專利名稱：光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種光驅(qū)，尤其是關(guān)于光驅(qū)的光學(xué)讀取頭在光雕片標(biāo)簽面內(nèi)環(huán)聚焦 時(shí)，校正聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱性的方法。
背景技術(shù)：
一般的光盤片有兩面，一面為數(shù)據(jù)面，一面為標(biāo)簽面，已知制作標(biāo)簽的方法為 利用筆或標(biāo)簽貼紙?jiān)跇?biāo)簽面上做記號(hào)以為識(shí)別。近來發(fā)展出光雕(LightScribe)標(biāo)簽的技 術(shù)，利用光驅(qū)的光學(xué)讀取頭(Pick-up Head)發(fā)射一激光，將使用者所需的圖形文字刻劃 在光雕片的標(biāo)簽面上，制作美觀且個(gè)人化的光盤片。如圖1所示，為先前技術(shù)光學(xué)讀取頭讀寫光雕片標(biāo)簽面示意圖。其中光雕片 10標(biāo)簽面內(nèi)環(huán)包含了一操作特征區(qū)(Control Feature Zone) 11，操作特征區(qū)11內(nèi)緣部分設(shè) 置有400個(gè)幅絲(Spoke) 12，前述幅絲12以等角度的方式平均分布在操作特征區(qū)11內(nèi) 緣。通過對(duì)幅絲12的讀取與判斷，提供光學(xué)讀取頭20在標(biāo)簽區(qū)13進(jìn)行描繪時(shí)相對(duì)位置 的角度定位。操作特征區(qū)11外緣部分則提供了光雕片10的相關(guān)信息記號(hào)，例如媒體 ID (Media ID Field)、鋸齒型式樣(saw-tooth)以及索引標(biāo)記(index mark)等，而數(shù)據(jù)記號(hào) 區(qū)及非數(shù)據(jù)記號(hào)區(qū)是以相差較大光反射率的材質(zhì)區(qū)分。由于光雕片10的制造廠商、制程及材料有所差異，光學(xué)讀取頭20為在標(biāo)簽區(qū) 13描繪出正確的圖形文字，必須在進(jìn)行描繪之前，先讀取光雕片10操作特征區(qū)11所記 錄的相關(guān)信息，以便將描繪光雕片10的策略參數(shù)調(diào)整至最佳狀態(tài)。讀取信息時(shí)，先前 技術(shù)的光學(xué)讀取頭20，利用不同大小的電壓形成電磁力，驅(qū)動(dòng)由彈線21懸浮支撐的物鏡 (Lens) 22上下左右移動(dòng)，并對(duì)由主軸馬達(dá)23轉(zhuǎn)動(dòng)光雕片10的操作特征區(qū)11發(fā)射一激光 束，根據(jù)光檢測器24中各受光部A、B、C及D所接收反射光點(diǎn)(Spot) 25的光通量，由 (A+C)_(B+D)經(jīng)放大器26放大信號(hào)，計(jì)算得到聚焦誤差信號(hào)(Focusing Error Signal，簡 稱FE)。利用零穿越的聚焦誤差信號(hào)S曲線(S-curve)，讓物鏡22聚焦鎖定在操作特征 區(qū)11位置，以利光學(xué)讀取頭20正確讀取操作特征區(qū)11的信息。 然而，光學(xué)讀取頭20的光路設(shè)計(jì)、制造及組裝誤差，會(huì)造成受光部(A+C)與 (B+D)受光不對(duì)稱，導(dǎo)致產(chǎn)生上下不對(duì)稱的聚焦誤差信號(hào)，而無法正確聚焦。先前技術(shù) 雖然使用固定的增益值G校正受光部，HFE = G(A+C)-(B+D)，以消除聚焦誤差信號(hào) 的上下不對(duì)稱性。但是固定的增益值G —般是以物鏡22位于光學(xué)讀取頭20中心取得。 當(dāng)物鏡22移離光學(xué)讀取頭20中心，因光路變化及物鏡22角度偏移，反射光點(diǎn)(Spot) 25 不對(duì)稱照射狀態(tài)亦隨之改變。固定的增益值G對(duì)其他物鏡22位置，不是太大就是可能過 小，并無法改善聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，甚至惡化不對(duì)稱性，進(jìn)而容易導(dǎo)致聚焦伺服 無法正確地進(jìn)行聚焦。尤其在讀取光雕片10操作特征區(qū)的數(shù)據(jù)時(shí)，操作特征區(qū)的聚焦誤 差信號(hào)原屬較差，再加上光反射率較差的非數(shù)據(jù)記號(hào)區(qū)，不對(duì)稱性聚焦誤差信號(hào)的較小 一半信號(hào)將再急遽萎縮，以致漏失聚焦誤差信號(hào)而失焦，增加重新聚焦讀取時(shí)間，降低 標(biāo)簽描繪的效率。因此，先前技術(shù)光驅(qū)的光學(xué)讀取頭在改善聚焦誤差信號(hào)的對(duì)稱上，仍有問題亟待解決。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于 提供一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，通過徑向校正光學(xué) 讀取頭的聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱的最佳增益值，以改善聚焦誤差信號(hào)的對(duì)稱性。本發(fā)明另一目的在于提供一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，通過近似最佳增 益值曲線，加強(qiáng)光雕片操作特征區(qū)的聚焦伺服，以降低聚焦的失敗機(jī)會(huì)。本發(fā)明再一目的在于提供一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，通過內(nèi)或外插近 似最佳增益值曲線，取得聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱的最佳增益值，正確讀取操作特征區(qū)的數(shù) 據(jù)，以利描繪標(biāo)簽。為了達(dá)到前述發(fā)明的目的，本發(fā)明的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，設(shè)定聚焦 參考面；移動(dòng)光學(xué)讀取頭至該聚焦參考面；利用徑向電壓移動(dòng)物鏡至預(yù)定個(gè)校正位置， 進(jìn)行聚焦操作且尋找最佳增益值校正各校正位置聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，并記錄各校 正位置徑向電壓及最佳增益值；根據(jù)記錄的徑向電壓及最佳增益值，近似最佳增益值曲 線；根據(jù)驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓，由最佳增益值曲線取得最佳增益值，校正光雕片聚焦誤 差信號(hào)的不對(duì)稱性。本發(fā)明的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，在繪制光雕片時(shí)，將光雕片置入光 驅(qū)，且不轉(zhuǎn)動(dòng)光雕片；移動(dòng)光學(xué)讀取頭至光雕片的操作特征區(qū)后靜止不動(dòng)；利用不相同 或等差的預(yù)設(shè)徑向電壓徑向移動(dòng)物鏡至一校正位置，進(jìn)行聚焦操作，取得聚焦誤差信號(hào) 且調(diào)整聚焦誤差信號(hào)的電平；尋找最佳增益值，校正聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，并記錄 該校正位置的徑向電壓及最佳增益值；檢查已記錄預(yù)定個(gè)校正位置，根據(jù)記錄的徑向電 壓及最佳增益值，近似最佳增益值曲線；讀取操作特征區(qū)，根據(jù)驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓， 由最佳增益值曲線取得最佳增益值，以校正光雕片聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性。


圖1為先前技術(shù)光學(xué)讀取頭讀寫光雕片標(biāo)簽面的示意圖。圖2(a)至(d)為本發(fā)明光學(xué)讀取頭在校正位置校正聚焦誤差信號(hào)的示意圖。圖3為本發(fā)明操作特征區(qū)聚焦誤差信號(hào)校正的示意圖。圖4為本發(fā)明校正過程產(chǎn)生的聚焦誤差信號(hào)。圖5為本發(fā)明校正過程的最佳增益值。圖6為本發(fā)明近似的最佳增益值曲線。圖7為本發(fā)明光雕片聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱校正方法的流程圖。[主要元件標(biāo)號(hào)說明]30光學(xué)讀取頭31光雕片 32操作特征區(qū)33物鏡 34光檢測器35反射光點(diǎn)
具體實(shí)施例方式有關(guān)本發(fā)明為達(dá)成上述目的，所采用的技術(shù)手段及其功效，茲舉較佳實(shí)施例， 并配合圖式加以說明如下。
請(qǐng)參考圖2(a)至(d)，圖2(a)至(d)為本發(fā)明光學(xué)讀取頭在校正位置校正聚焦 誤差信號(hào)過程的示意圖。如圖2(a)所示，進(jìn)行校正時(shí)，將光學(xué)讀取頭30移動(dòng)對(duì)準(zhǔn)一聚焦 參考面后靜止不動(dòng)，聚焦參考面為例如一般光盤片的數(shù)據(jù)面等可聚焦的平面，本實(shí)施例 的聚焦參考面系以光雕片31的操作特征區(qū)32為例，且讓光雕片31靜止不轉(zhuǎn)動(dòng)，以免光 反射率相差較大的數(shù)據(jù)記號(hào)區(qū)及非數(shù)據(jù)記號(hào)區(qū)交叉通過，干擾校正。光學(xué)讀取頭30再以 一徑向電壓Vt，驅(qū)動(dòng)物鏡33沿著平行光雕片31標(biāo)簽面的徑向方向T移動(dòng)至一校正位置。 接著利用聚焦電壓Vf，驅(qū)動(dòng)物鏡33沿著垂直光雕片31標(biāo)簽面的聚焦方向F移動(dòng)。如圖 2(b)所示，在該校正位置，當(dāng)聚焦電壓Vf隨著時(shí)間的增加，驅(qū)動(dòng)物鏡33沿著聚焦方向 F向上移動(dòng)，使由物鏡33投射光束的焦點(diǎn)接近并穿越操作特征區(qū)32，進(jìn)行聚焦操作。如 圖2(c)所示，在該校正位置，物鏡33完成聚焦操作后，光學(xué)讀取頭30會(huì)產(chǎn)生一不對(duì)稱 的S曲線聚焦誤差信號(hào)，聚焦誤差信號(hào)的正半周期振幅H不等于負(fù)半周期的振幅h，且聚 焦誤差信號(hào)電平有所偏移，需先調(diào)整內(nèi)部電路的偏壓使聚焦誤差信號(hào)以電平L為準(zhǔn)。如 圖2(d)所示，再根據(jù)聚焦誤差信號(hào)不相同大小振幅的正半周期及負(fù)半周期，尋找一增益 值G，將負(fù)半周期振幅h乘上增益值G進(jìn)行校正，使得正半周期振幅H等于負(fù)半周期振 幅h乘以增益值G，即H = hXG，以取得該校正位置的最佳增益值G，完成一校正位置 的校正操作。請(qǐng)同時(shí)參考圖3、圖4以及圖5，圖3為本發(fā)明在操作特征區(qū)聚焦誤差信號(hào)校正 的示意圖，圖4為校正過程產(chǎn)生的聚焦誤差信號(hào)，圖5為校正的最佳增益值曲線。如圖3 所示，本實(shí)施例以可聚焦的光雕片31操作特征區(qū)32作為聚焦參考面。操作特征區(qū)32的 徑向?qū)挾燃s為650 μ m，進(jìn)行校正過程中，光學(xué)讀取頭30靜止不動(dòng)對(duì)著操作特征區(qū)32， 在光學(xué)讀取頭30中以不同的徑向電壓Vt驅(qū)動(dòng)物鏡33至數(shù)個(gè)分散的校正位置，本實(shí)施例 中利用五個(gè)不同的徑向電壓Vtl、Vt2、Vt3、Vt4、Vt5，將物鏡33移動(dòng)至五個(gè)間距約為 150 μ m的校正位置。并利用光檢測器34接收每一校正位置激光束經(jīng)過操作特征區(qū)32反 射的反射光點(diǎn)35，以產(chǎn)生聚焦誤差信號(hào)。如圖4所示，依照前述圖2對(duì)單一校正位置校正聚焦誤差信號(hào)的過程，一一分別 對(duì)各校正位置進(jìn)行聚焦操作，可獲得各校正位置聚焦誤差信號(hào)的S曲線，各S曲線具有不 同大小的正半周期振幅HI、H2、H3、H4、H5與負(fù)半周期振幅hi、h2、h3、h4、h5， 調(diào)整電平L使得各校正位置的S曲線信號(hào)基準(zhǔn)一致。如圖5所示，對(duì)各校正位置分別尋 找最佳增益值G，以調(diào)整各校正位置不對(duì)稱的聚焦誤差信號(hào)S曲線，讓各校正位置聚焦誤 差信號(hào)S曲線的正半周期振幅等于負(fù)半周期振幅，即Hl=hlXGl、H2 = h2XG2、H3 = h3XG3、H4 = h4XG4、H5 = h5XG5。分別記錄各校正位置的徑向電壓Vtl、Vt2、 Vt3、Vt4、Vt5及其相對(duì)的最佳增益值Gl、G2、G3、G4、G5。如圖6所示，為近似的最佳增益值曲線。根據(jù)前述記錄各校正位置的徑向電壓 Vtl、Vt2、Vt3、Vt4、Vt5為橫坐標(biāo)，而其相對(duì)的最佳增益值Gl、G2、G3、G4、G5為 縱坐標(biāo)，可近似出該光學(xué)讀取頭的最佳增益值曲線。當(dāng)光學(xué)讀取頭以任一徑向電壓Vta 驅(qū)動(dòng)物鏡移動(dòng)一距離，進(jìn)行聚焦伺服時(shí)，就可根據(jù)徑向電壓Vta，由最佳增益值曲線內(nèi)或 外插出，相對(duì)應(yīng)的最佳增益值Gn，使該校正位置的不對(duì)稱的聚焦誤差信號(hào)S曲線，在增 益校正后，正半周期振幅等于負(fù)半周期振幅，達(dá)到校正聚焦誤差信號(hào)的對(duì)稱性的目的。請(qǐng)參考圖7，圖7為本發(fā)明光雕片聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱校正方法的流程圖。本發(fā)明利用最佳增益值曲線徑向校正聚焦誤差信號(hào)對(duì)稱性的詳細(xì)步驟說明如下首先在步驟Rl 開始校正程序，將光雕片置入光驅(qū)，不轉(zhuǎn)動(dòng)標(biāo)簽面且正對(duì)光學(xué)讀取頭；進(jìn)入步驟R2移動(dòng) 光學(xué)讀取頭至操作特征區(qū)后靜止不動(dòng)；在步驟R3，利用預(yù)設(shè)徑向電壓徑向移動(dòng)物鏡至一 校正位置，該預(yù)設(shè)徑向電壓可為不相同或等差徑向電壓，以獲得分散的校正位置；進(jìn)入 步驟R4在校正位置進(jìn)行聚焦，以取得聚焦誤差信號(hào)的S曲線；進(jìn)入步驟R5，調(diào)整聚焦誤 差信號(hào)S曲線的信號(hào)電平；進(jìn)入步驟R6尋找最佳增益值，校正聚焦誤差信號(hào)S曲線的正 半周期振幅等于負(fù)半周期振幅，并記錄該校正位置的徑向電壓及最佳增益值；在步驟R7 檢查是否已記錄預(yù)定個(gè)校正位置？若未達(dá)到預(yù)定個(gè)校正位置則回至步驟R3，若已記錄預(yù) 定個(gè)校正位置則進(jìn)入步驟R8。在步驟R8，根據(jù)前述記 錄各校正位置的徑向電壓及其最佳增益值，近似光學(xué)讀 取頭的最佳增益值曲線；再進(jìn)入步驟R9，轉(zhuǎn)動(dòng)光雕片，并移動(dòng)光學(xué)讀取頭讀取操作特征 區(qū)；在步驟RlO根據(jù)光學(xué)讀取頭驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓，由最佳增益值曲線內(nèi)或外插出， 相對(duì)應(yīng)的最佳增益值；步驟Rll校正聚焦誤差信號(hào)S曲線的不對(duì)稱性，讓正半周期振幅 等于負(fù)半周期振幅。最后步驟R12，讀取操作特征區(qū)后，結(jié)束校正。因此，本發(fā)明光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，即可通過徑向校正聚焦誤差信號(hào) 對(duì)稱的最佳增益值，近似最佳增益值曲線，利用內(nèi)或外插近似最佳增益值曲線，取得聚 焦誤差信號(hào)對(duì)稱的最佳增益值，改善聚焦誤差信號(hào)的對(duì)稱性，避免光雕片操作特征區(qū)不 良的聚焦特性，加強(qiáng)光雕片操作特征區(qū)的聚焦伺服，降低聚焦的失敗機(jī)會(huì)，正確讀取操 作特征區(qū)的數(shù)據(jù)，以利描繪標(biāo)簽。以上所述者，僅用以方便說明本發(fā)明的較佳實(shí)施例，本發(fā)明的范圍不限于該等 較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明所做的任何變更，于不脫離本發(fā)明的精神下，皆屬本發(fā)明權(quán)利 要求的范圍。
權(quán)利要求
1.一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其步驟包含(1)設(shè)定聚焦參考面；(2)移動(dòng)光學(xué)讀取頭至該聚焦參考面；(3)利用徑向電壓移動(dòng)物鏡至預(yù)定個(gè)校正位置，進(jìn)行聚焦操作且尋找最佳增益值校正 各校正位置聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，并記錄各校正位置徑向電壓及最佳增益值；(4)根據(jù)記錄的徑向電壓及最佳增益值，近似最佳增益值曲線；及(5)根據(jù)驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓，由最佳增益值曲線取得最佳增益值，校正光雕片聚焦 誤差信號(hào)的不對(duì)稱性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該聚焦參考面為一光盤片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(3)的最佳增益 值使不對(duì)稱性的聚焦誤差信號(hào)的正半周期振幅等于負(fù)半周期振幅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(3)進(jìn)行聚焦操 作后調(diào)整聚焦誤差信號(hào)的信號(hào)電平。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(5)的最佳增益 值是由最佳增益值曲線內(nèi)或外差取得。
6.一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其步驟包含(1)將光雕片置入光驅(qū)，且不轉(zhuǎn)動(dòng)光雕片；(2)移動(dòng)光學(xué)讀取頭至光雕片的操作特征區(qū)后靜止不動(dòng)；(3)利用預(yù)設(shè)徑向電壓徑向移動(dòng)物鏡至一校正位置，進(jìn)行聚焦操作，取得聚焦誤差信 號(hào)且調(diào)整聚焦誤差信號(hào)的電平；(4)尋找最佳增益值，校正聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，并記錄該校正位置的徑向電壓 及最佳增益值；(5)檢查是否已記錄預(yù)定個(gè)校正位置？若未達(dá)到預(yù)定個(gè)校正位置則回至步驟(3)，若 已記錄預(yù)定個(gè)校正位置則進(jìn)入步驟(6)；(6)根據(jù)記錄的徑向電壓及最佳增益值，近似最佳增益值曲線；及(7)讀取操作特征區(qū)，根據(jù)驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓，由最佳增益值曲線取得最佳增益 值，以校正光雕片聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該預(yù)設(shè)徑向電壓為不相 同徑向電壓，以獲得分散的校正位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該預(yù)設(shè)徑向電壓為等差 徑向電壓，以獲得分散的校正位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(4)的最佳增益 值使不對(duì)稱性的聚焦誤差信號(hào)的正半周期振幅等于負(fù)半周期振幅。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(4)是轉(zhuǎn)動(dòng)光 雕片且移動(dòng)光學(xué)讀取頭以讀取操作特征區(qū)。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，其中該步驟(7)的最佳增 益值是由最佳增益值曲線內(nèi)或外差取得。
全文摘要
一種光雕片聚焦誤差信號(hào)校正方法，移動(dòng)光學(xué)讀取頭至聚焦參考面；利用徑向電壓移動(dòng)物鏡至預(yù)定個(gè)校正位置，進(jìn)行聚焦操作，尋找最佳增益值校正各校正位置聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性，并記錄徑向電壓及其最佳增益值；根據(jù)記錄的徑向電壓及最佳增益值，近似最佳增益值曲線；根據(jù)驅(qū)動(dòng)物鏡的徑向電壓，由最佳增益值曲線內(nèi)外插取得最佳增益值，以校正光雕片聚焦誤差信號(hào)的不對(duì)稱性。
文檔編號(hào)G11B7/09GK102024467SQ20091017590
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2009年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月18日
發(fā)明者賴俊文, 郭起祥, 黃偉庭 申請(qǐng)人:廣明光電股份有限公司