專利名稱：光盤上的反射測量的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于在光盤上執(zhí)行反射測量的方法和設備，更具 體來說，本發(fā)明涉及把空氣與盤基板之間的界面處的反射測量用作反 射參考(即把空氣-聚碳酸酯界面用作反射參考).
背景技術：
在光學記錄領域中，存在幾種想要在規(guī)則的基礎上確定光盤的反 射的情況.例如，在制造工藝期間確定光盤的反射，以便檢驗光盤的 屬性。此外，在盤驅動器的正常操作期間確定光盤的反射，例如在識 別被插入該盤驅動器中的光盤類型的初始步驟中進行，或者在該盤驅 動器的正常操作期間進行，以像估計入射在該光盤上的功率.為了獲 得精確的結果，很重要的是所采用的方法是可再現(xiàn)的，也就是說，該 方法在不同的地點得到相同的結果(為了在制造期間進行盤評估)， 或者在不同的盤驅動器中獲得相同的結果(當在盤驅動器的正常操作 期間使用時).
為了獲得可再現(xiàn)的測量，當前存在昂貴且復雜的解決方案以用來 測量光盤的絕對反射.測量光盤的絕對反射通常涉及到在明確限定的 條件下的非常費事的過程，例如使用平行光束并且測量入射和反射光 功率。
圖l示出了這樣一種用于測量光盤l的絕對反射的設置，該光盤l
具有目標信息層3.令物鏡5在"x"方向上朝著該目標信息層3上升， 從而把匯聚光束作為點7照射在該目標信息層3上.分束器9接收反 射光束，并且向檢測器11提^^輸出信號.這樣，該檢測器能夠提供對 反射的絕對測量.然而，如上所述，這種技術的缺點在于要求關于用 于所述入射光束的功率的極為精確的知識，并且要求精確地測量反射 光束的功率的方法.該方法的缺點還在于，所述盤的任何污染都將導 致不準確的測量，
一種用于在制造期間檢驗光盤的替換技術是采用參考盤或鏡面。 圖1所示的設置被用來利用暮種費事的方法測量參考盤的絕對反射率，隨后將目標盤的反射與該絕對反射率相比較.利用該技術，圖1
的設備被操作成使得所述物鏡S在"x"方向上上升，從而使得所聚焦 的點7朝著所述信息層3移動通過該盤的深度.如困2中所示，所述
檢測器產(chǎn)生輸出信號21，其在點Xtarget處具有峰值，即對應于所述已聚
焦點7被照射在所述已知參考盤的信息層3上的時候.隨后，對于目 標盤重復相同的操作，從而從所述檢測器產(chǎn)生輸出信號23,該信號也
具有在點Xtarget附近的峰值.隨后，通過把參考盤21的反射與目標盤
23的反射進行比較來確定該目標盤的反射.
這種方法的問題在于，需要許多這種參考盤或鏡面以用于不同的 公司或工廠.此外，如下面所描述的那樣，在盤驅動器的正常操作期 間需要精確的反射測量的情況下，使用參考盤是不適當?shù)?
在盤驅動器的正常操作期間，當在該盤驅動器的初始操作或啟動 階段期間執(zhí)行盤識別處理時需要精確的反射測量.這是其中該光盤驅 動器嘗試識別被裝栽到該盤驅動器中的盤類型的時間段，以便可以相 應地配置該盤驅動器.所述配置處理典型地涉及到在各種伺服系統(tǒng)(比 如聚焦和跟蹤伺服)中設置最優(yōu)參數(shù)，或者調節(jié)激光功率，應當理解， 重要的是該操作被盡可能快地實施，這是因為用戶期望幾乎即時的光
盤重放，而不喜歡初始啟動階l!t期間的任何延遲，其中在該初始啟動
階段期間，所述盤驅動器嘗試識別光盤類型.
隨著正在引入越來越多不同類型的光盤，上述處理變得越來越重 要，舉例來說，早期的光盤驅動器只需要區(qū)分幾種不同類型的光盤，
而CD、 DVD、 +R、 -R、 +RW、陽RW、雙面盤、組合CD/DVD盤、多 層盤等等的存在意味著當前存在許多不同類型的光盤，而且這一數(shù)字 很可能會變得更高.
已經(jīng)知道從盤的信息層進行對于反射率的絕對測量，以便識別已 被裝栽到盤驅動器中的盤類型.US 2002/0159363Al是這樣一個例子， 其中與各種閾值一起使用對于反射率的絕對測量，以便對光盤類型進
行彼此區(qū)分.然而，這些系統(tǒng)具有上面提到的缺點，其中必須提供復 雜且精確的裝置來確定對于反射率的絕對測量.這些技術還會遇到由 盤污染所導致的問題.
因此，本發(fā)明的目的是提斜一種用于測量光盤的反射的改進的方 法和設備。具體來說，本發(fā)明的目的是把來自所述空氣-基板界面的反射用作其他反射測量和使用的反射參考，正如下面參照各優(yōu)選實施例 更加詳細地描述的那樣，

發(fā)明內容
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種從入射在光盤上的光束執(zhí)行反
射測量的方法，該方法包括以下步驟測量來自該光盤的空氣-基板界 面的反射；以及把來自該空氣-基板界面的所述反射用作與該盤相關的 其他反射測量的反射參考.
使用所述空氣-基板界面處的反射特性具有許多優(yōu)點，正如下面關 于各具體實施例所討論的那樣.
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，所述反射測量用來幫助識別光盤類型， 其中，所述方法包括以下步驟測量來自該光盤內的層的反射；把來 自該光盤內的該層的所述反射與來自所述空氣-基板界面的反射進行比 較；以及根據(jù)所述比較步驟和該光盤的基板的估計折射率來識別光盤 類型。
這樣做的優(yōu)點是允許基于比較步棵來確定盤的身份，從而避免了 與高度精確的絕對測量相關聯(lián)的復雜性.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述反射測量是在制造工藝期間進行 的，其中，所述方法包括以下步騍測量來自該光盤內的層的反射； 把來自該光盤內的該層的所述反射與來自所述空氣-基板界面的反射進 行比較；以及基于所述比較步稞確定該光盤是否是有效的.
同樣地，本發(fā)明的這方面的優(yōu)點在于允許基于比較步驟來確定盤 的質量，從而避免了與高度精確的絕對測量相關聯(lián)的復雜性，這一方 面還避免了對于參考盤的需要.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述反射測量是在制造工藝期間進行 的，其中，所述方法包括以下步跺測量來自參考盤的空氣-基板界面 的反射；把來自所述光盤的空氣-基板界面的反射與來自該參考盤的該 空氣-基板界面的反射進行比較；以及基于所述比較步驟確定該盤是否 是有效的。
本發(fā)明的這方面的優(yōu)點在于允許盤制造商在不使用精密設備的情 況下精確地確定盤基板的折射羋.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述反射測量用來確定入射光束的功率，其中，所述方法包括以下步驟獲取與光盤的空氣-基板界面相關 的反射系數(shù)；以及基于從該空氣-基板界面測得的反射和該空氣-基板界 面的反射系數(shù)來確定入射光束的功率。
這方面的優(yōu)點在于允許在所述激光功率上存在較大容差的條件下 很容易地估計入射功率.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述反射測量用來確定在光盤上是否有 污染，其中，所述方法包括以下步驟獲取與光盤的空氣-基板界面相 關的反射系數(shù)；測量入射光束的功率；以及基于所述入射光束的功率、 從該空氣-基板界面反射的光和該空氣-基板界面的反射系數(shù)來確定該 光盤是否已經(jīng)受到污染.
本發(fā)明的這方面允許利用所述空氣-基板界面處的反射作為參考來 容易地識別盤的污染.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種光盤驅動器設備，其包括用于 把入射光束照射到光盤上的裝塞以及用于檢測從該光盤反射的光的裝 置，其中，該光盤驅動器被適配成測量從該光盤的空氣-基板界面反射 的光，并且被適配成根據(jù)從該空氣-基板界面反射的光來控制該盤驅動 器的操作，
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種光盤，其包括表示存儲在其中 的該光盤的反射系數(shù)的參數(shù)，該參數(shù)與在空氣和該光盤的基板之間的 界面處的反射系數(shù)相關.


為了更好地理解本發(fā)明以及更清楚地表明如何實施本發(fā)明，下面 將僅以舉例的方式參照附圖，其中
圖l示出了用于測量光盤的反射率的典型系統(tǒng)；
圖2示出了在與參考盤相結合地使用時來自閨1的檢測器的輸
出；
圖3示出了在根據(jù)本發(fā)明的笫一方面確定盤的反射特性時所涉及 到的步驟；
圖4示出了在圖3的方法中使用的反射測量； 圖5示出了在根據(jù)本發(fā)訴的第二方面確定盤的反射特性時所涉及 到的步驟；圖6示出了在本發(fā)明的另一方面中使用的反射測量； 圖7示出了在根據(jù)本發(fā)明的另一方面確定光盤上的入射功率時所 涉及到的步驟；
圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的另一方面的方法.
具體實施例方式
本發(fā)明避免了與現(xiàn)有技術相關的問題，這是通過把在空氣與盤基 板之間的界面處的反射用作多種應用的反射參考.換句話說，本發(fā)明 把所述空氣-聚碳酸醋界面處的反射用作反射參考.
應當認識到，雖然下面描迷的優(yōu)選實施例提到了空氣-聚碳酸酯界 面，但是本發(fā)明同樣適用于空氣與任何盤基板(比如玻璃或其他材料) 之間的界面.
本發(fā)明的一個重要方面涉及到以下事實很容易產(chǎn)生具有完全相 同的折射率《的大量光盤基板.制造商常常使用小數(shù)點后的3或4位 數(shù)字來指定折射率"w"。此外，在這種精確度級別下制造這些基板是 極為便宜的.
所述空氣-聚碳酸酯界面的反射系數(shù)r由下式給出
其中，At是盤基板的折射率.對于其中所述基板是聚碳酸醋的典型的 CD或DVD來說，w的值接近1.6，從而給出等于5.3%的反射系數(shù)/ 。
這導致基于所估計的折射率w可以獲得大量完全相同的、精確的并且 非常便宜的反射參考.
下面將首先關于在光盤驅動器的正常搮作期間(例如在識別或區(qū) 分已被裝栽到盤驅動器中的光盤類型時)使用所述空氣-聚碳酸醋界面
的反射參考來描述本發(fā)明.
圖3示出了本發(fā)明的該方面所涉及到的步驟.如上面參照圖1所 描述的那樣，令物鏡5在"X"方向上上升，從而朝向目標光盤照射入 射光束。然而，與圖1不同，所述設備被配置成確定在所述空氣-聚碳 酸酯界面處的反射(步驟301).除了確定在該空氣-聚碳酸BI界面處 的反射之外，還確定來自目標信息層的反射(步驟303).隨后，把來 自該空氣-聚碳酸醋界面的反射用作反射參考，以便與來自該目標信息層的反射進行比較(步猓305),基于來自該空氣-聚碳酸酯界面的反 射與來自該目標信息層的反射之間的比較，推斷出該光盤的反射屬性 (步驟307)。這樣允許所述盤驅動器以快速高效的方式識別出盤類型. 如上所述，由于在所述空氣-聚碳酸酯界面處的反射是已知的，因此上 面的做法是可能的.該值被用作估計折射率(例如1.6)，以便允許確 定該盤的身份.
圖4示出了在閨3的方法中使用的反射測量。隨著令入射光束朝 向目標光盤上升，在對應于距離x-O的所述空氣-聚碳酸醋界面之間的 界面處反射了少量光.這產(chǎn)生了對應于來自該空氣-聚碳酸癍界面的反 射的第一峰值33。隨著令所述物鏡朝向目標盤的信息層進一步上升， 在對應于來自該目標信息層的反射的位置Xtarget處產(chǎn)生了第二峰值 31。應當認識到，雖然在圖4中示出的從該目標信息層反射的光量大 于從該空氣-聚碳酸醋界面反射的光量，但是不一定總是這種情況.例 如，雙層BD-R和BD-RE介質的信息層的反射一般低于其空氣-聚碳酸 酯界面反射.
隨后，在所述空氣-聚碳酸酯界面處獲得的反射與在所述目標信息 層處的反射之間的比較被用來確定光盤的反射屬性，所述反射屬性隨 后可以被用來檢測已被插入到所述盤驅動器中的光盤的類型.
換句話說，如果所述信息層的反射率"r"由下式給出
r-Pr/Pe (即在該信息層處反射的功率/發(fā)射功率) 并且如果所述空氣-基板界面的反射率"r，"由下式給出
r，-Pr，/Pe，(即在該空氣-基板界面處反射的功率/發(fā)射功率)
于是
r:r，-Pr:Pr，
這意味著可以基于從所述信息層測得的反射(Pr)、來自所述空氣-基 板界面的反射(Pr，)和對應于所述基板的估計折射率(r，)來確定來 自該信息層的反射r.
由于所述反射測量被用在比較步驟中(即一個反射測量相對于另 一個反射測量)，因此入射光束的實際強度不再是問題，從而從所述 測量處理中去除了這種復雜性.應當注意到，本發(fā)明不要求從其反射 測量來確實無疑地確定盤類型.相反，所述反射測量被用來設置依賴 于反射的參數(shù)，而不是依賴于盤類型的參數(shù)(例如增益、閾值等等).因此，本發(fā)明可以使得所述盤識別處理更快，因為其將在基于試錯法 的識別處理中提示正確的初始猜測.這意味著所述盤驅動器不需要以 很高的精度知道W的值.換句話說，本發(fā)明依賴于對應于典型的盤的 估計的w值.此外，如下面將在本申請中所討論的那樣，基于獲得更
精確的/l值，更精確的測重也是可能的.
所述峰值的位置也可以被用來幫助所述識別處理，從而所述相對 位置被用來確定盤的基板厚度.
此外，上面描述的比較方法也不容易受到光盤的污染的影響，這 是由于在所述空氣-聚碳酸酯界面處的測量和在所述信息層處的測量都 將受到相同的污染.換句話說，所述污染將往往發(fā)生在盤的表面處， 或者發(fā)生在光學拾取裝置中(例如在所述物鏡上)，這意味著在所述 空氣-聚碳酸醋界面和信息層處的反射將受到相同的污染.
應當認識到，雖然困4僅僅示出了笫一峰值33和第二峰值31，但 是還可以檢測到其他峰值.例如，在諸如具有單獨的CD和DVD信息 層的組合CD/DVD盤的多層盤中，還將存在附加的峰值.
一旦上面描述的方法已經(jīng)被用來識別光盤的類型，所述盤驅動器 就可以配置或調節(jié)該盤驅動器的設置和參數(shù)，從而可以高效地讀取該 盤上的數(shù)據(jù).此后，可以讀取該光盤上的固件，以便確認該盤已經(jīng)被 正確識別，并且在必要時或者按照需要對該盤驅動器的設置做出進一 步的改變或調節(jié)。
圖5示出了本發(fā)明的另一方面，其中所述空氣-聚碳酸酯界面被用 作反射參考以用于在制造期間測試光盤.在步猓501中，從所測試的 目標盤的空氣-聚碳酸酯界面取得反射測量.接下來，在步驟503中， 在所測試的目標盤的信息層處測量反射.因此，根據(jù)本發(fā)明的這方面， 取代把來自該目標信息層的反射與來自參考盤的類似反射進行比較， 本發(fā)明把來自所述信息層的反射與來自所述空氣-聚碳酸醋界面的反射 進行比較(步驟505).基于該,比較，測試設備可以確定來自該信息層 的反射是否處在可接受的極限內(步跺507)。如果不是，則拒絕該盤 (步驟509).如果所述比較表明來自該信息層的反射處在可接受的極 限內，則通過該盤(步猓511).除了檢查所述信息層的反射之外，所 述比較步?？梢愿话愕乇挥脕頇z驗對應于所述基板和信息層的處理 條件處在極限內，因此，如果所述反射比值落在預定接受窗口的外部，則表明存在某種缺陷，或者是所述信息層的缺陷，或者是所述基板的 缺陷.
因此，把所述空氣-聚碳酸酯界面用作反射參考避免了在制造期間 測試光盤的過程中對于單獨的麥考盤的需要.
在對于上面的實施例的一個替換實施例中，還可以與來自參考盤 的空氣-聚碳酸酯界面的反射相比較地使用來自目標盤的空氣-聚碳酸
酯界面的反射.例如，如困6中所示，來自參考盤的空氣-聚碳酸醋界 面的反射給出峰值43,將其與具有峰值41的來自目標盤的空氣-聚碳 酸醋界面的反射進行比較.按照這種方式，測試設備可以通過簡單地 比較分別來自目標盤和參考盤的空氣-聚碳酸酯界面的反射來檢查目標 盤，該實施例的優(yōu)點在于允許盤制造商在不使用精密設備的情況下精 確地確定盤基板的折射率.
此外，在測試一批光盤的過程中，盤制造商可以確定在該批盤的 空氣-聚碳酸酯界面處的反射系數(shù)I"batch，例如通過精確地比較入射功率 與反射功率。隨后可以把對應于該批次的反射系數(shù)1^她存儲在該批次 中的每張盤上，例如存儲在每張盤的群刻區(qū)(Burst Cutting Area) (BCA)或者預刻溝槽內的地址/預刻溝槽內的絕對時間(ADIP/ATIP) 中，或者公布在其他地方(例如在因特網(wǎng)上或者在網(wǎng)站上).附加地 或者替換地，如上面所提出的那樣，所述制造商可以確定并且存儲所 述層/基板比值加上所述目標盤和參考盤的空氣-基板反射的比值，
如果以這種方式知道了所述反射系數(shù)，則盤驅動器可以在不使用 參考盤的情況下利用所迷盤本身的空氣-聚碳酸癍界面作為參考來執(zhí)行 精確的反射測量.
在附圖7中示出了上面的實施例的一種應用.根據(jù)本發(fā)明的該方 面，在所述空氣-聚碳酸酯界面處的反射被用來提供對于入射在光盤上 的功率的估計。常常要求在盤驅動器的操作期間確定光束的瞬時功 率，例如，由于光盤對于讀取功率是敏感的，因此希望把所述讀取功 率保持得盡可能低，從而可以通過增加在必須拋棄盤之前所可能的讀 取操作的次數(shù)來延長光盤的使用壽命. 一般來說，通過具有受控功率 環(huán)路來確定入射功率，但是這是基于工廠設置，其可能有由于雜散光 或者中心點不精確所導致的問趙.
在步驟701中，測量來自所述空氣-聚破酸酯界面的反射。盤驅動器隨后獲取對應于該特定盤的已知的反射系數(shù)rba,ch (步驟703).如 上所述，對應于該盤的該反射系數(shù)rba她可以從存儲在該盤本身上的數(shù) 據(jù)中獲取，或者從獲得自另一來源(比如因特網(wǎng))的數(shù)據(jù)中獲取.于 是在步驟705中，該盤驅動器能夠基于從所述空氣-聚碳酸酯界面測得
的反射和對應于該盤的所述已知的反射系數(shù)"atch來確定入射功率.
換句話說，如果所述基板的反射率rbatch由下式給出 rb"ch-Pr/Pe (即在空氣-基板界面處反射的功率/發(fā)射功率)
則有
Pe=Pr/rbatCh
從上面可以看出，來自所迷空氣-聚碳酸醋界面的反射提供用于確 定入射功率的反射參考，這在激光功率上存在較大容差的情況下是有 用的.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，光盤的折射率w在制造期間被存儲在該 光盤上。如果該折射率/!可以以這種方式獲得,則其可以被用來進一 步增強如上所述的盤識別和/或入射功率測量.例如，由于所述盤識別 過程是基于w的所估計的典型值(例如"=1.6)，因此可以通過從該盤 本身讀取w的實際值來細化所迷識別處理.
因此，在所述折射率w被存儲在所述盤上的情況下，該信息可以 被用于在已經(jīng)進行了初始測量之后對盤驅動器進行微調，所述初始測 量用來如上所述地確定盤類型，即通過比較在所述空氣-聚碳酸酯界面 處的測量與所述信息層處的測重的比值.在這種實施例中，首先確定 盤的類型，這是通過比較在所述兩個點處的反射的比值并且隨后從該 盤的固件中讀取所述折射率以便允許對盤驅動器設置進行微調.
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，來自所述空氣-聚碳酸醋界面的反射可以 被用來檢測盤的表面上的污染.例如，如果所述反射系數(shù)rb"ch是已知 的(來自該盤本身或者來自另一個來源)，則該信息可以被用來檢測 該盤的污染，
參照圖8，測量來自所述空氣-聚碳酸酯界面的反射(步驟801). 隨后從盤本身或者從另一個來源獲取對應于該盤的反射系數(shù)rbatch (步 驟803).隨后，把從該空氣-聚碳酸酯界面測得的反射與所預期的反 射進行比較，即使用所述反射系數(shù)和已知的入射功率(步驟805).如 果所測得的反射與所預期的反射相同或者處在其可接受極限內，則認為該盤是完好的(步稞807).然而，如果所測得的反射與所預期的反 射不相同，則表明該盤受到了污染(步驟809).在這種情況下，可以 向用戶警告該盤受到了污染，從而可以清潔或者替換該盤.
本發(fā)明提供了一種精確的、易于再現(xiàn)的并且便宜的反射參考，并 且可以用于由盤和驅動器制造商進行的介質檢驗，其在各公司與各制 造場所之間具有優(yōu)良的可再現(xiàn)性.
應當認識到，雖然某些方法步碟描述了在所述信息層處的反射之 前測量在所述空氣-聚碳酸酯界面處的反射，但是這些測量同樣可以以 相反的順序執(zhí)行，即不僅僅是按照在優(yōu)選實施例中所指定的順序來執(zhí) 行。
應當注意到，上述實施例說明而不是限制本發(fā)明，在不背離所附 權利要求書的范圍的情況下，本領域技術人員將能夠設計許多替換實 施例。"包括" 一詞不排除未在權利要求中列出的其他元件或步碟的 存在，"一個"不排除多個，并且單一處理器或其他單元可以實現(xiàn)在 權利要求書中闡述的幾個單元的功能.權利要求書中的任何附困標記 不應被理解為限制其范圍.
權利要求
1、一種從入射在光盤上的光束執(zhí)行反射測量的方法，該方法包括以下步驟測量來自該光盤的空氣-基板界面的反射；以及把來自該空氣-基板界面的反射用作與該盤相關的其他反射測量的反射參考。
2、 如權利要求l所述的方法，還包括以下步驟 測量來自所述光盤內的層的反射；把來自該光盤內的該層的所述反射與來自所述空氣-基板界面的反 射進行比較；以及從所述比較步驟和該光盤的基板的估計折射率來識別光盤類型，
3、 如權利要求l所述的方法，還包括以下步驟 測量來自所述光盤內的層的反射；把來自該光盤內的該層的所述反射與來自所述空氣-基板界面的反 射進行比較；以及基于所述比較步驟確定該先盤是否是有效的.
4、 如權利要求3所述的方法，其中，確定所述盤是否有效的步驟 還包括以下步猓確定來自所述光盤內的所述層的反射與來自所述空 氣-基板界面的反射的比值是否處在預定接受窗口內.
5、 如權利要求l所述的方法，還包括以下步驟 測量來自參考盤的空氣-基板界面的反射；把來自所述光盤的空氣-基板界面的反射與來自該參考盤的空氣-基板界面的所述反射進行比較；以及基于所述比較步驟確定該盤是否是有效的。
6、 如權利要求l所述的方法，還包括以下步蘇 獲取與所述光盤的空氣-基板界面相關的反射系數(shù)；以及 基于從該空氣-基板界面辦得的反射和該空氣-基板界面的反射系數(shù)來確定入射光束的功率.
7、 如權利要求l所述的方法，還包括以下步驟 獲取與所述光盤的空氣-M界面相關的反射系數(shù)； 測量入射光束的功率；以及基于所述入射光束的功率、從該空氣-基板界面反射的光和該空氣-基板界面的反射系數(shù)來確定該光盤是否已經(jīng)受到污染，
8、 如權利要求6或7所述的方法，其中，所迷反射系數(shù)是從存儲 在所述光盤上的信息中獲取的.
9、 如權利要求6或7所述的方法，其中，所迷反射系數(shù)是通過因 特網(wǎng)從數(shù)據(jù)庫獲取的.
10、 一種光盤驅動器設備，其包括用于把入射光束照射到光盤上 的裝置以及用于檢測從該光盤反射的光的裝置，其中，該光盤驅動器 被適配成測量從該光盤的空氣-基板界面反射的光，并且被適配成根據(jù)從該空氣-基板界面反射的光來控制該盤驅動器的操作.
11、 如權利要求10所述的光盤驅動器，還包括用于測量從該光盤驅動器內的層反射的光的裝置；用于把從該光盤內的該層反射的光與從所述空氣-基板界面反射的光進行比較的裝置；以及用于根據(jù)來自該光盤內的該層的反射與來自該空氣-基板界面的反射之間的所述比較來識別光盤類型的裝置。
12、 如權利要求10所述的盤驅動器，還包括 用于獲取與所述盤的空氣-基板界面相關的反射系數(shù)的裝置；以及 用于根據(jù)從該空氣-基板界面反射的光和該空氣-基板界面的所述反射系數(shù)來確定入射光束的功率的裝置.
13、 如權利要求10所述的盤驅動器，還包括用于獲取與所述盤的空氣-基板界面相關的反射系數(shù)的裝置；以及 用于根據(jù)所述入射光束的功率、從該空氣-基板界面反射的光和該空氣-基板界面的所述反射系數(shù)來確定該光盤是否已經(jīng)受到污染的裝置.
14、 一種光盤，其包括表示存儲在其中的該光盤的反射系數(shù)的參 數(shù)，該參數(shù)與在空氣和該光盤的基板之間的界面處的反射系數(shù)相關.
15、 如權利要求14所述的光盤，其中，所述反射系數(shù)被存儲在所 述光盤的BCA 、 ADIP或ATIP信息中。
16、 如權利要求14或15所述的光盤，還包括包舍在其中的折射率 信息。
全文摘要
本發(fā)明利用光盤的空氣-聚碳酸酯界面作為精確的反射參考。該空氣-聚碳酸酯界面可以在生產(chǎn)光盤的過程中被使用或者在光盤驅動器的正常操作期間被使用。空氣-聚碳酸酯反射測量可以在多種應用中使用，其中包括以下過程在正常操作期間識別光盤、在使用過程中檢測光盤的污染、以及在制造期間測試光盤。
文檔編號G11B19/12GK101512324SQ200680008224
公開日2009年8月19日 申請日期2006年3月10日 優(yōu)先權日2005年3月16日
發(fā)明者J·L·巴克斯 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司