述空氣流的上游側(cè)的先導(dǎo)臺階部、以及設(shè)置在該先導(dǎo)臺階部上并且面對所述記錄介質(zhì)的先導(dǎo)墊，以及該先導(dǎo)墊具有流入端邊緣和多個凹部，該流入端邊緣位于所述空氣流的上游側(cè)并在所述先導(dǎo)臺階部的所述橫向方向的全長范圍內(nèi)延伸，所述凹部分別在該流入端邊緣開口并從該流入端邊緣沿所述縱向方向延伸。
12.一種盤裝置，該盤裝置包括盤形記錄介質(zhì)；支承該記錄介質(zhì)并使該記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部分；頭，該頭具有滑動器，該滑動器具有與所述記錄介質(zhì)的表面相對的對向面，并通過所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生在該記錄介質(zhì)表面和該對向面之間的空氣流而浮動；該頭還具有設(shè)置在該滑動器上的頭部，該頭部向所述記錄介質(zhì)記錄信息并再現(xiàn)所述記錄介質(zhì)上的信息；以及頭懸架，該頭懸架支承該頭以便該頭相對于所述記錄介質(zhì)移動，并向該頭施加朝向所述記錄介質(zhì)表面的頭荷重，其特征在于該滑動器的對向面具有沿所述空氣流的方向延伸的縱向方向和垂直于該縱向方向的橫向方向，該滑動器具有形成在該對向面內(nèi)并用于產(chǎn)生負(fù)壓的負(fù)壓腔、從該對向面突出并且位于該負(fù)壓腔的相對于所述空氣流的上游側(cè)的先導(dǎo)臺階部、以及設(shè)置在該先導(dǎo)臺階部上并且面對所述記錄介質(zhì)的先導(dǎo)墊，以及該先導(dǎo)墊具有流入端邊緣和多個凹部，該流入端邊緣位于所述空氣流的上游側(cè)并在所述先導(dǎo)臺階部的所述橫向方向的全長范圍內(nèi)延伸，所述凹部分別在該流入端邊緣開口并從該流入端邊緣沿所述縱向方向延伸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種頭(40)的滑動器(42)，該滑動器具有形成于對向面(43)內(nèi)并且用于產(chǎn)生負(fù)壓的負(fù)壓腔(43)、從該對向面突出并且位于該負(fù)壓腔的相對于所述空氣流的上游側(cè)的先導(dǎo)臺階部(50)、以及設(shè)置在該先導(dǎo)臺階部上并面對所述記錄介質(zhì)的先導(dǎo)墊(52)。該先導(dǎo)墊具有流入端邊緣(52a)和多個凹部(70a、70b、70c)，該流入端邊緣位于所述空氣流的上游側(cè)并在該先導(dǎo)臺階部的橫向方向的全長范圍內(nèi)延伸，所述凹部分別在該流入端邊緣開口并從該流入端邊緣沿縱向延伸。
文檔編號G11B21/21GK1851809SQ200610074468
公開日2006年10月25日 申請日期2006年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月22日
發(fā)明者羽生光伸 申請人:株式會社東芝