專利名稱：一種磁頭浮動(dòng)輥定位機(jī)構(gòu)及采用該機(jī)構(gòu)的磁記錄裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及記錄介質(zhì)處理裝置，尤其涉及一種磁頭浮動(dòng)輥的定位機(jī) 構(gòu)及采用該機(jī)構(gòu)的,茲記錄裝置。
背景技術(shù)：
具有磁道的記錄介質(zhì)，通常稱為磁記錄介質(zhì)，比如說(shuō)磁卡、磁票、磁盤(pán) 等。用于向磁記錄介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)的裝置，稱為磁記錄裝置。磁記錄裝 置通常設(shè)置有將磁記錄介質(zhì)中的磁信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)或者將接收的電信號(hào)轉(zhuǎn) 化為磁介質(zhì)上的磁記錄信號(hào)的,茲頭，》茲頭工作時(shí)，需要一定的壓力將,茲記錄 介質(zhì)壓在;茲頭上，并且磁記錄介質(zhì)還需要以運(yùn)動(dòng)方式在》茲頭上移動(dòng)。為此， 一般使用磁頭浮動(dòng)輥對(duì)磁記錄介質(zhì)施加壓力。磁頭浮動(dòng)輥是可繞其浮動(dòng)支撐 軸旋轉(zhuǎn)的滾筒形的磁頭浮動(dòng)輥，通過(guò)彈簧或其他施力元件向其施力，磁頭浮 動(dòng)輥可以將磁記錄介質(zhì)壓在》茲頭上。
現(xiàn)有的磁記錄裝置的結(jié)構(gòu)如圖1所示，磁記錄裝置100包括上框架1和 下框架2，上框架1上浮動(dòng)設(shè)置磁頭浮動(dòng)輥3，下框架2上固定設(shè)置磁頭4。 其中，磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭4相對(duì)應(yīng)，當(dāng)記錄介質(zhì)從磁頭4和磁頭浮動(dòng)輥3 之間通過(guò)時(shí)，磁頭4可以向記錄介質(zhì)寫(xiě)入或讀取數(shù)據(jù)。為了可靠的讀、寫(xiě)磁 數(shù)據(jù)，需要在磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間設(shè)置均勻的壓力。因此，在上框架 上設(shè)置沿豎直方向延伸的長(zhǎng)孔10，磁頭浮動(dòng)輥3兩支撐軸的軸端30安裝在 長(zhǎng)孔10內(nèi)，同時(shí)，在磁頭浮動(dòng)輥3與上框架l之間設(shè)置彈性元件5，當(dāng)彈性 元件5 4齊壓》茲頭浮動(dòng)輥3時(shí)，》茲頭浮動(dòng)輥3在長(zhǎng)孔10內(nèi)有一定的移動(dòng)空間， 可以向磁頭4提供預(yù)定的壓力。同時(shí)，為了便于清洗磁頭，在上框架l和下 框架2之間設(shè)置樞軸6和開(kāi)啟結(jié)構(gòu)7。開(kāi)啟機(jī)構(gòu)7包括鎖緊軸70、拉簧71、 限位槽11,及鎖鉤20。限位槽11設(shè)置在上框架1上，鎖緊軸70穿過(guò)限位槽 11,拉簧71—端掛接在鎖緊軸70上，另外一端設(shè)置在上框架1上。鎖鉤20 設(shè)置在下框架2上。當(dāng)上框架1與下框架2卡合時(shí)，鎖緊軸70卡接在鎖緊軸 20上，鎖緊軸70兩軸端支撐在下框架2的側(cè)面。在拉簧71的拉力作用下， 上框架1相對(duì)下框架2穩(wěn)定。當(dāng)沿箭頭P方向拉動(dòng)鎖緊軸70時(shí)，鎖緊軸70脫離鎖鉤20;同時(shí)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)上框架l,上框架1與下框架2分離。
但是，由于零件加工誤差和裝配誤差的存在，上框架1與下框架2卡合 后，磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭4配合位置不準(zhǔn)確。如圖2所示，由于整體裝配誤 差，上框架1整體相對(duì)于下框架2傾斜a度，造成磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭4配 合間隙不一致。這樣，當(dāng)》茲記錄介質(zhì)通過(guò)時(shí)，在彈性元件5的作用下，在記 錄介質(zhì)寬度方向上，引起磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭之間壓力不一致，從而可能造 成讀寫(xiě)磁失敗。如圖3所示，由于上框架l存在的加工誤差使上框架1兩側(cè) 長(zhǎng)孔10的最低點(diǎn)相差L毫米，磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭4配合間隙不一致，這 樣，當(dāng)磁記錄介質(zhì)通過(guò)時(shí)，在彈性元件5的作用下，在記錄介質(zhì)寬度方向上， 引起磁頭浮動(dòng)輥3與磁頭之間壓力不一致，從而可能造成讀寫(xiě)磁失敗。
現(xiàn)有技術(shù)中，主要通過(guò)提高零件加工精度和裝配精度解決上述問(wèn)題，但 是加工精度越高，加工成本越高；裝配精度越高，裝配效率越低，因此現(xiàn)有 技術(shù)中的方法不僅增加了產(chǎn)品成本，還降低了生產(chǎn)效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
在不增加產(chǎn)品成本和降低生產(chǎn)效率的前提下，為了解決零件加工誤差或 裝配誤差造成的磁頭浮動(dòng)輥與磁頭配合間隙不一致的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供 了 一種^茲頭浮動(dòng)輥的定位才幾構(gòu)及采用該機(jī)構(gòu)的-茲記錄裝置。
一種石茲頭浮動(dòng)輥定位^/L構(gòu)，在^f茲記錄裝置下框架的兩側(cè)各^:置一個(gè)定位 邊，所述下框架兩側(cè)的定位邊相對(duì)于下框架上的磁頭的垂直高度相等，工作 狀態(tài)下，所述^f茲頭浮動(dòng)輥的兩浮動(dòng)支撐軸的軸端搭^接在所述定位邊上。
優(yōu)選地，所述定位邊高于磁頭浮動(dòng)輥軸端上下浮動(dòng)的最低點(diǎn)。
優(yōu)選地，所述定位邊為槽形，所述定位邊的寬度不小于所述磁頭浮動(dòng)輥 支撐軸的軸端的寬度。
優(yōu)選地，所述定位邊為長(zhǎng)條形。
一種磁記錄裝置，包括上框架、下框架、磁頭浮動(dòng)輥、磁頭、彈性元件； 所述上框架的兩側(cè)設(shè)置有沿豎直方向延伸的長(zhǎng)孔，所述^f茲頭浮動(dòng)輥的兩個(gè)支 撐軸的軸端安裝在所述長(zhǎng)孔內(nèi)；所述磁頭固定在下框架上；所述磁頭浮動(dòng)輥 和所述磁頭相對(duì)應(yīng)，所述石茲頭浮動(dòng)輥與所述,茲頭之間形成記錄介質(zhì)輸送通道； 所述上框架和所述磁頭浮動(dòng)輥之間設(shè)置有彈性元件；在下框架上安裝有以上
4所述的定位才幾構(gòu)。
優(yōu)選地，所述定位邊高于所述長(zhǎng)孔的最低點(diǎn)。
本實(shí)用新型通過(guò)在磁記錄裝置的下框架的兩側(cè)相對(duì)于上框架兩側(cè)的長(zhǎng)孔 的位置設(shè)置限位邊，下框架兩側(cè)的限位邊相對(duì)于下框架上的磁頭的垂直高度 相等，浮動(dòng)輥的兩支撐軸的軸端^^接在限位邊上，限定了》茲頭浮動(dòng)輥相對(duì)于 磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長(zhǎng)孔的最低點(diǎn)不一致，或者上框架 與下框架裝配不平行都不會(huì)影響磁頭浮動(dòng)輥相對(duì)于磁頭的垂直位置。這樣在 既不增加產(chǎn)品成本，又不降低生產(chǎn)效率的情況下，解決了磁頭浮動(dòng)輥與磁頭 配合間隙不一致的問(wèn)題。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)磁記錄裝置示意圖2為現(xiàn)有技術(shù)存在裝配誤差時(shí)磁頭浮動(dòng)輥與磁頭的配合狀態(tài)示意圖； 圖3為現(xiàn)有技術(shù)存在加工誤差時(shí)磁頭浮動(dòng)輥與磁頭的配合狀態(tài)示意圖； 圖4為本實(shí)用新型磁記錄裝置局部示意圖； 圖5為本實(shí)用新型磁記錄裝置的剖視圖； 圖1-圖5中
磁記錄裝置100、上框架l、下框架2、磁頭浮動(dòng)輥3、磁頭4、彈性元 件5、片區(qū)軸6、開(kāi)啟4幾構(gòu)7、長(zhǎng)孔IO、鎖鉤20、》茲頭浮動(dòng)輥的軸端30、限位 槽ll、鎖緊軸70、拉簧71、限位邊21、長(zhǎng)孔最低點(diǎn)S。
具體實(shí)施方式

針對(duì)零件加工誤差或裝配誤差造成的磁頭浮動(dòng)輥與磁頭配合間隙不一致 的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種浮動(dòng)輥的定位機(jī)構(gòu)及采用該機(jī)構(gòu)的磁記錄裝 置。通過(guò)在下框架的兩個(gè)側(cè)面相對(duì)于上框架長(zhǎng)孔的位置設(shè)置限位邊，限定了 磁頭浮動(dòng)輥相對(duì)于磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長(zhǎng)孔的最低點(diǎn)不 一致，或者上框架與下框架裝配不平行都不會(huì)影響磁頭浮動(dòng)輥相對(duì)于磁頭的 垂直4立置。
以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行描述，以下的描述僅是示范性和解釋 性的，不應(yīng)對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍有任何的限制作用。
第一個(gè)實(shí)施例提供了一種磁頭浮動(dòng)輥的定位機(jī)構(gòu)。磁記錄裝置的上框體的兩側(cè)各設(shè)置一個(gè)沿豎直方向延伸的長(zhǎng)孔10, ^磁頭浮動(dòng)輥的兩個(gè)軸端30安 裝在長(zhǎng)孔10內(nèi)，并可在長(zhǎng)孔10內(nèi)上下移動(dòng)；磁頭浮動(dòng)輥3與上框架之間設(shè) 置有彈性元件5,磁記錄裝置的下框架上固定安裝一個(gè)磁頭，磁頭浮動(dòng)輥和 磁頭向?qū)?yīng)，二者之間形成記錄介質(zhì)輸送通道，當(dāng)磁介質(zhì)從磁頭浮動(dòng)輥3和 磁頭之間通過(guò)時(shí)，磁頭可以向,茲介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
如圖5所示，為了保證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4垂直裝配的精度，進(jìn)而保 證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間的間隙一致，在下框架2的兩側(cè)相對(duì)于上框架 1的長(zhǎng)孔10的位置各設(shè)置一個(gè)限位邊，限位邊的高度高于長(zhǎng)孔10的最低點(diǎn)S 的高度，且下框架2兩側(cè)面的限位邊相對(duì)于磁頭4的垂直高度相等。當(dāng)上框 架1與下框架2閉合時(shí)，磁頭浮動(dòng)輥的軸端30搭接在限位邊21上。因此， 在裝配狀態(tài)下，只有限位邊21限定了磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂直位置。 由于上框架2兩側(cè)面的限位邊相對(duì)于磁頭4的高度相等且限位邊的高度高于 長(zhǎng)孔最低點(diǎn)的高度，即使上框架1與下框架2裝配不平行，或者上框架1兩 側(cè)的長(zhǎng)孔10最低點(diǎn)位置不一致都會(huì)不會(huì)影響磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂 直位置。這樣就能保證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間的間隙一致，當(dāng)磁介質(zhì)從 磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間通過(guò)時(shí)，在彈性元件5的作用下，磁頭浮動(dòng)輥3 和磁頭4之間的壓力一致，磁頭4就可以可靠地向磁介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
其中，限位邊只限制磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂直方向的位置，只 需相對(duì)于磁頭的垂直方向上保證磁記錄裝置下框架兩側(cè)的限位邊高度相等， 而限位邊的形狀尺寸則無(wú)限定。如圖4所示，限位邊可以為槽形， >磁頭浮動(dòng) 輥的軸端30正好可以搭接在槽內(nèi)，槽形限位邊的底邊高于上框架上長(zhǎng)孔10 的最低點(diǎn)S。限位邊還可以為長(zhǎng)條形，只要能保證磁頭浮動(dòng)輥的軸端30能搭 接在限位邊上即可，就能限定》茲頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于/f茲頭4垂直位置。
本實(shí)用新型還提供了 一種采用上述磁頭浮動(dòng)輥定位機(jī)構(gòu)的磁記錄裝置。 第二個(gè)實(shí)施例，簡(jiǎn)單介紹下這種磁記錄裝置。磁記錄裝置100包括上框架1 和下框架2,上框架1上浮動(dòng)設(shè)置磁頭浮動(dòng)輥3,下框架上固定設(shè)置磁頭4。 上框架1和下框架2之間設(shè)置有開(kāi)啟、鎖緊裝置，使得上框架可以相對(duì)于下 框架閉合或分離。上框體的兩側(cè)各設(shè)置一個(gè)沿豎直方向延伸的長(zhǎng)孔10，磁頭 浮動(dòng)輥的兩個(gè)軸端30安裝在長(zhǎng)孔10內(nèi)，》茲頭浮動(dòng)輥的軸端30可以在長(zhǎng)孔10里上下浮動(dòng)，長(zhǎng)孔的上下頂點(diǎn)為磁頭浮動(dòng)輥軸端浮動(dòng)的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)， 磁頭浮動(dòng)輥3與上框架1之間設(shè)置有彈性元件5,磁頭4固定在下框架體上， 磁頭浮動(dòng)輥和磁頭相對(duì)應(yīng)，二者之間形成記錄介質(zhì)輸送通道。這樣，當(dāng)上框 架與下框架閉合時(shí)，利用彈性元件5擠壓磁頭浮動(dòng)輥3可以向磁頭提供預(yù)定 的壓力。當(dāng)記錄介質(zhì)從磁頭4和磁頭浮動(dòng)輥3之間通過(guò)時(shí)，磁頭可以向記錄 介質(zhì)寫(xiě)入或讀取數(shù)據(jù)。
如圖5所示，為了保證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4垂直裝配的精度，進(jìn)而保 證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間的間隙一致，在下框架2的兩側(cè)相對(duì)于上框架 1的長(zhǎng)孔10的位置各設(shè)置一個(gè)限位邊，限位邊的高度高于長(zhǎng)孔10的最低點(diǎn)S 的高度，且下框架2兩側(cè)面的限位邊相對(duì)于磁頭4的垂直高度相等。當(dāng)上框 架1與下框架2閉合時(shí)，磁頭浮動(dòng)輥的軸端30搭接在限位邊21上。因此， 在裝配狀態(tài)下，只有限位邊21限定了磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂直位置。 由于上框架2兩側(cè)面的限位邊相對(duì)于磁頭4的高度相等且限位邊的高度高于 長(zhǎng)孔最低點(diǎn)的高度，即使上框架1與下框架2裝配不平行，或者上框架l兩 側(cè)的長(zhǎng)孔10最低點(diǎn)位置不一致都會(huì)不會(huì)影響磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂 直位置。這樣就能保證磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間的間隙一致，當(dāng)磁介質(zhì)從 磁頭浮動(dòng)輥3和磁頭4之間通過(guò)時(shí)，在彈性元件5的作用下，磁頭浮動(dòng)輥3 和磁頭4之間的壓力一致，磁頭4就可以可靠地向磁介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
其中，卩艮位邊只限制磁頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4的垂直方向的位置，只 需相對(duì)于磁頭的垂直方向上保證磁記錄裝置下框架兩側(cè)的限位邊高度相等， 而限位邊的形狀尺寸則無(wú)限定。如圖4所示，限位邊可以為槽形，磁頭浮動(dòng) 輥的軸端30正好可以搭接在槽內(nèi)，槽形限位邊的底邊高于上框架上長(zhǎng)孔10 的最低點(diǎn)S。限位邊還可以為長(zhǎng)條形，只要能保證磁頭浮動(dòng)輥的軸端30能搭 接在限位邊上即可，就能限定石茲頭浮動(dòng)輥3相對(duì)于磁頭4垂直位置。
本實(shí)施例是通過(guò)在現(xiàn)有的磁記錄裝置的下框架上安裝了磁頭浮動(dòng)輥的定 位才幾構(gòu)，來(lái)完成對(duì)上框架上的-茲頭浮動(dòng)輥相對(duì)于,茲頭在垂直方向上的定位， 從而保證了》茲頭浮動(dòng)輥和磁頭之間的間隙一致，當(dāng)石茲記錄介質(zhì)從磁頭浮動(dòng)輥 和磁頭之間通過(guò)時(shí)，在彈性元件的作用下，磁頭可以可靠地向磁記錄介質(zhì)讀 取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式的描述，應(yīng)當(dāng)指出，由于文字 表達(dá)的有限性，而在客觀上存在無(wú)限的具體結(jié)構(gòu)，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn) 飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1. 一種磁頭浮動(dòng)輥定位機(jī)構(gòu)，其特征在于，在磁記錄裝置下框架的兩側(cè)各設(shè)置一個(gè)定位邊，所述下框架兩側(cè)的定位邊相對(duì)于下框架上的磁頭的垂直高度相等，工作狀態(tài)下，所述磁頭浮動(dòng)輥的兩浮動(dòng)支撐軸的軸端搭接在所述定位邊上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述定位邊高于^f茲頭浮 動(dòng)輥軸端上下浮動(dòng)的最低點(diǎn)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述定位邊為槽形，所 述定位邊的寬度不小于所述磁頭浮動(dòng)輥支撐軸的軸端的寬度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述定位邊為長(zhǎng)條形。
5. —種磁記錄裝置，包括上框架、下框架、磁頭浮動(dòng)輥、磁頭、彈性元件； 所述上框架的兩側(cè)設(shè)置有沿豎直方向延伸的長(zhǎng)孔，所述磁頭浮動(dòng)輥的兩個(gè)支撐 軸的軸端安裝在所述長(zhǎng)孔內(nèi)；所述磁頭固定在下框架上；所述磁頭浮動(dòng)輥和所 述》茲頭相對(duì)應(yīng)，所述石茲頭浮動(dòng)輥與所述i茲頭之間形成記錄介質(zhì)輸送通道；所述 上框架和所述磁頭浮動(dòng)輥之間設(shè)置有彈性元件；其特征在于，在下框架上安裝 有權(quán)利要求1-4所述的定位機(jī)構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁記錄裝置，其特征在于，所述定位邊高于所述 長(zhǎng)孔的最低點(diǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種磁頭浮動(dòng)輥定位機(jī)構(gòu)。在磁記錄裝置的下框架的兩側(cè)相對(duì)于上框架兩側(cè)的長(zhǎng)孔的位置各設(shè)置一個(gè)限位邊，下框架兩側(cè)的限位邊相對(duì)于下框架上的磁頭的垂直高度相等，磁頭浮動(dòng)輥的兩支撐軸的軸端搭接在限位邊上，限定了磁頭浮動(dòng)輥相對(duì)于磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長(zhǎng)孔的最低點(diǎn)不一致，或者上框架與下框架裝配不平行都不會(huì)影響磁頭浮動(dòng)輥相對(duì)于磁頭的垂直位置。這樣在既不增加產(chǎn)品成本，又不降低生產(chǎn)效率的情況下，解決了磁頭浮動(dòng)輥與磁頭配合間隙不一致的問(wèn)題。本實(shí)用新型還公開(kāi)了一種采用上述磁頭浮動(dòng)輥的定位機(jī)構(gòu)的磁記錄裝置。
文檔編號(hào)G11B5/48GK201237900SQ200820115798
公開(kāi)日2009年5月13日 申請(qǐng)日期2008年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月5日
發(fā)明者孫嘉嶺, 明 高, 濤 高 申請(qǐng)人:山東新北洋信息技術(shù)股份有限公司