專(zhuān)利名稱(chēng)：磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(以下稱(chēng)為“HDD”)等磁盤(pán)裝置所用的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，作為適于高記錄密度化的磁盤(pán)用基板之一，使用玻璃基板。玻璃基板與金屬的基板相比剛性高，所以適于磁盤(pán)裝置的高速旋轉(zhuǎn)化。另外，玻璃基板可得到平滑且平坦的表面，所以可降低磁頭的浮起量，適于S/N比的提高和高記錄密度化。通常，磁盤(pán)用玻璃基板通過(guò)依次實(shí)行使玻璃原料加熱熔化而預(yù)備熔融玻璃的工序、將該熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤(pán)的工序、對(duì)成形為板狀的玻璃盤(pán)進(jìn)行加工、研磨而制作玻璃基板的工序來(lái)制作。在將熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤(pán)時(shí)，采用壓制法、浮法等成形方法。在壓制法中，從圓柱狀的玻璃母材切斷成比磁盤(pán)用基板稍厚的厚度的玻璃盤(pán)，調(diào)整玻璃盤(pán)的形狀并且加工成所要求的平坦度及板厚。在將玻璃盤(pán)加工為所要求的平坦度及板厚的研磨工序中，使用研磨裝置將玻璃盤(pán)研磨至目標(biāo)的板厚并且加工為目標(biāo)的平坦度。用研磨裝置的上平臺(tái)和下平臺(tái)夾住玻璃盤(pán)，使其一邊向反方向旋轉(zhuǎn)一邊用游離磨粒(漿料)進(jìn)行加工。游離磨粒使用對(duì)應(yīng)于玻璃盤(pán)的規(guī)定的尺寸精度及形狀精度的粒度的磨粒，在最初的研磨加工 (研磨1)中使用大的粒徑(例如平均粒徑30 μ m左右)的游離磨粒進(jìn)行研磨，在第二次研磨加工(研磨2:精研磨工序)中使用小的粒徑(例如平均粒徑10 μ m左右)的游離磨粒進(jìn)行研磨。在浮法中，從利用浮法制造的板狀玻璃切出玻璃盤(pán)，調(diào)整玻璃盤(pán)的形狀并且對(duì)主表面進(jìn)行研磨加工。利用浮法制造的板狀玻璃由于從最初開(kāi)始主表面就被鏡面化，所以平坦度及板厚比壓制玻璃優(yōu)異。因此，省略了使用大的粒徑的游離磨粒的研磨1，進(jìn)行從最初開(kāi)始就使用小的粒徑的游離磨粒的研磨加工(研磨2)。作為與之相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，例如可舉出特開(kāi)2002-55061號(hào)公報(bào)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1 特開(kāi)2002-55061號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題但是，在上述研磨2的研磨加工中，如果使用粒徑比游離磨粒小的固定磨粒作為研磨墊，就可以使玻璃基板上產(chǎn)生的裂紋變淺，能夠減小在研磨2的研磨加工結(jié)束時(shí)的表面粗糙度。例如，使用在薄片上貼上金剛石顆粒的金剛石片作為研磨墊。因?yàn)槭褂玫慕饎偸w粒比作為游離磨粒所使用的氧化鋁類(lèi)顆粒的粒徑小，所以可以使裂紋變淺，也可以減小表面粗糙度。但是，為了像利用浮法制造的板狀玻璃那樣，對(duì)表面粗糙度為Ra = 0. 01 μ m以下的鏡面玻璃盡可能不使表面粗糙度惡化地進(jìn)行研磨，直到達(dá)到必要的平坦度，需要微細(xì)的磨粒。要使用這種微細(xì)的磨粒的研磨墊對(duì)鏡面玻璃進(jìn)行加工時(shí)，必須將加工開(kāi)始的加工速率抑制為非常低的速度(通常加工速率的1/5 1/10以下)，存在加工時(shí)間變長(zhǎng)的問(wèn)題。需要說(shuō)明的是，上述的研磨開(kāi)始時(shí)的加工速率低的課題并不限于利用浮法制造的鏡面板玻璃，是在使用微細(xì)磨粒的研磨墊加工鏡面板玻璃的場(chǎng)合共同產(chǎn)生的問(wèn)題。本發(fā)明是鑒于這樣的問(wèn)題而完成的，目的在于提供一種在用微細(xì)的固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃的主表面進(jìn)行加工時(shí)，從加工開(kāi)始時(shí)就可實(shí)現(xiàn)高加工速率，可以縮短加工時(shí)間的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法。用于解決課題的手段本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序之前，將所述鏡面板玻璃表面通過(guò)磨砂加工進(jìn)行表面粗糙化的表面粗糙化工序。根據(jù)該方法，由于是通過(guò)磨砂加工用簡(jiǎn)單的方法將鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化，因此能夠使用固定磨粒并以高的加工速率對(duì)板玻璃進(jìn)行研磨加工，能夠提高生產(chǎn)率。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，在表面粗糙化工序中所使用的處理液優(yōu)選PH為4. 0 7. 0、且包含濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑。根據(jù)該方法，在使用固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃表面進(jìn)行加工前，將所述鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化直到所述固定磨粒發(fā)揮研磨作用的程度時(shí)，由于使用pH4. 0 pH7. 0、且包含濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑的處理液，所以，在鏡面板玻璃表面形成固定磨粒掛住的凸部，可以防止鏡面板玻璃表面的固定磨粒的打滑，從利用固定磨粒的加工開(kāi)始就可以實(shí)現(xiàn)高的加工速率。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，所述處理液優(yōu)選作為腐蝕反應(yīng)促進(jìn)劑而含有氟離子供給劑。在此，氟離子供給劑通過(guò)向HF供給氟離子成為HF2-,以提高所述處理液的腐蝕反應(yīng)速度。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，優(yōu)選所述氟離子供給劑選自 NH4F、NaF、KF 及 CaF2。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，優(yōu)選所述緩沖劑選自Κ0Η、 NaOH及NH4F。在該情況下，在所述緩沖劑為KOH的情況下，優(yōu)選所述處理液的pH為4. 0 7. 0，在所述緩沖劑為NaOH的情況下，優(yōu)選所述處理液的pH為4. 5 7. 0。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，所述表面粗糙化工序優(yōu)選將鏡面的表面粗糙度Ra為0. 01 μ m以下的鏡面板玻璃表面粗糙化為表面粗糙度Ra為 2. 0 μ m ~ 10. 0 μ m。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，在所述使用固定磨粒的表面研磨工序中，優(yōu)選加工成表面粗糙度Ra為0.01 μ m以下，且平坦度為6. Ομπι以下。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，優(yōu)選具備在所述表面粗糙化工序前，對(duì)所述鏡面板玻璃表面進(jìn)行前洗滌的前洗滌工序。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，所述前洗滌優(yōu)選在所述磨砂加工后的所述鏡面板玻璃的板厚偏差為10 μ m以下的條件下進(jìn)行。
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在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，所述前洗滌優(yōu)選通過(guò)化學(xué)溶液洗滌及/或擦洗洗滌來(lái)進(jìn)行。在本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式中，所述化學(xué)溶液洗滌優(yōu)選使用選自酸、堿及表面活性劑的至少兩種來(lái)進(jìn)行。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述鏡面板玻璃表面通過(guò)磨砂加工以簡(jiǎn)單的方法進(jìn)行表面粗糙化的表面粗糙化工序，所以，能夠使用固定磨粒并以高的加工速率對(duì)板玻璃進(jìn)行研磨加工，可提高生產(chǎn)率。根據(jù)本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，用化學(xué)方法將所述鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化，直到所述固定磨粒發(fā)揮研磨作用的程度的表面粗糙化工序，在所述表面粗糙化工序中所使用的處理液的pH為4. 0 7. 0、且包含濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑，所以，用微細(xì)的固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃的主表面進(jìn)行研磨時(shí)，從研磨開(kāi)始時(shí)就能夠?qū)崿F(xiàn)高的加工速率，可縮短加工時(shí)間。


圖1是本發(fā)明實(shí)施方式的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一部分工序的示意圖。圖2是金剛石片的示意圖。圖3是表示表面粗糙化工序的有無(wú)和精研磨工序的加工速率之間的關(guān)系的圖；圖4是表示磨砂加工前洗滌的條件和精研磨工序的加工速率之間的關(guān)系的圖。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。另外，在下面的說(shuō)明中，雖然是對(duì)作為磁盤(pán)用玻璃基板的坯料采用利用浮法制造的板狀玻璃坯料的例子進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明并不限于利用浮法制造的板狀玻璃坯料，也適用于利用其它方法制作的鏡面板玻璃。另外，即使是磁盤(pán)用玻璃基板以外的用途，只要是用微細(xì)的固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃表面進(jìn)行加工而使其達(dá)到要求的平坦度及表面粗糙度的用途，同樣地可適用本發(fā)明。需要說(shuō)明的是，在此，所謂鏡面是指表面粗糙度(算術(shù)平均粗糙度(Ra))為0.01 μ m以下的表面，例如可以使用原子力顯微鏡以256 X 256像素的分辨率測(cè)定2 μ mX 2 μ m見(jiàn)方的測(cè)定區(qū)域而求得。(實(shí)施方式1)本實(shí)施方式中，對(duì)磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法是具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序的方法，在使用上述固定磨粒的表面研磨工序前，對(duì)該板玻璃坯料的表面(鏡面)，通過(guò)化學(xué)的方法將板玻璃表面的鏡面表面粗糙化，以使固定磨粒有效地發(fā)揮研磨作用。作為將板玻璃坯料鏡面進(jìn)行表面粗
5糙化的化學(xué)的方法，特別優(yōu)選磨砂加工。在此，所謂磨砂加工是指使用加入了表面粗糙化劑的腐蝕用的化學(xué)溶液對(duì)玻璃表面進(jìn)行處理的加工。在該磨砂加工中，由于是利用表面粗糙化劑在玻璃表面被局部性地掩蔽的狀態(tài)下進(jìn)行腐蝕，因此可有效地將玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化(例如，磨砂加工后的表面粗糙度Ra為磨砂加工前的表面粗糙度Ra的5倍左右 數(shù)百倍左右)。作為該表面粗糙化劑可舉出像硫酸那樣的一般的酸、氫氧化鈉或氫氧化鉀等一般的的堿、或者氟化氫、氟化銨、氟化鉀、氟化鈉等一般的氟化物等。另外，通過(guò)調(diào)節(jié)化學(xué)溶液的濃度及溫度可以調(diào)節(jié)表面粗糙化的狀態(tài)。作為玻璃基板的材料而優(yōu)選的玻璃可舉出鋁硅酸鹽玻璃。鋁硅酸鹽玻璃可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的平滑鏡面，并且例如通過(guò)進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化可以提高破壞強(qiáng)度。作為鋁硅酸鹽玻璃，優(yōu)選含有62重量％ 75重量％的Si02、5重量％ 15重量％ 的Al203、4重量％ 10重量％的1^20、4重量％ 12重量％的妝20、5. 5重量％ 15重量％的ZrO2作為主成分，并且Na2O和ZrO2的重量比為0. 5 2. 0、Al2O3和ZrO2的重量比為0. 4 2. 5的化學(xué)強(qiáng)化用玻璃。另外，作為在本發(fā)明中制造的磁盤(pán)用玻璃基板的材料并不僅限于上述的材料。艮口， 作為玻璃基板的材質(zhì)，除上述的鋁硅酸鹽玻璃以外，可舉出例如鈉鈣玻璃、鈉鋁硅酸鹽玻璃、鋁硼硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、石英玻璃、鏈硅酸鹽玻璃(+工一 > * ·； * 一卜辦， ^ )、或結(jié)晶化玻璃等玻璃陶瓷等。在研磨加工中，將玻璃基板放在托架上進(jìn)行研磨加工，其后從托架上取下玻璃基板。當(dāng)以薄層化量ΙΟΟμπι以下進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，該一系列作業(yè)時(shí)間中的加工時(shí)間非常少。即，因?yàn)楸踊可?，加工時(shí)間相對(duì)變短，玻璃基板的安放/取下的時(shí)間相對(duì)變長(zhǎng)。另外，可放在托架上的玻璃基板的片數(shù)，2. 5英寸大小的玻璃基板為約200片/托架。因此，在以薄層化量為IOOym以下進(jìn)行表面粗糙化的情況下，研磨加工非常低效。對(duì)此，磨砂加工僅將玻璃基板浸漬于規(guī)定的浸漬槽中，可以一次加工1000片數(shù)量級(jí)(力一夕'一)的玻璃基板，所以是高效的。因此，在以薄層化量為IOOym以下進(jìn)行表面粗糙化的情況下，通過(guò)采用磨砂加工，制造磁盤(pán)用玻璃基板的生產(chǎn)率非常高。優(yōu)選在利用磨砂加工的表面粗糙化工序之前，實(shí)施對(duì)鏡面板玻璃表面進(jìn)行前洗滌的前洗滌工序。磨砂加工由于是利用表面粗糙化劑在玻璃表面被局部性地掩蔽的狀態(tài)下進(jìn)行腐蝕，所以當(dāng)磨砂加工前的鏡面化玻璃表面附著有顆粒等時(shí)，得不到所要求的凹凸形狀， 平坦度低。因此，優(yōu)選將磨砂加工前的鏡面化玻璃表面清潔化。該前洗滌優(yōu)選在磨砂加工后的鏡面板玻璃的板厚偏差成為10 μ m以下那樣的條件下進(jìn)行。在此，所說(shuō)的平坦度是指玻璃表面內(nèi)的最高處和最低處的差。另外，平坦度可以通過(guò)FT-900 (Nidec社制)或Opti Flat (Phase Shift社制)等進(jìn)行測(cè)定。在該情況下，前洗滌優(yōu)選通過(guò)化學(xué)溶液洗滌等化學(xué)洗滌及/或擦洗洗滌、擺動(dòng)洗滌、超聲波洗滌、鼓泡洗滌等物理洗滌來(lái)進(jìn)行。在該情況下，化學(xué)溶液洗滌優(yōu)選使用選自酸、堿及表面活性劑的至少兩種來(lái)進(jìn)行。作為上述洗滌中使用的酸，可舉出硫酸、磷酸、硝酸、鹽酸等無(wú)機(jī)酸及醋酸、檸檬酸、氨基酸等有機(jī)酸。另外，作為上述前洗滌使用的堿，可舉出氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧化鎂等一般的無(wú)機(jī)堿及TMAH(四甲基氫氧化銨)等有機(jī)堿等。并且，作為上述前洗滌中使用的表面活性劑，可舉出陽(yáng)離子性表面活性劑、陰離子性表面活性劑、兩性表面活性劑、非離子性表面活性劑等。關(guān)于上述前洗滌中使用的藥劑，可以只使用上述舉出的一覽中的一種， 也可以混合兩種以上使用。另外，優(yōu)選使用以除去上述表面粗糙化工序中產(chǎn)生的堆積在玻璃上的物質(zhì)為目的的后洗滌工序。此外，實(shí)施上述后洗滌工序時(shí)，優(yōu)選使用酸。作為這時(shí)所用的酸，使用硫酸、 磷酸、鹽酸、硝酸等無(wú)機(jī)酸，醋酸、氨基酸、檸檬酸等有機(jī)酸，或者陽(yáng)離子性的表面活性劑等通常的酸，由此可除去上述表面粗糙化工序中產(chǎn)生的堆積在玻璃上的物質(zhì)。其中，優(yōu)選使用容易獲得且成本低的無(wú)機(jī)酸。另外，為了除去堆積在玻璃上的物質(zhì)，優(yōu)選使用超聲波、擦洗、 鼓泡等通常的物理洗滌。上述后洗滌可以?xún)H用酸除去堆積在玻璃上的物質(zhì)，也可以采用上述物理洗滌，或采用兩者。通過(guò)在由本發(fā)明得到的磁盤(pán)用玻璃基板上至少形成磁性層來(lái)獲得適于高記錄密度化的磁盤(pán)。作為磁性層，使用hep晶體結(jié)構(gòu)的Co系合金磁性層時(shí)，矯頑力(He)高，能夠有助于高記錄密度化。另外，為了控制磁性層的晶粒及取向性，還優(yōu)選根據(jù)需要在基板和磁性層之間形成基底層。另外，最好在磁性層的上面設(shè)置保護(hù)層。通過(guò)設(shè)置保護(hù)層，可以保護(hù)磁盤(pán)表面不受在磁盤(pán)上浮起飛行的磁記錄頭磨損。作為保護(hù)層的材料，例如碳類(lèi)保護(hù)層是合適的。另外， 優(yōu)選在上述保護(hù)層上還設(shè)有潤(rùn)滑層。通過(guò)設(shè)置潤(rùn)滑層可以抑制磁記錄頭和磁盤(pán)間的磨損， 可以提高磁盤(pán)的耐久性。作為潤(rùn)滑層的材料，優(yōu)選例如PFPE(全氟聚醚)。另外，根據(jù)本發(fā)明，可以由通過(guò)浮法得到的板狀玻璃穩(wěn)定地制造用于有利于高記錄密度化的負(fù)載/卸載方式的磁盤(pán)裝置上所安裝的磁盤(pán)用玻璃基板。另外，通過(guò)使用由本發(fā)明的制造方法獲得的磁盤(pán)用玻璃基板制造磁盤(pán)，磁盤(pán)用玻璃基板的制造成品率高，所以能夠謀求降低磁盤(pán)的制造成本。(實(shí)施方式2)本實(shí)施方式中，對(duì)磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法中的磨砂加工詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。磨砂加工通過(guò)對(duì)玻璃表面引起均勻的腐蝕反應(yīng)和防腐蝕反應(yīng)來(lái)進(jìn)行。因而，要通過(guò)磨砂加工在玻璃表面設(shè)置所要求的凹凸，需要引起均勻的腐蝕反應(yīng)和防腐蝕反應(yīng)。本發(fā)明人著眼于氫氟酸的濃度、處理液的液性、處理中所形成的氟化物的種類(lèi)，對(duì)它們進(jìn)行各種各樣的變更并對(duì)玻璃表面進(jìn)行磨砂加工，研究了玻璃表面的凹凸。本發(fā)明人用含有氫氟酸和緩沖劑的處理液對(duì)鋁硅酸鹽玻璃進(jìn)行了磨砂加工。這時(shí)，使HF的濃度在4. OM 8. OM變化，將處理液的液性變?yōu)閜Hl. 0 pH14. 0，將緩沖劑設(shè)定為KOH、NaOH, NH4F。另外，將磨砂加工中的溫度設(shè)定為50°C，將時(shí)間設(shè)定為420秒。然后， 通過(guò)SEM觀察了各個(gè)磨砂加工后的玻璃表面。從其結(jié)果可知，玻璃表面所形成的凸部的高度因HF(腐蝕因子)的濃度及液性(pH)的不同而不同，凹凸的密度因處理中所形成的氟化物的種類(lèi)的不同而不同。具體地說(shuō)，HF的濃度越高，凸部的高度越高，HF的濃度越低，凸部的高度越低。另外，處理液的PH越小(酸性強(qiáng)/pH4.0 pH7.0)，凸部的高度越高，處理液的PH越大(堿性強(qiáng)/pH大于7.0)，凸部的高度越低。另外，水溶性越高的氟化物(例如， KF)，凹凸的密度越低?；谶@種趨勢(shì)，考慮到實(shí)現(xiàn)使用固定磨粒的表面研磨工序后的玻璃表面的平坦度及表面粗糙度(Ra)，即，如考慮在表面粗糙化工序中，將鏡面的表面粗糙度Ra為0. 01 μ m以下的鏡面板玻璃進(jìn)行表面粗糙化至表面粗糙度Ra為2. 0 μ m 10. 0 μ m的情況，希望表面粗糙化工序中所使用的處理液為pH4. 0 pH7. 0，氫氟酸的濃度為4. OM 8. 0M。為了使pH 達(dá)到前述的范圍，在這種處理液中含有足夠量的緩沖劑。因而，根據(jù)氟化氫離子供給劑的種類(lèi)、濃度、作為目標(biāo)的PH適宜地設(shè)定緩沖劑的量。例如，優(yōu)選緩沖劑為選自KOH、NaOH及NH4F的緩沖劑，在該情況下，緩沖劑為KOH 時(shí)，優(yōu)選上述處理液的pH為4. 0 7. 0 ；在緩沖劑為NaOH時(shí)，優(yōu)選上述處理液的pH為4. 5 7. 0。這樣，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了在對(duì)鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，為了獲得在表面研磨工序中能夠得到充分的加工速率程度的凸部的最合適的處理液。即發(fā)現(xiàn)了在表面粗糙化工序中，通過(guò)使用PH4. 0 pH7. 0、含有濃度4. OM 8. OM的氫氟酸、緩沖劑、和在“氫氟酸”的腐蝕反應(yīng)速度慢時(shí)，根據(jù)需要作為腐蝕反應(yīng)促進(jìn)劑的氟離子供給劑的處理液，在用微細(xì)的固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃的主表面進(jìn)行研磨時(shí)，從研磨開(kāi)始時(shí)就可實(shí)現(xiàn)高加工速率，從而可縮短加工時(shí)間。在處理液中，根據(jù)需要作為腐蝕反應(yīng)促進(jìn)劑含有氟離子供給劑。作為氟化氫離子供給劑是向HF中供給氟離子而在液體中供給HF2_的供給劑，例如可舉出NH4F、NaF、KF、CaF2 等。因而，即使使用這種氟離子供給劑也是濃度越高凸部的高度越高，濃度越低凸部的高度越低，處理液的PH越小(酸性強(qiáng)/pH4. 0 pH7. 0)凸部的高度越高，處理液的pH越大(堿性強(qiáng)/pH大于7.0)凸部的高度越低，另外，水溶性越高的氟化物(例如，KF、(NH4)2SiF6) 凹凸的密度越低?；谠撢厔?shì)，考慮實(shí)現(xiàn)使用固定磨粒的表面研磨工序后的玻璃表面的平坦度及表面粗糙度(Ra)的情況，即考慮在表面粗糙化工序中，將鏡面的表面粗糙度Ra為 0. 01 μ m以下的鏡面板玻璃進(jìn)行表面粗糙化至表面粗糙度Ra為2. 0 μ m 10. 0 μ m，適宜地確定表面粗糙化工序中所使用的處理液的pH，即氟化氫離子供給劑的濃度。為了使pH達(dá)到所要求的范圍，即使在這種處理液中也含有足量的緩沖劑，緩沖劑的量根據(jù)氟化氫離子供給劑的種類(lèi)、濃度、作為目標(biāo)的PH適宜地設(shè)定。為了除去在表面研磨工序中，在使用固定磨粒的研磨加工中殘留的傷痕及變形， 優(yōu)選使用硬質(zhì)拋光盤(pán)作為拋光盤(pán)，進(jìn)行對(duì)玻璃基板表面進(jìn)行拋光的第1拋光工序、和為了維持在該第1拋光工序中獲得的平坦的表面并且進(jìn)一步精加工為平滑的鏡面，代替硬質(zhì)拋光盤(pán)而用軟質(zhì)拋光盤(pán)對(duì)玻璃盤(pán)表面進(jìn)行拋光的第2拋光工序。另外，完成了拋光工序的玻璃基板也可以施行化學(xué)強(qiáng)化。特別是玻璃的種類(lèi)為鋁硅酸鹽玻璃時(shí)，通過(guò)進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化可增加抗彎強(qiáng)度，還可加深壓縮應(yīng)力層的深度。作為化學(xué)強(qiáng)化的方法，只要是目前公知的化學(xué)強(qiáng)化法就無(wú)特別限定，但是在實(shí)用上優(yōu)選利用低溫型離子交換法的化學(xué)強(qiáng)化。在上述磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法中，在使用固定磨粒加工鏡面板玻璃表面前 (主表面研磨工序前)，用化學(xué)的方法將上述鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化，直到上述固定磨粒發(fā)揮研磨作用的程度，在表面粗糙化工序中使用的處理液的pH為4. 0 7. 0，含有濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑。由此，在鏡面板玻璃表面形成掛住固定磨粒的凸部， 以防止鏡面板玻璃表面的固定磨粒打滑。由此，在表面研磨工序中，從利用固定磨粒的加工開(kāi)始就可以實(shí)現(xiàn)高的加工速率，從而可以縮短加工時(shí)間。在主表面研磨工序中，使用固定磨粒加工鏡面板玻璃表面。在該情況下，優(yōu)選在表面粗糙度Ra為0. 01 μ m以下、且平坦度為6. 0 μ m以下進(jìn)行加工。下面舉出實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式具體地進(jìn)行說(shuō)明。需要說(shuō)明的是，本發(fā)明并不限定于以下的實(shí)施例。(實(shí)施例1)經(jīng)過(guò)以下的(1)切出工序、(2)表面粗糙化工序、(3)形狀加工工序、⑷精研磨工序、( 端面拋光工序、(6)主表面拋光工序、(7)化學(xué)強(qiáng)化工序制造本實(shí)施例的磁盤(pán)用玻璃基板。另外，(2)的表面粗糙化工序(磨砂加工)只要在(4)精研磨工序之前實(shí)施即可，作為本實(shí)施例，設(shè)定在(1)切出工序和(3)形狀加工工序之間實(shí)施。圖1表示(1) 的工序的概念圖。需要說(shuō)明的是，用于制造磁盤(pán)用玻璃基板的板狀的玻璃坯料通過(guò)浮法進(jìn)行制造。 浮法中，使熔液流至熔融錫的上面直接使其固化。板玻璃的兩面是玻璃的自由表面和玻璃/ 錫的界面，因此不進(jìn)行研磨就可獲得表面粗糙度Ra為0. 001 μ m以下的鏡面的板狀的玻璃坯料。(1)切出工序使用將由通過(guò)浮法制造的厚度0. 95mm的鋁硅酸鹽玻璃構(gòu)成的板狀玻璃坯料1切斷成規(guī)定大小的方形后的板玻璃，在其頂面形成用玻璃刀畫(huà)出的作為磁盤(pán)用玻璃基板的區(qū)域的外周側(cè)及內(nèi)周側(cè)的大致周緣的圓形的切割線道2。另外，作為該鋁硅酸鹽玻璃使用含有 58質(zhì)量％ 75質(zhì)量％的Si02、5質(zhì)量％ 23質(zhì)量％的Al203、3質(zhì)量％ 10質(zhì)量％的Li20、 4質(zhì)量％ 13質(zhì)量^WNii2O的化學(xué)強(qiáng)化用玻璃。接著，用加熱器整體地加熱形成有上述切割線道2的板狀玻璃的頂面?zhèn)?，使上述切割線道2進(jìn)展至板狀玻璃的底面?zhèn)?，切出具有?guī)定直徑的玻璃盤(pán)3 (鏡面板玻璃)。(2)表面粗糙化工序通過(guò)磨砂加工以薄層化量(加工余量)100 μ m進(jìn)行了表面粗糙化。需要說(shuō)明的是， 作為磨砂加工條件，使用氟化氫4M、氟化銨4M、丙二醇1.5M、聚氧乙烯甘油異硬脂酸酯(〃 乂 7于7丨J >酸水。丨J才今〉二子l· >夕’丨J七卟)0. 04M、蔗糖0. OOIMJK 35. 6M的混合液， 在溫度25度下加工7分鐘時(shí)間。這時(shí)，以磨砂加工后的鏡面玻璃的表面粗糙度成為Ra = 0. 01 μ m 2. 0 μ m程度進(jìn)行了加工。需要說(shuō)明的是，在表面粗糙化工序中作為目標(biāo)的表面粗糙度根據(jù)與之后的精研磨工序中使用的固定磨粒的粒度的關(guān)系決定。(3)形狀加工工序接著，進(jìn)行外周端面及內(nèi)周端面的研磨使外徑達(dá)到Φ65πιπι、內(nèi)徑(中心部的圓孔的直徑)為Φ20πιπι后，對(duì)外周端面及內(nèi)周端面實(shí)施規(guī)定的倒角加工。這時(shí)的玻璃盤(pán)端面的表面粗糙度以Rmax表示為2 μ m程度。需要說(shuō)明的是，通常，在2. 5 (英寸)型HDD (硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器)中，使用外徑為65mm的磁盤(pán)。(4)精研磨工序使用固定磨粒研磨墊研磨經(jīng)表面粗糙化的玻璃盤(pán)3的主表面。另外，作為固定磨粒研磨墊使用如圖2所示的金剛石片10。該金剛石片10具備金剛石顆粒作為研磨磨粒。 金剛石片10具備由PET構(gòu)成的薄片11作為基材。金剛石顆粒12的平均粒徑為B = 4 μ m。在精研磨工序中，將經(jīng)表面粗糙化的玻璃盤(pán)3放置在研磨裝置上，使用金剛石片 10對(duì)盤(pán)表面進(jìn)行研磨，由此，能夠以高加工速率使表面粗糙度Ra達(dá)到0. Iym以下。需要說(shuō)明的是，加工速率用“研磨量(加工余量時(shí)間”來(lái)定義。這樣，由于事前通過(guò)表面粗糙化工序?qū)⒉ＡПP(pán)3的主表面表面粗糙化，在玻璃盤(pán)3 的主表面形成有掛住微細(xì)的固定磨粒的地方，可防止固定磨粒在坯料表面打滑的麻煩，在精研磨工序中的加工速率能夠從表面研磨開(kāi)始就實(shí)現(xiàn)高加工速率。(5)端面拋光工序接著，通過(guò)刷磨，一邊使玻璃盤(pán)3旋轉(zhuǎn)，一邊將玻璃盤(pán)3的端面(內(nèi)周、外周)的表面粗糙度拋光至以Rmax表示為0. 4 μ m、以Ra表示為0. 1 μ m程度。然后，對(duì)完成上述端面拋光后的玻璃盤(pán)3的表面進(jìn)行水洗滌。(6)主表面拋光工序接著，使用雙面拋光裝置進(jìn)行用于除去在上述的研磨工序中殘留的傷痕及變形的第1拋光工序。在雙面拋光裝置中，在貼有拋光墊的上下拋光平臺(tái)之間使利用托架保持的玻璃盤(pán)3貼緊，使該托架與太陽(yáng)齒輪和內(nèi)齒輪嚙合，由上下拋光平臺(tái)對(duì)上述玻璃盤(pán)進(jìn)行挾壓。其后，向拋光墊和玻璃盤(pán)的拋光面之間供給拋光液并使其旋轉(zhuǎn)，由此，玻璃盤(pán)在拋光平臺(tái)上一邊自轉(zhuǎn)一邊公轉(zhuǎn)，對(duì)兩面同時(shí)進(jìn)行拋光加工。具體地說(shuō)，作為拋光盤(pán)使用硬質(zhì)拋光盤(pán) (硬質(zhì)發(fā)泡聚氨酯)實(shí)施了第1拋光工序。接著，使用和上述的第1拋光工序中使用的拋光裝置相同的雙面拋光裝置，將拋光具替換為軟質(zhì)拋光盤(pán)(絨面革)的拋光墊實(shí)施第2拋光工序。該第2拋光工序是維持上述第1拋光工序中獲得的平坦的表面并且用于將例如玻璃盤(pán)主表面的表面粗糙度精加工為以Rmax表示為3nm程度以下的平滑的鏡面的鏡面拋光加工。(7)化學(xué)強(qiáng)化工序接著，對(duì)上述完成洗滌后的玻璃盤(pán)施行化學(xué)強(qiáng)化。與離子半徑大于玻璃基板的表面存在的離子(例如，使用鋁硅酸鹽玻璃時(shí)為L(zhǎng)i+及Na+)的離子(Na+及K+)進(jìn)行離子交換。 在玻璃基板的表面(例如，從玻璃基板表面到約5 μ m)，與離子半徑大的原子進(jìn)行離子交換，通過(guò)賦予玻璃表面壓縮應(yīng)力而提高玻璃基板的剛性。如上進(jìn)行操作獲得本實(shí)施例的磁盤(pán)用玻璃基板。接著，使用濺射裝置在本實(shí)施例中獲得的磁盤(pán)用玻璃基板上依次形成籽晶(〉一 K )層、基底層、磁性層、保護(hù)層及潤(rùn)滑層，獲得磁盤(pán)。需要說(shuō)明的是，關(guān)于籽晶層，形成由 CrTi薄膜構(gòu)成的第1籽晶層和由AlRu薄膜構(gòu)成的第2籽晶層。對(duì)于基底層而言，為了使磁性層的晶體構(gòu)造良好，使用CrW薄膜設(shè)置。磁性層中使用由CoPtCrB合金構(gòu)成的薄膜。需要說(shuō)明的是，該磁性層的Co、Pt、Cr、B的各含量為Co 73原子％、Pt 7原子％、Cr 18原子％、B 2原子％。另外，保護(hù)層是用于防止磁性層因和磁頭的接觸而劣化的層，由氫化碳構(gòu)成，以獲得耐磨性。潤(rùn)滑層是通過(guò)浸漬法形成全氟聚醚的液體潤(rùn)滑劑。(比較例1)除不經(jīng)過(guò)表面粗糙化工序以外，和實(shí)施例1同樣地操作，研究對(duì)于鏡面化玻璃的 (4)精研磨中的加工速率。其結(jié)果如圖3所示，加工速率非常低。將比較例1中的對(duì)于鏡面化玻璃的精研磨加工速率設(shè)為1時(shí)，對(duì)于實(shí)施了利用磨砂加工的表面粗糙化的鏡面化玻璃的精研磨的加工速率為22. 4?？梢哉J(rèn)為這是因?yàn)槭虑巴ㄟ^(guò)磨砂加工將玻璃盤(pán)3的主表面進(jìn)行了表面粗糙化，所以在玻璃盤(pán)3的主表面形成有掛住微細(xì)的固定磨粒的凸部，可以防止固定磨粒在坯料表面打滑的麻煩。
10
(實(shí)施例2)本實(shí)施例中，對(duì)于在上述實(shí)施例1的表面粗糙化工序中改變處理液的精研磨工序中的加工速率進(jìn)行說(shuō)明。需要說(shuō)明的是，在本實(shí)施例中，經(jīng)過(guò)上述的(1)切出工序、(2)形狀加工工序、( 表面粗糙化工序、(4)精研磨工序、( 端面拋光工序、(6)主表面拋光工序、(7)化學(xué)強(qiáng)化工序制造磁盤(pán)用玻璃基板。本實(shí)施例中在形狀加工工序之后施行表面粗糙化工序。(實(shí)施例2-1)在表面粗糙化工序中制備使用4. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入KOH而成的處理液。該處理液的PH為4.55。將玻璃盤(pán)浸漬于該處理液中，對(duì)玻璃表面進(jìn)行磨砂加工。磨砂加工的處理溫度為50°C，處理時(shí)間設(shè)定為420秒鐘。在該磨砂加工中，HF2-為腐蝕因子， KF作為防腐蝕因子起作用。通過(guò)該磨砂加工，鏡面玻璃盤(pán)3的表面整體達(dá)到大致均勻的表面粗糙度Ra = 0. 01 μ m 0. 4 μ m程度。需要說(shuō)明的是，在表面粗糙化工序中作為目標(biāo)的表面粗糙度，希望根據(jù)與之后的精研磨工序中使用的固定磨粒的粒度的關(guān)系來(lái)決定。進(jìn)行了這種磨砂加工后的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為6. 0 μ m/分鐘。(實(shí)施例2-2)在表面粗糙化工序中，除制備使用6. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入KOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為4. 5。 進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為6. 0 μ m/分鐘。(實(shí)施例2-3)在表面粗糙化工序中，除制備使用8. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入KOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為4. 5。 進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為8. 0 μ m/分鐘。(實(shí)施例2-4)在表面粗糙化工序中，除制備使用4. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4.5。在該磨砂加工中，HF2_為腐蝕因子，NaF作為防腐蝕因子起作用。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為4. 5 μ m/分鐘。(實(shí)施例2-5)在表面粗糙化工序中，除制備使用6. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4. 5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為6. 5μπι/分鐘。(實(shí)施例2-6)在表面粗糙化工序中，除制備使用8. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4. 5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為8. 5 μ m/分鐘。(比較例2-1)在表面粗糙化工序中，除制備使用1. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4.5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為1.8μπι/分鐘。
(比較例2-2)在表面粗糙化工序中，除制備使用10. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4.5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為2.0 μ m/分鐘。該情況下，產(chǎn)生了精研磨加工工序的加工速率減速這樣的的問(wèn)題?？梢哉J(rèn)為這是由于HF為高濃度，通過(guò)磨砂加工所獲得的凸部被過(guò)度腐蝕，凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。(比較例2-3)在表面粗糙化工序中，除制備使用0. 5M的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4.5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為1.4μπι/分鐘?？梢哉J(rèn)為這是由于由磨砂加工所獲得的凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。(比較例2-4)在表面粗糙化工序中，除制備使用12. OM的HF，在其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。磨砂加工的處理液的PH為 4.5。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率為1.5μπι/分鐘。該情況下，產(chǎn)生了精研磨加工工序的加工速率減速這樣的問(wèn)題。可認(rèn)為這是由于HF為高濃度，通過(guò)磨砂加工所獲得的凸部被過(guò)度腐蝕，凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。(比較例2-5)在表面粗糙化工序中，除將使用6. OM的HF，其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液的PH設(shè)定為2. 0以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率過(guò)低，無(wú)法測(cè)定。可以認(rèn)為這是由于通過(guò)磨砂加工所獲得的凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。(比較例2-6)在表面粗糙化工序中，除將使用8. OM的HF，其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液的PH設(shè)定為10.0以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率過(guò)低，無(wú)法測(cè)定?？梢哉J(rèn)為這是由于通過(guò)磨砂加工所獲得的凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。(比較例2-7)在表面粗糙化工序中，除將使用6. OM的HF，其中作為緩沖劑加入NaOH而成的處理液的PH設(shè)定為12.0以外，和實(shí)施例1同樣地操作，制作磁盤(pán)用玻璃基板。進(jìn)行了這種磨砂加工的玻璃盤(pán)的精研磨工序中的加工速率過(guò)低，無(wú)法測(cè)定?？梢哉J(rèn)為這是由于通過(guò)磨砂加工所獲得的凸部的高度對(duì)于進(jìn)行精研磨來(lái)說(shuō)不夠所致。如上所述，在對(duì)鏡面板玻璃表面進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，為了獲得在表面研磨工序中可得到充分的加工速率程度的凸部，通過(guò)使用最合適的處理液(即ΡΗ4. 0 ρΗ7. 0、含有濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑的處理液)，在鏡面板玻璃表面形成掛住固定磨粒的凸部，防止鏡面板玻璃表面的固定磨粒打滑，從利用固定磨粒的加工開(kāi)始就可以實(shí)現(xiàn)高的加
工速率。(實(shí)施例3)本實(shí)施例中，研究了對(duì)磨砂加工前進(jìn)行了前洗滌時(shí)的前洗滌對(duì)于加工速率的影響。作為這時(shí)的條件，設(shè)為A 沒(méi)有前洗滌、B 在1. OM硫酸中的洗滌、C 1. OM氫氧化鉀洗滌、D 表面活性劑+氫氧化鉀+螯合劑的混合溶液洗滌、E 擦洗洗滌、F :D+E的洗滌。在這些條件下實(shí)施前洗滌后，實(shí)施磨砂加工。需要說(shuō)明的是，作為磨砂加工的條件，使用氟化氫 4M、氟化銨4M、丙二醇1. 5M、聚氧乙烯甘油異硬脂酸酯0. 04M、蔗糖0. 001M、水35. 6M的混合液，在溫度25度下實(shí)施7分鐘時(shí)間。然后，將表面粗糙化的這些玻璃基板通過(guò)精研磨工序進(jìn)行加工。將這時(shí)的加工速率示于圖4。由圖4可明了，將對(duì)在條件A下進(jìn)行前洗滌且實(shí)施了表面粗糙化的基板進(jìn)行精研磨時(shí)的加工速率設(shè)為1時(shí)，若將對(duì)在各個(gè)條件下進(jìn)行前洗滌且實(shí)施了表面粗糙化的基板進(jìn)行精研磨時(shí)的加工速率以每一前洗滌條件表示，則為B :1. 27、C :1. 29、D :1. 41、E :1. 49、F 1. 53，通過(guò)進(jìn)行前洗滌，精研磨加工速率進(jìn)一步得以改善?？梢哉J(rèn)為這是因?yàn)樵谀ド凹庸で皩㈢R面化玻璃的表面清潔化，在面內(nèi)完成均勻的磨砂加工，使得磨砂加工后的玻璃表面的平坦度優(yōu)異。本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式，可以適當(dāng)變更而實(shí)施。上述實(shí)施方式中的部件的個(gè)數(shù)、尺寸、處理順序等為一個(gè)例子，在發(fā)揮本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更而實(shí)施。此外，只要不脫離本發(fā)明的目的，就可以適當(dāng)變更而加以實(shí)施。
權(quán)利要求
1.一種磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述鏡面板玻璃表面通過(guò)磨砂加工進(jìn)行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
2.權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在表面粗糙化工序中所使用的處理液的pH為4. 0 7. 0，且包含濃度4. OM 8. OM的氫氟酸以及緩沖劑。
3.權(quán)利要求2所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述處理液作為腐蝕反應(yīng)促進(jìn)劑含有氟離子供給劑。
4.權(quán)利要求3所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氟離子供給劑選自 NH4F、NaF、KF 及 CaF2。
5.權(quán)利要求2 4任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述緩沖劑選自 KOH、NaOH 及 NH4F。
6.權(quán)利要求5所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述緩沖劑為KOH的情況下，優(yōu)選所述處理液的pH為4. 0 7. 0。
7.權(quán)利要求5所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述緩沖劑為NaOH 的情況下，所述處理液的pH為4. 5 7. 0。
8.權(quán)利要求1 7任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述表面粗糙化工序?qū)㈢R面的表面粗糙度Ra為0. 01 μ m以下的鏡面板玻璃進(jìn)行表面粗糙化，使表面粗糙度 Ra 為 2. 0 μ m 10. 0 μ m。
9.權(quán)利要求1 8任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在使用所述固定磨粒的表面研磨工序中，加工至表面粗糙度Ra為0. 01 μ m以下，且平坦度為6. 0 μ m 以下。
10.權(quán)利要求1 9任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，具備在所述表面粗糙化工序前，對(duì)所述鏡面板玻璃表面進(jìn)行前洗滌的前洗滌工序。
11.權(quán)利要求10所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗滌在使所述磨砂加工后的所述鏡面板玻璃的板厚偏差成為10 μ m以下的條件下進(jìn)行。
12.權(quán)利要求10或11所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗滌通過(guò)化學(xué)溶液洗滌及/或擦洗洗滌來(lái)進(jìn)行。
13.權(quán)利要求12所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述化學(xué)溶液洗滌使用選自酸、堿及表面活性劑的至少兩種來(lái)進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明提供一種磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述鏡面板玻璃表面通過(guò)磨砂加工進(jìn)行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
文檔編號(hào)G11B5/84GK102177546SQ20098013952
公開(kāi)日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2009年10月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月7日
發(fā)明者水野高德, 鈴木陽(yáng)介 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社