專利名稱：光學拾取器和盤驅動裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光學拾取器和盤驅動裝置。更具體地說，本發(fā)明涉及 通過將第一聚焦線圏和第二聚焦線圏以不同的取向安裝到透鏡架上， 用于獲得聚焦操作的大的推力并縮小透鏡架的厚度的技術。
背景技術：
通常，盤驅動裝置用于將信息信號記錄到諸如光盤和磁光盤等盤 狀的記錄介質上，并且再生被記錄的信息信號。盤驅動裝置包括光學 拾取器，將所述光學拾取器構造成沿著盤狀記錄介質的徑向方向移動，
并且利用激光光束照射盤狀記錄介質。
光學拾取器包括物鏡驅動裝置，物鏡驅動裝置包括固定塊和可動
塊?？蓜訅K被多個諸如金屬絲等固定到固定塊上的支承彈簧所支承。
在光學拾取器中，利用設置在可動塊上的透鏡架保持物鏡。通過 在聚焦方向上相對于固定塊移動可動塊進行聚焦調節(jié)，在所述聚焦方 向上可動塊進行移動，接近和遠離盤狀記錄介質的記錄表面。另外， 通過在跟蹤方向上相對于固定塊移動可動塊，進行跟蹤調節(jié)，其中所 述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質的徑向方向。進行聚焦調節(jié)和跟蹤 調節(jié)，使得通過物鏡入射到盤狀記錄介質上的激光光束聚焦，以便在 盤狀記錄介質上，在其記錄軌道上形成斑點。
設置在光學拾取器上的物鏡驅動裝置包括用于在聚焦方向上移動 可動塊的聚焦磁路，以及用于在跟蹤方向上移動可動塊的跟蹤磁路。 每一個磁路中都包括線圏和》茲體。在物鏡驅動裝置中，借助支承彈簧將可動塊和固定塊相互連接起 來，使得可動塊和固定塊在切線方向上相互隔開，其中，所述切線方 向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者。
當沿著盤狀記錄介質的徑向方向移動光學拾取器時，激光光束通 過在與面對固定塊的表面相對的透鏡架的表面上形成的光路開口 ，被
引導到配置在物鏡下方的立起反射鏡(rising mirror)上。激光光束 被立起反射鏡反射，通過物鏡入射到盤狀記錄介質的記錄面上。在這 種狀態(tài)下，進行聚焦調節(jié)和跟蹤調節(jié)，使得通過物鏡入射到盤狀記錄 介質上的激光光束聚焦，以便在盤狀記錄介質上，在其記錄軌道上形 成斑點。
在曰本未經審查的專利申請公開特開2007 - 102912號公報中，描 迷了相關技術的物鏡驅動裝置的例子。在這種物鏡驅動裝置中，聚焦 線圈在切線方向上安裝到保持物鏡的透鏡架的任一側。將物鏡驅動裝 置制成這樣的結構，使得在聚焦方向上由聚焦線圏和聚焦磁體產生的 推力的中心(驅動中心)與可動塊的重心或者物鏡的中心重合。
在推力的中心與可動塊的重心或者物鏡的中心重合時，進行聚焦 操作。因此，可以抑制不必要的共振，可以提高聚焦操作的可靠性。

發(fā)明內容
在上述相關技術的物鏡驅動裝置中，沿切線方向在透鏡架的任一 側，將聚焦線圈安裝到透鏡架上。因此，應當將聚焦線圈安裝到這樣 的區(qū)域上，即，在該區(qū)域內，在切線方向上在透鏡架的兩側中的一側 上不形成光路開口。
從而，如果增大安裝在具有光路開口的一側的聚焦線圈的尺寸時， 透鏡架的尺寸相應地增大，變得難于減小物鏡驅動裝置的尺寸。相反 地，如果為了縮小物鏡驅動裝置的尺寸而縮小安裝在具有光路開口的 一側的聚焦線圈的尺寸，在聚焦操作中由聚焦磁路產生的推力會降低， 并且變得難于在聚焦操作中獲得足夠的推力。
因此，希望解決上述問題，并提供一種厚度薄、對于聚焦操作能 夠提供大的推力的光學拾取器和盤驅動裝置。根據本發(fā)明的一個實施例的光學拾取器和盤驅動裝置，設有物鏡
驅動裝置，所述物鏡驅動裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動 基座上；可動塊，所述可動塊具有物鏡和構造成保持物鏡的透鏡架， 透鏡架具有光路開口 ，從光源發(fā)射要入射到立起反射鏡上的激光光束 通過該光路開口，可動塊至少能夠在聚焦方向上和跟蹤方向上相對于 固定塊移動，其中，可動塊在所述聚焦方向上朝向和遠離盤狀記錄介 質的記錄面運動，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質的徑向方向； 多個支承彈簧，所述支承彈簧被構造成將固定塊和可動塊相互連接； 聚焦磁路，所述聚焦磁路被構造成將可動塊沿聚焦方向移動，并包括 第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體；以及 跟蹤萬茲路，所述跟蹤萬茲路纟皮構造成將可動塊沿跟蹤方向移動，并包括 跟蹤線圈和跟蹤磁體。通過可動塊中的光路開口的激光光束的光路沿 著所述切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向。第 一聚焦線圈包括當沿聚焦方向移動可動塊時產生推力的第一推力產生 部和第二推力產生部，并且，所述第一聚焦線圏安裝到透鏡架上，使 得第一推力產生部和第二推力產生部在所述切線方向上相互分隔開。 第二聚焦線圏安裝到透鏡架的面對固定塊的表面上，使得第二聚焦線 圏的軸線方向與所述切線方向重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配 置在所述切線方向上，可動塊設置在所述兩個聚焦磁體之間。
在光學拾取器和盤驅動裝置中，在其上形成有光路開口的透鏡架 的表面上不設置如下的聚焦線圏，該聚焦線圏進行巻繞，使得其軸線 方向沿著切線方向延伸。
根據本發(fā)明的一個實施例的光學拾取器，包括構造成容納盤狀 記錄介質的盤臺，以及光學拾取器，所述光學拾取器構造成利用激光 光束通過物鏡照射位于盤臺上的盤狀記錄介質，所述激光光束從光源 發(fā)射出來，并被立起反射鏡反射，所述光學拾取器包括構造成沿著 盤臺上的盤狀記錄介質的徑向方向移動的移動基座，以及配置在該移 動基座上的物鏡驅動裝置。該物鏡驅動裝置包括固定塊，所述固定 塊固定到移動基座上；可動塊，所述可動塊具有物鏡和構造成保持物鏡的透鏡架，所述透鏡架具有光路開口，從光源發(fā)射出來要入射到立 起反射鏡上的激光光束通過該光路開口，可動塊至少在聚焦方向上和 跟蹤方向上可以相對于固定塊移動，其中，在所述聚焦方向上，可動 塊移動靠近和遠離盤狀記錄介質的記錄面，所述跟蹤方向基本上是盤
狀記錄介質的徑向方向；多個支承彈簧，所述支承彈簧構造成將固定 塊和可動塊相互連接起來；聚焦磁路，所述聚焦磁路構造成沿聚焦方 向移動可動塊，并包括笫一聚焦線圏、第二聚焦線圏、第一聚焦磁體 和第二聚焦磁體；跟蹤磁路，所述跟蹤磁路構造成沿著跟蹤方向移動
可動塊，并包括跟蹤線圏和跟蹤磁體。通過可動塊中的光路開口的激 光光束的光路沿切線方向延伸，其中，所述切線方向垂直于聚焦方向 和跟蹤方向兩者。第一聚焦線圏包括當可動塊沿聚焦方向移動時產生 推力的第一推力產生部和第二推力產生部，并且，所述第一聚焦線圏 安裝到透鏡架上，使得笫一推力產生部和第二推力產生部在所述切線 方向上相互隔開。第二聚焦線圏安裝到透鏡架的面對固定塊的表面上， 使得第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合。第一聚焦磁體和 第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可動塊配置在上述兩個聚焦磁 體之間。
從而，光路開口可以在透鏡架上形成有大的開口面積，并且可以 減小可動塊的厚度。其結果是，可以縮小光學拾取器的厚度，并且可 以在聚焦操作中產生足夠大的推力。
優(yōu)選地，第一聚焦線圏、第二聚焦線圏和跟蹤線圏的每一個形成 具有四個側部的基本上的矩形柱狀，靠近第二聚焦線圏配置的第一聚
焦線圏的側部起著第二推力產生部的作用，并且在聚焦方向上設置在 和沿著跟蹤方向延伸的第二聚焦線圈的側部的位置基本上相同的位置 上。在這種情況下，第二推力產生部位于第二聚焦磁體的磁力強的位 置上，在聚焦操作中可以獲得大的推力。
優(yōu)選地，滿足下面的等式
Fla x Lla = Fib x Lib + F2 x L2
其中，Fla是通過向第一聚焦線圏提供的驅動電流以及第一聚焦磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第一推力產生部中沿著聚焦方向產
生的推力，Fib是通過向第一聚焦線圈提供的驅動電流以及第二聚焦 磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第二推力產生部中沿著聚焦方向產 生的推力，F2是通過向第二聚焦線圏提供的驅動電流以及第二聚焦磁 體的磁通量，在第二聚焦線圏上沿著聚焦方向產生的推力，G是可動 塊的重心，S是包括重心G并且垂直于切線方向的平面，Lla是平面 S與產生推力Fla的點之間的最小距離，Llb是平面S與產生推力Flb 的點之間的最小距離，L2是平面S與產生推力F2的點之間的最小距 離。在這種情況下，在聚焦操作過程中，不會發(fā)生圍繞重心相對于切 線方向的傾斜。從而，在聚焦操作中，可以獲得令人滿意的伺服特性。
優(yōu)選地，設置多個物鏡，沿著跟蹤方向配置物鏡，布置第一聚焦 線圏以便包圍物鏡。在這種情況下，可以改進聚焦操作的穩(wěn)定性，并 且在聚焦操作中可以產生足夠大的推力。
根據本發(fā)明的一個實施例的盤驅動裝置包括構造成容納盤狀記 錄介質的盤臺；以及利用激光光束通過物鏡照射位于盤臺上的盤狀記 錄介質的光學拾取器，所述激光光束從光源發(fā)射出來，并被立起反射 鏡反射，所述光學拾取器包括構造成沿著盤臺上的盤狀記錄介質的徑 向方向運動的移動基座，和配置在移動基座上的物鏡驅動裝置。該物 鏡驅動裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動基座上；可動塊， 所述可動塊具有物鏡和構造成保持物鏡的透鏡架，所述透鏡架具有光 路開口，從光源發(fā)射出來、照射到立起反射鏡上的激光光束通過所述 光路開口 ，可動塊能夠至少在聚焦方向和跟蹤方向上相對于固定塊移
動，其中，在所述聚焦方向上可動塊靠近和遠離盤狀記錄介質的記錄 面運動，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質的徑向方向；多個支承 彈簧，所述支承彈簧構造成將固定塊和可動塊相互連接起來；聚焦磁
路，所述聚焦磁路構造成沿聚焦方向移動可動塊，并包括第一聚焦線
圏、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和笫二聚焦磁體；以及跟蹤磁路， 所述跟蹤磁路構造成沿著跟蹤方向移動可動塊，并包括跟蹤線圏和跟 蹤磁體。通過可動塊上的光路開口的激光光束的光路沿著切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向。第一聚焦線圈包括當 將可動塊沿聚焦方向移動時產生推力的第一推力產生部和第二推力產 生部，并且所述第一聚焦線圏安裝到透鏡架上，使得第一推力產生部 和第二推力產生部在切線方向上相互隔開。第二聚焦線圏安裝到透鏡 架的面對固定塊的表面上，使得第二聚焦線圏的軸線方向與切線方向 重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體沿著切線方向配置，可動塊配置 在它們之間。
從而，光路開口可以在透鏡架上形成有大的開口面積，并且可以 縮小可動塊的厚度。其結果是，可以減小盤驅動裝置的厚度，在聚焦 操作中，可以產生足夠大的推力。


圖l和圖2至圖7—起表示根據本發(fā)明的優(yōu)選實施例的光學拾取
器和盤驅動裝置，圖l是盤驅動裝置的示意透視圖； 圖2是物鏡驅動裝置的放大的透視圖3是從不同于圖2的方向觀察時，看到的物鏡驅動裝置的另外 一個放大的透視圖4是可動塊的放大的透視圖5是從不同于圖4的方向觀察時看到的可動塊的另外一個放大 的透視圖6是說明可動塊的重心與推力產生點之間的關系的概念視以及
圖7是說明可動塊的另外一個例子的放大的透視圖；
具體實施例方式
下面將參照

根據本發(fā)明的優(yōu)選實施例的光學拾取器和盤 驅動裝置。
盤驅動裝置1包括外殼2，各種構件和機構配置在該外殼2內(見 圖l)。外殼2具有形成在其內部的盤插槽(圖中未示出)。
底盤(未示出)配置在外殼2內。盤臺3固定到安裝在底盤上的 主軸馬達的馬達軸上。相互平行的導軸4安裝到底盤上，由進給馬達(圖中未示出)旋 轉的導螺桿5被支承在底盤上。
光學拾取器6包括移動基座7,設置在移動基座7上的光學部件 以及設置在移動基座7上的物鏡驅動裝置8。移動基座7在其兩端具 有軸承部7a和7b，軸承部7a和7b可滑動地被各個導軸4進行支承。
設置在移動基座7上的螺母構件(圖中未示出)與導螺桿5嚙合。 當導螺桿5被進給馬達旋轉時，螺母構件沿著對應于導螺桿5的旋轉 方向的方向運動。從而，光學拾取器6在配置在盤臺3上的盤狀記錄 介質100的徑向方向上移動。
物鏡驅動裝置8包括固定塊9和可動塊10，可動塊10可以相對 于固定塊9運動(見圖2和3)。固定塊9和可動塊10配置在移動基 座7上(見圖1)。
固定塊9固定到移動基座7上。電路基板11安裝到固定塊9的后面。
可動塊10具有透鏡架12和安裝到該透鏡架12上的部件(見圖4 和5)。
線圈槽12a形成在透鏡架12內，以便在靠近其上端位置處在整個 周邊延伸。具有基本上為矩形柱狀的第一聚焦線圈13安裝到線圈槽 12a內。定位第一聚焦線圈13，使得該第一聚焦線圈13的軸線方向沿 著聚焦方向(垂直方向)延伸。
第一聚焦線圈13的前部和后部分別用作第一推力產生部13a和第 二推力產生部13b，它們沿著左右方向延伸。
這樣形成光路開口 12b使之在透鏡架12的前側打開。
透鏡架12在其頂面上具有透鏡安裝部12c。物鏡14和15安裝到 透鏡安裝部12c上。物鏡14和15沿左右方向(徑向方向)相互分開， 并對應于不同類型的盤狀記錄介質，例如利用波長約為780nm的激光 光束的壓縮光盤(CD )、利用波長約為660nm的激光光束的數字通用 盤(DVD)以及利用波長約為405nm的激光光束的藍光盤。
立起反射鏡配置在物鏡14和15的每一個的下方。每一個立起反射鏡通過光路開口 12b從光源(未示出)接受激光光束，并且將激光 光束以直角發(fā)射，使得該激光光束入射到對應的一個物鏡14和15上。
透鏡架12在其后表面具有線圏安裝部12d。第二聚焦線圈16和 跟蹤線圏17安裝到線圏安裝部12d上。第二聚焦線圏16和跟蹤線圏 17的每一個具有基本上矩形柱狀，并安裝到線圏安裝部12d上，使其 軸線方向沿著切線方向延伸。跟蹤線圏17配置在第二聚焦線圏16的 左側和右側。 一對傾斜線圏(未示出)安裝到透鏡架12上。
連接基板18在其左邊緣和右邊緣處安裝到透鏡架12的線圏安裝 部12d上。第一聚焦線圈13、第二聚焦線圏16、跟蹤線圏17和傾斜 線圏的端子安裝到連接基板18的端子上。如圖2和3所示，支承彈簧 19的前端，例如通過焊接連接到連接基板18上。支承彈簧19利用導 電性金屬材料制成，例如，具有金屬絲的形狀。
支承彈簧19的后端，例如通過焊接連接到安裝在固定塊9上的電 路基板11上。
如上所述，支承彈簧19在其端部連接到可動塊10上的連接基板 18和固定塊9上的電路基板11上。這樣，通過被支承彈簧19連接到 固定塊9上，將可動塊10懸掛到半空中。
在物鏡驅動裝置8中，通過電路基板11、支承彈簧19和連接基 板18，從電源電路(未示出)向第一聚焦線圏13、第二聚焦線圏16、 跟蹤線圏17和傾斜線圏供應驅動電流。
第一聚焦磁體20配置在可動塊10的前方，以便沿著左右方向延 伸(見圖2至圖5)。笫一聚焦磁體20例如安裝到移動基座7的安裝 部(未示出)上，并且配置在光路開口 12b的上方，并位于第一聚焦 線圏13的第一推力產生部13a的前方。
由磁性金屬材料制成的磁軛構件21配置在移動基座7上(見圖2 和3)。
磁輒構件21包括配置成垂直于豎直方向的基部21a，以及從基部 21a向上方突出的石茲軛部21b。
第二聚焦磁體22和跟蹤磁體23安裝到f茲軛部21b的前表面。傾斜磁體(未示出)安裝到磁軛構件21上。
磁軛構件21的基部21a和萬茲軛部21b也可以相互分開獨立地形 成。在這種情況下，可以將基部21a形成為具有將固定塊9固定到移 動基座7上并且保持磁軛部21b的功能，可以將磁軛部21b形成為具 有作為專用磁軛的功 能。
定位第二聚焦磁體22,以便面對第一聚焦線圈13的第二推力產 生部13b。定位跟蹤磁體23以便面對各個跟蹤線圏17。配置傾斜磁體 以便面對各個傾斜線圏。
物鏡驅動裝置8沒有必要具有專門的傾斜磁體。例如，可以將聚 焦磁體22構造成也具有傾斜磁體的功能。在這種情況下，定位傾斜線 圏，以便面對起著傾斜磁體作用的聚焦磁體22 。
第一聚焦線圏13、第二聚焦線圈16、第一聚焦磁體20、第二聚 焦磁體22和磁軛構件21形成聚焦磁路。跟蹤線圈17、跟蹤磁體23 和磁輒構件21形成跟蹤磁路。傾斜線圏、傾斜磁體和磁軛構件21形 成傾斜f茲路。
當從電源電路(未示出)向第一聚焦線圏13和第二聚焦線圏16、 跟蹤線圏17或者傾斜線圈提供驅動電流時，根據驅動電流的方向以及 在第一聚焦磁體20和第二聚焦磁體22、跟蹤磁體23或者傾斜磁體中 產生的磁通量的方向，產生一個力(推力)。其結果是，可動塊10沿 著聚焦方向、跟蹤方向或者傾斜方向移動。
聚焦方向是可動塊10靠近和遠離盤狀記錄介質100運動的方向 (在圖2和3中的F方向)，即，豎直方向。跟蹤方向是盤狀記錄介 質100的徑向方向(圖2和3中的TR方向)，即，左右方向。傾斜方 向是圍繞著一個軸的方向(圖2和3中的TI方向)，所述軸在垂直于 聚焦方向和跟蹤方向兩者的方向(切線方向)上延伸。
當可動塊IO在聚焦方向、跟蹤方向或者傾斜方向上移動時，支承 彈簧19進行彈性變形。
在上述聚焦操作中，當從電源電路向第一聚焦線圏13和第二聚焦 線圈16提供驅動電流時，在第一聚焦線圈13的第一推力產生部13a和笫二推力產生部13b的每一個和第二聚焦線圈16上產生推力，使得 可動塊10沿聚焦方向移動(見圖6)。將第一推力產生部13a中產生 推力的點定義為點A,將在第二推力產生部13b中產生推力的點定義 為點B，將在第二聚焦線圏16中產生推力的點定義為點C。假定產生 向上的推力，在點A處產生推力Fla，在點B產生推力Flb,在點C 處產生推力F2。從而，由推力Fla、 Flb和F2的合力使可動塊10沿 聚焦方向移動。
在物鏡驅動裝置8中，滿足下述等式
Fla x Lla - Fib x Lib + F2 x L2 ( 1)
其中，G是可動塊10的重心，S是包括重心G并垂直于切線方 向的平面，Lla是平面S與點A之間的最小距離，Llb是平面S與點 B之間的最小距離，L2是平面S與點C之間的最小距離。
等式(1)的左側表示圖6中的逆時針力矩，等式(1)的右側表 示圖6中的順時針力矩。等式(l)表示逆時針力矩和順時針力矩彼此 相等。從而，在物鏡驅動裝置8中，在聚焦操作過程中，不會發(fā)生圍 繞重心G相對于切線方向的傾斜，即，不會發(fā)生物鏡14和15的前部 向上或向下移位的傾斜。從而，在聚焦操作中，可以獲得令人滿意的 伺服特性。
在具有上述結構的盤驅動裝置1中，當通過主軸馬達的旋轉將盤 臺3轉動時，位于盤臺3上的盤狀記錄介質IOO也旋轉。同時，光學 拾取器6沿盤狀記錄介質100的徑向方向移動。從而，進行對于盤狀 記錄介質100的記錄操作或再生操作。
在記錄操作或者再生操作的過程中，當向第一聚焦線圈13和第二 聚焦線圏16上提供驅動電流時，物鏡驅動裝置8中的可動塊IO相對 于固定塊9在圖2和3所示的聚焦方向F-F上移動。從而，進行聚 焦調節(jié)，將通過物鏡14或者15的激光光束聚焦，以便在盤狀記錄介 質100的記錄面上形成斑點。
當向跟蹤線圈17提供驅動電流時，物鏡驅動裝置8中的可動塊 10相對于固定塊9在圖2和3中所示的跟蹤方向TR-TR上移動。從而，進行跟蹤調節(jié)，將通過物鏡14或者15的激光光束聚焦，以便在 盤狀記錄介質100上，在其記錄軌道上形成斑點。
另外，當向傾斜線圈上提供驅動電流時，物鏡驅動裝置8中的可 動塊IO相對于固定塊9在圖2和3所示的傾斜方向TI-TI上移動。 從而，進行傾斜調節(jié)，使得通過物鏡14或者15的激光光束的光軸變 得與盤狀記錄介質100的記錄面垂直。
在上述結構中，將第一聚焦線圏13水平配置。但是，例如，如圖 7所示，也可以以傾斜的方式配置第一聚焦線圏13A。第一聚焦線圏 13A以傾斜的方式安裝到透鏡架12上，使得第一推力產生部13a位于 第二推力產生部13b的上方。位于第一推力產生部13a的下方的第二 推力產生部13b,與第二聚焦線圏16的上部16a處于相同的高度。
如上所述，第一聚焦線圈13A的第二推力產生部13b，與第二聚 焦線圏16的上部16a處于相同的高度。上部16a用于在聚焦方向上產 生推力，并位于第二聚焦磁體22的磁力強的位置上。從而，第二推力 產生部13b也位于第二聚焦磁體22的磁力強的位置上，在聚焦操作中 可以獲得大的推力。
如上所述，光學拾取器6包括第一聚焦線圏13和第二聚焦線圏 16。第一聚焦線圏13以沿著前后方向配置第一推力產生部13a和第二 推力產生部13b的方式安裝到透鏡架12上。將第二聚焦線圈16安裝 到透鏡架12上，使得其軸線方向沿著切線方向延伸。從而，光路開口 12b可以在透鏡架12上形成大的開口面積。另外，可以縮小可動塊IO 的厚度，因為在透鏡架12的前表面不安裝聚焦線圏。其結果是，可以 減小光學拾取器6的厚度，在聚焦操作中可以產生足夠大的推力。
另外，由于沒有聚焦線圏安裝在透鏡架12的前表面上，所以可以 減小可動塊IO在切線方向上的尺寸，可以改進高階共振特性。
另外，由于可以縮小可動塊10的厚度，從而，可以相應地降低可 動塊10的重量。因此，可以改進在聚焦操作、跟蹤操作和傾斜操作中 的靈敏度。
在物鏡驅動裝置8中，定位第一聚焦線圏13，以便包圍兩個物鏡14和15。從而，可以改進聚焦操作的穩(wěn)定性，在聚焦操作中可以獲得 足夠大的推力。
盡管在上述例子中設置兩個物鏡14和15，但是，物鏡的數目并 不局限于兩個，可以是一個，三個或者更多個。
在上述例子中，當將驅動電流提供給傾斜線圏時進行傾斜調節(jié)。 但是，物鏡驅動裝置8沒有必要具有專門的傾斜磁路，聚焦磁路和跟 蹤磁路中的一個可以起著傾斜磁路的作用。例如，在聚焦磁路起著傾 斜磁路的作用的情況下，可以通過在相反的方向上向第一聚焦線圏13 和第二聚焦線圈16提供驅動電流，進行傾斜調節(jié)，使得可動塊10相 對于固定塊9在傾斜方向TI-TI上移動。
盡管為了簡單起見，將聚焦方向、跟蹤方向和切線方向分別稱之 為豎直方向、左右方向和前后方向，但是，這些方向并不局限于上面 所述的這些方向。
在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中上述的每一個部件的形狀和結構僅僅是 本發(fā)明的例子，并不限定本發(fā)明的技術范圍。
應當理解，本領域技術人員根據設計上的需要和其它因素，可以 進行各種改型、組合、分組合和變更，只要它們在所附權利要求或者 其等價物的范圍內即可。
權利要求
1. 一種光學拾取器，包括移動基座，所述移動基座被構造成沿著安裝到盤臺上的盤狀記錄介質的徑向方向移動；以及物鏡驅動裝置，所述物鏡驅動裝置設置在所述移動基座上，其中，所述光學拾取器利用激光光束通過物鏡照射位于盤臺上的盤狀記錄介質，所述激光光束從光源中發(fā)射出來，并被立起反射鏡反射，以及其中，所述物鏡驅動裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動基座上；可動塊，所述可動塊具有物鏡和構造成保持物鏡的透鏡架，透鏡架具有光路開口，從光源發(fā)射要入射到立起反射鏡上的激光光束通過該光路開口，可動塊至少能夠在聚焦方向上和跟蹤方向上相對于固定塊移動，其中，可動塊在所述聚焦方向上朝向和遠離盤狀記錄介質的記錄面運動，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質的徑向方向；多個支承彈簧，所述支承彈簧被構造成將固定塊和可動塊相互連接起來；聚焦磁路，所述聚焦磁路被構造成將可動塊沿聚焦方向移動，并包括第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體；以及跟蹤磁路，所述跟蹤磁路被構造成將可動塊沿跟蹤方向移動，并包括跟蹤線圈和跟蹤磁體，其中，通過可動塊中的光路開口的激光光束的光路沿著切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者，其中，第一聚焦線圈包括當沿聚焦方向移動可動塊時產生推力的第一推力產生部和第二推力產生部，并且，所述第一聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第一推力產生部和第二推力產生部在所述切線方向上相互分隔開，其中，第二聚焦線圈安裝到透鏡架的面對固定塊的表面上，使得第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合，其中，第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可動塊設置在所述兩個聚焦磁體之間。
2. 如權利要求1所述的光學拾取器，其特征在于，第一聚焦線圏、 第二聚焦線圈和跟蹤線圏中的每一個均形成具有四個側部的基本上矩 形;f主狀，以及其中，靠近第二聚焦線圈配置的第一聚焦線圈的側部起著第二推 力產生部的作用，并配置在聚焦方向上、與沿著跟蹤方向延伸的第二 聚焦線圏的側部的位置基本上相同的位置上。
3. 如權利要求1所述的光學拾取器，其特征在于，滿足下面等式 Fla x Lla - Fib x Lib + F2 x L2其中，Fla是通過向第一聚焦線圏上提供的驅動電流以及第一聚 焦磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第一推力產生部中在聚焦方向上 產生的推力，Flb是通過向第一聚焦線圈上提供的驅動電流以及第二聚焦磁體 的磁通量，在第一聚焦線圏的第二推力產生部中在聚焦方向上產生的 推力，F2是通過向第二聚焦線圏上提供的驅動電流以及第二聚焦磁體 的磁通量，在第二聚焦線圏中在聚焦方向上產生的推力， G是可動塊的重心，S是包括重心G并垂直于所述切線方向的平面， Lla是平面S與產生推力Fla的點之間的最小距離， Llb是平面S與產生推力Flb的點之間的最小距離， L2是平面S與產生推力F2的點之間的最小距離。
4. 如權利要求1所述的光學拾取器，其特征在于，設置多個物鏡， 所述物鏡配置在跟蹤方向上，以及其中，第一聚焦線圈設置成包圍物鏡。
5. —種盤驅動裝置，包括盤臺，其被構造成容納盤狀記錄介質；以及光學拾取器，其被構造成利用激光光束通過物鏡照射位于所述盤 臺上的盤狀記錄介質，所述激光光束是從光源發(fā)射出來的并被立起反 射鏡反射，所述光學拾取器包括移動基座，該移動基座被構造成在盤 臺上的盤狀記錄介質的徑向方向上移動，所述光學拾取器還包括配置 在移動基座上的物鏡驅動裝置，其中，所述物鏡驅動裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動基座上； 可動塊，所述可動塊具有物鏡和構造成保持物鏡的透鏡架， 所述透鏡架具有光路開口，從光源發(fā)射出來、要入射到立起反射鏡上 的激光光束通過該光路開口，可動塊至少在聚焦方向上和跟蹤方向上 可以相對于固定塊移動，其中，可動塊在所述聚焦方向上移動靠近和 遠離盤狀記錄介質的記錄面，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質的 徑向方向；多個支承彈簧，所述支承彈簧被構造成將固定塊和可動塊相 互連接起來；聚焦磁路，所述聚焦磁路被構造成沿聚焦方向移動可動塊， 并包括第一聚焦線圏、第二聚焦線圏、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體； 以及跟蹤磁路，所述跟蹤磁路被構造成沿著跟蹤方向移動可動塊， 并包括跟蹤線圏和跟蹤/磁體，其中，通過在可動塊中的光路開口的激光光束的光路沿切線方向 延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者，其中，第一聚焦線圏包括當可動塊沿聚焦方向移動時產生推力的 第,推力產生部和第二推力產生部，并且，所述第一聚焦線圏安裝到 透鏡架上，使得第一推力產生部和第二推力產生部在所述切線方向上 相互隔開，其中，第二聚焦線圈安裝到透鏡架的面對固定塊的表面上，使得 第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合，其中，第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可 動塊配置在上述兩個聚焦磁體之間。
全文摘要
一種物鏡驅動裝置，包括固定到移動基座上的固定塊、具有構造成保持物鏡的透鏡架、構造成將固定塊和可動塊相互連接起來的支承彈簧、包括第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體的聚焦磁路以及跟蹤磁路。第一聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第一推力產生部和第二推力產生部在切線方向上相互分離。第二聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第二聚焦線圈的軸線方向與切線方向重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在切線方向上，可動塊配置在所述兩個聚焦磁體之間；以及包括該物鏡驅動裝置的光學拾取器和盤驅動裝置。
文檔編號G11B7/09GK101414468SQ20081014995
公開日2009年4月22日 申請日期2008年10月17日 優(yōu)先權日2007年10月17日
發(fā)明者宮田琢郎 申請人:索尼株式會社