專利名稱：光拾取器和跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到光拾取器，更詳細(xì)地說，就是關(guān)于在一種具有兩個(gè)信息面(即，與聚焦元件對(duì)面的表面較近的O層和與所述表面的距離相比O層更遠(yuǎn)一 些的一層)的雙面(dual layer)結(jié)構(gòu)光盤中，能夠提高一層(layer l)記錄性能的 光拾取器和跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的檢測(cè)方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中主要通過改變電容、電阻等方式，或者利用磁束的方向儲(chǔ)存 信息，這些方式稱之為電磁信息儲(chǔ)存方式，現(xiàn)在隨著信息儲(chǔ)存量的增大，現(xiàn) 在逐漸轉(zhuǎn)變到利用信息儲(chǔ)存媒體的光透率、反射率、相位、偏光等差異進(jìn)行 讀寫的光學(xué)方式。光盤等光學(xué)信息儲(chǔ)存媒體采用在光盤上生成光束波長(zhǎng)大小的凹槽，根據(jù) 凹槽的有無記錄下"1"或"0"這樣的數(shù)字信號(hào)的方式進(jìn)行信息儲(chǔ)存，然后 利用光速對(duì)其進(jìn)行讀取。在注入所述光學(xué)信息的儲(chǔ)存媒體中，光盤讀寫所使 用的光的波長(zhǎng)越短，信息儲(chǔ)存密度就會(huì)增加，從而增大信息的儲(chǔ)存容量。在DVD 出現(xiàn)以后，能夠在光盤表面以下不同深度的地方形成兩個(gè)信息面以記錄信息， 這就是所謂的雙面(duallayer)光盤，這種光盤使得儲(chǔ)存容量又提高了一倍。圖la和圖lb是表示利用兩種方式所制作出的兩種雙面光盤的記錄層結(jié)構(gòu) 的示意圖。圖la是表示利用層壓方式制作的雙面DVD光盤各層結(jié)構(gòu)的示意圖，圖lb 是表示反向堆疊(inverted stack)方式制作的雙面DVD光盤各層結(jié)構(gòu)的示意圖。如圖la所示，利用層壓方式制作的雙面DVD光盤其一層(layer l)和0層 (layer O)的形狀相互間沒有什么差異，圖lb所示的光盤其一層和0層上所形成 反射層104與染料層105的凹槽方向正好相反。
光拾取器為了要在光盤(光學(xué)記錄媒體)中記錄信息或者要讀取信息，通常 利用光電二極管形成光源，然后將其射出的光進(jìn)行聚光并照射在光盤上，然 后從所述光被光盤反射之后的感光結(jié)果中解讀儲(chǔ)存光盤上的信息，然后又調(diào) 節(jié)光拾取器在光盤上的照射位置，從而實(shí)現(xiàn)了調(diào)節(jié)在光盤磁軌上聚光光源位 置的跟蹤伺服。一般在由于記錄的光拾取器進(jìn)行跟蹤時(shí)主要采用物鏡移動(dòng)特性較好的改進(jìn)過的推挽式(DPP， Differential Push-Pull，差動(dòng)推挽式)。DPP方法釆用了被光柵衍射的主光(0次光束)和離主光最近的被衍射的 一對(duì)輔助光(第一輔助光，±1次光束)。這時(shí)照射到光盤上的一對(duì)第一輔助光 相對(duì)各個(gè)主光的相位差為180° 。以光檢測(cè)元件對(duì)所述主光和一對(duì)第一輔助光照射到光盤中之后的反射結(jié) 果的檢測(cè)為基礎(chǔ)，獲得對(duì)所述主光和輔助光是否根據(jù)磁軌照射到所述光盤進(jìn) 行判斷的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)(TES)，然后以此為基礎(chǔ)調(diào)整跟蹤伺服，將光調(diào)節(jié)照射 到磁軌的正確位置上。圖2a和圖2b是表示在光盤的磁軌上照射主光和一對(duì)第一輔助光的例子。如圖2a實(shí)施例所示，在通過通常層壓方式形成的光盤中，為了獲取跟蹤 錯(cuò)誤信號(hào)(TES)， 一對(duì)第一輔助光通常照射的位置相對(duì)照射主光的磁軌成對(duì)稱 狀態(tài)。在所述實(shí)施例中，主光204照射在光拾取器所在的磁軌凹槽201中，一 對(duì)第一輔助光205照射在所述凹槽兩邊的岸臺(tái)202上。如圖2b實(shí)施例顯示了針對(duì)利用反向堆疊方式制作的光盤一層為了獲取跟 蹤錯(cuò)誤信號(hào)，照射主光和一對(duì)第一輔助光的位置。所述一對(duì)第一輔助光205中 的其中一個(gè)由于光盤的運(yùn)動(dòng)方向203的影響，它照射在主光204照射位置的后 面，主光照射形成的凹槽記錄標(biāo)記206會(huì)對(duì)照射在所述后行位置上的輔助光產(chǎn) 生影響。在大部分光盤中，凹槽的寬度和形狀使得凹槽記錄標(biāo)記對(duì)于后行輔助光 的影響微乎其微，生成的記錄標(biāo)記對(duì)于所述輔助光幾乎沒有影響。但是，在 采用反向堆疊方式制作成的光盤中，其制作方式上，由主光生成的凹槽記錄 標(biāo)記會(huì)對(duì)位于岸臺(tái)的輔助光產(chǎn)生影響，改變?cè)谇蟮糜糜诟櫵欧牟罘滞仆?(DPP)值中所要求的子推挽式(SPP)信號(hào)平衡。 圖3a和圖3b是表示在執(zhí)行用于進(jìn)行跟蹤伺服的推挽式中所要求的差分推 挽(DPP)值在記錄開始前后的變化。圖3a顯示了通過層壓方式制作的光盤一層(layer l)開始記錄前后的主推挽 式(MPP)信號(hào)、子推挽式(SPP)信號(hào)以及從所述MPP信號(hào)和SPP信號(hào)中獲得的 差分推挽(DPP)信號(hào)的變化情況。在記錄開始前后，所述各個(gè)信號(hào)平衡沒有太 大的改變，穩(wěn)定地維持并獲取跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)，然后執(zhí)行跟蹤伺服。圖3b顯示了通過反向堆疊方式制作的光盤一層開始記錄前后的MPP信 號(hào)、SPP信號(hào)以及DPP信號(hào)的變化。如所述圖2b所示，由于凹槽的記錄標(biāo)記 引起了信號(hào)的熱化，使得由一對(duì)第一輔助光獲得的SPP信號(hào)值發(fā)生急劇變化， 因此在這種情況下就很難改變DPP信號(hào)的平衡，很難使跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)值保持 穩(wěn)定。如上所述，在通過反向堆疊方式制作的光盤中，當(dāng)對(duì)一層進(jìn)行記錄時(shí)， 凹槽的記錄標(biāo)記被照射到相鄰的岸臺(tái)上，這對(duì)后行的第一輔助光產(chǎn)生了影響， 因此不能實(shí)現(xiàn)跟蹤伺服。發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種將輔助 光照射到與被記錄凹槽不相鄰的地方的光拾取器，從而使得在對(duì)雙面光盤進(jìn) 行信號(hào)記錄過程中，輔助光不會(huì)受到記錄標(biāo)記的影響，能夠利用推挽式進(jìn)行 穩(wěn)定的跟蹤伺服。本發(fā)明的另一個(gè)目的是一種基于針對(duì)雙面光盤的光拾取器，能夠使輔助 光不受記錄標(biāo)記的影響，能夠利用推挽式實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定跟蹤伺服的方法。本發(fā)明為了解決所述問題而研發(fā)的光拾取器包含以下組件 產(chǎn)生光束的光源；將從所述光源中入射來的光分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的光束分離器；將所述光束分離器所分離出的所述主光和兩個(gè)以上輔助光調(diào)整為平行光的準(zhǔn)直透鏡；將所述準(zhǔn)直透鏡調(diào)整為平行光的主光和兩個(gè)以上的輔助光聚焦到光盤特
定位置上的聚焦元件；用于對(duì)所述聚焦元件進(jìn)行聚焦的光束在被光盤反射之后的結(jié)果進(jìn)行檢測(cè) 的光檢測(cè)元件。所述光盤具有兩個(gè)信息面，分別是距離與聚焦元件相對(duì)的表面較近的0層 和距離所述表面比所述O層更遠(yuǎn)一些的一層?；卺槍?duì)所述光盤一層的光拾取 器，所述光檢測(cè)元件用于對(duì)照射到與所述光盤被主光照射的凹槽不相鄰的岸 臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。在本發(fā)明中，所述光盤利用反向堆疊方式制作而成。在本發(fā)明中，針對(duì)所述光盤一層的光拾取器就是在光盤上記錄信息的光 拾取器。在本發(fā)明中，所述光檢測(cè)元件基于針對(duì)所述光盤一層的光拾取器，用于 對(duì)照射到距離所述光盤上由主光照射而成的凹槽一個(gè)半磁軌的岸臺(tái)的輔助光 進(jìn)行檢測(cè)。在本發(fā)明中，所述光檢測(cè)元件基于針對(duì)所述光盤o層的光拾取器，用于對(duì) 照射到與所述光盤上由主光照射而成的凹槽相鄰岸臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。本發(fā)明的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法包含以下步驟 將從光源中射出的光束分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的步驟； 對(duì)所述主光和兩個(gè)以上輔助光照射到光盤上的結(jié)果進(jìn)行感光的步驟； 從所述感光結(jié)果中檢測(cè)出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的步驟。所述感光步驟是對(duì)輔助光照射結(jié)果進(jìn)行感光，詳細(xì)地說就是對(duì)距離光盤 上被主光照射的凹槽相隔一個(gè)半磁軌的岸臺(tái)上照射的兩個(gè)以上輔助光的照射 結(jié)果進(jìn)行感光。在本發(fā)明中，所述跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法就是基于對(duì)雙層(即，與聚焦 元件對(duì)面的表面較近的O層和與所述表面的距離相比O層更遠(yuǎn)一些的一層)光 盤的一層進(jìn)行讀寫的光拾取器，對(duì)跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)。由于本發(fā)明采用了以上的技術(shù)方案，在用于執(zhí)行跟蹤伺服的推挽式中利 用了輔助光的感光結(jié)果，由于輔助光不受主光的凹槽記錄標(biāo)記影響，因此能 夠更穩(wěn)定地進(jìn)行跟蹤伺服，而且能提高一層的記錄性能。


圖la和圖lb是表示利用兩種方式所制作出的兩種雙面光盤的記錄層結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖2a和圖2b是表示在光盤的磁軌上照射主光和一對(duì)第一輔助光的例子。 圖3a和圖3b是表示差分推挽(DPP)值在記錄開始前后的變化。 圖4是表示本發(fā)明光拾取器實(shí)施例的示意圖。
圖5a和圖5b是表示根據(jù)本發(fā)明光拾取器實(shí)施例，光拾取器對(duì)雙面光盤 一層進(jìn)行照射的形態(tài)示意圖。
圖6a和圖6b是表示根據(jù)本發(fā)明光拾取器實(shí)施例，光拾取器對(duì)雙面光盤一 層進(jìn)行照射的形態(tài)示意圖。
附圖主要部分符號(hào)說明如下101、104:反射層102、 105:染料層103:光的入射方向201:凹槽202:岸臺(tái)203:光盤的運(yùn)動(dòng)方向204:主光205:輔助光206:凹槽的記錄標(biāo)記400:光的路徑401:光源402:光束分離器403:準(zhǔn)直透鏡404:聚焦元件405:光盤406:光檢測(cè)元件501、601:凹槽502、 602:岸臺(tái)503、603:光盤的運(yùn)動(dòng)方向504、 604:主光505:-1輔助光506: +1輔助光507:記錄的凹槽605:-1輔助光606: +1輔助光607:-2輔助光608: +2輔助光609:-3輔助光610: +3輔助光
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的理想化實(shí)施例進(jìn)行相信說明。下述各個(gè)附圖中 的構(gòu)成要素均賦予了參照符號(hào)，同一構(gòu)成要素在不同的附圖中可能采用相同 的符號(hào)。下文中還省略了對(duì)一些不會(huì)對(duì)本發(fā)明的要旨理解產(chǎn)生影響的眾所周 知的功能和結(jié)構(gòu)的詳細(xì)說明。圖4是表示本發(fā)明光拾取器實(shí)施例的示意圖。如圖4的實(shí)施例所示，光拾取器包含以下組件用于產(chǎn)生光束的光源401; 將從所述光源中入射來的光分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的光束分離器402; 將所述光束分離器所分離出的所述主光和兩個(gè)以上輔助光調(diào)整為平行光的準(zhǔn) 直透鏡403;將所述準(zhǔn)直透鏡調(diào)整為平行光的主光和兩個(gè)以上的輔助光聚焦到 光盤特定位置上的聚焦元件404;用于對(duì)所述聚焦元件進(jìn)行聚焦的光束在被光盤反射之后的結(jié)果進(jìn)行檢測(cè)的光檢測(cè)元件406。所述光盤具有兩個(gè)信息面，分別是距離與聚焦元件相對(duì)的表面較近的o層和距離所述表面比所述O層更遠(yuǎn)一些的一層。當(dāng)所述光盤是采用反向堆疊方式 制成的情況下，本發(fā)明所研制的光拾取器和跟蹤伺服方法更能發(fā)揮其效用。在該實(shí)施例中，光束分離器402將從所述光源中入射來的光束分離成主光 和兩個(gè)以上的輔助光；準(zhǔn)直透鏡403用于將所述主光和輔助光調(diào)整為平行光， 以使在所述光束分離器被折射的主光和輔助光能夠被下面將要提到的聚焦元 件404聚焦到光盤上的一個(gè)點(diǎn)上。在該實(shí)施例中，聚焦元件404用于將從光源中射出的光束聚光在光盤的信 息面上，然后在光盤上記錄數(shù)據(jù)或者解讀數(shù)據(jù)。所述聚焦元件通常與光拾取 器中的聚焦元件一樣包含了物鏡。在該實(shí)施例中，光檢測(cè)元件406用于對(duì)被所述聚焦元件聚光在光盤上的光 束的反射結(jié)果進(jìn)行檢測(cè)。所述光檢測(cè)元件對(duì)所述光盤反射的光束進(jìn)行檢測(cè)， 并將其轉(zhuǎn)換成電流信號(hào)，然后從所述轉(zhuǎn)換的結(jié)果中解讀記錄在所述光盤中的 數(shù)據(jù)，在檢測(cè)狀態(tài)中，還能獲取用于進(jìn)行聚焦或跟蹤伺服的錯(cuò)誤信號(hào)。所述 光檢測(cè)元件由用于感光的光電二極管構(gòu)成。圖5a和圖5b是表示根據(jù)本發(fā)明光拾取器實(shí)施例，光拾取器對(duì)雙面光盤 一層進(jìn)行照射的形態(tài)示意圖。圖5a是表示一對(duì)第一輔助光對(duì)與被主光記錄過的凹槽不相鄰的岸臺(tái)進(jìn)行
照射的形態(tài)示意圖，圖5b是表示光檢測(cè)元件對(duì)被光盤反射的所述第一輔助光 和主光進(jìn)行檢測(cè)的結(jié)果示意圖。如圖5a所示，被所述主光504照射的凹槽501利用光盤的運(yùn)動(dòng)方向503 來完成記錄工作。兩條第一輔助光由于存在偏移，因此針對(duì)光盤的運(yùn)動(dòng)方向 503，照射在主光之前的輔助光稱為-1輔助光505，照射在主光之后的輔助光 稱為+ 1輔助光506，所述士l輔助光都照射在與主光不相鄰的岸臺(tái)502上。在圖5a中，所述士1輔助光505， 506所照射的岸臺(tái)距離被主光進(jìn)行記錄 的凹槽相隔一個(gè)半磁軌。因此，照射在主光504之后的+1輔助光506幾乎不 會(huì)受到被主光記錄的凹槽507影響，因此也就不會(huì)由于信號(hào)熱化而導(dǎo)致子推挽 式(SPP)信號(hào)平衡的不穩(wěn)定。由于所述士l輔助光照射在距離所述主光照射凹槽一個(gè)半磁軌的岸臺(tái)上， 它與主光存在著180°的相位差，因此就能獲得利用推挽式(DPP)方法所產(chǎn)生 的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)(TES)，并由于不會(huì)因信號(hào)熱化而導(dǎo)致子推挽式(SPP)信號(hào)平衡 的不穩(wěn)定，所以能夠使跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)保持穩(wěn)定并執(zhí)行跟蹤伺服。圖5b是表示光檢測(cè)元件對(duì)被光盤反射的所述第一輔助光和主光進(jìn)行檢測(cè) 的結(jié)果示意圖。所述光檢測(cè)元件包含了能夠分別對(duì)主光和土l輔助光進(jìn)行感光 的光電二極管。對(duì)所述主光進(jìn)行感光的主光電二極管511被劃分成4各部分，對(duì)所述士l 輔助光進(jìn)行感光的土l子光電二極管512、 513分別被劃分成2部分。所述主 光電二極管和土l子光電二極管的各個(gè)部分所輸出的信號(hào)分別為A、 B、 C、 D、 El、 E2、 Fl、 F2，從所述輸出信號(hào)中可以得出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)。主推挽式(MPP)信號(hào)二(A+D)-(B+C)-1子推挽式(SPP)信號(hào)二(E1-E2)+ 1子推挽式(SPP)信號(hào)二(F1-F2)DPP跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)^A+D)-(B+C)-kKEl+Fl)-(E2+F2"圖6a和圖6b是表示根據(jù)本發(fā)明光拾取器實(shí)施例，光拾取器對(duì)雙面光盤一 層進(jìn)行照射的形態(tài)示意圖。圖6a是表示兩個(gè)以上的輔助光在被主光記錄的凹槽兩側(cè)對(duì)稱位置上進(jìn)行 照射的形態(tài)示意圖，圖6b是表示光檢測(cè)元件對(duì)被光盤反射的所述主光和輔助 光進(jìn)行檢測(cè)的結(jié)果示意圖。如圖6a所示，被所述主光604照射的凹槽601利用光盤的運(yùn)動(dòng)方向603 完成記錄工作。這里所說的兩個(gè)以上輔助光總共有三對(duì)，這三對(duì)輔助光按照距離主光的 遠(yuǎn)近進(jìn)行區(qū)分，照射在距離被主光照射的凹槽601相隔半個(gè)磁軌的岸臺(tái)602上 的輔助光稱為士1輔助光605、 606，照射在距離被主光照射的凹槽601相隔一 個(gè)磁軌的岸臺(tái)上的輔助光稱為士2輔助光607、 608，照射在距離被主光照射的 凹槽601相隔一個(gè)磁軌的岸臺(tái)上的輔助光稱為士3輔助光609、 610，在各對(duì)輔 助光中，針對(duì)光盤的運(yùn)動(dòng)方向603，照射在主光前面的輔助光分別稱為-1、 -2、 -3輔助光605、 607、 609，照射在主光之后的輔助光分別成為+ 1 、 +2、 +3輔 助光606、 608、 610。在所述輔助光中，±2輔助光與主光的相位差不是180° ，因此在利用推 挽式求得跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的過程中不被采用。所述±1輔助光605， 606正好照射在與主光照射的凹槽相鄰的岸臺(tái)上， 這個(gè)位置是光拾取器對(duì)利用層壓方式制成的雙面光盤或利用反向堆疊方式制 成的雙面光盤的O層進(jìn)行讀寫時(shí)，用于執(zhí)行跟蹤伺服的輔助光所照射的位置， 所述士l輔助光與主光具有180°的相位差。所述±3輔助光609， 610照射在距離被主光照射的凹槽601相隔一個(gè)磁 軌的岸臺(tái)上，它與圖5a的士l輔助光505， 506所照射的位置相同，所述±3 輔助光與主光具有180。的相位差。所述±3輔助光609， 610所照射的位置與主光記錄的凹槽有一個(gè)半磁軌 的距離。因此，照射在主光604之后的+3輔助光610幾乎不會(huì)受到被主光記 錄的凹槽影響，因此也就不會(huì)由于信號(hào)熱化而導(dǎo)致子推挽式(SPP)信號(hào)平衡的 不穩(wěn)定。圖6b是表示光檢測(cè)元件對(duì)被光盤反射的主光604、 ±1輔助光605， 606 和土3輔助光609， 610進(jìn)行檢測(cè)的結(jié)果示意圖。所述光檢測(cè)元件包含了能夠 對(duì)主光、土1輔助光、土3輔助光分別進(jìn)行感光的光電二極管。對(duì)所述主光進(jìn)行感光的主光電二極管611被劃分成4各部分，對(duì)所述士l 輔助光進(jìn)行感光的士l子光電二極管612、 613以及對(duì)所述士3輔助光進(jìn)行感光 的±3子光電二極管614、 615分別被劃分成2部分。所述主光電二極管、±1 子光電二極管、士3子光電二極管的各個(gè)部分所輸出的信號(hào)分別稱為A、 B、 C、 D、 El、 E2、 Fl、 F2、 Gl、 G2、 Hl、 H2，從所述輸出信號(hào)中能夠求得跟蹤錯(cuò) 誤信號(hào)，其過程如下。首先，對(duì)0層進(jìn)行讀寫的光拾取器從所述主光604和土1輔助光605、 606 的感光結(jié)果中得出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)。主推挽式(MPP)信號(hào)二(A+D)-(B+C)-1子推挽式(SPP)信號(hào)二(E1-E2)+ 1子推挽式(SPP)信號(hào)-(F1-F2)DPP跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)—A+D)-(B+C)-kl {(E1+F1)-(E2+F2)}對(duì) 一層進(jìn)行讀寫的光拾取器從所述主光604和土3輔助光609、 610的感 光結(jié)果中得出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)。由于所述士3輔助光不會(huì)受到主光記錄的凹槽記 錄標(biāo)記的影響，因此能夠獲得穩(wěn)定的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)。主推挽式(MPP)信號(hào)=(A+D)-(B+C)-3子推挽式(SPP)信號(hào)-(G1-G2)+3子推挽式(SPP)信號(hào)二(H1-H2)DPP跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)^A+D)-(B+C)-k2((Gl+Hl)-(G2+H2"所述±3輔助光與最接近主光的被衍射、折射的土l輔助光相比，其光量 較少，所述光檢測(cè)元件中所使用的對(duì)士3輔助光進(jìn)行感光的光電二極管具有較 高的感光度。如上所述，根據(jù)信息的不同，改變光檢測(cè)元件所感光的輔助光可以采用以下方法在光拾取器對(duì)一層進(jìn)行讀寫時(shí)，調(diào)整光束分離器，使輔助光不照射到與主光照射的凹槽相鄰的岸臺(tái)上；在照射光的過程中，根據(jù)不同的信息 面，調(diào)整與主光最接近的輔助光的照射位置，或者只考慮對(duì)照射到特定位置 上的輔助光進(jìn)行感光的光檢測(cè)元件的檢測(cè)結(jié)果；在感光過程中，根據(jù)不同的 信息面，對(duì)照射到特定位置的輔助光有選擇性地進(jìn)行感光。 本發(fā)明地跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法包含以下步驟 將從光源中射出的光束分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的步驟；對(duì)所述主光和兩個(gè)以上輔助光照射到光盤上的結(jié)果進(jìn)行感光的步驟；
從所述感光結(jié)果中檢測(cè)出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的步驟。在所述跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法的步驟中，除所述感光階段以外，其他的 步驟與通常光拾取器中的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)和跟蹤伺服方法所用的步驟沒有 什么大的區(qū)別。所述感光步驟是對(duì)輔助光照射的結(jié)果進(jìn)行感光，更詳細(xì)地說 就是對(duì)距離光盤上被主光照射的凹槽相隔一個(gè)半磁軌的岸臺(tái)上照射的兩個(gè)以 上輔助光的照射結(jié)果進(jìn)行感光。所述感光步驟所說的是對(duì)與主光照射的凹槽不相鄰的岸臺(tái)進(jìn)行照射的輔 助光的反射光進(jìn)行感光，這與所述圖5a 、圖5b和圖6a 、圖6b中所說明的 沒有大的區(qū)別。此外，包含所述感光階段的本發(fā)明跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法是基于對(duì)雙層 (即，與聚焦元件對(duì)面的表面較近的0層和與所述表面的距離相比0層更遠(yuǎn)一 些的一層)光盤的一層進(jìn)行讀寫的光拾取器執(zhí)行的。通過上述的說明，本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員完全可以在不偏離本發(fā)明技術(shù)思 想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。因此，本發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局 限于說明書的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利范圍來確定其技術(shù)性范圍。
權(quán)利要求
1. 一種光拾取器，其特征在于它包含以下組件產(chǎn)生光束的光源；將從所述光源中入射來的光分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的光束分離器；將所述光束分離器所分離出的所述主光和兩個(gè)以上輔助光調(diào)整為平行光的準(zhǔn)直透鏡；將所述準(zhǔn)直透鏡調(diào)整為平行光的主光和兩個(gè)以上的輔助光聚焦到光盤特定位置上的聚焦元件；用于對(duì)所述聚焦元件進(jìn)行聚焦的光束在被光盤反射之后的結(jié)果進(jìn)行檢測(cè)的光檢測(cè)元；所述光盤具有兩個(gè)信息面，分別是距離與聚焦元件相對(duì)的表面較近的0層和距離所述表面比所述0層更遠(yuǎn)一些的一層；基于所述光盤一層，所述光檢測(cè)元件用于對(duì)照射到與所述光盤被主光照射的凹槽不相鄰的岸臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。
2、 如權(quán)利要求1所述的光拾取器，其特征在于所述光盤是利用反向堆 疊方式制作而成的。
3、 如權(quán)利要求1所述的光拾取器，其特征在于針對(duì)所述光盤一層的光 拾取器就是在光盤上記錄信息的光拾取器。
4、 如權(quán)利要求1所述的光拾取器，其特征在于基于所述光盤一層，所 述光檢測(cè)元件用于對(duì)照射到距離所述光盤上由主光照射而成的凹槽一個(gè)半磁 軌的岸臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。
5、 如權(quán)利要求1所述的光拾取器，其特征在于所述光檢測(cè)元件基于針 對(duì)所述光盤0層的光拾取器，用于對(duì)照射到與所述光盤上由主光照射而成的凹 槽相鄰岸臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。
6、 一種跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于它包含以下步驟將從光源中射出的光束分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的步驟；對(duì)所述主光和兩個(gè)以上輔助光照射到光盤上的結(jié)果進(jìn)行感光的步驟； 從所述感光結(jié)果中檢測(cè)出跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的步驟。所述感光步驟是對(duì)輔助光照 射后的反射結(jié)果進(jìn)行感光，詳細(xì)地說就是對(duì)距離光盤上被主光照射的凹槽相 隔一個(gè)半磁軌的岸臺(tái)上照射的兩個(gè)以上輔助光的照射結(jié)果進(jìn)行感光。
7、如權(quán)利要求6所述的跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于所述跟蹤錯(cuò)誤 信號(hào)檢測(cè)方法就是基于對(duì)雙層光盤的一層進(jìn)行讀寫的光拾取器，對(duì)跟蹤錯(cuò)誤信號(hào) 進(jìn)行檢測(cè)；所述雙層是指與聚焦元件對(duì)面的表面較近的0層和與所述表面的距 離相比0層更遠(yuǎn)一些的一層。
全文摘要
本發(fā)明涉及光拾取器和跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)檢測(cè)方法。光拾取器包含光源；將入射來的光分離成主光和兩個(gè)以上輔助光的光束分離器；將分離出的主光和兩個(gè)以上輔助光調(diào)整為平行光的準(zhǔn)直透鏡；將光聚焦到光盤特定位置上的聚焦元件；進(jìn)行檢測(cè)的光檢測(cè)元件；光盤具有兩個(gè)信息面，分別是距離與聚焦元件相對(duì)的表面較近的0層和距離所述表面比0層更遠(yuǎn)一些的一層；基于光盤一層，光檢測(cè)元件用于對(duì)照射到與所述光盤被主光照射的凹槽不相鄰的岸臺(tái)的輔助光進(jìn)行檢測(cè)。跟蹤錯(cuò)誤信號(hào)的檢測(cè)方法用于執(zhí)行跟蹤伺服的推挽式中利用了輔助光的感光結(jié)果，由于輔助光不受主光的凹槽記錄標(biāo)記影響，因此能夠更穩(wěn)定地進(jìn)行跟蹤伺服工作，而且能提高一層的記錄性能。
文檔編號(hào)G11B7/0037GK101211575SQ20061014877
公開日2008年7月2日 申請(qǐng)日期2006年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月30日
發(fā)明者金永尚, 金玄俊 申請(qǐng)人:上海樂金廣電電子有限公司