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      光頭致動(dòng)器的制作方法

      文檔序號(hào):6776409閱讀:257來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:光頭致動(dòng)器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及的是,使用于以物鏡使激光會(huì)聚于光盤記錄面上、從而 讀取記錄在光盤上的信息、或?qū)⑿畔⒂涗浻诠獗P上的光盤裝置等的光頭 致動(dòng)器(optical pick-up actuator)。
      背景技術(shù)
      近年來(lái),隨著DVD等的普及,光盤裝置對(duì)應(yīng)高密度記錄、讀取,光 盤的旋轉(zhuǎn)速度不斷地高速化以及記錄坑點(diǎn)不斷地縮小化。伴隨于此,用 于一邊對(duì)旋轉(zhuǎn)的光盤的微小偏移進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整、 一邊使透過(guò)物鏡的激光 會(huì)聚到光盤上的光頭,也必須對(duì)應(yīng)髙頻驅(qū)動(dòng)。另外,要求光盤裝置的小 型化及薄型化。為了滿足這種要求,也要求川于使光照射于光盤上的物 鏡驅(qū)動(dòng)用的光頭致動(dòng)器的小型化及薄型化。在現(xiàn)有技術(shù)下的光頭致動(dòng)器中,專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了通過(guò)使聚焦線 圈與傾斜線圈在高度方向上重疊配置,來(lái)謀求該光頭致動(dòng)器小型化的光 頭致動(dòng)器。專利文獻(xiàn)l:日本公開(kāi)公報(bào)、特開(kāi)2004-234832號(hào)(圖7) 發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的課題但是,在專利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的光頭致動(dòng)器中,由于使聚焦線圈與傾 斜線圈在高度方向上重疊配置,因此,與使該兩種線圈個(gè)別獨(dú)立配置的 情況相比較,雖然能夠抑制水平方向的尺寸,但不能夠抑制高度方向的 尺寸,存在著不能夠謀求光頭致動(dòng)器的可動(dòng)部薄型化的問(wèn)題。本發(fā)明是基于上述情況而進(jìn)行的,其目的在于提供一種,能夠抑制 可動(dòng)部的水平方向尺寸,同時(shí),能夠謀求該可動(dòng)部薄型化的光頭致動(dòng)器。
      解決課題的手段為了解決上述課題,本發(fā)明的光頭致動(dòng)器,設(shè)有具有用于使激光 會(huì)聚在光盤記錄面上的物鏡的可動(dòng)部,配置在可動(dòng)部上、使該可動(dòng)部在 光盤記錄面的方向上驅(qū)動(dòng)的聚焦線圈,以及配置在可動(dòng)部上、使該可動(dòng) 部相對(duì)于光盤記錄面傾斜的傾斜線圏;其中,聚焦線圈與傾斜線圈構(gòu)成 空芯線圈,在該空芯線圈中,這些線圈的任意一方配置在內(nèi)側(cè),余下的 另一方配置在上述一方的外側(cè)。在這樣構(gòu)成的情況下,由于將配置于可動(dòng)部上的空芯線圈的聚焦線 圈及傾斜線圈中的任意一方配置在內(nèi)側(cè),余下的另一方配置在上述一方 的外側(cè),因此,與使兩種線圈個(gè)別獨(dú)立配置的情況相比較,能夠抑制可 動(dòng)部整休的水平方向尺寸,同時(shí),能夠縮小高度方向的尺寸。其結(jié)果是, 能夠謀求可動(dòng)部的薄型化。另外,伴隨著光頭致動(dòng)器的薄型化,光頭致 動(dòng)器被輕量化而且靈敏度提高。另外,其他發(fā)明的光頭致動(dòng)器,將上述發(fā)明中的聚焦線圈及傾斜線 圈屮的至少任意一種線圈,由表而上形成有保護(hù)膜的熱熔接金屬線構(gòu)成。發(fā)明的效果如果采用本發(fā)明,能夠抑制光頭致動(dòng)器的可動(dòng)部的水平方向尺寸, 同時(shí),能夠謀求該可動(dòng)部的薄型化。


      圖l是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)涉及的光頭致動(dòng)器的構(gòu)成的立體圖。 圖2是表示圖1的光頭致動(dòng)器中可動(dòng)部的構(gòu)成的分解立體圖。 圖3是使用于本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)涉及的光頭致動(dòng)器上的空芯線圈的 構(gòu)成的示意圖,(a)是表示在內(nèi)側(cè)配置傾斜線圈、在其外側(cè)配置了聚焦線圈時(shí)的立體圖,(b)是表示在內(nèi)側(cè)配置聚焦線圈、在其外側(cè)配置了傾斜線 圈時(shí)的立體圖。圖4是圖1的光頭致動(dòng)器的側(cè)視圖,(a)是其左側(cè)視圖,(b)是其右側(cè) 視圖。圖5是圖1的光頭致動(dòng)器的俯視圖。
      圖6是圖1的光頭致動(dòng)器的主視圖。圖7是使用于圖1的光頭致動(dòng)器上的各線圈的動(dòng)作說(shuō)明圖,(a)是表 示聚焦線圈的動(dòng)作的概略圖,(b)是表示傾斜線圈的動(dòng)作的概略圖,(c)是 表示循軌線圈的動(dòng)作的概略圖。符號(hào)說(shuō)明10…光頭致動(dòng)器11…可動(dòng)部12…透鏡架19…物鏡25…空芯線圈(對(duì)應(yīng)于被空芯巻繞的線圈)26(26a、 26b)…聚焦線圈27(27a、 27b)…傾斜線圈28(28a、 28b、 28c、 28d)…循菊L線圈具休實(shí)施方式以下,根據(jù)圖1 圖7對(duì)本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)涉及的光頭致動(dòng)器10進(jìn) 行說(shuō)明。圖1是表示光頭致動(dòng)器IO的構(gòu)成的立體圖。圖2是表不光頭致 動(dòng)器10屮的可動(dòng)部11的構(gòu)成的分解立休圖。圖3是光頭致動(dòng)器10中的 空芯線圈25的構(gòu)成的示意圖,其中,(a)是表示在內(nèi)側(cè)配置傾斜線圈27、 在外側(cè)配置聚焦線圈26時(shí)的立體圖,(b)是表示在內(nèi)側(cè)配置聚焦線圈26、 在外側(cè)配置傾斜線圈27時(shí)的立體圖。圖4是圖1的光頭致動(dòng)器10的側(cè) 視圖,其中,(a)是其左側(cè)視圖,(b)是其右側(cè)視圖。另外,圖5是圖1的 光頭致動(dòng)器10的俯視圖,圖6是圖1的光頭致動(dòng)器10的主視圖。圖7 是使用于圖1的光頭致動(dòng)器10上的各線圈26、 27、 28的動(dòng)作說(shuō)明圖, 其中,(a)是表示聚焦線圈26的動(dòng)作的概略圖,(b)是表示傾斜線圈27的 動(dòng)作的概略圖,(c)是表示循軌線圈28的動(dòng)作的概略圖。另外,在以下的 說(shuō)明中,所謂的一端側(cè),是指圖1以及圖2中的左斜上方,另一端側(cè)是 指右斜下方。另外,將圖1及圖2中的左斜下方稱為左側(cè)、右斜上方稱 為右側(cè)。另外,在圖4中,所謂的一端側(cè)是指左側(cè),另一端側(cè)是指右側(cè)。
      另外,圖l表示未注入導(dǎo)電性熔接材料34、 38的情況。另外,在以下的 附圖中,省略了各線圈26、 27、 28的終端線的圖示。如圖1所示,光頭致動(dòng)器10,主要由透鏡架12,進(jìn)行透鏡架12的 姿態(tài)控制的聚焦線圈26a、 26b、傾斜線圈27a、 27b以及循軌線圈28a 28d,連接電路板30,支持透鏡架12的支持電路板37,以及成為六根支 持部件的支持金屬線35構(gòu)成,其屮,六根支持部件將透鏡架12支持為 能夠相對(duì)于該支持電路板37進(jìn)行移動(dòng)。而且,將由透鏡架12、上述三 種線圈26、 27、 28、以及連接電路板30構(gòu)成的部分作為可動(dòng)部11。光 盤裝置10是,以后述的物鏡19使光會(huì)聚在光盤(未圖示)記錄面上,對(duì) 光盤進(jìn)行信息的記錄或再生的裝置。透鏡架12是,在光頭致動(dòng)器10中被磁驅(qū)動(dòng)的部分,由支架部12a 和設(shè)置在支架部左右的收容部12b、 12c構(gòu)成。支架部12a設(shè)置在透鏡架 12的屮央部上,且支架部的中央設(shè)有用于使光會(huì)聚在光盤記錄面上的物 鏡19。另外,支架部12a屮的另一端側(cè)的兩側(cè)部附近以及一端側(cè)的中央 部附近,共設(shè)有三個(gè)用于防止光盤碰撞的銷嵌合用孔,該銷嵌合用孔內(nèi) 分別螺入用于防止光盤碰撞的銷21。因此,在光盤與物鏡19接近時(shí), 能夠避免直接接觸的情況。收容部12b、 12c設(shè)置在支架部12a的左右。 而且,該收容部12b、 12c,由從支架部12a的左側(cè)及右側(cè)側(cè)面的上方在 相對(duì)于該側(cè)面垂直的方向上延伸的、呈框狀的框部件12d、 12e,從支架 部12a的左側(cè)及右側(cè)側(cè)面的下方在相對(duì)于該側(cè)面垂直的方向上延伸的平 板狀底面12f、 12g,以及連接框部件12d、 12e的端面和底面12f、 12g 的端面而被設(shè)置的側(cè)面12h、 12i構(gòu)成。另外,收容部12b、 12c中的框 部件12d、 12e、底面12f、 12g、以及側(cè)面12h、 12i,成形為整體(參照 圖2)。如圖1所示,在收容部12b、 12c的內(nèi)部配置有空芯線圈25a、 25b。 空芯線圈25a、 25b(以下,在概括稱呼空芯線圈25a、 25b的情況下,稱 為空芯線圈25),由使透鏡架12在聚焦方向(圖6中箭頭所示的X-X方 向)上移動(dòng)的聚焦線圈26a、 26b(以下,在概括稱呼聚焦線圈26a、 26b的 情況下,稱為聚焦線圈26),和使透鏡架12在傾斜方向(圖6中箭頭所 示的Z-Z方向)上傾斜的傾斜線圈27a、 27b(以下,在概括稱呼傾斜線圈
      27a、 27b的情況下,稱為傾斜線圈27)兩種線圈構(gòu)成。在本實(shí)施形態(tài)的空芯線圈25中,內(nèi)側(cè)配置有傾斜線圈27、外側(cè)配 置有聚焦線圈26(參照?qǐng)D3(a))。另外,由于在與聚焦線圈26相比較的情 況下,傾斜線圈27并不需要具有高靈敏度,因此傾斜線圈27的匝數(shù)少 于聚焦線圈26的匝數(shù)。在本實(shí)施形態(tài)中,作為聚焦線圈26及傾斜線圈 27,采用表面上形成有保護(hù)膜的熱熔接金屬線。但是,也可以僅將聚焦 線圈26及傾斜線圈27中的任意一方由熱熔接金屬線構(gòu)成。另外,也可 以在空芯線圈25的內(nèi)側(cè)配置聚焦線圈26,在外側(cè)配置傾斜線圈27(參照 圖3(b))。構(gòu)成配置在收容部12b、12c上的空芯線圈25a、25b的聚焦線圈26a、 26b,由一根導(dǎo)線構(gòu)成。另外,傾斜線圈27a、 27b也由一根導(dǎo)線構(gòu)成。 也就是說(shuō),在聚焦線圈26的內(nèi)側(cè)配置有傾斜線圈27的狀態(tài)下,配置于 收容部12b、 12c的聚焦線圈26a、聚焦線圈26b以及傾斜線圈27a、傾 斜線圈27b,是分別連接的。例如,如圖7(a)、圖7(b)所示,如果將從 物鏡19光軸的k方觀察的情況下的向順時(shí)針?lè)较?箭頭所示的Dl方向) 的巻繞作為正向巻繞、將向逆時(shí)針?lè)较?箭頭所示的D2方向)的巻繞 作為反向巻繞,則左右的聚焦線圈26a、 26b均為正向巻繞,且互相在相 同方向上巻繞。另外,如圖7(b)所示,左側(cè)的傾斜線圈27a為正向巻繞, 右側(cè)的傾斜線圈27b為反向巻繞,左右的傾斜線圈27a、 27b互相在相反 方向上巻繞。另外,空芯線圈25a、 25b,均配置為其巻軸方向與物鏡19 的光軸在相同方向上??招揪€圈25a、 25b的另一端側(cè)的側(cè)面上,分別配置有使透鏡架12 在循軌方向(圖6中箭頭所示的Y-Y方向)上移動(dòng)的、巻繞成繞線狀的兩 個(gè)循軌線圈28a、 28d,空芯線圈25a、 25b的一端側(cè)的側(cè)面上,也分別配 置有巻繞成繞線狀的兩個(gè)循軌線圈28b、 28c。四個(gè)循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d(以下,在概括稱呼循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d的情況下, 稱為循軌線圈28),由連續(xù)的一根導(dǎo)線構(gòu)成。如圖7(c)所示,循軌線圈 28a、 28c,分別從正面觀察時(shí)(從另一端側(cè)向一端側(cè)觀察光頭致動(dòng)器10) 為正向巻繞(箭頭所示的Dl方向),循軌線圈28b、 28d,分別從正面觀察 時(shí)為反向巻繞(箭頭所示的D2方向)。
      另外,從循軌線圈28a、 28d引出線圈的終端線,循軌線圈28如上 所述,按照從循軌線圈28a、依次經(jīng)過(guò)循軌線圈28b、 28c、最后循軌線 圈28d的順序被巻繞。另外,循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d的巻軸,分 別與圖1中A-A軸為同軸方向。另外,在滿足上述巻軸方向的規(guī)則性的 情況下,循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d的巻繞順序并沒(méi)有特別的限定。在收容部12b的左側(cè)及收容部12c的右側(cè)上,分別安裝有連接電路 板30a、 30b(以下,在概括稱呼連接電路板30a、 30b的情況下,稱為連 接電路板30)。連接電路板30a、 30b對(duì)收容部12b、 12c的安裝是,通過(guò) 利用粘結(jié)劑將連接電路板30a、 30b內(nèi)側(cè)的平面30c固定在收容部12b、 12c的側(cè)面12h、 12i的外側(cè)而進(jìn)行的(參照?qǐng)D2)。連接電路板30a、 30b, 如圖1、圖2及圖4所示,是呈略長(zhǎng)方形的平面形狀的電路板。另外, 與相當(dāng)于其電路板面的平面部30d呈垂直方向的端面中,在圖1及圖4 的位于另一端側(cè)的端面30e上,設(shè)有被切成半圓狀的共計(jì)三個(gè)的側(cè)面端 子31。而且,兩個(gè)迮接電路板30a、 30b呈相同形狀,左右對(duì)稱地配置 于收容部12a、 12b的側(cè)而12h、 12i的外側(cè)。各側(cè)面端子31,通過(guò)在l"l 移狀的內(nèi)周面整體上形成導(dǎo)電J H的焊接點(diǎn),成為導(dǎo)電端子。另外,如圖1及圖4所示,三個(gè)平面固定部32,從上方至下方排列 設(shè)置在迮接電路板30的平面音l5 30d的大致中央上,并分別通過(guò)焯盤33, 可導(dǎo)電地迮接在各側(cè)而端子31上。分別從聚焦線圈26a、 26b和傾斜線圈27a、 27b引出的終端線、以 及分別從循軌線圈28a、 28d引出的終端線,通過(guò)導(dǎo)電性熔接材料34, 可導(dǎo)電地連接在分別安裝于收容部12b、 12c的側(cè)面12h、 12i上的連接 電路板30a、 30b的各側(cè)面端子31上。在本實(shí)施形態(tài)中,作為導(dǎo)電性熔 接材料34使用軟釬料。由于各個(gè)線圈的終端線與各側(cè)面端子31連接成 導(dǎo)電性熔接材料34不會(huì)從各側(cè)面端子31的凹部突出,因此,軟釬料不 會(huì)流動(dòng)到連接電路板30的平面部30d上。六根支持金屬線35,是具有導(dǎo)電性的金屬線,是彈性支持可動(dòng)部U、 并將支持電路板37及連接電路板30之間電連接的部件。另外,支持電 路板37是呈長(zhǎng)方形形狀的電路板,其左右兩端部附近,分別縱排地設(shè)置 有各三個(gè)的圓形孔37a。而且,支持金屬線35的一端,分別插通于設(shè)置
      在支持電路板37上的孔37a,并通過(guò)導(dǎo)電性熔接材料固定在支持電路板 37上。另一方面,支持金屬線35的另一端,在連接電路板30a、 30b的 左側(cè)及右側(cè)的側(cè)面上分別各固定有三根。各支持金屬線35是可彎曲的。 因此,可動(dòng)部11并不是相對(duì)于支持電路板30處于固定的位置,而是可 動(dòng)的。如上所述,支持金屬線35的另一端,分別連接在連接電路板30a、 30b的側(cè)面上。也就是說(shuō),該支持金屬線35的另一端,如圖4(a)、圖4(b) 所示,分別通過(guò)導(dǎo)電性熔接材料38,可導(dǎo)電地連接在設(shè)置于連接電路板 30a、 30b的平面部30d的平面固定部32上。由于具有這種構(gòu)成,因此 各個(gè)連接部中的導(dǎo)電性熔接材料38,在圖1中的左右方向上突出。另外, 在本實(shí)施形態(tài)中,作為導(dǎo)電性熔接材料38使用軟釬料。另外,平面固定部32,通過(guò)焊盤33能夠分別與側(cè)面端子31導(dǎo)電。 另外,在側(cè)面端子31上,可導(dǎo)電地連接有分別與支持金屬線35的長(zhǎng)度 方向垂直相交(相對(duì)于金屬線35的長(zhǎng)度方向稍微傾斜的情況也屬于垂直 相交)的聚焦線圈26、傾斜線圈27以及循軌線圈28的終端線。如上所述, 支持金屬線35,分別與聚焦線圈26的終端線,傾斜線圈27的終端線以 及循軌線圈28的終端線電連接。在本實(shí)施形態(tài)中,如圖5所示,光頭致動(dòng)器10上配置有六個(gè)磁軛 40a 40f。磁軛40a 40f中的磁軛40a、 40b由金屬板構(gòu)成。該磁軛40a 40f,從光頭致動(dòng)器10的底座起,在相對(duì)于該底座呈直角的方向上突出 而被設(shè)置。磁軛40a、 40b配置為,分別插通形成于空芯線圈25a、 25b 內(nèi)側(cè)的中空部。而且,磁軛40a、 40b與空芯線圈25a、 25b之間,橫貫 全周設(shè)有間隙。另外,磁軛40c、 40d與磁軛40e、 40f配置為,夾著透 鏡架12分別相對(duì),并且,磁軛40c、 40d、 40e、 40f配置為,形成分別 與循軌線圈28a、 28d、 28b、 28c相對(duì)的位置關(guān)系。各磁軛40c、 40d、 40e、 40f上,通過(guò)粘結(jié)劑等分別固定有永久磁鐵 42,該永久磁鐵42與循軌線圈28a、 28d、 28b、 28c相對(duì)而被固定。另 外,各永久磁鐵42配置為,與循軌線圈28a、 28d、 28b、 28c相對(duì)的一 側(cè)為N極,固定于磁軛40c、 40d、 40e、 40f的一側(cè)為S極。通過(guò)這樣配置磁軛40a、 40b與永久磁鐵42,從圖5中相對(duì)而配置
      于一端側(cè)的兩個(gè)永久磁鐵42發(fā)出的磁力線集中在磁軛40a上。而且,該 磁力線在永久磁鐵42與磁軛40a之間形成磁路。另外,從相對(duì)而配置于 另一端側(cè)的兩個(gè)永久磁鐵42發(fā)出的磁力線也同樣地集中在磁軛40b上, 而且,該磁力線也在永久磁鐵42與磁軛40b之間形成磁路。因此,這些 磁路確實(shí)地通過(guò)聚焦線圈26、傾斜線圈27以及循軌線圈28。從而,外 加于各線圈26、 27、 28上的驅(qū)動(dòng)電流起作用,透鏡架12在聚焦方向、 傾斜方向以及循軌方向上被驅(qū)動(dòng)。接下來(lái),對(duì)光頭致動(dòng)器10的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先,在光盤裝置中,在通過(guò)驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)光盤的狀態(tài)下, 通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使光頭致動(dòng)器10移動(dòng)至所希望的位置。其后,通過(guò)物鏡 19使利用光學(xué)系統(tǒng)而產(chǎn)生的激光會(huì)聚在光盤記錄面上,對(duì)光盤進(jìn)行信息 的記錄、再生等。在控制光頭致動(dòng)器10的狀態(tài)(物鏡19的姿態(tài))的情 況下,將利用光檢測(cè)器檢測(cè)出的有關(guān)光盤記錄面的傾斜的檢測(cè)結(jié)果,在 轉(zhuǎn)換部上轉(zhuǎn)換為電信號(hào),作為電信號(hào)向控制部輸出??刂撇扛鶕?jù)從轉(zhuǎn)換 部輸出的電信號(hào),通過(guò)使被控制的電流分別流向聚焦線圈26、傾斜線圈 27及循軌線圈28,調(diào)整物鏡19的方向。在使物鏡19在聚焦方向上移動(dòng)的情況下,例如圖7(a)所示,控制部 向聚焦線圈26a、 26b供給正向(圖7(a)屮箭頭所示的Dl方向)的控制電 流。該控制電流,通過(guò)支持金屬線35以及連接屯路板30被供給到聚焦 線圈26。于是,被供給到聚焦線圈26a、 26b的正向電流與從永久磁鐵 42的N極產(chǎn)生的磁力線K起作用,向互為相同方向的下方(圖7(a)中箭 頭所示的Fl方向)的力作用于聚焦線圈26a、 26b兩者上。因此,透鏡架 12相對(duì)于光盤在聚焦方向(圖6中箭頭所示的X-X方向)上移動(dòng),物鏡 19的向聚焦方向的位置被略微調(diào)整。同樣地,在使物鏡19在傾斜方向上移動(dòng)的情況下,例如圖7(b)所示, 控制部向傾斜線圈27a供給正向(圖7(b)中箭頭所示的Dl方向)的控制電 流、以及向傾斜線圈27b供給反向(圖7(b)中箭頭所示的D2方向)的控制 電流。該控制電流,通過(guò)支持金屬線35及連接電路板30被依次供給到 傾斜線圈27a、 27b上。于是,被供給于傾斜線圈27a的正向電流與從永 久磁鐵42的N極產(chǎn)生的磁力線K起作用,向下方(圖7(b)中箭頭所示
      的Fl方向)的力作用于傾斜線圈27a上。另一方面,被供給于傾斜線圈 27a的反向電流與從永久磁鐵42的N極產(chǎn)生的磁力線K起作用,向上方 (圖7(b)中箭頭所示的F2方向)的力作用于傾斜線圈27b上。這樣,傾斜 線圈27a、 27b之間,互為反方向的力起作用。從而,產(chǎn)生圖6中箭頭所 示Z方向的力矩。通過(guò)該力矩,透鏡架12相對(duì)于光盤在傾斜方向上傾斜, 物鏡19的向傾斜方向的位置被略微調(diào)整。另外,在使物鏡19在循軌方向上移動(dòng)的情況下,例如圖7(c)所示, 控制部向循軌線圈28a、 28c供給正向(圖7(c)中箭頭所示的Dl方向) 的控制電流、以及向循軌線圈28b、 28d供給反向(圖7(c)中箭頭所示的 D2方向)的控制電流。該控制電流,通過(guò)支持金屬線35以及連接電路板 30,被依次供給于循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d。于是,被供給于循軌 線圈28a、 28c的正向電流與從永久磁鐵42的N極產(chǎn)生的磁力線K起作 用,向右方向(圖7(c)中箭頭所示的F3方向)的力作用于循軌線圈28a、 28c上。另外,被供給于循軌線圈28a、 28c的反向電流與從永久磁鐵42 的N極產(chǎn)生的磁力線K起作用,向右方向(圖7(c)中箭頭所示的F3方 向)的力作用于循軌線圈28b、 28d上。這樣,在循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d之問(wèn),互為相同方向的力起作用。因此,透鏡架12相對(duì)于光 盤在循軌方向(圖6中的Y-Y方向)上移動(dòng),物鏡19的向循軌方向的位置 被略微調(diào)整。這樣,在光頭致動(dòng)器10中,能夠使透鏡架12桕對(duì)于光盤 在聚焦方向、傾斜方向以及循軌方向的三軸方向上移動(dòng),能夠?qū)ξ镧R19 的位置進(jìn)行略微調(diào)整。從而,能夠以高精度控制相對(duì)于光盤的光頭致動(dòng) 器10的狀態(tài)。在如上構(gòu)成的光頭致動(dòng)器10中,在配置于可動(dòng)部11上的空芯線圈 25中,將聚焦線圈26配置在外側(cè),將傾斜線圈27配置在內(nèi)側(cè)。這樣, 通過(guò)在一處上配置兩種線圈26、 27,與使兩種線圈26、 27個(gè)別獨(dú)立配 置的情況相比較,能夠抑制可動(dòng)部11整體的水平方向尺寸,同時(shí),能夠 縮小高度方向的尺寸。因此,能夠謀求可動(dòng)部11的薄型化。另外,伴隨 著光頭致動(dòng)器10的薄型化,光頭致動(dòng)器10被輕量化而且靈敏度提高。 另外,通過(guò)加厚聚焦線圈26與傾斜線圈27的巻繞厚度,能夠在不改變 各個(gè)線圈的規(guī)定匝數(shù)的情況下,降低空芯線圈25的高度尺寸,同時(shí),山
      于空芯線圈25的巻繞厚度增加,因此能夠得到高剛性。另外,在光頭致動(dòng)器10中,由于能夠?qū)⒕劢咕€圈26、傾斜線圈27 及循軌線圈28的終端線(未圖示),連接于成為設(shè)置在連接電路板30的 側(cè)面端子31的端面30e上,因此,用于該連接的導(dǎo)電性熔接材料34不 會(huì)從連接電路板30突出。因此,支持金屬線35與各線圈26、 27、 28終 端線用的導(dǎo)電性熔接材料34接觸的危險(xiǎn)性減少,能夠使支持金屬線35 向連接電路板30接近。因此,能夠縮小光頭致動(dòng)器10的橫向尺寸。另 外,在作為與現(xiàn)有技術(shù)相同的橫向尺寸的情況下,能夠使支持金屬線35 與連接電路板30之間的空間增大,并通過(guò)該空間的產(chǎn)生而提高光頭致動(dòng) 器10在設(shè)計(jì)上的自由度。另外,與大量使用導(dǎo)電性熔接材料38從而獲 得空間的現(xiàn)有構(gòu)造相比,導(dǎo)電性熔接材料38減少,光頭致動(dòng)器10被輕 量化而且光頭致動(dòng)器10的靈敏度提髙。進(jìn)而,由于線圈26、 27、 28的 終端線連接于連接電路板30的端面30e上,因此沒(méi)有了大的彎曲部分, 不容易斷線。另外,由于線圈26、 27、 28的終端線連接于連接電路板30的端而 30e上,因此,使川于線圈26、 27、 28的終端線的連接的導(dǎo)Hl性熔接材 料34,不會(huì)在連接電路板30的平面部30d上存在。從而,該導(dǎo)電性熔 接材料34與支持金屬線35接觸的危險(xiǎn)性大幅度地減少。由此,因接觸 導(dǎo)致發(fā)生動(dòng)作不良的情況減少,同時(shí),各線圈26、 27、 28的終端線與支 持金屬線35短路的危險(xiǎn)性減少。另外,由于在側(cè)面端子31上設(shè)有凹部, 因此能夠防止導(dǎo)電性熔接材料34流向其他部位的情況,同時(shí),線圈26、 27、 28的終端線的位置保持變得容易、固定作業(yè)被簡(jiǎn)單化。以上,對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施形態(tài)進(jìn)行了說(shuō)明,但是本發(fā)明還可以有如 下的各種變形。在上述實(shí)施形態(tài)中,將從物鏡19光軸的上方觀察時(shí)向順時(shí)針?lè)较虻?巻繞作為正向巻繞,將逆時(shí)針?lè)较虻膸喞@作為反向巻繞,但是也可以與 此相反地,將向順時(shí)針?lè)较虻膸喞@作為反向巻繞,將逆時(shí)針?lè)较虻膸喞@ 作為正向巻繞,使各線圈26a、 26b、 27a、 27b的各巻繞方向分別與上述 各實(shí)施形態(tài)的情況相反。同樣地,也可以使各線圈28a、 28b、 28c、 28d 的巻繞方法相反。另外,在滿足上述位置控制的規(guī)定的范圍內(nèi),也可以
      適當(dāng)?shù)馗淖冇谰么盆F42的N極和S極的方向及線圈26、 27、 28的巻繞 方向。另外,在上述實(shí)施形態(tài)中,透鏡架12上配置有聚焦線圈26a、 26b, 傾斜線圈27a、 27b,以及循軌線圈28a、 28b、 28c、 28d共八個(gè)線圈,但 是也可以省略循軌用的線圈,或?qū)⒕劢褂玫木€圈設(shè)置為一個(gè)。也就是說(shuō), 線圈并不限于八個(gè),可以為七個(gè)或七個(gè)以下,也可以為九個(gè)或九個(gè)以上。 另外,聚焦線圈、傾斜線圈、循軌線圈,既可以是由繞線形成的,也可 以由使線圈模式形成為薄膜的薄膜線圈形成。另外,上述實(shí)施形態(tài)涉及的光頭致動(dòng)器IO主要采用于內(nèi)部磁軛型, 但是并不限于此,例如也可以采用于僅利用永久磁鐵42的開(kāi)式磁通力的 開(kāi)式磁鐵型致動(dòng)器、或配置為以相對(duì)的兩個(gè)磁鐵夾持磁軛的對(duì)置磁鐵型 致動(dòng)器。另外,在上述實(shí)施形態(tài)中,是通過(guò)共計(jì)六根的支持金屬線35來(lái)支持 可動(dòng)部11的,但是并不限于此,也可以對(duì)應(yīng)于配置在可動(dòng)部11上的線 圈數(shù),使支持金厲線數(shù)為左右各兩根的共四根,或左右各四根的共八根。 另外,除導(dǎo)電川的支持金屬線之外,也可以追加一根或多根僅進(jìn)行支持 的支持金屬線。這樣,支持金屬線數(shù)可以是五根或五根以下,也可以是 七根或七根以上。另外,各支持金屬線35是沿著A-A軸方向水平配置 的,但是也可以配置為相對(duì)于A-A軸方向傾斜。這種情況下,必須適應(yīng) 適當(dāng)?shù)慕饘倬€35而設(shè)置孔37a。另外,在上述實(shí)施形態(tài)中,各側(cè)面端子31的剖面呈半圓形狀,但是 并不限于此,也可以為斜面型形狀、L字型形狀、〕字型形狀、V字型 形狀、半橢圓型形狀。另外,也可以適用將連接電路板30中的側(cè)面端子 31設(shè)置為一個(gè)或兩個(gè)等,將其一部分作為側(cè)面端子31的構(gòu)成。另外,在上述實(shí)施形態(tài)中,將永久磁鐵42配置為與A-A軸方向相 對(duì),但是也可以將永久磁鐵42配置在相對(duì)于A-A軸方向垂直的方向上。 這種情況下,必須對(duì)應(yīng)永久磁鐵42所形成的磁路巻繞繞線。另外,在上述實(shí)施形態(tài)中,僅在連接電路板30的端面30e上形成三 個(gè)側(cè)面端子31,但是并不限于此,例如,也可以將側(cè)面端子30分散設(shè) 置在連接電路板30的相對(duì)的兩個(gè)端面上,使端面30e上設(shè)置兩個(gè),在與
      端面30e相對(duì)的端面上設(shè)置一個(gè)。
      工業(yè)上的利用可能性
      本發(fā)明的光頭致動(dòng)器可以適用于,使透鏡等的光學(xué)系統(tǒng)動(dòng)作的所有 裝置上,特別適合利用于CD錄放機(jī)、DVD錄放機(jī)等各種音響再生裝置 或影像再生裝置上。
      權(quán)利要求
      1.一種光頭致動(dòng)器,設(shè)有具有用于使激光會(huì)聚在光盤記錄面上的物鏡的可動(dòng)部,配置在上述可動(dòng)部上、使該可動(dòng)部在上述光盤記錄面的方向上驅(qū)動(dòng)的聚焦線圈,以及配置在上述可動(dòng)部上、使該可動(dòng)部相對(duì)于上述光盤記錄面傾斜的傾斜線圈;其特征在于,所說(shuō)的聚焦線圈與所說(shuō)的傾斜線圈構(gòu)成空芯線圈,在該空芯線圈中,這些線圈的任意一方配置在內(nèi)側(cè),余下的另一方配置在上述一方的外側(cè)。
      2. 如權(quán)利要求l所述的光頭致動(dòng)器,其特征在于,所說(shuō)的聚焦線圈 及所說(shuō)的傾斜線圈中的至少任意一種線圈,由表面上形成有保護(hù)膜的熱 烙接金屬線構(gòu)成。
      全文摘要
      本發(fā)明的目的在于,抑制光頭致動(dòng)器的可動(dòng)部的水平方向尺寸,同時(shí),謀求該可動(dòng)部的薄型化;本發(fā)明的光頭致動(dòng)器,設(shè)有具有用于使激光會(huì)聚在光盤記錄面上的物鏡的可動(dòng)部(11),配置在可動(dòng)部(11)上、使該可動(dòng)部(11)在光盤記錄面的方向上驅(qū)動(dòng)的聚焦線圈(26),以及配置在可動(dòng)部(11)上、使該可動(dòng)部(11)相對(duì)于光盤記錄面傾斜的傾斜線圈(27);其中,聚焦線圈(26)與傾斜線圈(27)構(gòu)成空芯線圈(25),在該空芯線圈(25)中,聚焦線圈(26)及傾斜線圈(27)的任意一方配置在內(nèi)側(cè),任意另一方配置在外側(cè)。
      文檔編號(hào)G11B7/09GK101128871SQ200680006400
      公開(kāi)日2008年2月20日 申請(qǐng)日期2006年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月29日
      發(fā)明者島抜康夫, 松山孝一, 畑山佳之, 目黑文仁, 福岡昌和, 長(zhǎng)井佳充, 高田美季 申請(qǐng)人:勝美達(dá)集團(tuán)株式會(huì)社
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