專利名稱：盤驅(qū)動(dòng)器懸架的制作方法
盤驅(qū)動(dòng)器懸架
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及用于諸如個(gè)人電腦之類的信息處理裝置的盤驅(qū)動(dòng)器中的盤驅(qū)動(dòng)器懸架。硬盤驅(qū)動(dòng)器(HDD)用在諸如個(gè)人電腦之類的信息處理裝置中。HDD包括可圍繞心 軸旋轉(zhuǎn)的磁盤、可圍繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的托架等。包括致動(dòng)臂的托架通過(guò)諸如音圈電動(dòng)機(jī)的定位 電動(dòng)機(jī)相對(duì)于軌道繞樞軸橫向轉(zhuǎn)動(dòng)。懸架安裝在致動(dòng)臂上。懸架包括負(fù)載梁和疊置在其上的撓曲件。構(gòu)成磁頭的浮塊 安裝在形成在撓曲件遠(yuǎn)端附近的萬(wàn)向架部分上。浮塊設(shè)有用于訪問(wèn)數(shù)據(jù)、例如讀取和寫入 的構(gòu)件(換能器)。如果盤旋轉(zhuǎn)，則浮塊輕輕地在盤的表面上方飛行，在盤與浮塊之間形成 空氣軸承。萬(wàn)向架部分包括在撓曲件的一部分上的舌部。浮塊安裝在舌部的一表面上。在負(fù) 載梁的遠(yuǎn)端部分處形成有稱為“凹窩”的隆起。凹窩從負(fù)載梁的一個(gè)表面朝向舌部突出。凹 窩的反面壓入在負(fù)載梁的另一表面內(nèi)。當(dāng)凹窩的末端接觸舌部，舌部被支承，從而可繞凹窩末端擺動(dòng)。浮塊與舌部一起繞 凹窩作擺動(dòng)運(yùn)動(dòng)(萬(wàn)向運(yùn)動(dòng))。為了使浮塊能夠水平地?cái)[動(dòng)，凹窩需要形成在浮塊的橫向中 心上。期望盤驅(qū)動(dòng)器具有高記錄密度且體積小。因此，浮塊應(yīng)比以前更精確地定位。日 本專利申請(qǐng)公開第2005-135467號(hào)(專利文件1)中提出了用于精確定位浮塊的裝置。另一方面，還提出具有不同功能的浮塊。例如，設(shè)有用于熱控制的電路組件等的浮 塊。日本專利申請(qǐng)公開第2009-123282號(hào)(專利文件2)中描述了一個(gè)這種浮塊。浮塊的 嵌入式功能組件傾向于是多樣性的。因此，浮塊上端子的數(shù)量易于增加，且端子之間的間距 往往減少。如果浮塊的定位精度很差，則在該情況中，浮塊端子與舌部處端子之間的電連接 可能會(huì)失效。因此，需要提高浮塊的定位精度。此外，需要更精確地調(diào)節(jié)浮塊與凹窩之間的 定位關(guān)系。撓曲件通過(guò)激光焊接等固定到負(fù)載梁。因此，撓曲件在負(fù)載梁上的安裝位置僅可 用有限的精度來(lái)調(diào)節(jié)。在上述的專利文件1中，凹窩布置在負(fù)載梁上。在該情況中，如果撓 曲件在負(fù)載梁上安裝位置的精度很差，不管凹窩在負(fù)載梁上位置的最大精度調(diào)節(jié)，凹窩和 浮塊之間的定位精度不可避免地更糟。因此，提出建議通過(guò)在舌部上形成凹窩來(lái)提高浮塊與凹窩之間的定位精度。在該 情況中，浮塊通過(guò)粘接固定到舌部的一個(gè)表面(浮塊安裝表面)，且凹窩固定到另一表面。凹窩需要一定的高度以保證舌部允許范圍的萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)。如果凹窩是小外型的，則 當(dāng)舌部的擺動(dòng)角度增加時(shí)，舌部的一部分與負(fù)載梁干涉，從而不可避免地減小萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)的 允許范圍。因此，凹窩的尺寸不能無(wú)限地減小。如果凹窩形成在舌部上，其反面限定舌部的浮塊安裝表面中的凹陷。如果小浮塊 安裝在具有常規(guī)尺寸凹窩的舌部的浮塊安裝表面上，則凹窩的反面上凹陷的尺寸對(duì)浮塊的 比例增加。具體來(lái)說(shuō)，在最小浮塊的情況中，凹陷可能致使浮塊傾斜或降低浮塊在舌部上的粘接強(qiáng)度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種盤驅(qū)動(dòng)器懸架，該盤驅(qū)動(dòng)器懸架構(gòu)造成使得可精確地調(diào)節(jié)浮塊和 凹窩的相對(duì)位置，且盡管凹窩小也可防止減小舌部的萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)的允許范圍。根據(jù)本發(fā)明的一方面的盤驅(qū)動(dòng)器懸架包括固定到盤驅(qū)動(dòng)器的致動(dòng)臂的基部、由基 部支承在致動(dòng)臂上的負(fù)載梁、疊置在負(fù)載梁上的撓曲件以及形成在撓曲件上的舌部。舌部 包括浮塊安裝表面和與浮塊安裝表面相反的平坦部分，浮塊安裝在浮塊安裝表面上。在平 坦部分上形成有凹窩。凹窩包括沿厚度方向相對(duì)于舌部朝向負(fù)載梁突起的末端。在負(fù)載梁 的面向舌部的面對(duì)表面上形成突出件。突出件包括沿厚度方向相對(duì)于負(fù)載梁朝向凹窩突起 的端面。舌部用與凹窩的末端接觸的端面可擺動(dòng)地支承在突起上。在本發(fā)明的較佳方面中，凹窩的突起高度比突出件的高度小。此外，從末端側(cè)看， 凹窩的面積小于突出件的端面的面積。從相對(duì)于舌部側(cè)向看時(shí)，凹窩的一實(shí)例從平坦部分 弧形地突出。突出件的一個(gè)實(shí)例是像諸如圓錐或棱錐的截錐一樣錐形的，使得從相對(duì)于負(fù) 載梁從側(cè)向看時(shí)其沿面對(duì)表面的橫截面面積朝向端面減小。在下面的說(shuō)明書中將提出本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)，這些其它目的和優(yōu)點(diǎn)部分地 將從說(shuō)明書中變得明顯，或可通過(guò)對(duì)本發(fā)明的實(shí)踐來(lái)學(xué)到。借助于在下文中特別指出的手 段和組合，可實(shí)現(xiàn)和達(dá)到本發(fā)明的目的和優(yōu)點(diǎn)。


包含于此并構(gòu)成本說(shuō)明書一部分的附圖示出本發(fā)明的實(shí)施例，它與上面給出的總 體描述和下面給出的對(duì)實(shí)施例的詳細(xì)描述一起用來(lái)揭示本發(fā)明的原理。圖1是示出盤驅(qū)動(dòng)器的實(shí)例的立體圖；圖2是圖1所示盤驅(qū)動(dòng)器的一部分的剖視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)器懸架的立體圖；圖4是示出圖3所示懸架的遠(yuǎn)端部分的放大立體圖；圖5是圖3所示懸架遠(yuǎn)端部分的平面圖；圖6是圖3的懸架遠(yuǎn)端部分從撓曲件側(cè)看的立體圖；圖7是圖3的懸架遠(yuǎn)端部分從撓曲件側(cè)看的平面圖；圖8是懸架沿圖5的線F8-F8截取的局部剖視圖；以及圖9是懸架沿圖8的線F9-F9截取的局部剖視圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)參考圖1到9描述根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)器懸架。圖1所示盤驅(qū)動(dòng)器(HDD)包括殼體2、心軸3、盤4、樞軸5、托架6、定位電動(dòng)機(jī)(音 圈電動(dòng)機(jī))7等。盤4可圍繞心軸3旋轉(zhuǎn)。托架6可圍繞樞軸5轉(zhuǎn)動(dòng)。定位電動(dòng)機(jī)7可使 托架6轉(zhuǎn)動(dòng)。殼體2由蓋(未示出)密封。圖2是典型地示出盤驅(qū)動(dòng)器1的一部分的剖視圖。如圖2所示，托架6包括臂(致 動(dòng)臂)8。懸架10安裝在每個(gè)臂8的遠(yuǎn)端部分上。構(gòu)成磁頭部分的浮塊11設(shè)置在懸架10的遠(yuǎn)端部分上。如果每個(gè)盤4高速旋轉(zhuǎn)，則在盤4與浮塊11之間形成空氣軸承。如果通過(guò)定位電動(dòng)機(jī)7轉(zhuǎn)動(dòng)托架6時(shí)，懸架10相對(duì)于盤4徑向運(yùn)動(dòng)。由此，浮塊 11移動(dòng)到盤4的所要求的軌道。能夠在電信號(hào)與磁信號(hào)之間轉(zhuǎn)換的諸如磁阻元件(MR元 件)的元件12(圖6)布置在浮塊11的端部上。這些元件12用于訪問(wèn)盤4，即，將數(shù)據(jù)寫入 盤或從盤讀取數(shù)據(jù)。圖3示出根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的懸架10。懸架10包括具有基板17的基部18、 負(fù)載梁20以及具有導(dǎo)體的撓曲件21等。負(fù)載梁20的近側(cè)部分20a與基板17交疊。負(fù)載 梁20的厚度范圍在例如從約30至100 μ m。負(fù)載梁20通過(guò)基部18固定到其相應(yīng)臂8 (圖1和幻。彈性鉸接部分22形成在負(fù) 載梁20上。鉸接部分22可沿厚度方向彈性變形。在圖3中，箭頭X指示懸架10或負(fù)載梁 20的縱向方向(前后方向)。圖4和圖5分別示出懸架10的遠(yuǎn)端部分。圖6和7分別是從圖4相反側(cè)看的懸 架10的遠(yuǎn)端部分的立體圖和平面圖。如從圖4到7可看到的，具有導(dǎo)體的撓曲件21 (此后 簡(jiǎn)稱為撓曲件)沿負(fù)載梁20布置。撓曲件21包括金屬基部2Ia和沿金屬基部2Ia形成的預(yù)定型式的電路件2lb。金 屬基底21a由比負(fù)載梁20薄的金屬板制成。電路件21b形成在金屬基部21a上方，電絕緣 層21c (圖6)在電路件21b與撓曲件21之間。撓曲件21的金屬基部21a由例如厚度大約 為10-25 μ m厚的軋制不銹鋼板形成。金屬基底21a通過(guò)激光焊接等固定到負(fù)載梁20的預(yù) 定部分上。撓曲件21包括一對(duì)外懸支架部分25 (左和右)和舌部分沈作為可移動(dòng)部分。舌 部分沈通過(guò)形成在負(fù)載梁20的遠(yuǎn)端附近的連結(jié)部27與外懸支架部分25連接。舌部沈 是金屬基部21a的彈性部分。因此，舌部沈可相對(duì)于撓曲件21沿厚度方向彈性變形。如圖8和9所示，舌部沈包括浮塊安裝表面30和平坦部(第一平坦部)31。平坦 部31位于浮塊安裝表面30的相反側(cè)上。浮塊11安裝在浮塊安裝表面30上。用作磁電裝 置或換能器的元件12(圖6)設(shè)置在浮塊11的前端部上。浮塊11的端子區(qū)域35 (圖6)電 連接到撓曲件21的電路件21b。浮塊11和懸架10構(gòu)成磁頭萬(wàn)向節(jié)組件。凹窩40形成在該舌部沈上。凹窩40沿厚度方向相對(duì)于舌部沈從舌部沈的平 坦部分31朝向負(fù)載梁20突起。從相對(duì)于舌部沈的側(cè)向看時(shí)，凹窩40的一實(shí)例從平坦部 分31弧形地突出。凹窩40的末端40a朝向負(fù)載梁20突起。如圖7所示，凹窩40位于浮 塊中心線C上浮塊11的重心G附近。凹窩40通過(guò)例如壓制成型形成。因此，凹陷40b形成在舌部沈的浮塊安裝表面30 中的對(duì)應(yīng)于凹窩40的反面的位置。凹窩40也可通過(guò)除了壓制成型外的某些方式形成。.例 如，凹窩可通過(guò)蝕刻其周圍區(qū)域而形成。凹窩40在平坦部31上的突起高度Hl (圖9)是例 如大約10 μ m。凹窩40的突起高度Hl比常規(guī)凹窩的突起高度(例如，50 μ m)足夠小。浮塊11通過(guò)諸如粘接的固定方式固定到浮塊安裝部分30。.凹窩40形成在浮塊 11的橫向中心(沿圖9中由箭頭W指示的方向)上。換言之，浮塊11定位在浮塊安裝表面 30上并固定到浮塊安裝表面使得浮塊的橫向中心與凹窩40的末端40a對(duì)齊。負(fù)載梁20包括面對(duì)舌部沈的面對(duì)表面(第二平坦部分)50。突出件51布置在面 對(duì)表面50的對(duì)應(yīng)于凹窩40的部分上。突出件51通過(guò)壓制成型形成。在突出件51后面的凹陷51a形成在負(fù)載梁20的與面對(duì)表面50相反的表面內(nèi)。但是，突出件51可通過(guò)除了壓 制成型外的某些方式形成。例如，突出件可通過(guò)蝕刻其周圍區(qū)域而形成?；蛘?，可將用于突 出件的組件附連到負(fù)載梁20。舌部26、凹窩40以及突出件51構(gòu)成萬(wàn)向節(jié)部分55。突出件51包括端面52。端面52沿厚度方向相對(duì)于負(fù)載梁20朝向凹窩40突起。 雖然突出件51示出為錐體的截錐，但其可以替代地是例如棱錐的截錐等。簡(jiǎn)言之，突出件 51是梯形或錐形的，使得從負(fù)載梁20側(cè)看時(shí)突出件51沿面對(duì)表面的橫截面面積朝向端面 52減小。因此，突出件51可容易地通過(guò)壓制成型形成。此外，突出件51的端面52的直徑 可做成比突出件51底部的直徑大。因此，當(dāng)舌部沈繞凹窩40作萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)時(shí)，舌部沈變得 難以接觸突出件51，從而使得萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)的范圍能夠擴(kuò)大。突出件51從面對(duì)表面50的突起高度H2 (圖9)是例如大約40 μ m。突出件51的 高度H2大于凹窩40的高度HI。凹窩40的高度Hl應(yīng)較佳地小于突出件51高度H2的大 約一半。凹窩40的面積(從末端40a側(cè)看)小于突出件51的端面52的面積?？傊几C 40是比突出件51足夠小的突起。凹窩40的末端40a與突出件51的端面52接觸。換言之，舌部沈以凹窩40的末 端40a鄰接突出件51的端面52的狀態(tài)由突出件51可擺動(dòng)地支承。因此，舌部沈可沿滾 動(dòng)方向R(圖6)、縱搖方向P等繞凹窩40的末端40a擺動(dòng)。根據(jù)上述的懸架10，從撓曲件21的舌部沈突出的小凹窩40與負(fù)載梁20上的突 出件51的端面52接觸。由于凹窩40的末端40a由突出件51的端面52支承，舌部沈在 萬(wàn)向節(jié)部分陽(yáng)處繞凹窩末端40a作萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)。因此，盡管凹窩40的突起Hl (圖9)的高度小，但可在舌部沈的平坦部分31與負(fù) 載梁20的面對(duì)表面50之間保證足夠的距離H3。因此，雖然凹窩40小，但是當(dāng)舌部擺動(dòng)時(shí)， 舌部沈可避免與負(fù)載梁20干涉，且可保證用于萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)的正常允許范圍。此外，由于舌部沈上的凹窩40可做小，凹窩40后面的凹陷40b也可做小。因此， 即使當(dāng)小浮塊11安裝在浮塊安裝表面30上時(shí)，也可防止浮塊11由于凹陷40b傾斜且可防 止降低粘接強(qiáng)度。此外，由于浮塊11和凹窩40都布置在舌部沈上，所以可精確地調(diào)節(jié)浮塊11和凹 窩40的相對(duì)位置。由于負(fù)載梁20上的突出件51僅需能夠接納凹窩40的末端40a，所以某 些突出件51定位精確性的低劣不會(huì)不利地影響萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)。如圖9中雙點(diǎn)劃線L所指示，突出件51的端面52可壓入中心內(nèi)使得凹窩40的末 端40a可與壓入的端面52接觸。如果完成這些，則凹窩末端40a變得可更不容易從突出件 51的端面52移走。根據(jù)上述的實(shí)施例，舌部繞凹窩40的末端40a在其上擺動(dòng)(或作萬(wàn)向運(yùn)動(dòng))，凹 窩40與突出件的端面52接觸。舌部沈的平坦部分31保持在到負(fù)載梁的面對(duì)表面50的 距離H3處，該距離H3與凹窩40和突出件51相應(yīng)的突起高度Hl與H2之和相等。因此，雖 然凹窩小，但是可保證負(fù)載梁和舌部之間足夠的距離，從而不會(huì)減小萬(wàn)向運(yùn)動(dòng)的允許范圍。 此外，由于浮塊和凹窩布置在舌部上，可更精確地調(diào)節(jié)它們的相對(duì)位置。應(yīng)理解，在實(shí)施本發(fā)明時(shí)，舌部、凹窩、突出件等的具體構(gòu)造、形狀以及布局，還有 負(fù)載梁和撓曲件的形狀都可在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下作各種修改。對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)還可易于有其它優(yōu)點(diǎn)和更改。因此，本發(fā)明在其更廣泛方面并不限于本文所示和所述的具體細(xì)節(jié)和代表性實(shí)施例。因而，可進(jìn)行各種更改而不偏 離所附權(quán)利要求書和其同等物所限定的總體發(fā)明概念的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種盤驅(qū)動(dòng)器懸架(10)，其特征在于，包括基部(18)，所述基部(18)固定到盤驅(qū)動(dòng)器的致動(dòng)臂(8)；負(fù)載梁(20)，所述負(fù)載梁00)由所述基部(18)支承在所述致動(dòng)臂(8)上；撓曲件(21)，所述撓曲件疊置在所述負(fù)載梁00)上；舌部(26)，所述舌部06)形成在所述撓曲件上并包括浮塊安裝表面(30)和平坦 部分(31)，所述浮塊安裝表面(30)上安裝有浮塊(11)，所述平坦部分(31)與所述浮塊安 裝表面(30)相反；凹窩(40)，所述凹窩00)形成在所述舌部06)的所述平坦部分(31)上并包括沿厚度 方向相對(duì)于所述舌部06)朝向所述負(fù)載梁OO)突起的末端(40a)；以及突出件(51)，所述突出件(51)形成在所述負(fù)載梁OO)的面向所述舌部06)的面對(duì) 表面(50)上，所述突出件(51)包括端面(52)，所述端面(5 沿厚度方向相對(duì)于所述負(fù)載 梁OO)朝向所述凹窩GO)突起，并可擺動(dòng)地支承所述舌部( )，所述端面(5 與所述凹 窩(40)的所述末端(40a)接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的盤驅(qū)動(dòng)器懸架，其特征在于，所述凹窩GO)的突起高度(Hl)比 所述突出件(51)的突起高度0 )小，且從所述末端(40a)側(cè)看時(shí)，所述凹窩GO)的面積 比所述突出件(51)的所述端面(52)的面積小。
3.如權(quán)利要求1或2所述盤驅(qū)動(dòng)器懸架，其特征在于，相對(duì)于所述舌部06)從側(cè)向看 時(shí)，所述凹窩GO)從所述平坦部分(31)弧形地突出。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述盤驅(qū)動(dòng)器懸架，其特征在于，所述突出件(51)是錐 形的，使得相對(duì)于所述負(fù)載梁OO)從側(cè)向看時(shí)，所述突出件(51)沿所述面對(duì)表面(50)的 橫截面面積朝向所述端面(5 減小。
全文摘要
盤驅(qū)動(dòng)器懸架(10)設(shè)有負(fù)載梁(20)和撓曲件(21)。舌部(26)形成在撓曲件(21)上。舌部(26)包括浮塊安裝表面(30)和平坦部分(31)。浮塊(11)安裝在浮塊安裝表面(30)上。凹窩(40)形成在平坦部分(31)上。凹窩(40)的末端(40a)沿厚度方向相對(duì)于舌部(26)朝向負(fù)載梁(20)突起。突出件(51)形成在負(fù)載梁(20)的面對(duì)表面(50)上。突出件(51)的端面(52)沿厚度方向相對(duì)于負(fù)載梁(20)朝向凹窩(40)突起。當(dāng)凹窩(40)的末端(40a)接觸突出件(51)的端面(52)時(shí)，舌部(26)可擺動(dòng)地支承在突出件(51)上。
文檔編號(hào)G11B5/53GK102054485SQ20101050937
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2010年10月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月27日
發(fā)明者曾我潤(rùn) 申請(qǐng)人:日本發(fā)條株式會(huì)社