專利名稱：磁頭、磁頭懸架組件、以及磁盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到圓盤裝置(例如磁盤裝置)中所使用的磁頭、具有所述 磁頭的磁頭懸架組件、以及具有所述磁頭懸架組件的磁盤裝置。
背景技術(shù)：
圓盤裝置(例如，磁盤裝置)包括磁盤、主軸電動機、磁頭和托架組 件。所ii^盤被安裝在外殼內(nèi)。所述主軸電動機支撐著磁盤并使其轉(zhuǎn)動。 所池磁頭在磁盤上讀寫信息。所述托架組件支撐著磁頭，以使其相對于磁 盤進行移動。所述托架組件包括可轉(zhuǎn)動的支撐臂以及從所述臂上延伸出的 懸架。在所述懸架的延伸端上支撐著磁頭。所i^磁頭包括與所述懸架相連 的滑塊和在該滑塊上的磁頭部分。所述磁頭部分的結(jié)構(gòu)包括用于讀的再現(xiàn) 元件和用于寫的記錄元件。
所述滑塊具有與所述磁盤的記錄面相對的正面(氣墊面(air bearing surface, ABS))。所述懸架在所述滑塊上施加指向所M盤的磁記錄層 的預(yù)定磁頭負荷。當磁盤裝置工作時，在滑塊和轉(zhuǎn)動著的磁盤之間會產(chǎn)生 空氣流。根據(jù)氣動潤滑原理， 一個使滑塊在磁盤記錄面上方飛行的力(正 壓強)作用在滑塊的面向磁盤的表面上。通過用磁頭負載來平衡所述飛行 力，滑塊在磁盤的記錄面上方隔著一個間隙飛行。已知有一種磁盤裝置， 其中，在滑塊的面向磁盤的表面的中心附近形成負壓腔或動態(tài)壓強產(chǎn)生凹 槽，以便防止滑塊的飛行高度的變化。
如在例如日本專利申請/>開No. 2003-99910中所描述的，滑塊包括在 氣墊面的中心部分處所形成的負壓凹槽、在滑塊的氣流流入端一側(cè)上的前 墊部分、以及在滑塊的氣流流出端一側(cè)上的后墊部分，并且磁頭位于所述
6后墊部分上。
在常恥磁盤的表面上施一層薄的潤滑劑，以便減小由磁頭和磁盤界面 之間的接觸所導(dǎo)致的磨損。盡管大多數(shù)的潤滑劑粘附在磁盤表面上，M 時會有一小部分潤滑劑會從磁盤表面上分離出來并粘附在滑塊的面對磁盤 的表面上。如果潤滑劑粘附在滑塊上，那么，潤滑劑的沉積量會漸漸地增 加。如果超過了一定的數(shù)量，那么，這些潤滑劑就會從滑塊上掉到磁盤表 面上，并粘附在磁盤表面上，形成丘塊。如果在磁盤表面上形成了潤滑劑 丘塊，那么，當磁頭越過這些丘塊時，磁頭飛得離磁盤表面太高，從而導(dǎo)
致所謂的高飛(high flight)。所以，在一些情形中，磁頭不能在磁盤表面 上精確地讀寫信息。
為了減少潤滑劑的沉積量，在滑塊的后墊部分的兩側(cè)單獨形成中間臺 階。這些中間臺階用來減小所述后墊部分和所述負壓凹槽之間的高度差， 從而減小潤滑劑在所述高度差部分的聚集量。
然而，如果這種類型的滑塊在所述后墊部分的兩側(cè)有中間臺階，那么， 很容易減少負壓的產(chǎn)生，盡管潤滑劑的沉積量也減少了。這就有礙對滑塊 飛行高度的變化的抑制，并降低可靠性和穩(wěn)定性。

發(fā)明內(nèi)容
考慮這些情形就產(chǎn)生了本發(fā)明，本發(fā)明的目標是，提供一種可靠性和 穩(wěn)定性得以提高并能夠減少潤滑劑粘附的磁頭、 一種具有所述磁頭的磁頭 懸架組件、和一種磁盤裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，所提供的磁頭的特征在于包括滑塊，該滑 塊包括與可轉(zhuǎn)動記錄介質(zhì)的表面相對的正面、與所述正面橫交地延伸的氣 流流入端端面、以及與所述正面橫交地延伸的氣流流出端端面，當所述記 錄介質(zhì)轉(zhuǎn)動時，所述記錄介質(zhì)表面與所述正面之間所產(chǎn)生的空氣流會使所 述滑塊飛起來；以及磁頭部分，該部分位于所述滑塊上，并配置為用來在 所述記錄介質(zhì)上記錄和再現(xiàn)信息。所述滑塊的正面包含沿著所述空氣流的 第一方向和與所述第一方向垂直的第二方向。所述滑塊包括負壓腔，該負壓腔形成在所述正面內(nèi)，并配置為用來產(chǎn)生負壓；前沿臺階部分，該前沿 臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并相對于所述空氣流而言位于所述 負壓腔的上游端； 一對側(cè)面部分，該對側(cè)面部分相對于所述負壓腔突出出 來，從所述前沿臺階部分沿著所述第一方向朝著所述滑塊的氣流流出端延 伸，這對側(cè)面部分彼此相對，在其之間沿所述第二方向形成間隔；后沿臺 階部分，該后沿臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并相對于所述空氣 流而言位于所述負壓腔的氣流流出端，其上表面與所述記錄介質(zhì)相對；一 對后緣部分(skirt portion )，該對后纟彖部分形成在所述正面上，相對于所 述負壓腔突出出來，從所述側(cè)面部分沿著所述第一方向朝著所述滑塊的氣 流流出端延伸，并且比所述側(cè)面部分更深；以及中間臺階部分，該中間臺 階部分相對于所述第二方向而言在所述后緣部分的外側(cè)并沿著所述后緣部 分連續(xù)地延伸，該中間臺階部分比所述后緣部分更深而比所述負壓腔更淺。 本發(fā)明其它的目標和優(yōu)點將在下面的描述中得以闡明，部分地能從描 述中顯然看到，或者可以通過對本發(fā)明的實踐而得知。本發(fā)明的目標和優(yōu) 點可以根據(jù)在下文中所具體指出的手段和組合來實現(xiàn)和獲得。


結(jié)合進來并構(gòu)成說明書的一部分的附圖顯示了本發(fā)明的實施例，并與 上面給出的總的描述以及在下面給出的實施例的詳細描述一起，用來解釋
本發(fā)明的原理。
圖l是一個平面圖，顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的HDD;
圖2是一個放大了的側(cè)面圖，顯示了所述HDD的磁頭部分；
圖3是一個透視圖，顯示了所述磁頭滑塊的面對磁盤的表面一側(cè)；
圖4是一個平面圖，顯示了所述滑塊的面對磁盤的表面一側(cè)；
圖5是沿著圖4中的A-A線所截取的截面圖6是磁盤表面和滑塊之間的空氣流的概念圖7是一個平面圖，顯示了作為對照例的沒有中間臺階部分的磁頭滑
塊；圖8顯示了4艮據(jù)對照例的后緣部分和側(cè)面部分的外側(cè)的空氣流； 圖9顯示了4艮據(jù)第一實施例所述的滑塊的后緣部分和側(cè)面部分的外側(cè) 的空氣流；
圖IO是一個平面圖，示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第二實施例所述的滑 塊的面對磁盤的表面一側(cè)；
圖11是一個平面圖，示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第三實施例所述的滑 塊的面對/f茲盤的表面一側(cè)；
圖12是一個平面圖，示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第四實施例所述的滑 塊的面對磁盤的表面一側(cè)；
圖13是一個平面圖，示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第五實施例所述的滑 塊的面對》茲盤的表面一側(cè)；以及
圖14是一個平面圖，示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第六實施例所述的滑 塊的面對/f茲盤的表面一側(cè)。
具體實施例方式
下面參考附圖詳細描述第一實施例，其中，根據(jù)本發(fā)明所述的磁盤裝 置用于^f更盤驅(qū)動器(HDD)中。
圖1顯示了去掉殼體頂蓋的HDD的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。如圖1所示，HDD包 括由頂部開口的矩形盒和頂蓋(未顯示)所構(gòu)成的外殼12。所述頂蓋通過 螺絲固定在所述外殼上從而將外殼的頂部開口蓋住。
外殼12內(nèi)含有磁盤16、主軸電動機18、磁頭40、托架組件22、音圏 馬達(VCM) 24、斜坡加載機構(gòu)25、電路板單元21等。磁盤16用作記 錄介質(zhì)。主軸電動機18用作對磁盤進行支撐和轉(zhuǎn)動的驅(qū)動部分。磁頭在磁 盤上讀和寫信息。托架組件22支撐著磁頭以相對于磁盤16進行移動。VCM 24對托架組件進行擺動和定位。斜坡加栽機構(gòu)25在磁頭被移動到磁盤的 最外沿時將磁頭保持在距磁盤某個距離處的縮進位置上。電路板單元21 包括磁頭IC等。
印刷電路板(未顯示)被固定在外殼12的底壁的外表面上。印刷電路
9板通過電路板單元21來控制主軸電動機18、 VCM 24和磁頭40的操作。
磁盤16在其上下表面上都有磁記錄層。此外，在磁盤16的表面上覆 蓋有潤滑劑(例如，油)，其厚度約為1 nm。磁盤16安裝在主軸電動機 18的主軸(未顯示)上，并通過彈簧夾17固定在該主軸上。如果主軸電 動機18受到驅(qū)動，那么，磁盤16就以預(yù)定的速度(例如，4200 rpm)沿 箭頭B所示方向轉(zhuǎn)動。
托架組件22設(shè)置有固定在外殼12的底壁上的軸承部分26以及從所述 軸承部分延伸出來的若干個臂32。所述臂32平行于磁盤16的表面并且彼 此隔開。此外，這些臂32從軸承部分26沿同一方向延伸。托架組件22 設(shè)置有懸架38,該懸架是彈性可變形的細長的片。每個懸架38都由片簧 制成，懸架的近端通過點焊或膠接固定在其相應(yīng)的臂32的遠端，并且懸架 從該臂延伸出去?；蛘撸總€懸架38可以與其相應(yīng)的臂32形成為一個整 體。臂32和懸架38構(gòu)成了磁頭懸架，而磁頭懸架和磁頭40構(gòu)成了磁頭懸 架組件。
如圖2所示，每個磁頭40包括具有基本上是長方形平行六面體形狀的 滑塊42以及在所述滑塊上的讀/寫頭部分44。所逸磁頭40固定在位于每個 懸架38的遠端部分上設(shè)置的萬向節(jié)彈簧41上。由于懸架38的彈性，每個 磁頭40都承受磁頭負荷L，該負荷指向磁盤16表面。
如圖1所示，托架組件22包括從軸承部分26沿著與臂32相反的方向 延伸出去的支撐框45。所述支撐框支撐著構(gòu)成VCM 24的一部分的音圏 47。支撐框45由塑料塑成并與音圏47的外沿結(jié)合為一體。音圏47位于固 定在外殼12上的一對軛49之間，并與這些扼以及固定在一個軛上的磁體 (未顯示)共同構(gòu)成VCM 24。如果對音圏47進行激勵，那么托架組件 22就繞著軸承部分26擺動，于是每個磁頭40就被移動到磁盤16上的預(yù) 期磁道的上方的區(qū)域中并定位在那里。
斜坡加載機構(gòu)25包括斜坡51和突出部53。斜坡51設(shè)置于外殼12的 底壁上并位于磁盤16之夕卜。各突出部53分別從懸架38的各個遠端延伸出 來。當托架組件22擺動到其在磁盤16之外的縮進位置上時，每個突出部53就與斜坡51的斜坡面接合，然后沿著斜坡面^皮向上拉動，由此，可以 將每個磁頭40卸載。
下面將詳細描述每個磁頭40的配置。圖3是一個透^L圖，顯示了磁頭 的滑塊，圖4是該滑塊的平面圖，而圖5是該滑塊的截面圖。
如圖3到5所示，磁頭40包括具有實質(zhì)是長方形平行六面體形狀的滑 塊42。所述滑塊具有長方形面對磁盤的面(ABS)43、氣流流入端端面44a、 氣流流出端端面44b、以及一對側(cè)面44c。面對磁盤的面43面對著磁盤16 的表面。氣流流入端和氣流流出端端面44a和44b垂直于所述面對磁盤的 面延伸。側(cè)面44c在所述端面44a和44b之間并垂直于所述面對磁盤的面 延伸。
設(shè)面對磁盤的面43的縱向為第一方向X，而與其垂直的橫向為第二方 向Y。將滑塊42 ^L成所謂的飛米滑塊(femto slider),其在第一方向X 上的長度L為1.25 mm或更小(例如0.85 mm )，在第二方向Y上的寬度 W為1.0mm或更小(例如，0，7mm)。
將磁頭40制成飛行頭，其中，當磁盤16轉(zhuǎn)動時，在磁盤表面和面對 磁盤的面43之間所產(chǎn)生的空氣流C (參見圖2 )會使滑塊42飛起來。當 HDD正在工作時，滑塊42的面對磁盤的面43 —定會與磁盤表面之間有一 段間隙?？諝饬鰿的方向與磁盤16的轉(zhuǎn)動方向B—致。滑塊42的放置使 得與磁盤16的表面相對的所述面對磁盤的面43的第一方向X基本上與空 氣流C的方向一致。
如圖3到5所示，負壓腔54形成為從面對磁盤的面43的基本上的中 心部分延伸到氣流流出端。負壓腔54是一個凹腔，其開口朝向氣流流出端 端面44b?；瑝K42形成為例如0.23 mm 厚，負壓腔54的深度為800到1500 nm(例如，1500 nm)。負壓腔54用來在HDD的每個適宜的偏航角(yaw angle)中在面對萬茲盤的面43的中心部分產(chǎn)生負壓。
在面對磁盤的面43的氣流流入端部分上形成一個基本上是長方形的 前沿臺階部分50。前沿臺階部分50凸起從而高于負壓腔54的底面，比面 對磁盤的面43低一些，相對于空氣流C而言位于負壓腔54的氣流流入端。在面對磁盤的面43上形成一對側(cè)面部分(side portion ) 46，這對側(cè)面 部分沿著面43的側(cè)邊延伸，彼此相對，在其中間在第二方向Y上形成間 隔。所述側(cè)面部分46從負壓腔54的底面上突起，從前沿臺階部分50朝著 滑塊42的下游端延伸。前沿臺階部分50和所述一對側(cè)面部分46相對于滑 塊42的中軸D而言是對稱的。作為一個整體，它們形成了U形形狀，在 上游端是閉合的，在下游端是敞開的。前沿臺階部分50和側(cè)面部分46確 定了負壓腔54。
為了保持磁頭40的傾斜角(pitch angle ),利用空氣膜來支撐滑塊42 的前沿墊(leading pad) 52從前沿臺階部分50上突出。前沿墊52沿著第 二方向Y連續(xù)地延伸，貫穿前沿臺階部分50的寬度，其位置朝著下游方 向與滑塊42的氣流流入端端面44a錯開。
側(cè)墊48形成在每個側(cè)面部分46之上并與前沿墊52相連。前沿墊52 和側(cè)墊48形成為基本上是平坦的，并構(gòu)成了面對磁盤的面43。
在每個側(cè)墊48中連續(xù)地形成第一凹陷56a和第二凹陷56b。第一凹陷 56a和第二凹陷56b朝著面對磁盤的面43的氣流流入端方向以及朝著磁盤 表面的方向敞開。每個凹陷56a和56b都是長方形形狀，由基本上平行于 笫一方向X延伸的一對側(cè)邊以及將所述側(cè)邊的末端連接起來并基本上平行 于第二方向Y的底邊界定。第二凹陷56b比第一凹陷56a更深一些。
在滑塊42的面對磁盤的面43上形成有一對后緣部分57，這對后緣部 分各自沿著第一方向X從所述側(cè)面部分46朝著滑塊的氣流流出端筆直地 延伸。每個后緣部分57都形成為比側(cè)面部分46低一些，都凸起從而高于 負壓腔54的底面。每個后緣部分57比面向磁盤的面43低例如100到200 nm。
在所述后緣部分57的相對于第二方向Y而言的外側(cè)形成沿著每個后 緣部分57連續(xù)延伸的中間臺階部分70。每個中間臺階部分70形成為比每 個后緣部分57低，但比負壓腔54高。每個中間臺階部分70比面對磁盤的 面43低例如200到400 nm。在本實施例中，中間臺階部分70在其相應(yīng)的 后緣部分57和側(cè)面部分46的外側(cè)沿著這些部分連續(xù)地延伸。每個中間臺階部分70與其相應(yīng)的側(cè)面44c對齊。
滑塊42包括后沿臺階部分58，該部分相對于空氣流C而言形成在面 向磁盤的面43的氣流流出端部分上。后沿臺階部分58凸起從而高于負壓 腔54的底面，其凸起高度等于前沿臺階部分50的高度。換言之，后沿臺 階部分58形成為從面對磁盤的面43算起的深度與前沿臺階部分50的相 等，為50到250 nm，例如為100 nm。后沿臺階部分58相對于空氣流C 而言位于負壓腔54的下游端，相對于第二方向Y而言基本上在面對磁盤 的面43的中心處。此外，后沿臺階部分58從滑塊42的氣流流出端端面 44b朝著氣流流入端端面44a的方向稍稍有些偏移。
如圖3到5所示，后沿臺階部分58基本上是長方形平行六面體的形狀， 其上游端上的兩個角落部分有倒角。后沿臺階部分58具有面對磁盤表面的 上表面。
利用空氣膜來支撐滑塊42的后沿墊60從后沿臺階部分58的所述上表 面上突出。后沿墊60形成為與前沿墊52和側(cè)墊48的高度相同，其表面構(gòu) 成面對/f茲盤的面43的一部分。
后沿墊60包括基本上是長方形的基底部分62和從該基底部分沿著第 二方向Y向相對兩側(cè)延伸的一對翼部64。在后沿臺階部分58上，基底部 分62設(shè)置于氣流流出端的中軸D上并相對于第二方向Y而言基本上在中 心處。每個翼部64在第一方向X上從基底部分62的每個末端朝著滑塊42 的上游端延伸。
磁頭40的磁頭部分44包括在磁盤16上記錄和再現(xiàn)信息的記錄元件和 再現(xiàn)元件。相對于空氣流C的方向而言，所述記錄和再現(xiàn)元件嵌在滑塊42 的下游端部分中。所述再現(xiàn)和記錄元件具有讀/寫間隙(未顯示)，這段間 隙在后沿墊60限定。
根據(jù)按這種方式制造的HDD以及磁頭懸架組件，當磁盤16轉(zhuǎn)動時在 磁盤表面和面對磁盤的面43之間所產(chǎn)生的空氣流C使磁頭40飛起來。所 以，當HDD工作時，滑塊42的面對》茲盤的面43 —定與》茲盤表面^(呆持一 段空隙，以這種方式與磁盤表面相對。如圖2所示，磁頭40以傾斜姿態(tài)飛行，使得磁頭部分44中的讀/寫間隙最靠近磁盤表面。
由于滑塊42的面對》茲盤的面43上設(shè)置有負壓腔54,所以，在HDD 的每個適宜的偏航角中，磁頭40都能夠在所述面43的中心部分上產(chǎn)生負 壓。此外，在后緣部分57和側(cè)面部分46的外側(cè)設(shè)置有較低的中間臺階部 分70，使得滑塊和磁盤16的表面之間的間隙變窄。這樣，能夠?qū)缶壊?分57和側(cè)面部分46外側(cè)的空氣流進行調(diào)節(jié)以增加流速。因此，能夠防止 空氣的停滯，從而能夠減小潤滑劑在后緣部分57和側(cè)面部分46外側(cè)的粘 附。
下面將描述氣流調(diào)節(jié)的機制。圖6是空氣流的概念圖，而下面的方程 (1)是計算在滑塊長度方向(第一方向X)上的流速Q(mào)x的公式。
a = r w血^"^^-
"』 212, 5x
其中，W、 K、好、和JC分別為沿滑塊長度方向的速度函數(shù)、
磁盤速度、磁盤表面和ABS (面對磁盤的面)之間的間隙、空氣的粘度系 數(shù)、空氣膜壓強以及滑塊長度方向。
從方程(1)中可以看到，如果磁盤速度V為常數(shù)，當間隙H減小時， 流速Q(mào)x增加，因為在方程(1)的第二項中有H3。因此，通過在滑塊42 的后緣部分57的外側(cè)提供淺臺階或中間臺階部分70、由此使滑塊和磁盤 表面間的間隙H變窄，能夠調(diào)節(jié)后緣部分57和側(cè)面部分46的外側(cè)的空氣 流，以增加流速。
本發(fā)明人制備了根據(jù)本實施例以及根據(jù)對照例的滑塊，其中在對照例 中，在后緣部分的外側(cè)沒有所述中間臺階部分，如圖7所示，另外對這些 滑塊進行了流速分析，并就后緣部分和側(cè)面部分的外側(cè)的空氣流比較了這 些滑塊。圖8顯示了才艮據(jù)所述對照例所述的滑塊中的空氣流，圖9顯示了 根據(jù)本實施例所述的滑塊中的空氣流。
在對照例中，如圖8所示，相對于滑塊的長度方向(第一方向X)而 言，后緣部分57和側(cè)面部分46的外側(cè)的空氣流都是傾斜的。另一方面， 在才艮據(jù)本實施例所述的滑塊42中，如圖9所示，在后緣部分57和側(cè)面部分46的外側(cè)的中間臺階部分70處的空氣流基本上平行于滑塊長度方向X, 因而驗證了氣流調(diào)節(jié)效果。
通過中間臺階部分70的這個氣流調(diào)節(jié)效應(yīng)，能夠調(diào)節(jié)后緣部分57和 側(cè)面部分46的外側(cè)的空氣流，以增加流速，從而減小潤滑劑的粘附。因此， 就能夠防止因潤滑劑的滴落而導(dǎo)致的滑塊的高飛，從而磁頭能夠精確地寫 和讀信息。另外，由于在后沿臺階部分的每側(cè)都沒有提供中間臺階部分， 所以能夠抑制滑塊飛行高度的變化，從而在不減少負載的情況下提高可靠 性和穩(wěn)定性。
于是，可以獲得可靠性和穩(wěn)定性得到改善并能夠減小潤滑劑對滑塊的 粘附的磁頭、設(shè)置有這種磁頭的磁頭懸架組件、以及磁盤裝置。
圖10示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明的第二實施例所述的磁盤裝置的磁頭 40。根據(jù)本實施例，只在后緣部分57的外側(cè)沿著該部分形成滑塊42的中 間臺階部分70。
在根據(jù)本發(fā)明的第三實施例所述的磁盤裝置的磁頭40中，如圖11所 示，在后緣部分57、側(cè)面部分46以及前沿臺階部分50的外側(cè)沿著這些部 分都形成滑塊42的中間臺階部分70，從而使中間臺階部分70基本上貫通 滑塊42的每個側(cè)面邊緣的長度。
在根據(jù)本發(fā)明的第四實施例所述的磁盤裝置的磁頭40中，如圖12所 示，滑塊42的每個后緣部分57都包括從側(cè)面部分46沿第一方向延伸的第 一部分57a和從所述第一部分的延伸端沿第二方向朝著后沿臺階部分58 延伸的第二部分57b。中間臺階部分70位于所述第一部分57a的外側(cè)并沿 著該部分延伸。
在根據(jù)本發(fā)明的第五實施例所述的磁盤裝置的磁頭40中，如圖13所 示，滑塊42的每個后緣部分57都包括從側(cè)面部分46沿第一方向延伸的第 一部分57a，和從所述第一部分的延伸端朝著后沿臺階部分58彎曲延伸的 第二部分57b。中間臺階部分70位于所述笫一和第二部分57a和57b的外 側(cè)并沿著這些部分延伸。
在根據(jù)本發(fā)明的第六實施例所述的磁盤裝置的磁頭40中，如圖14所
15示，滑塊42的每個后緣部分57都包括從側(cè)面部分46沿第一方向延伸的第 一部分57a，和從所述第一部分的延伸端沿第二方向背離后沿臺階部分58 延伸的第二部分57b。中間臺階部分70位于所述第一和第二部分57a和57b
的外側(cè)并沿著這些部分延伸。
在第二到第六實施例中，滑塊的其它配置與前述第一實施例中的相同，
因而使用相同的參考數(shù)字來指定相同的部分，并省略了對它們的詳細描述。 另外，在第二到第六實施例中，通過利用所述中間臺階部分來調(diào)節(jié)氣流， 能夠增加流速，并且能夠獲得與第一實施例相同的功能和效果。
本發(fā)明并不僅限于上述實施例，在實施本發(fā)明時，其部件能夠以修正 形式來實現(xiàn)而不偏離本發(fā)明的范圍或精神。此外，通過將前述實施例中所 描述的多個部件適當?shù)亟Y(jié)合起來，可以做出各種發(fā)明。例如，前述實施例 所述的一些部件可以省略。此外，根據(jù)不同實施例所述的部件可以按需要 結(jié)合起來。
滑塊的所述前沿臺階部分、后沿臺階部分、中間臺階部分、以及各個 墊的形狀、尺寸等不限于這里所描述的實施例，可以按需要進行改變。本 發(fā)明不限于飛米滑塊，也可以運用于皮米滑塊(pico slider)、玻米滑塊 (pemto slider )或任何其它較大的滑塊。磁盤的數(shù)目可以增加，不限于一 個。
對那些熟悉本技術(shù)的人員來說，可以很容易發(fā)現(xiàn)其它的優(yōu)點和修正方 法。所以，本發(fā)明就其更廣泛的方面而言不限于這里所顯示和描述的具體 細節(jié)和有代表性的實施例。因此，可以進行各種修正而不偏離由附屬權(quán)利
要求書及其等價說法所定義的總的發(fā)明性概念的精神或范圍。
權(quán)利要求
1.一種磁頭，其特征在于包括滑塊，該滑塊具有與可轉(zhuǎn)動的記錄介質(zhì)的表面相對的正面、與所述正面橫交地延伸的氣流流入端端面、以及與所述正面橫交地延伸的氣流流出端端面，該滑塊配置為，當所述記錄介質(zhì)轉(zhuǎn)動時，所述記錄介質(zhì)表面與所述正面之間所產(chǎn)生的空氣流會使所述滑塊飛起來；以及磁頭部分，設(shè)置于所述滑塊上，并配置為用來在所述記錄介質(zhì)上記錄和再現(xiàn)信息，所述滑塊的所述正面包含沿著所述空氣流的第一方向和與所述第一方向垂直的第二方向，所述滑塊包含負壓腔，該負壓腔形成在所述正面內(nèi)，并配置來產(chǎn)生負壓；前沿臺階部分，該前沿臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的上游端；一對側(cè)面部分，該對側(cè)面部分相對于所述負壓腔突出出來，從所述前沿臺階部分沿著所述第一方向朝著所述滑塊的氣流流出端延伸，它們彼此相對，在其之間在第二方向形成間隔；后沿臺階部分，該后沿臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的氣流流出端，其上表面與所述記錄介質(zhì)相對；一對后緣部分，該對后緣部分形成在所述正面上，相對于所述負壓腔突出出來，從所述側(cè)面部分沿著所述第一方向朝著所述滑塊的氣流流出端延伸，并且比所述側(cè)面部分深一些；以及中間臺階部分，該中間臺階部分相對于所述第二方向而言在所述后緣部分的外側(cè)并沿著所述后緣部分連續(xù)地延伸，并且該部分形成為比所述后緣部分更深一些而比所述負壓腔更淺一些。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的磁頭，其特征在于，所述中間臺階部分分別 在所述后緣部分和所述側(cè)面部分外側(cè)沿著這些部分連續(xù)地延伸。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述中間臺階部分分別 在所述后緣部分、所述側(cè)面部分、以及所述前沿臺階部分的外側(cè)并沿著這些部分連續(xù)地延伸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的磁頭，其特征在于，每個所述后緣部分都包 括從所述側(cè)面部分沿所述第一方向延伸的第一部分、和從所述第一部分的 延伸端沿所述第二方向朝著后沿臺階部分延伸的第二部分，并且所述中間 臺階部分位于所述第一部分的外側(cè)并沿著該部分延伸。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的磁頭，其特征在于，每個所述后緣部分都包 括從所述側(cè)面部分沿所述第一方向延伸的第一部分、和從所述第一部分的 延伸端朝著所述后沿臺階部分彎曲延伸的第二部分，并且，所述中間臺階 部分位于所述第一部分和第二部分的外側(cè)并沿著這些部分延伸。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的磁頭，其特征在于，每個所述后緣部分都包 括從所述側(cè)面部分沿所述第一方向延伸的第一部分、和沿所述第二方向背 向所述后沿臺階部分延伸的第二部分，并且，所述中間臺階部分位于所述 第一部分和第二部分的外側(cè)并沿著這些部分延伸。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1到6中的任何一項權(quán)利要求所述的磁頭，其特征在 于，所述滑塊具有與所述正面橫交的相對的側(cè)面，這對側(cè)面在所述氣流流 入端和所述氣流流出端的端面之間沿所述笫一方向延伸，并且，所述中間 臺階部分分別與這些側(cè)面對齊。
8. —種用于磁盤裝置中的磁頭懸架組件，其中，所M盤裝置包括圓 盤形記錄介質(zhì)和配置來支撐所述記錄介質(zhì)并使其轉(zhuǎn)動的驅(qū)動部分，所M 頭懸架組件的特征在于包括磁頭，包含滑塊，其中，所述滑塊具有與所述記錄介質(zhì)的表面相對的 正面、與所述正面橫交地延伸的氣流流入端端面、以及與所述正面橫交地 延伸的氣流流出端端面，所述滑塊配置為，當所述記錄介質(zhì)轉(zhuǎn)動時，所述 記錄介質(zhì)表面與所述正面之間所產(chǎn)生的空氣流會使所述滑塊飛起來；所述 磁頭還包括設(shè)置于所述滑塊上的磁頭部分，該磁頭部分配置為用來在所述 記錄介質(zhì)上記錄和再現(xiàn)信息；以及磁頭懸架，配置為用來支撐所迷磁頭以相對于所述記錄介質(zhì)移動，并 在所述磁頭上施加指向所述記錄介質(zhì)表面的磁頭負荷，所述滑塊的所述正面具有沿著所述空氣流的第一方向和與所述第一方 向垂直的第二方向，所述滑塊包含負壓腔，該負壓腔形成在所述正面內(nèi)，并配置為用來產(chǎn)生負壓；前沿臺階部分，該前沿臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并 相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的上游端； 一對側(cè)面部分，該對側(cè) 面部分相對于所述負壓腔突出出來，從所述前沿臺階部分沿著所述第一方 向朝著所述滑塊的氣流流出端延伸，它們彼此相對，在其之間在所述笫二 方向上形成間隔；后沿臺階部分，該后沿臺階部分相對于所述負壓腔突出 出來，并相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的氣流流出端，其上表面 與所述記錄介質(zhì)相對； 一對后緣部分，該對后緣部分形成在所述正面上， 相對于所述負壓腔突出出來，從所述側(cè)面部分沿著所述第一方向朝著所述 滑塊的氣流流出端延伸，并且比所述側(cè)面部分更深一些；以及中間臺階部 分，該中間臺階部分相對于所述第二方向而言在所述后緣部分的外側(cè)并沿 著所述后緣部分連續(xù)地延伸，該部分形成為比所述后緣部分更深一些而比 所述負壓腔更淺一些。
9. 一種磁盤裝置，其特征在于包括圓盤形記錄介質(zhì)；配置為用來支撐所述記錄介質(zhì)并使其轉(zhuǎn)動的驅(qū)動部分；磁頭，包含滑塊，其中，所述滑塊具有與所述記錄介質(zhì)的表面相對的 正面、與所述正面橫交地延伸的氣流流入端端面、以及與所述正面橫交地 延伸的氣流流出端端面，所述滑塊配置為，當所述記錄介質(zhì)轉(zhuǎn)動時，所述 記錄介質(zhì)表面與所述正面之間所產(chǎn)生的空氣流會使所述滑塊飛起來；所述 磁頭還包括磁頭部分，該磁頭部分設(shè)至于所述滑塊上，并配置為用來在所 述記錄介質(zhì)上記錄和再現(xiàn)信息；以及磁頭懸架，配置為用來支撐所述磁頭以相對于所述記錄介質(zhì)移動，并 在所述磁頭上施加指向所述記錄介質(zhì)表面的磁頭負荷，所述滑塊的所述正面具有沿著所述空氣流的第一方向和與所述第一方 向垂直的第二方向，所述滑塊包含負壓腔，該負壓腔形成在所述正面內(nèi)，并配置為用來產(chǎn)生負壓；前沿臺階部分，該前沿臺階部分相對于所述負壓腔突出出來，并 相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的上游端； 一對側(cè)面部分，該對側(cè) 面部分相對于所述負壓腔突出出來，從所述前沿臺階部分沿著所述第一方 向朝著所述滑塊的氣流流出端延伸，它們彼此相對，在其之間在所述笫二 方向上形成間隔；后沿臺階部分，該后沿臺階部分相對于所述負壓腔突出 出來，并相對于所述空氣流而言位于所述負壓腔的氣流流出端，其上表面 與所述記錄介質(zhì)相對； 一對后緣部分，該對后緣部分形成在所述正面上， 相對于所述負壓腔突出出來，從所述側(cè)面部分沿著所述笫一方向朝著所述 滑塊的氣流流出端延伸，并且比所述側(cè)面部分更深一些；以及中間臺階部 分，該中間臺階部分相對于所述第二方向而言在所述后緣部分的外側(cè)并沿 著所述后緣部分連續(xù)地延伸，該中間臺階部分形成為比所述后緣部分更深 一些而比所述負壓腔更淺一些。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種磁頭、磁頭懸架組件、以及磁盤裝置。該磁頭(40)的滑塊(42)包括，形成在面對記錄介質(zhì)的面(43)內(nèi)的負壓腔(54)；位于所述負壓腔的上游端的前沿臺階部分(58)；一對彼此相對的側(cè)面部分(46)；位于所述負壓腔的氣流流出端的后沿臺階部分(58)；一對后緣部分(57)，該部分從所述側(cè)面部分沿著所述第一方向朝著所述滑塊的氣流流出端延伸，并且比所述側(cè)面部分深一些；以及中間臺階部分(70)，該部分相對于所述第二方向而言在所述后緣部分的外側(cè)并沿著所述后緣部分連續(xù)地延伸，該部分比所述后緣部分深一些而比所述負壓腔淺一些。
文檔編號G11B5/60GK101604533SQ20091000144
公開日2009年12月16日 申請日期2009年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月12日
發(fā)明者羽生光伸 申請人:株式會社東芝