專利名稱：光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置和聚焦伺服控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于一種用來執(zhí)行相對于光盤記錄介質(zhì)的記錄和/或再生的光學(xué)驅(qū) 動(dòng)裝置及其聚焦伺服控制方法，更具體地，涉及一種被配置為通過共用物鏡照射用于記錄 (或再生)標(biāo)記的記錄/再生光和用來基于形成在光盤記錄介質(zhì)中的位置引導(dǎo)元件執(zhí)行伺 服控制的伺服光的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置。
背景技術(shù)：
作為通過光照射來執(zhí)行信號的記錄/再生的光學(xué)記錄介質(zhì)，例如，所謂的光盤(諸 如壓縮盤(CD)、數(shù)字通用盤(DVD)或藍(lán)光盤(BD)(注冊商標(biāo)))已經(jīng)得到廣泛使用。對于作為目前以⑶、DVD、BD等而廣泛使用的下一代光學(xué)記錄介質(zhì)的光學(xué)記錄介 質(zhì)，首先，本發(fā)明申請人提出了在日本未審查專利申請公開第2008-135144或2008-176902 號中描述的所謂的塊記錄型光學(xué)記錄介質(zhì)。日本未審查專利申請公開第2009-9365號也是現(xiàn)有技術(shù)的實(shí)例。這里，例如，如圖15所示，塊記錄指的是這樣一種技術(shù)，該技術(shù)通過將激光束照射 到至少具有覆蓋層101和塊層(記錄層)102的光學(xué)記錄介質(zhì)(塊型記錄介質(zhì)100)，順序改 變聚焦位置以在塊層102中執(zhí)行多層記錄來實(shí)現(xiàn)大的記錄容量。在這樣的塊記錄中，日本未審查專利申請公開第2008-135144號公開了一種被稱 為所謂的微全息方法(micro hologram method)的記錄技術(shù)。如圖16A和圖16B所示，微全息方法主要分為正型微全息方法和負(fù)型微全息方法。在微全息方法中，將所謂的全息記錄材料用作塊層102的記錄材料。作為全息記 錄材料，例如，廣泛使用可聚合性光致聚合物(photopolymerizable photopolymer)。如圖16A所示，正型微全息方法是在相同位置聚焦兩個(gè)相對的光通量(光通量A 和光通量B)以形成細(xì)微干涉條紋(全息圖)并將該細(xì)微干涉條紋用作記錄標(biāo)記的方法。與正型微全息方法相反，圖16B所示的負(fù)型微全息方法是通過激光束照射來擦除 預(yù)先形成的干涉條紋并使用擦除的部分作為記錄標(biāo)記的方法。圖17A和圖17B是示出負(fù)型微全息方法的示圖。在負(fù)型微全息方法中，在執(zhí)行記錄操作之前，如圖17A所示，預(yù)先執(zhí)行用來在塊層 102中形成干涉條紋的初始化處理。具體地，如圖中所示，相對地通過平行光照射光通量C 和D以在整個(gè)塊層102中形成這樣的干涉條紋。在通過初始化處理預(yù)先形成干涉條紋之后，如圖17B所示，通過形成擦除標(biāo)記來 執(zhí)行信息記錄。具體地，通過在聚焦在任意層位置的狀態(tài)下根據(jù)記錄信息照射激光束，執(zhí)行 通過擦除標(biāo)記而進(jìn)行的信息記錄。例如，本申請的申請人在日本未審查專利申請公開第2008-176902號中提出了形 成孔隙(孔洞)作為記錄標(biāo)記的記錄方法，來作為不同于微全息方法的塊記錄方法。例如，孔隙記錄方法是一種以相對較高能量向由記錄材料(諸如可聚合性光致聚 合物)形成的塊層102照射激光束以在塊層102中記錄孔洞(孔隙)的方法。如在日本未審查專利申請公開第2008-176902號中所描述的，形成的孔洞部的折射率不同于塊層102 的其他部分，因此其邊界部分的光反射率增加。因此，孔洞部用作記錄標(biāo)記，由此通過形成 孔洞標(biāo)記實(shí)現(xiàn)了信息記錄。在這種孔隙記錄方法中，由于沒有形成全息圖，所以通過來自一側(cè)的光照射完成 記錄。即，沒有必要像正型微全息方法那樣在相同位置聚焦兩個(gè)光通量以形成記錄標(biāo)記。此外，與負(fù)型微全息方法相比，優(yōu)點(diǎn)在于不執(zhí)行初始化處理。在日本未審查專利申請公開第2008-176902號中，盡管描述了在執(zhí)行孔隙記錄時(shí) 在記錄之前照射預(yù)固化光的實(shí)例，但即使在省略了預(yù)固化光的照射時(shí)也可以進(jìn)行孔隙記 錄。然而，即使在其中進(jìn)行上述各種記錄方法的塊記錄型(還被簡稱為塊型)光盤記 錄介質(zhì)中，塊型光盤記錄介質(zhì)的記錄層(塊層)并不具有明顯的多層結(jié)構(gòu)(例如，形成有多 個(gè)反射膜)。即，在塊層102中，并沒有設(shè)置用于包含在通用多層盤中的每個(gè)記錄層的反射 膜和引導(dǎo)凹槽。因此，在如圖15所示的塊型記錄介質(zhì)100的結(jié)構(gòu)中，在沒有形成標(biāo)記的記錄期間 可以不執(zhí)行聚焦伺服和跟蹤伺服。 因此，實(shí)際上，在塊型記錄介質(zhì)100中，設(shè)置反射面(基準(zhǔn)面)，其成為具有圖18所 示引導(dǎo)凹槽的基準(zhǔn)。具體地，在覆蓋層101的下表面?zhèn)刃纬芍T如凹坑或凹槽的引導(dǎo)凹槽(位置引導(dǎo)元 件)，并在引導(dǎo)凹槽上形成選擇性反射膜103。塊層102層疊在其上形成有選擇性反射膜 103的覆蓋層101的下層側(cè)上，粘合材料插在其間作為圖示的中間層104(諸如，UV固化樹 脂)。這里，通過形成諸如凹坑或凹槽的引導(dǎo)凹槽，例如，可以執(zhí)行諸如半徑位置信息或 旋轉(zhuǎn)角度信息的絕對位置信息的記錄。在以下描述中，將其中形成了這樣的引導(dǎo)凹槽并記 錄了絕對位置信息的表面(在這種情況下為其上形成了選擇性反射膜103的表面)稱作 “基準(zhǔn)面Ref ”。在形成這種介質(zhì)結(jié)構(gòu)之后，如圖19所示，分別向塊型記錄介質(zhì)100照射用于記錄 (或再生)標(biāo)記的激光束(下文稱為記錄/再生激光束，或者簡稱為記錄/再生光)、作為 用于位置控制的激光束的伺服激光束(簡稱為伺服光)。如圖所示，記錄/再生激光束和伺服激光束通過共用物鏡照射到塊型記錄介質(zhì) 100。此時(shí)，如果伺服激光束到達(dá)塊層102，則塊層102中的標(biāo)記會(huì)受到不利地影響。因 此，在相關(guān)技術(shù)的塊記錄方法中，將波長范圍與記錄/再生激光束不同的激光束用作伺服 激光束，并且提供具有波長選擇性的選擇性反射膜103 (其反射伺服激光束并透射記錄/再 生激光束)作為形成在基準(zhǔn)面Ref上的反射膜。基于上述假設(shè)，將參照圖19描述用于塊型記錄介質(zhì)100的標(biāo)記記錄時(shí)的操作。首先，當(dāng)針對其中沒有形成引導(dǎo)凹槽和反射膜的塊層102執(zhí)行多層記錄時(shí)，預(yù)先 設(shè)置用于在塊層102中深度方向上記錄標(biāo)記的層位置。在圖中，示出了將包括第一信息記 錄層Ll至第五信息記錄層L5的總共5個(gè)信息記錄層(標(biāo)記形成層)L設(shè)置為用于在塊層 102中形成標(biāo)記的層位置(標(biāo)記形成層，也被稱為信息記錄層)的情況。如圖所示，第一信息記錄層Ll的層位置被設(shè)置為在聚焦方向(深度方向)上與其中形成有引導(dǎo)凹槽的選擇 性反射膜103(基準(zhǔn)面)分離第一偏移of-Ll的位置。第二信息記錄層L2的層位置、第三 信息記錄層L3的層位置、第四信息記錄層L4的層位置和第五信息記錄層L5的層位置被設(shè) 置為分別與選擇性反射膜103(基準(zhǔn)面)分離第二偏移of_L2、第三偏移of-L3、第四偏移 of-L4和第五偏移of-L5的位置。在還沒有形成標(biāo)記的記錄期間，并沒有基于相對于作為目標(biāo)的塊層102的層位置 的記錄/再生激光束的反射光來執(zhí)行聚焦伺服和跟蹤伺服。因此，執(zhí)行記錄期間物鏡的聚 焦伺服控制和跟蹤伺服控制，以基于伺服激光束的反射光使得伺服激光束的光斑位置跟隨 基準(zhǔn)面Ref (選擇性反射膜10 上的引導(dǎo)凹槽。有必要使記錄/再生激光束到達(dá)形成在選擇性反射膜103的下層側(cè)上的塊層102， 以用于標(biāo)記記錄。為此，在這種情況的光學(xué)系統(tǒng)中，設(shè)置了用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)， 其與物鏡的聚焦機(jī)構(gòu)分離地單獨(dú)調(diào)整記錄/再生激光束的聚焦位置。這里，在圖20中示出了用于執(zhí)行塊型記錄介質(zhì)100(包括用于獨(dú)立調(diào)整記錄/再 生激光束的聚焦位置的機(jī)構(gòu))的記錄和再生的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)實(shí)例。在圖20中，如圖所示，圖19所示的物鏡可以通過二軸致動(dòng)器在塊型記錄介質(zhì)100 的半徑方向(跟蹤方向)以及與塊型記錄介質(zhì)100靠近或分離的方向(聚焦方向)上移動(dòng)。在圖20中，用于單獨(dú)調(diào)整記錄/再生激光束的聚焦位置的機(jī)構(gòu)對應(yīng)于圖中所示的 聚焦機(jī)構(gòu)擴(kuò)展器。具體地，作為擴(kuò)展器的聚焦機(jī)構(gòu)包括固定透鏡以及可移動(dòng)透鏡，保持該可 移動(dòng)透鏡以通過透鏡驅(qū)動(dòng)單元在平行于記錄/再生激光束的光軸的方向上可移動(dòng)該可移 動(dòng)透鏡。通過由透鏡驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)透鏡，改變了入射到圖中物鏡的記錄/再生激光 束的校準(zhǔn)，從而獨(dú)立于伺服激光束調(diào)整了記錄/再生激光束的聚焦位置。如上所述，由于記錄/再生激光束和伺服激光束具有不同的波長范圍，相應(yīng)地，在 這種情況下的光學(xué)系統(tǒng)中，如圖所示，記錄/再生激光束和伺服激光束的來自塊型記錄介 質(zhì)100的反射光通過二向棱鏡被分離到各個(gè)系統(tǒng)(即，獨(dú)立地檢測各反射光)。在前向光中，二向棱鏡用來在同一光軸上合成記錄/再生激光束和伺服激光束以 使得合成的光束能夠進(jìn)入物鏡。具體地，在這種情況下，如圖所示，記錄/再生激光束通過 擴(kuò)展器從反射鏡反射，然后被二向棱鏡的選擇性反射面反射而進(jìn)入物鏡。相反，伺服激光束 透過二向棱鏡的選擇反射面而進(jìn)入物鏡。圖21是示出塊型記錄介質(zhì)100的再生時(shí)的伺服控制的示圖。在其中已經(jīng)執(zhí)行了標(biāo)記記錄的塊型記錄介質(zhì)100的再生期間，沒有必要如記錄期 間那樣基于伺服激光束的反射光來控制物鏡的位置。即，在再生期間，基于記錄/再生激光 束的反射光，可以對形成在信息記錄層L中將作為目標(biāo)被再生的標(biāo)記串執(zhí)行物鏡的聚焦伺 服控制和跟蹤伺服控制。如上所述，在塊記錄方法中，通過共用物鏡向塊型記錄介質(zhì)100照射用于記錄/再 生標(biāo)記的記錄/再生激光束以及作為位置控制光束的伺服光(被合成在同一光軸上)，在記 錄期間執(zhí)行物鏡的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制，使得伺服激光束跟隨基準(zhǔn)面Ref的引導(dǎo) 凹槽，記錄/再生激光束的焦點(diǎn)位置通過用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)來獨(dú)立調(diào)整，使得即 使在塊層102中沒有形成引導(dǎo)凹槽時(shí)，也可以在塊層102中的必要位置(深度方向和跟蹤 方向)處記錄標(biāo)記。
此外，在再生期間，基于記錄/再生激光束的反射光通過執(zhí)行物鏡的聚焦伺服控 制和跟蹤伺服控制以使記錄/再生激光束的焦點(diǎn)位置跟隨預(yù)先記錄的標(biāo)記串，從而可以再 生記錄在塊層102中的標(biāo)記。當(dāng)僅考慮標(biāo)記的再生時(shí)，在再生期間的伺服控制中，如上所述，有必要基于記錄/ 再生激光束僅執(zhí)行伺服控制。然而，實(shí)際上，在標(biāo)記的再生期間，可以請求對伺服光束的基 準(zhǔn)面Ref的伺服控制，原因在于執(zhí)行了記錄在基準(zhǔn)面Ref上的絕對位置信息的讀取。此時(shí)，在再生形成在某個(gè)信息記錄層L中的標(biāo)記串的情況下，在圖20中的記錄/ 再生激光束的聚焦機(jī)構(gòu)以與記錄期間的相同的量被驅(qū)動(dòng)的狀態(tài)下，如果基于記錄/再生激 光束的反射光進(jìn)行物鏡的聚焦伺服控制，伺服激光束的焦點(diǎn)位置在基準(zhǔn)面Ref上理想地匹 配(物鏡的聚焦方向上的驅(qū)動(dòng)狀態(tài)理想地與記錄期間的相同)。然而，實(shí)際上，在記錄期間，即使如上所述執(zhí)行用于作為目標(biāo)的基準(zhǔn)面Ref的伺服 激光束的伺服，記錄/再生激光束的聚焦位置(即，標(biāo)記記錄位置)可能不會(huì)不保持在被選 擇用來記錄的信息記錄層L上。換句話說，實(shí)際上，難以在深度方向上通過對應(yīng)于作為目標(biāo) 的信息記錄層L的偏移of-L保持基準(zhǔn)面Ref和標(biāo)記記錄位置之間的間隔。具體地，圖22示出了實(shí)際的基準(zhǔn)面Ref和記錄標(biāo)記串之間的關(guān)系。S卩，如圖22所示，所記錄的標(biāo)記串與基準(zhǔn)面Ref不平行。如上所述，在再生期間，當(dāng)僅執(zhí)行基于記錄/再生激光束的物鏡的伺服控制時(shí)，伺 服激光束的焦點(diǎn)位置可能與基準(zhǔn)面Ref不匹配。此外，由于通過改變?nèi)肷涞綀D20所示擴(kuò)展器(即，物鏡)的記錄/再生激光束的 校準(zhǔn)來執(zhí)行記錄期間記錄/再生激光束的聚焦位置的調(diào)整，所以出現(xiàn)了圖22所示的現(xiàn)象。擴(kuò)展器可通過使記錄/再生激光束作為非平行光進(jìn)入物鏡來在與作為平行光入 射到物鏡的伺服激光束的聚焦位置不同的位置處調(diào)整記錄/再生激光束的聚焦位置。然 而，通過使記錄/再生激光束作為非平行光進(jìn)入物鏡，如果通過跟隨塊型記錄介質(zhì)100的表 面波動(dòng)等在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)物鏡，則記錄/再生激光束對物鏡的入射直徑發(fā)生改變，結(jié)果， 記錄/再生激光束的聚焦位置從原始位置發(fā)生變化。因此，所記錄的標(biāo)記串(記錄/再生 激光束的聚焦位置)和基準(zhǔn)面Ref (伺服激光束的聚焦位置)之間間隔不均勻，并且出現(xiàn)了 圖22所示的非平行關(guān)系。為了解決這種問題，在現(xiàn)有技術(shù)中，如圖23所示，提出了一種結(jié)構(gòu)，其中，在伺服 激光束側(cè)獨(dú)立設(shè)置聚焦機(jī)構(gòu)。在圖23中，圖中的記錄/再生激光器111、準(zhǔn)直透鏡112、光束分離器113、用于記 錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)114、透鏡驅(qū)動(dòng)單元115、反射鏡116、聚焦透鏡120和光電檢測器121 構(gòu)成記錄/再生激光束的光學(xué)系統(tǒng)。此外，圖中的伺服激光器122、準(zhǔn)直透鏡123、光束分離 器124、用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)125、透鏡驅(qū)動(dòng)單元126、聚焦透鏡127和光電檢測器1 構(gòu) 成伺服激光束的光學(xué)系統(tǒng)。此外，根據(jù)參照圖22的描述可以理解的是，二向棱鏡117、物鏡118和雙軸致動(dòng)器 119構(gòu)成記錄/再生激光束和伺服激光束的公共光學(xué)系統(tǒng)。如圖所示，在這種情況下的光學(xué)系統(tǒng)中，添加了用于改變?nèi)肷涞轿镧R118的伺服 激光束的校準(zhǔn)并獨(dú)立調(diào)整伺服激光束的聚焦位置的針對伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)125。在這種情況下，在再生期間，在記錄/再生光伺服電路1 基于關(guān)于通過光電檢測器121獲得的記錄/再生激光束的反射光的信息執(zhí)行物鏡118(雙軸致動(dòng)器119)的聚焦伺 服控制的同時(shí)，用于伺服光的伺服電路130基于關(guān)于通過圖中的光電檢測器128獲得的伺 服激光束的反射光的信息驅(qū)動(dòng)用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)125的透鏡驅(qū)動(dòng)單元126，從而執(zhí)行 聚焦伺服控制，使得伺服激光束聚焦在基準(zhǔn)面Ref上。因此，可以執(zhí)行控制，使得再生期間伺服激光束的聚焦位置跟隨基準(zhǔn)面Ref。此外，在圖23中，為了確認(rèn)，示出了對用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)114，雙軸致動(dòng) 器119和用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)125執(zhí)行的控制的內(nèi)容。如圖所示，對于雙軸致動(dòng)器119， 在記錄期間，執(zhí)行了通過用于伺服光的伺服電路130進(jìn)行的基于伺服激光束的反射光的聚 焦伺服控制和跟蹤伺服控制。此外，在再生期間，執(zhí)行了通過記錄/再生光伺服短路1 進(jìn) 行的基于記錄/再生激光束的反射光的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。對于用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)125，僅在再生期間，執(zhí)行了通過用于伺服光的伺服電 路130進(jìn)行的基于伺服激光束的反射光的聚焦伺服控制。此外，用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)114根據(jù)對應(yīng)于作為目標(biāo)的信息記錄層L的 偏移值來驅(qū)動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
然而，如果執(zhí)行再生期間的上述聚焦伺服控制，由于通過物鏡118(雙軸致動(dòng)器 119)觀察伺服激光束的聚焦誤差信號，所以其受到記錄/再生激光束側(cè)的聚焦伺服特性很 大程度的影響。換句話說，根據(jù)再生期間的上述聚焦伺服控制，對應(yīng)于記錄/再生激光束的 聚焦伺服系統(tǒng)側(cè)的誤差(殘留誤差)的量作為干擾被施加到伺服激光束的聚焦伺服系統(tǒng)， 結(jié)果，伺服激光束側(cè)的聚焦伺服系統(tǒng)的性能劣化。對于這種問題，通過增加記錄/再生激光束側(cè)的聚焦伺服系統(tǒng)的頻帶，減小了殘 留誤差，由此抑制了伺服激光束側(cè)的聚焦伺服系統(tǒng)的性能劣化。然而，由于雙軸致動(dòng)器119等的共振的影響而不能充分增加聚焦伺服系統(tǒng)的頻
市ο此外，即使當(dāng)增加了聚焦伺服系統(tǒng)的頻帶時(shí)，實(shí)際上，由于難以無限地增加DC增 益，所以殘留誤差不能變?yōu)榱?。從這點(diǎn)可以理解的是，在增加聚焦伺服系統(tǒng)的頻帶的方法中，伺服激光束側(cè)的聚 焦伺服系統(tǒng)的干擾實(shí)質(zhì)上不能變?yōu)榱?，結(jié)果，不能根本防止從記錄/再生激光束側(cè)的聚焦 伺服系統(tǒng)的泄露。在本發(fā)明中，光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置具有以下結(jié)構(gòu)。即，包括第一光源和第二光源。此外，包括被配置為接收從第一光源發(fā)出的第一光以及從第二光源發(fā)出的第二 光，并將將第一光和第二光照射到光盤記錄介質(zhì)的物鏡。此外，包括被配置為在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)物鏡的第一聚焦機(jī)構(gòu)。此外，包括被配置為改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的準(zhǔn)直并獨(dú)立于第一光改變第二光 的聚焦位置的第二聚焦機(jī)構(gòu)。此外，包括被配置為基于通過接收第一光的反射光獲得的第一聚焦誤差信號驅(qū)動(dòng) 第一聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行第一光的聚焦伺服控制的第一聚焦伺服控制單元。
此外，包括被配置為從通過接收第二光的反射光獲得的第二聚焦誤差信號中減去 第一聚焦誤差信號的誤差信號減法單元。此外，包括被配置為基于經(jīng)受誤差信號減法單元的減法運(yùn)算的第二聚焦誤差信號 驅(qū)動(dòng)第二聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制的第二聚焦伺服控制單元。如上所述，在本發(fā)明中，在第一光和第二光都通過共用物鏡照射到光盤記錄介質(zhì) 的情況下，以及在驅(qū)動(dòng)作為物鏡的聚焦機(jī)構(gòu)的第一聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行第一光的聚焦伺服控制 (第一聚焦伺服控制)以及驅(qū)動(dòng)用于改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的準(zhǔn)直的第二聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí) 行第二光的聚焦伺服控制(第二聚焦伺服控制)的同時(shí)，從通過接收第二光的反射光獲得 的第二聚焦誤差信號中減去通過接收第一光所獲得的第一聚焦誤差信號。此外，通過基于 第二聚焦誤差信號(從中減去了對應(yīng)于第一聚焦誤差信號的量)驅(qū)動(dòng)第二聚焦結(jié)構(gòu)來執(zhí)行 第二聚焦伺服控制。因此，可以防止第一聚焦伺服控制系統(tǒng)的殘留誤差分量與第二聚焦伺服控制系統(tǒng)重疊。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以防止用于通過驅(qū)動(dòng)物鏡來執(zhí)行第一光的聚焦伺服控 制的第一聚焦伺服控制系統(tǒng)的殘留誤差分量與用于通過改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的準(zhǔn)直 執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制的第二聚焦伺服控制系統(tǒng)重疊。結(jié)果，可以以更高的精度穩(wěn)定地執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制。


圖1是一個(gè)實(shí)施方式中將被記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)圖；圖2是示出伺服控制的示圖；圖3是示出根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖；圖4是示出現(xiàn)有技術(shù)的記錄/再生光側(cè)聚焦伺服系統(tǒng)和伺服光側(cè)聚焦伺服系統(tǒng)的 模型的示圖；圖5A和圖5B是示出在僅應(yīng)用記錄/再生側(cè)伺服系統(tǒng)(第一伺服系統(tǒng))的聚焦伺 服的條件下伺服光側(cè)的引入信號(pull-in signal)和聚焦誤差信號的波形的示圖；圖6是示出在應(yīng)用記錄/再生側(cè)伺服系統(tǒng)(第一伺服系統(tǒng))和伺服光側(cè)伺服系統(tǒng) (第二伺服系統(tǒng))的條件下記錄/再生光側(cè)的聚焦誤差信號以及伺服光側(cè)的聚焦誤差信號 的波形的示圖；圖7是示出圖6所示聚焦誤差信號的放大波形的示圖；圖8是根據(jù)實(shí)施方式的記錄/再生光側(cè)聚焦伺服系統(tǒng)和伺服光側(cè)聚焦伺服系統(tǒng)的 模型的示圖；圖9是示出包括在根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置中的伺服光側(cè)伺服電路(第 二伺服系統(tǒng)側(cè)的伺服電路)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖；圖10是示出實(shí)施方式的聚焦伺服控制方法的有效性的示圖；圖11是示出第二實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖；圖12是示出包括在第二實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的記錄/再生光側(cè)伺服電路 (第二伺服系統(tǒng)側(cè)的伺服電路)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖；圖13是根據(jù)第三實(shí)施方式的將被記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)圖14是示出第三實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖；圖15是示出塊記錄方法的示圖；圖16A和圖16B是示出微全息方法的示圖；圖17A和圖17B是示出負(fù)型微全息方法的示圖；圖18是示出具有基準(zhǔn)面的實(shí)際塊型記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)的實(shí)例的示圖；圖19是示出塊型記錄介質(zhì)的標(biāo)記記錄期間的操作的示圖；圖20是示出用于執(zhí)行塊型記錄介質(zhì)的記錄/再生的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)實(shí)例的示 圖；圖21是示出塊型記錄介質(zhì)的再生期間的伺服控制的示圖；圖22是示出基準(zhǔn)面和所記錄標(biāo)記串之間的關(guān)系的示圖；以及圖23是示出現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)的示圖。
具體實(shí)施例方式以下，將描述執(zhí)行本發(fā)明的最佳模式(下文稱為實(shí)施方式)。以以下順序給出描 述。<1.第一實(shí)施方式>[1-1.第一實(shí)施方式中的將被記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)][1-2.關(guān)于記錄/再生期間的伺服控制][1-3.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)][1-4.現(xiàn)有技術(shù)問題的討論][1-5.實(shí)施方式的聚焦伺服控制]<2.第二實(shí)施方式〉[2-1.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)]<3.第三實(shí)施方式〉[3-1.第三實(shí)施方式中的將被記錄[3-2.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)]<4.變形實(shí)例><1.第一實(shí)施方式〉[1-1.第一實(shí)施方式中的將被記錄圖1是第一實(shí)施方式中的將被記錄
再生的光盤記錄介質(zhì)]
再生的光盤記錄介質(zhì)] 再生的光學(xué)記錄介質(zhì)的截[
結(jié)構(gòu)圖<
在第一實(shí)施方式中，將被記錄/再生的光學(xué)記錄介質(zhì)是所謂的塊記錄型光學(xué)記錄 介質(zhì)，在下文稱為塊型記錄介質(zhì)1。塊型記錄介質(zhì)1是盤狀光學(xué)記錄介質(zhì)，將激光束照射到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的塊型記錄介質(zhì) 1，以執(zhí)行標(biāo)記記錄(信息記錄)。通過向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的塊型記錄介質(zhì)1照射激光束來執(zhí)行所 記錄信息的再生。光學(xué)記錄介質(zhì)指的是用來通過光照射來記錄/再生信息的記錄介質(zhì)。如圖1所示，在塊型記錄介質(zhì)1中，從上層側(cè)開始順序形成覆蓋層2、選擇性反射膜 3、中間層4和塊層5。在本說明書中，“上層側(cè)”表示當(dāng)激光束如下述實(shí)施方式從光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置(記錄/再生裝置10、50或60)側(cè)進(jìn)入的表面為上表面時(shí)的上層側(cè)。盡管在本說明書中使用術(shù)語“深度方向”，但術(shù)語“深度方向”指的是與根據(jù)“上層 側(cè)”的定義的垂直方向相匹配的方向(即，與來自光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置側(cè)的激光束的入射方向平行 的方向聚焦方向)。在塊型記錄介質(zhì)1中，例如，覆蓋層2由諸如聚碳酸酯或丙烯酸的樹脂形成并且其 下表面?zhèn)染哂腥鐖D所示根據(jù)用于引導(dǎo)記錄/再生位置的引導(dǎo)凹槽的形成而導(dǎo)致的凹凸截 面形狀。作為引導(dǎo)凹槽，形成連續(xù)凹槽或凹坑行。例如，如果引導(dǎo)凹槽由凹坑行形成，則通 過凹坑和槽脊的長度的組合來記錄位置信息(絕對位置信息例如，旋轉(zhuǎn)角度信息、半徑位 置信息等)。可選地，如果引導(dǎo)凹槽由凹槽形成，則以Z字形(擺動(dòng))方式周期性地形成凹 槽，以通過Z字形的周期信息記錄位置信息。通過使用其中形成有這種引導(dǎo)凹槽(凹凸形狀)的壓膜的注入成型(injection molding)等來生成覆蓋層2。選擇性反射膜3形成在其中形成有引導(dǎo)凹槽的覆蓋層2的下表面?zhèn)壬?。如上所述，在塊記錄方法中，獨(dú)立于用來相對于作為記錄層的塊層5執(zhí)行標(biāo)記記 錄/再生的光(記錄/再生激光束)照射用來基于上述引導(dǎo)凹槽獲得跟蹤或聚焦誤差信號 的光(伺服激光束)。此時(shí)，如果伺服激光束到達(dá)塊層5，則塊層5中的標(biāo)記記錄會(huì)受到不利影響。因此， 具有反射伺服激光束并透射記錄/再生激光束的選擇性的反射膜是必需的。在現(xiàn)有技術(shù)的塊記錄方法中，使用波長范圍與記錄/再生激光束和伺服激光束不 同的激光束，與此對應(yīng)，將具有反射波長范圍與伺服激光束相同的光而透射其他波長范圍 的光的波長選擇性的選擇性反射膜用作選擇性反射膜3。作為記錄層的塊層5層疊在選擇性反射膜3的下層側(cè)，其間夾置有中間層4，例如， 中間層4由諸如UV固化樹脂的粘合材料形成。作為塊層5的材料(記錄材料)，例如，根據(jù)所采用的塊記錄方法(諸如上述正型 微全息方法、負(fù)型微全息方法或孔隙記錄方法)，適當(dāng)?shù)夭捎米罴巡牧?。此外，本發(fā)明的光盤記錄介質(zhì)的標(biāo)記記錄方法沒有具體限制，而是可以在塊記錄 方法的范圍中采用某一方法。在具有上述結(jié)構(gòu)的塊型記錄介質(zhì)1中，根據(jù)上述引導(dǎo)凹槽的形成具有凹凸截面形 狀的選擇性反射膜3變?yōu)榉瓷涿?，該反射面為下面所述的用于基于伺服激光束?zhí)行記錄/ 再生激光束的位置控制的基準(zhǔn)。在這種情況下，其上形成有選擇性反射膜3的表面在下文 種被稱為基準(zhǔn)面Ref。[1-2.關(guān)于記錄/再生期間的伺服控制]隨后，將參照圖2描述塊型記錄介質(zhì)1的記錄/再生期間的伺服控制。首先，在圖2中，如上所述，將用于形成記錄標(biāo)記并根據(jù)記錄標(biāo)記執(zhí)行信息再生的 記錄/再生激光束以及波長范圍與記錄/再生激光束不同的伺服激光束照射到塊型記錄介 質(zhì)1。如圖所示，記錄/再生激光束和伺服激光束通過共用物鏡(圖3的物鏡20)照射 到塊型記錄介質(zhì)1。
如圖1所示，在塊層5中，例如，不同于用于目前的光盤(諸如數(shù)字通用盤(DVD) 或藍(lán)光盤(BD)(注冊商標(biāo)))的多層盤，具有由于凹坑或凹槽而導(dǎo)致的引導(dǎo)凹槽的反射面沒 有形成在將被記錄的每個(gè)層位置處。因此，在還沒有形成標(biāo)記的記錄期間，沒有使用記錄/ 再生激光束的反射光執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服或跟蹤伺服。根據(jù)這一點(diǎn)，在塊型記錄介質(zhì)1的記錄期間，使用伺服激光束的反射光執(zhí)行記錄/ 再生激光束的跟蹤伺服和聚焦伺服。具體地，關(guān)于記錄期間記錄/再生激光束的聚焦伺服，首先，設(shè)置了用于獨(dú)立地僅 改變記錄/再生激光束的聚焦位置的記錄/再生光聚焦機(jī)構(gòu)(圖3的透鏡14和15以及透 鏡驅(qū)動(dòng)單元16)，然后基于使用選擇性反射膜3作為基準(zhǔn)(基準(zhǔn)面Ref)的圖中所示的偏移 “of”來控制記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)。這里，如上所述，記錄/再生激光束和伺服激光束通過共用物鏡照射到塊型記錄 介質(zhì)1。通過使用伺服激光束的來自伺基準(zhǔn)面Ref (選擇性反射膜3)的反射光控制物鏡來 執(zhí)行伺服激光束的聚焦伺服。記錄/再生激光束和伺服激光束通過共用物鏡照射，并且通過基于伺服激光束的 來自基準(zhǔn)面Ref的反射光控制物鏡來執(zhí)行伺服激光束的聚焦伺服，使得記錄/再生激光束 的聚焦位置跟隨塊型記錄介質(zhì)1的表面擺動(dòng)。此后，使用用于記錄/再生激光束的聚焦機(jī) 構(gòu)，記錄/再生激光束的聚焦位置偏移了偏移值“of”。因此，記錄/再生激光束的聚焦位置 跟隨塊層5中的所需深度位置。此外，為了確認(rèn)，將基于不存在表面擺動(dòng)的理想狀態(tài)來給出描述。在圖2中，作為與在塊層5中設(shè)置5個(gè)標(biāo)記形成層(還被稱為信息記錄層)L的 情況相對應(yīng)的偏移“of”的實(shí)例，示出了設(shè)置與第一信息記錄層Ll的層位置相對應(yīng)的第一 偏移of-Ll、與第二信息記錄層L2的層位置相對應(yīng)的第二偏移of_L2、與第三信息記錄層 L3的層位置相對應(yīng)的第三偏移of_L3、與第四信息記錄層L4的層位置相對應(yīng)的第四偏移 of-L4和與第五信息記錄層L5的層位置相對應(yīng)的第五偏移of_L5的情況。通過使用偏移值 “of”驅(qū)動(dòng)用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)，可以從作為第一信息記錄層Ll的層位置、作為第 二信息記錄層L2的層位置、作為第三信息記錄層L3的層位置、作為第四信息記錄層L4的 層位置和作為第五信息記錄層L5的層位置中充分地選擇深度方向上的標(biāo)記形成位置(記 錄位置)。關(guān)于記錄期間記錄/再生激光束的跟蹤伺服，如上所述，使用記錄/再生激光束和 伺服激光束通過共用物鏡照射的點(diǎn)執(zhí)行使用來自基準(zhǔn)面Ref的伺服激光束的反射光的物 鏡的跟蹤伺服控制。即，通過使用來自基準(zhǔn)面Ref的伺服激光束的反射光的物鏡的跟蹤伺 服控制，將記錄/再生激光束的焦點(diǎn)位置控制到形成在基準(zhǔn)面Ref中的引導(dǎo)凹槽正下方的 位置。在再生期間，執(zhí)行以下伺服控制。在其中已經(jīng)形成標(biāo)記串的塊記錄介質(zhì)1的再生期間，可以相對于所記錄的標(biāo)記串 執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服控制。因此，通過基于記錄/再生激光束的反射光控制 物鏡來執(zhí)行再生期間記錄/再生激光束的聚焦伺服控制，使得聚焦位置跟隨將被再生的標(biāo) 記串(信息記錄層L)。此外，通過基于記錄/再生激光束的反射光驅(qū)動(dòng)物鏡來執(zhí)行再生期間的記錄/再生激光束的跟蹤伺服控制，即，執(zhí)行再生期間的記錄/再生激光束的跟蹤伺服控制使得記 錄/再生激光束的焦點(diǎn)位置跟隨形成在信息記錄層L中的標(biāo)記串。在記錄在塊層5中的信息的再生期間，例如，對于絕對位置信息的記錄，執(zhí)行伺服 激光束的伺服控制。如參照圖22所描述的，在記錄期間，由于通過聚焦伺服控制追隨表面擺動(dòng)，物鏡 在聚焦方向上移動(dòng)，使得標(biāo)記串不與基準(zhǔn)面Ref平行。即，當(dāng)在再生期間基于記錄/再生激 光束的反射光執(zhí)行物鏡的聚焦伺服控制時(shí)，伺服光束的聚焦位置不能與基準(zhǔn)面Ref匹配。為此，通過單獨(dú)設(shè)置圖23所示用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)并控制用于伺服光的聚焦 機(jī)構(gòu)以使伺服激光束聚焦在基準(zhǔn)面Ref上，來執(zhí)行再生期間伺服激光束的聚焦伺服控制。具體地，通過設(shè)置用來改變?nèi)肷涞轿镧R的伺服激光束的校準(zhǔn)的伺服光的聚焦機(jī)構(gòu) 并基于伺服激光束的反射光控制伺服光的聚焦結(jié)構(gòu)以使伺服激光束的聚焦位置與基準(zhǔn)面 Ref相匹配來執(zhí)行聚焦伺服控制。通過使用用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)執(zhí)行聚焦伺服控制，實(shí)現(xiàn)了用于吸收圖22所示 基準(zhǔn)面Ref和所記錄標(biāo)記串之間的間隔誤差的控制。[1-3.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)]圖3是示出作為第一實(shí)施方式的用于相對于塊型記錄介質(zhì)1執(zhí)行記錄/再生的光 學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置(以下稱為記錄/再生裝置10)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖。在圖3中，設(shè)置安裝在記錄/再生裝置10中的塊型記錄介質(zhì)1，使得中心孔被夾在 記錄/再生裝置10的預(yù)定位置處并被保持以通過主軸電機(jī)(未示出)來旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動(dòng)。在記錄/再生裝置10中，設(shè)置用于向通過主軸電機(jī)旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動(dòng)的塊型記錄介質(zhì)1 照射記錄/再生激光束和伺服激光束的光學(xué)拾取器0P。在光學(xué)拾取器OP中，設(shè)置了記錄/再生激光器11和伺服激光器M，所述記錄/再 生激光器是用來通過標(biāo)記執(zhí)行信息記錄并再生通過標(biāo)記記錄的信息的記錄/再生激光束 的光源，所述伺服激光器是作為用來使用形成在基準(zhǔn)面Ref中的引導(dǎo)凹槽執(zhí)行位置控制的 光的伺服激光束的光源。這里，如上所述，記錄/再生激光束和伺服激光束具有不同的波長。在該實(shí)例中， 記錄/再生激光束的波長大約為405nm(所謂的紫光藍(lán)激光束)，而伺服激光束的波長大約 為650nm(紅色激光束)。在光學(xué)拾取器OP中，設(shè)置作為記錄/再生激光束和伺服激光束到塊型記錄介質(zhì)1 的輸出端的物鏡20。此外，設(shè)置了感測記錄/再生激光束的來自塊型記錄介質(zhì)1的反射光的用于記錄/ 再生光的感光部23以及感測自伺服激光束的來自塊型記錄介質(zhì)1的反射光的用于伺服光 的感光部32。此外，在光學(xué)拾取器OP中，形成了用于將從記錄/再生激光器11發(fā)發(fā)出的記錄/ 再生激光束引導(dǎo)到物鏡20以及將入射到物鏡20的來自塊型記錄介質(zhì)1的記錄/再生激光 束的反射光引導(dǎo)到用于記錄/再生光的感光部23的光學(xué)系統(tǒng)。具體地，從記錄/再生激光器11發(fā)出的記錄/再生激光束通過準(zhǔn)直透鏡12變?yōu)?平行光，從而進(jìn)入偏振光束分離器13。偏振光束分離器13被配置為透射從記錄/再生激光 器11側(cè)入射的記錄/再生激光束。
通過偏振光束分離器13透射的記錄/再生激光束進(jìn)入包括固定透鏡14、可移動(dòng)透 鏡15和透鏡驅(qū)動(dòng)單元16的擴(kuò)展器。通過將固定透鏡14配置到接近作為光源的記錄/再 生激光器11的位置、將可移動(dòng)透鏡15配置到遠(yuǎn)離記錄/再生激光器11的位置以及通過透 鏡驅(qū)動(dòng)單元16在與記錄/再生激光束的光軸平行的方向上驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)透鏡15，該擴(kuò)展器對 記錄/再生激光束執(zhí)行獨(dú)立的聚焦控制。如下所述，用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元16)由控制器40根據(jù)與 對應(yīng)于作為目標(biāo)的信息記錄層L而設(shè)置的偏移值of-L來驅(qū)動(dòng)。穿過用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)的記錄/再生激光束從反射鏡17反射并通過 1/4波長板18進(jìn)入二向棱鏡19。配置二向棱鏡19，使其選擇性反射面反射波長范圍與記錄/再生激光束相同的光 而透射具有其他波長的光。因此，入射的記錄/再生激光束從二向棱鏡19被反射。如圖所示，從二向棱鏡19反射的記錄/再生激光束通過物鏡20照射到塊型記錄 介質(zhì)1。在物鏡20中，設(shè)置了用于在聚焦方向(與塊型記錄介質(zhì)1靠近或分離的方向)和 跟蹤方向(與聚焦方向垂直的方向塊型記錄介質(zhì)1的半徑方向)上移動(dòng)地保持物鏡20的 雙軸致動(dòng)器21。雙軸致動(dòng)器21包括聚焦線圈和跟蹤線圈，并通過向聚焦線圈和跟蹤線圈分別施 加驅(qū)動(dòng)信號(以下所述的驅(qū)動(dòng)信號FD和TD)來在聚焦方向和跟蹤方向上移動(dòng)物鏡20。在再生期間，通過向上述塊型記錄介質(zhì)1照射記錄/再生激光束，從塊型記錄介 質(zhì)1獲得記錄/再生激光束的反射光(記錄在塊層5中將被再生的信息記錄層L中的標(biāo)記 串)。通過上述操作獲得的記錄/再生激光束的反射光通過物鏡20被引導(dǎo)至二向棱鏡19 并從二向棱鏡19被反射。從二向棱鏡19反射的記錄/再生激光束的反射光穿過1/4波長板18、反射鏡17 和用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)(可移動(dòng)透鏡15和固定透鏡14)，然后進(jìn)入偏振光束分離 器13。通過1/4波長板18的操作和塊型記錄介質(zhì)1的反射操作，入射到偏振光束分離器 13的記錄/再生激光束的反射光(返回光)的偏振方向與從記錄/再生激光束11側(cè)入射 到偏振光束分離器13的記錄/再生激光束(前向光)的偏振方向相差90°。結(jié)果，入射的 記錄/再生激光束的反射光從偏振光束分離器13被反射。從偏振光束分離器13反射的記錄/再生激光束的反射光通過聚焦透鏡22聚焦在 用于記錄/再生光的感光部23的檢測面上。在光學(xué)拾取器OP中，除用于記錄/再生激光束的光學(xué)系統(tǒng)的上述結(jié)構(gòu)之外，還形 成了用于將從伺服激光器M發(fā)出的伺服激光束引導(dǎo)至物鏡20以及將入射到物鏡20的來 自塊型記錄介質(zhì)1的伺服激光束的反射光引導(dǎo)至用于伺服光的感光部32的光學(xué)系統(tǒng)。如圖所示，從伺服激光器M發(fā)出的伺服激光束通過準(zhǔn)直透鏡25變?yōu)槠叫泄獠⑦M(jìn) 入偏振光束分離器26。偏振光束分離器沈被配置為透射從伺服激光器M側(cè)入射的伺服光 束(前向光)。透過偏振光束分離器沈的伺服激光束進(jìn)入包括固定透鏡27、可移動(dòng)透鏡觀和透 鏡驅(qū)動(dòng)單元四的擴(kuò)展器。
通過將固定透鏡27配置到接近作為光源的伺服激光器M的位置、將可移動(dòng)透鏡 28配置到遠(yuǎn)離伺服激光器M的位置以及通過透鏡驅(qū)動(dòng)單元四在與伺服激光束的光軸平行 的方向上驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)透鏡觀，該擴(kuò)展對伺服激光束執(zhí)行單獨(dú)的聚焦控制。該擴(kuò)展器對應(yīng)于 用于伺服光的上述聚焦機(jī)構(gòu)。在塊型記錄介質(zhì)1的再生期間，通過下述用于伺服光的伺服電路39驅(qū)動(dòng)用于伺服 光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元29)。透過用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)的伺服激光束通過1/4波長板30進(jìn)入二向棱鏡19。 如上所述，二向棱鏡19被配置為反射波長范圍與記錄/再生激光束相同的光而透射具有其 他波長的光。因此，伺服激光束透過二向棱鏡19，而通過物鏡20照射到塊型記錄介質(zhì)1。通過向塊型記錄介質(zhì)1照射伺服光束獲得的伺服激光束的反射光(來自基準(zhǔn)面 Ref的反射光)穿過物鏡20，透過二向棱鏡19，并通過1/4波長板30和用于伺服光的聚焦 機(jī)構(gòu)(可移動(dòng)透鏡28和固定透鏡27)進(jìn)入偏振光束分離器26。與記錄/再生激光束類似，通過1/4波長板30的操作和塊型記錄介質(zhì)1的反射操 作，從塊型記錄介質(zhì)1入射的伺服激光束的反射光(返回光)的偏振方向與前向光的偏振 方向相差90°，因此，作為返回光的伺服激光束的反射光從偏振光束分離器沈被反射。因此，從偏振光束分離器沈反射的伺服激光束的反射光通過聚焦透鏡31聚焦到 用于伺服光的感光部32的檢測面上。盡管省略了描述，但實(shí)際上，在記錄/再生裝置10中，設(shè)置了用于在跟蹤方向上滑 動(dòng)和驅(qū)動(dòng)整個(gè)上述光學(xué)拾取器OP的滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元，以通過滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾取器 OP來大范圍地移動(dòng)激光束的照射位置。在記錄/再生裝置10中，與上述光學(xué)拾取器OP —起，設(shè)置了記錄處理單元33、用 于記錄/再生光的矩陣電路34、再生處理單元35、用于記錄/再生光的伺服電路36、用于伺 服光的矩陣電路37、位置信息檢測單元38、用于伺服光的伺服電路39以及控制器40。首先，將對塊型記錄介質(zhì)1記錄的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))輸入至記錄處理單元33。記 錄處理單元33對輸入記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行誤差檢測碼的添加和預(yù)定的記錄調(diào)制編碼，并獲得作 為實(shí)際記錄在塊型記錄介質(zhì)1中的“0”和“1”的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串。記錄處理單元33根據(jù)來自控制器40的指令，基于所生成的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串來執(zhí) 行記錄/再生激光器11的發(fā)射驅(qū)動(dòng)。用于記錄/再生光的矩陣電路34包括對應(yīng)于來自作為用于記錄/再生光的感光 部23的多個(gè)感光元件的輸出電流的電流/電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計(jì)算/放大電路等，并通過 矩陣計(jì)算處理生成所需信號。具體地，生成與再生記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串的再生信號相對應(yīng)的射頻信號(以下稱為再 生信號RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦誤差信號FE-rp以及用于跟蹤伺服控制的跟蹤誤差 信號TE-rp。由用于記錄/再生光的矩陣電路34所生成的再生信號RF被提供給再生處理單元 35。聚焦誤差信號FE-rp和跟蹤誤差信號TE_rp被提供給用于記錄/再生光的伺服電 路36。具體地，在該實(shí)例中，盡管聚焦誤差信號FE-rp被分支并提供給用于伺服光的下述伺服電路39，但這將在稍后進(jìn)行描述。再生處理單元35針對再生信號RF執(zhí)行用于恢復(fù)上述記錄數(shù)據(jù)的再生處理，諸如 二進(jìn)制處理、對記錄調(diào)制碼進(jìn)行解碼的處理或者誤差校正處理，并獲得再生記錄數(shù)據(jù)的再 生數(shù)據(jù)。用于記錄/再生光的伺服電路36基于從矩陣電路34提供的聚焦誤差信號FE-rp 和跟蹤誤差信號TE-rp生成聚焦伺服信號FS-rp和跟蹤伺服信號TS_rp，并基于聚焦驅(qū)動(dòng)信 號FD-rp和跟蹤驅(qū)動(dòng)信號TD-rp (基于聚焦伺服信號FS_rp和跟蹤伺服信號TS_rp)來驅(qū)動(dòng) 雙軸致動(dòng)器21的聚焦線圈和跟蹤線圈，從而執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服控制和跟蹤 伺服控制。從上述描述可以理解的是，僅在再生期間執(zhí)行基于記錄/再生激光束的反射光的 雙軸致動(dòng)器21 (物鏡20)的伺服控制。用于記錄/再生光的伺服電路36在再生期間根據(jù)來自控制器40的指令關(guān)閉跟蹤 伺服循環(huán)，并向跟蹤線圈施加跳躍脈沖，以執(zhí)行跟蹤跳躍操作或者執(zhí)行跟蹤伺服引入控制 等。此外，執(zhí)行聚焦伺服引入控制等。關(guān)于伺服激光束側(cè)，用于伺服光的矩陣電路37基于來自用于伺服光的上述感光 部32的多個(gè)感光元件的感光信號生成所需信號。具體地，用于伺服光的矩陣電路37生成用于聚焦/跟蹤伺服控制的聚焦誤差信號 FE-sv和跟蹤誤差信號TE-sv。此外，生成了用于執(zhí)行記錄在基準(zhǔn)面Ref中的絕對位置信息的檢測的位置信息檢 測信號Dps。如圖所示，位置信息檢測信號Dps被提供給位置信息檢測單元38。位置信息檢測 單元38基于位置信息檢測信號Dps檢測記錄在基準(zhǔn)面Ref中的絕對位置信息。所檢測的 絕對位置被提供給控制器40。由用于伺服光的矩陣電路37所生成的聚焦誤差信號FE-sv和跟蹤誤差信號TE_sv 被提供給用于伺服光的伺服電路39。用于伺服光的伺服電路39基于聚焦誤差信號FE-sv和跟蹤誤差信號TE_sv生成 聚焦伺服信號FS-sv和跟蹤伺服信號TS-sv。在記錄期間，根據(jù)來自控制器40的指令，基于聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv和跟蹤驅(qū)動(dòng)信 號TD-sv (基于聚焦伺服信號FS-sv和跟蹤伺服信號TS-sv而生成)驅(qū)動(dòng)雙軸致動(dòng)器21的 聚焦線圈和跟蹤線圈，從而執(zhí)行伺服激光束的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。此外，在再生期間，根據(jù)來自控制器40的指令，基于聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv(基于聚 焦驅(qū)動(dòng)信號FS-sv生成)驅(qū)動(dòng)上述用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)的透鏡驅(qū)動(dòng)單元四，從而執(zhí)行伺 服激光束的聚焦伺服控制。此外，用于伺服光的伺服電路39在記錄期間根據(jù)來自控制器40的指令關(guān)閉跟蹤 伺服循環(huán)，并向雙軸致動(dòng)器21的跟蹤線圈應(yīng)用跳躍脈沖，以執(zhí)行跟蹤跳躍操作或執(zhí)行跟蹤 伺服引入控制等。此外，執(zhí)行聚焦伺服引入控制等。此外，在再生期間，根據(jù)來自控制器40的指令驅(qū)動(dòng)并控制透鏡驅(qū)動(dòng)單元29，以執(zhí) 行用于基準(zhǔn)面Ref的聚焦伺服引入控制。在第一實(shí)施方式中，盡管來自用于記錄光的矩陣電路34的聚焦誤差信號FE-rp被輸入至用于伺服光的伺服電路39，但稍后將描述用于伺服光的伺服電路39對輸入聚焦誤 差信號FE-rp執(zhí)行的處理內(nèi)容或用于伺服光的伺服電路39的另一內(nèi)部結(jié)構(gòu)。控制器40包括微型計(jì)算機(jī)(例如，包括中央處理單元(CPU)和諸如只讀存儲(chǔ)器 (ROM)的存儲(chǔ)器(存儲(chǔ)裝置))，并根據(jù)存儲(chǔ)在ROM等中的程序執(zhí)行控制處理，以執(zhí)行記錄/ 再生裝置10的總體控制。具體地，控制器40基于參照圖2所描述的預(yù)先相對于每個(gè)層位置所設(shè)置的偏移值 “of”來執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦位置的控制(設(shè)置)。更具體地，控制器40基于與將 被記錄或再生的層位置相對應(yīng)的偏移值“of-L”驅(qū)動(dòng)透鏡驅(qū)動(dòng)單元16，以在深度方向上執(zhí) 行記錄/再生位置的選擇。如上所述，基于伺服激光束的反射光執(zhí)行記錄期間物鏡20的聚焦/跟蹤伺服控 制。因此，控制器40指示用于伺服光的伺服電路39執(zhí)行物鏡20的聚焦伺服控制和跟蹤伺 服控制，并指示用于記錄/再生光的伺服電路36不執(zhí)行物鏡20的聚焦伺服控制和跟蹤伺 服控制。另一方面，控制器40指示用于記錄/再生光的伺服電路36執(zhí)行物鏡20的聚焦伺 服控制和跟蹤伺服控制。此外，在再生期間，控制器40指示用于伺服光的伺服電路39僅執(zhí) 行用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元四)的聚焦伺服控制。[1-4.現(xiàn)有技術(shù)問題的討論]從上述描述可以理解的是，本實(shí)施方式的記錄/再生裝置10采用了一種結(jié)構(gòu)，該 結(jié)構(gòu)用于通過共用物鏡向光盤記錄介質(zhì)照射第一光(在這種情況下為記錄/再生激光束) 和第二光(在這種情況下為伺服激光束)以及驅(qū)動(dòng)作為物鏡的聚焦機(jī)構(gòu)的第一聚焦機(jī)構(gòu) (雙軸致動(dòng)器21)以執(zhí)行第一光的聚焦伺服控制并驅(qū)動(dòng)用于改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的校 準(zhǔn)的第二聚焦機(jī)構(gòu)(在這種情況下為用于伺服光的聚焦結(jié)構(gòu))以執(zhí)行第二光的聚焦伺服控 制。如果采用這種結(jié)構(gòu)，則用于通過驅(qū)動(dòng)第一聚焦機(jī)構(gòu)(物鏡)執(zhí)行第一光的聚焦伺 服控制的第一聚焦伺服系統(tǒng)的殘留誤差分量與用于通過驅(qū)動(dòng)第二聚焦機(jī)構(gòu)執(zhí)行第二光的 聚焦伺服控制的第二聚焦伺服系統(tǒng)重疊，因此第二聚焦伺服系統(tǒng)的伺服性能劣化。圖4是示出形成在圖3所示記錄/再生裝置10中的第一聚焦伺服系統(tǒng)(記錄/ 再生光側(cè)伺服系統(tǒng))和第二聚焦伺服系統(tǒng)(伺服光側(cè)伺服系統(tǒng))的模型的示圖。在圖4中，圖中的"T1/表示記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的控制目標(biāo)值，并且在這種 情況下，rrp = 0。此外，圖中的“e?！北硎居涗?再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦誤差信號FE-rp 的值。此外，圖中的“C?！北硎緦?yīng)于記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦伺服計(jì)算(控制計(jì) 算)的轉(zhuǎn)移函數(shù)的結(jié)合為一體的模塊，并在下文中稱為模塊Cf此外，圖中的“P?！北硎緦?應(yīng)于第一聚焦機(jī)構(gòu)(雙軸致動(dòng)器21)的響應(yīng)特性的轉(zhuǎn)移函數(shù)的結(jié)合為一體的模塊，并在下 文中稱為模塊P。。此外，“知”表示施加到記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的干擾，以及表示記錄/再 生光側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出(對應(yīng)于用于記錄/再生光的感光部23的輸出)。類似地，在伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)中，“rsv”表示伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的控制目標(biāo)值(rsv =0)，以及“esv”表示伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦誤差信號FE-sv的值。此外，“Csv”表示對應(yīng)
18于伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦伺服計(jì)算(控制計(jì)算)的轉(zhuǎn)移函數(shù)的結(jié)合為一體的模塊，以及 "Psv”表示對應(yīng)于第二聚焦機(jī)構(gòu)(用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)透鏡驅(qū)動(dòng)單元四)的響應(yīng)特性的 轉(zhuǎn)移函數(shù)的結(jié)合體。此外，“dsv”表示施加到伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的干擾。由于通過記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)盤面擺動(dòng)的跟隨，所以伺服光側(cè)伺服系統(tǒng) 的干擾“dsv”對應(yīng)于圖22所示的基準(zhǔn)面Ref和記錄標(biāo)記串之間的間隔。此外，“ysv”表示伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出(對應(yīng)于用于伺服光的感光部32的輸 出)。如圖6所示，通過以下等式表示記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出y。和聚焦誤差信 號FE的值、。等式l-erpCrpPrp+drp = yrp等式= yrp-rrp另一方面，在伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)中，除對應(yīng)于記錄標(biāo)記串和基準(zhǔn)面Ref之間的間 隔的“dsv”作為干擾分量之外，如圖所示也施加了與記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的殘留誤差分 量相對應(yīng)的輸出y。。即，伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出ysv和聚焦誤差信號FE的值esv的關(guān)系 表示如下。等式3-esvCsvPsv+dsv+yrp = ysv等式^sv = ysv-rsv圖5A示出了在通過記錄/再生激光束施加塊層5中所需信息記錄層L的聚焦伺 服的狀態(tài)下伺服激光束的引入信號和聚焦誤差信號FE-sv的波形。圖5B示出了圖5A所示 S狀截面的放大波形。從圖5A和圖5B可以看出，在再生期間僅通過記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)施加聚焦 伺服的狀態(tài)下，伺服激光束的聚焦位置不跟隨基準(zhǔn)面Ref，并且伺服激光束的引入信號和聚 焦誤差信號FE-sv的值在所需周期中變化。此時(shí)，參照圖5B的放大圖，可以看出，在聚焦誤差信號FE-sv中泄露了特定信號。在這種狀態(tài)下，如果接通伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦伺服，記錄/再生激光束的聚 焦誤差信號FE-rp與伺服激光束的聚焦誤差信號FE-sv之間的關(guān)系如圖6所示。從圖6可以看出，與聚焦誤差信號FE-rp相比，聚焦誤差信號FE_sv明顯劣化。圖7是圖6所示聚焦誤差信號FE-rp和聚焦誤差信號FE_sv的放大圖。從圖7可 以看出，聚焦誤差信號FE-rp和聚焦誤差信號FE-sv具有顯著的相關(guān)性。S卩，可以理解的是，使伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的性能劣化的信號干擾與記錄/再生光 側(cè)伺服系統(tǒng)的殘留誤差分量一致。如上所述，為了抑制殘留誤差分量導(dǎo)致的伺服性能的劣化，可通過增加記錄/再 生光側(cè)伺服系統(tǒng)的頻帶來降低殘留誤差。然而，由于雙軸致動(dòng)器21等的共振影響，記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的頻帶不能充 分增加。此外，即使伺服系統(tǒng)的頻帶增加了，實(shí)際上，由于難以無限地增加DC增益，所以殘 留誤差不能變?yōu)榱?。在增加記?再生光側(cè)聚焦伺服系統(tǒng)的頻帶的方法中，泄露到伺服光側(cè)伺服系統(tǒng) 的干擾分量實(shí)質(zhì)上不能變?yōu)榱?，結(jié)果，不能根本上防止伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的性能劣化。
[1-5.實(shí)施方式的聚焦伺服控制]在本實(shí)施方式中，在形成了用于驅(qū)動(dòng)作為物鏡的聚焦機(jī)構(gòu)的第一聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行 第一光的聚焦伺服控制的第一聚焦伺服系統(tǒng)以及用于驅(qū)動(dòng)用來改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光 的準(zhǔn)直的第二聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制的第二聚焦伺服系統(tǒng)的情況下，提出 了從通過第二聚焦伺服系統(tǒng)獲得的第二聚焦誤差信號中減去通過第一聚焦伺服系統(tǒng)獲得 的第一聚焦誤差信號并基于經(jīng)過減法的第二聚焦誤差信號通過第二聚焦伺服系統(tǒng)執(zhí)行聚 焦伺服控制的方法。圖8是示出根據(jù)執(zhí)行減去這種誤差信號的處理的實(shí)施方式的聚焦伺服系統(tǒng)的模 型的示圖。此外，在圖8中，使用相同的參考標(biāo)號表示圖4所述的部分，因此將省略其描述。在圖8中，記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)相同。在本實(shí)施方式中，在伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)中，如圖所示，增加了用于將記錄/再生光 側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出y。乘以所需系數(shù)k并從聚焦誤差信號FE-sv中減去乘法結(jié)果的結(jié)構(gòu)。記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的輸出7。對應(yīng)于用于記錄/再生光的感光部23的輸 出，并且在這種情況下，由于r。= 0而變得等于聚焦誤差信號FE-rp。此外，系數(shù)k用來吸收記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)和伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)之間的伺服 增益的差，并預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)等獲得。此外，該系數(shù)k可以表示第一聚焦伺服系統(tǒng)側(cè)對第二聚 焦伺服系統(tǒng)側(cè)的干擾程度。如圖8所示，在伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)中，如果從聚焦誤差信號FE-sv中減去對應(yīng)于記 錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦誤差信號FE-rp的分量，則可以消除會(huì)施加到伺服光側(cè)伺服 系統(tǒng)的記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的殘留誤差分量。S卩，通過伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)基于其中從聚焦誤差信號FE-sv中消除了對應(yīng)于聚焦 誤差信號FE-rp的分量的信號(圖中的聚焦誤差分量Av-AD)來執(zhí)行聚焦伺服控制，可以有 效地防止由于從記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)泄露殘留誤差分量所導(dǎo)致的伺服光側(cè)伺服系統(tǒng) 的伺服性能的劣化。圖9示出了圖3所示的用于伺服光的伺服電路39的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。此外，在圖9中，僅提取示出了用于伺服光的伺服電路39的聚焦伺服控制系統(tǒng)的 結(jié)構(gòu)，而沒有示出其他結(jié)構(gòu)(例如，跟蹤伺服控制系統(tǒng)等的結(jié)構(gòu))。如圖所示，在用于伺服光的伺服電路39中，設(shè)置了減法器41、聚焦伺服計(jì)算單元 42、聚焦驅(qū)動(dòng)器43、乘法器44、開關(guān)SWl和開關(guān)SW2。來自圖3所示的用于伺服光的矩陣電路37的聚焦誤差信號FE-sv被輸入至減法 器41。來自圖3所示的用于記錄/再生光的矩陣電路34的聚焦誤差信號FE-rp通過乘 法器44與系數(shù)k相乘，然后通過作為接通/斷開開關(guān)的開關(guān)SWl被輸入至減法器41。減法器41從聚焦誤差信號FE-sv中減去通過開關(guān)SWl輸入的聚焦誤差信號 FE-rp,并將結(jié)果輸出至聚焦伺服計(jì)算單元42。聚焦伺服計(jì)算單元42對通過減法器41的減法結(jié)果所獲得的信號執(zhí)行伺服計(jì)算 (相位補(bǔ)償、循環(huán)增益應(yīng)用等)，并生成聚焦伺服信號FS-sv。聚焦驅(qū)動(dòng)器43基于聚焦伺服信號FS-sv生成用于驅(qū)動(dòng)圖3中所示的雙軸致動(dòng)器21的聚焦線圈或透鏡驅(qū)動(dòng)單元四的聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv。開關(guān)SW2為包括一個(gè)輸入端和兩個(gè)輸出端的3端開關(guān)，并且如圖所示，來自聚焦 驅(qū)動(dòng)器43的聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv被提供給輸入端。兩個(gè)輸出端的一個(gè)連接至雙軸致動(dòng)器 21 (聚焦線圈)，以及其另一個(gè)連接至用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元29)。如上所述，圖3所示的控制器40指示用于伺服光的伺服電路39在記錄期間執(zhí)行 雙軸致動(dòng)器21 (物鏡20)的聚焦伺服控制以及在再生期間執(zhí)行透鏡驅(qū)動(dòng)單元四的聚焦伺 服控制。為了確認(rèn)，由于記錄期間的伺服激光束側(cè)的聚焦伺服控制相對于物鏡20來執(zhí)行， 所以不需要執(zhí)行上述實(shí)施方式中的聚焦誤差信號FE的減法。在用于伺服光的伺服電路39中，開關(guān)SWl被配置為根據(jù)記錄期間來自控制器40 的指令而斷開以及根據(jù)再生期間的指令而接通。此外，開關(guān)SW2被配置為根據(jù)記錄期間來自控制器40的指令執(zhí)行接觸切換以選擇 雙軸致動(dòng)器21 (聚焦線圈)側(cè)的輸出端，以及根據(jù)再生期間的指令執(zhí)行接觸切換以選擇用 于伺服光(透鏡驅(qū)動(dòng)單元29)側(cè)的聚焦機(jī)構(gòu)的輸出端。因此，通過上述用于伺服光的伺服電路30可以實(shí)現(xiàn)記錄/再生期間的伺服控制操作。圖10是示出本實(shí)施方式的聚焦伺服控制方法的有效性的示圖，其示出了聚焦誤 差信號FE-rp和聚焦誤差信號FE-sv的波形以及通過減法處理“FE-sv”- “FE_rp”獲得的 信號的波形。此外，在圖10中，為方便起見，將聚焦誤差信號FE-rp的極性從其原始極性反轉(zhuǎn)。在該圖中，聚焦誤差信號FE-rp沒有與系數(shù)k相乘。從圖10可以看出，如在本實(shí)施方式中，如果執(zhí)行了對應(yīng)于“FE-sv”- “FE_rp”的減 法處理，則消除了沒有原始跟隨聚焦誤差信號FE-sv的聚焦誤差信號FE-rp的分量。換句話說，圖中通過“FE-sv”- “FE-rp”獲得的誤差信號表示記錄標(biāo)記串和基準(zhǔn) 面Ref之間的間隔誤差。因此，根據(jù)本實(shí)施方式(其中通過伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)根據(jù)信號 "FE-sv"- “FE-rp”執(zhí)行聚焦伺服控制)，可以適當(dāng)?shù)貓?zhí)行再生期間伺服光的聚焦伺服控制。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，如果采用了如下結(jié)構(gòu)，S卩，在該結(jié)構(gòu)中，通過共用物鏡 向光盤記錄介質(zhì)照射第一光(在這種情況下為記錄/再生激光束)和第二光(在這種情況 下為伺服激光束)同時(shí)驅(qū)動(dòng)作為物鏡的聚焦機(jī)構(gòu)的第一聚焦機(jī)構(gòu)(雙軸致動(dòng)器21)以執(zhí) 行第一光的聚焦伺服控制并且驅(qū)動(dòng)用于改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的準(zhǔn)直的第二聚焦機(jī)構(gòu) (在這種情況下為用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu))以執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制，則可以防止用 于通過驅(qū)動(dòng)第一聚焦機(jī)構(gòu)執(zhí)行第一光的聚焦伺服控制的第一聚焦伺服系統(tǒng)的殘留誤差分 量與用于通過驅(qū)動(dòng)第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制的第二聚焦伺服系統(tǒng)重疊。結(jié)果，可以以高精度穩(wěn)定地執(zhí)行第二光的聚焦伺服控制。如上所述，如果可以排除第一聚焦伺服系統(tǒng)的殘留誤差對第二聚焦伺服系統(tǒng)的影 響，則可以獨(dú)立地設(shè)計(jì)第一和第二聚焦伺服系統(tǒng)。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，可以增加伺服系 統(tǒng)設(shè)計(jì)上的自由度。<2.第二實(shí)施方式>[2-1.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)]隨后將描述第二實(shí)施方式。
圖11是示出根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置(被稱為記錄/再生裝置50)的 內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖。在圖11中，由相同的參考標(biāo)號表示圖3所描述的相同部件，并且將省略其描述。第二實(shí)施方式與第一實(shí)施方式的不同之處在于第一聚焦伺服系統(tǒng)和第二聚焦伺 服系統(tǒng)之間的關(guān)系。具體地，在第二實(shí)施方式中，關(guān)于再生期間記錄/再生激光束和伺服激 光束的聚焦伺服控制，通過驅(qū)動(dòng)物鏡20的雙軸致動(dòng)器21 (第一聚焦機(jī)構(gòu))執(zhí)行伺服激光束 的聚焦伺服控制，以及通過驅(qū)動(dòng)用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元16 第二聚 焦機(jī)構(gòu))執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服控制。即，在第二實(shí)施方式的再生期間形成的 聚焦伺服系統(tǒng)之間的關(guān)系中，第一聚焦伺服系統(tǒng)變?yōu)樗欧す馐鴤?cè)伺服系統(tǒng)，而第二聚焦 伺服系統(tǒng)變?yōu)橛涗?再生激光束側(cè)伺服系統(tǒng)。從與圖3的比較可以看出，在第二實(shí)施方式的記錄/再生裝置50中，省略了包括 在記錄/再生裝置10中的用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)(固定透鏡27、可移動(dòng)透鏡觀和透鏡驅(qū) 動(dòng)單元29)。此外，在記錄/再生裝置50中，代替圖3所示用于記錄/再生光的伺服電路36，設(shè) 置了用于記錄/再生光伺服電路的伺服電路51，并且代替用于伺服光的伺服電路39，設(shè)置 了用于伺服光的伺服電路52。此外，代替控制器40，設(shè)置了控制器53。在這種情況下，控制器53指示用于伺服光的伺服電路52在記錄期間執(zhí)行物鏡20 的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。在這種情況下，控制器53在記錄期間根據(jù)對應(yīng)于將被記 錄的信息記錄層L的偏移值“of-L”驅(qū)動(dòng)透鏡驅(qū)動(dòng)單元16并設(shè)置記錄/再生激光束的聚焦 位置。在再生期間，控制器53指示用于伺服光的伺服電路52僅執(zhí)行物鏡20的聚焦伺服 控制，并指示用于記錄/再生光的伺服電路51執(zhí)行物鏡20的跟蹤伺服控制和透鏡驅(qū)動(dòng)單 元16的聚焦伺服控制。在這種情況下，由于省略了圖9所示的減法器41和乘法器44，所以用于伺服光的 伺服電路52被配置為在向雙軸致動(dòng)器21的跟蹤線圈輸出跟蹤驅(qū)動(dòng)信號TD-sv并向聚焦線 圈輸出聚焦驅(qū)動(dòng)信號FE-sv的狀態(tài)(記錄期間)與向聚焦線圈輸出聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv的 狀態(tài)之間切換。圖12示出了圖11所示的用于記錄/再生光的伺服電路51的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。用于記錄/再生光的伺服電路51與圖9所示的用于伺服光的伺服電路四的不同 之處在于，輸入至減法器41的信號變?yōu)榫劢拐`差FE-rp，來自聚焦伺服計(jì)算單元42的輸出 變?yōu)榫劢顾欧盘朏S-rp，以及來自聚焦驅(qū)動(dòng)器43的輸出變?yōu)镕D-rp。此外，不同的是乘法 器44的輸入不是聚焦誤差信號FE-rp，而是從用于伺服光的矩陣電路37分支并提供的聚焦 誤差信號FE-sv。在這種情況下，代替圖9所示的3端開關(guān)SW2設(shè)置了作為接通/斷開開關(guān)的開關(guān) Sff 3 ο類似于第一實(shí)施方式，開關(guān)SWl根據(jù)記錄期間來自控制器53的指令斷開，并根據(jù) 再生期間的指令接通。此外，開關(guān)SW3根據(jù)記錄期間來自控制器53的指令斷開，以及根據(jù)再生期間的指令接通。通過圖12所示的用于記錄/再生的伺服電路51，在這種情況下，在作為第二聚焦 伺服系統(tǒng)的記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)中，從記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦誤差信號FE-rp 中減去與作為第一聚焦伺服系統(tǒng)的伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的聚焦誤差信號FE-sv相對應(yīng)的分 量，記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)通過減法所獲得的信號執(zhí)行第二聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元16) 的聚焦伺服控制。S卩，在這種情況下，可以有效防止再生期間發(fā)生在記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng)中的 來自伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)的殘留誤差分量的泄露，結(jié)果，可以有效解決記錄/再生光側(cè)伺服 系統(tǒng)的性能劣化和穩(wěn)定性劣化。<3.第三實(shí)施方式>[3-1.第三實(shí)施方式中記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)]第三實(shí)施方式與第一和第二實(shí)施方式的不同之處在于用作目標(biāo)的光盤記錄介質(zhì)。圖13是在第三實(shí)施方式中將被記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)圖。如圖13所示，在第三實(shí)施方式中將被記錄/再生的光盤記錄介質(zhì)與圖1所示塊型 記錄介質(zhì)1的相同之處在于，從上層側(cè)開始順序形成覆蓋層2、選擇性反射膜3和中間層4。 然而，在這種情況下，代替塊層5層疊具有圖中所示層結(jié)構(gòu)的記錄層。具體地，在中間層4的下層側(cè)上層積具有通過重復(fù)層疊半透明記錄膜56、中間層 4、半透明記錄膜56、中間層4、……而獲得的多層結(jié)構(gòu)的記錄層。由于形成具有多層結(jié)構(gòu)的記錄層，所以第三實(shí)施方式的光盤記錄介質(zhì)在下文中被 稱為多層記錄介質(zhì)。這里，應(yīng)該注意的是，在半透明記錄膜56中沒有形成伴隨凹槽、凹坑行等的形成 的引導(dǎo)凹槽。S卩，在多層記錄介質(zhì)55中，僅在作為基準(zhǔn)面Ref的一個(gè)層位置處形成引導(dǎo)凹槽。在這種多層記錄介質(zhì)55中，由于形成了半透明記錄膜56，所以即使在記錄期間也 可以獲得記錄/再生激光束的反射光。因此，在記錄期間，基于記錄/再生激光束的反射光，通過驅(qū)動(dòng)物鏡20執(zhí)行記錄/ 再生激光束的聚焦伺服控制，以聚焦在將被記錄的半透明記錄膜56上。即使在這種情況下，使用伺服激光束執(zhí)行記錄期間記錄/再生激光束的跟蹤伺服 控制。即，即使在這種情況下，基于伺服激光束的來自基準(zhǔn)面Ref的反射光，通過驅(qū)動(dòng)物鏡 20執(zhí)行記錄期間的跟蹤伺服控制，使得伺服激光束的聚焦位置跟隨基準(zhǔn)面Ref的引導(dǎo)凹 槽。在再生期間，即使在這種情況下，可以基于已經(jīng)記錄的標(biāo)記串執(zhí)行記錄/再生激 光束的跟蹤伺服控制。從上述描述可以理解，即使在再生期間，也可以使用來自作為目標(biāo)的 半透明記錄膜56 (信息記錄層L)的反射光執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服控制。S卩，在這種情況下，通過與第一實(shí)施方式相同的方法執(zhí)行再生期間的伺服控制。 即，通過基于記錄/再生激光束的反射光驅(qū)動(dòng)物鏡20，使得記錄/再生伺服光聚焦在作為目 標(biāo)的信息記錄層L上，來執(zhí)行再生期間記錄/再生激光束的聚焦伺服控制，并且通過基于記 錄/再生激光束的反射光驅(qū)動(dòng)物鏡20，使得記錄/再生激光束的聚焦位置跟隨所記錄的標(biāo) 記串，來執(zhí)行記錄/再生激光束的跟蹤伺服控制，。
如上所述，在第三實(shí)施方式中，由于在記錄期間執(zhí)行基于來自半透明記錄膜56的 反射光的記錄/再生激光束的聚焦伺服，所以沒有生成當(dāng)塊型記錄介質(zhì)1被用作目標(biāo)時(shí)所 生成的如圖22所示的基準(zhǔn)面Ref和所記錄標(biāo)記串之間的間隔誤差。然而，實(shí)際上，在層疊半透明記錄膜56的處理中，難以防止膜的不均勻。為此，難 以在盤的圓周上使半透明記錄膜56和基準(zhǔn)面Ref之間的間隔均勻。S卩，如圖13所示，基準(zhǔn)面Ref和半透明記錄膜56之間的間隔均勻(S卩，基準(zhǔn)面Ref 和半透明記錄膜56彼此平行)的記錄介質(zhì)55的多層結(jié)構(gòu)僅僅是理想的，實(shí)際上，如圖22 所示在基準(zhǔn)面Ref和標(biāo)記串之間所生成的間隔誤差也出現(xiàn)在基準(zhǔn)面Ref和半透明記錄膜56 之間。實(shí)際上，根據(jù)基準(zhǔn)面Ref和半透明記錄膜56之間的非平行關(guān)系，即使在將多層記 錄介質(zhì)陽用作目標(biāo)的第三實(shí)施方式中，也需要同時(shí)執(zhí)行用于使用第二聚焦機(jī)構(gòu)吸收間隔 誤差的聚焦伺服控制。具體地，在第三實(shí)施方式中，由于即使在記錄期間也基于記錄/再生激光束執(zhí)行 物鏡20(第一聚焦機(jī)構(gòu))的聚焦伺服控制，所以，如同在記錄期間一樣，在再生期間也執(zhí)行 使用第二聚焦機(jī)構(gòu)的用來吸收基準(zhǔn)面Ref和信息記錄層L(半透明記錄膜56)之間的間隔 誤差的聚焦伺服控制。具體地，在記錄期間，如上所述，執(zhí)行基于記錄/再生激光束的反射光通過驅(qū)動(dòng)物 鏡20執(zhí)行的聚焦伺服控制以及基于伺服激光束的反射光通過驅(qū)動(dòng)物鏡20執(zhí)行的跟蹤伺服 控制，并且基于伺服激光束的反射光驅(qū)動(dòng)第二聚焦機(jī)構(gòu)(對應(yīng)于圖3的透鏡驅(qū)動(dòng)單元四) 以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得伺服激光束聚焦在基準(zhǔn)面Ref上。在再生期間，如上所述，執(zhí)行基于記錄/再生激光束的反射光的物鏡20的聚焦伺 服控制和跟蹤伺服控制，并且與記錄期間類似，基于伺服激光束的反射光驅(qū)動(dòng)第二聚焦機(jī) 構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元四)以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得伺服激光束聚焦在基準(zhǔn)面Ref上。以這種方式，在對多層記錄介質(zhì)55執(zhí)行記錄/再生的第三實(shí)施方式中，在記錄期 間和再生期間執(zhí)行使用第一聚焦伺服系統(tǒng)和第二聚焦伺服系統(tǒng)的雙重伺服。因此，在第三實(shí)施方式中，在記錄期間和再生期間均發(fā)生由于第一聚焦伺服系統(tǒng) 的殘留誤差分量的泄露而導(dǎo)致的第二聚焦伺服系統(tǒng)的伺服性能劣化。[3-2.光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)]第三實(shí)施方式旨在防止在記錄期間和再生期間均發(fā)生的第一聚焦伺服系統(tǒng)的殘 留誤差的泄露，在圖14中示出了用于其的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)。圖14是示出根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置(稱作記錄/再生裝置60)的內(nèi) 部結(jié)構(gòu)的示圖。在圖14中，使用相同的參考標(biāo)號表示迄今所描述的部件，并且將省略其描述。第三實(shí)施方式的記錄/再生裝置60與圖3所示記錄/再生裝置10的不同之處在 于，代替用于記錄/再生光的伺服電路36，設(shè)置了用于記錄/再生光的伺服電路62，以及代 替用于伺服光的伺服電路39，設(shè)置了用于伺服光的伺服電路61。此外，不同之處還有代替控制器40，設(shè)置了控制器63。在這種情況下，控制器63指示用于記錄/再生光的伺服電路62在記錄期間和再 生期間執(zhí)行物鏡20的聚焦伺服控制，并且類似地，指示用于伺服光的伺服電路61在記錄期間和再生期間執(zhí)行透鏡驅(qū)動(dòng)單元19的聚焦伺服控制。此外，在記錄期間，用于伺服光的伺服電路61被指示執(zhí)行物鏡20的跟蹤伺服控 制。在再生期間，用于記錄/再生光的伺服電路62被指示執(zhí)行物鏡20的跟蹤伺服控 制。在這種情況下，盡管控制器63在記錄期間和再生期間根據(jù)與作為目標(biāo)的信息記 錄層L(半透明記錄膜56)相對應(yīng)所設(shè)置的偏移值“of-L”來驅(qū)動(dòng)透鏡驅(qū)動(dòng)單元16，但偏移 不是重要的，并且如果物鏡20的工作距離足夠的話是不必要的。盡管未示出，但在用于伺服光的伺服電路61的內(nèi)部結(jié)構(gòu)中，對于聚焦伺服控制系 統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，可以從圖9所示的結(jié)構(gòu)中省略開關(guān)SWl和開關(guān)SW2，并且聚焦驅(qū)動(dòng)器43的輸出 (聚焦驅(qū)動(dòng)信號FD-sv)可以被提供給透鏡驅(qū)動(dòng)單元四。對于跟蹤伺服控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，根據(jù)來自控制器63的指令，可以選擇性地接通/ 斷開跟蹤驅(qū)動(dòng)信號TD-sv到雙軸致動(dòng)器21的跟蹤線圈的輸出。對于用于記錄/再生光的伺服電路62，作為聚焦伺服控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，聚焦驅(qū)動(dòng) 信號FD-rp可以被輸出至雙軸致動(dòng)器21的聚焦線圈，對于跟蹤伺服控制系統(tǒng)，可以根據(jù)來 自控制器63的指令選擇性地接通/斷開跟蹤驅(qū)動(dòng)信號TD-rp到雙軸致動(dòng)器21的跟蹤線圈 的輸出。通過上述記錄/再生裝置60的結(jié)構(gòu)，在這種情況下，可以有效地防止在記錄期間 和再生期間發(fā)生在第一聚焦伺服系統(tǒng)(在這種情況下為記錄/再生光側(cè)伺服系統(tǒng))側(cè)的殘 留誤差分量的泄露。此外，盡管在上面的描述中，作為對應(yīng)于多層記錄介質(zhì)55執(zhí)行記錄/再生的情況 下的伺服控制的實(shí)例，與第一實(shí)施方式類似，第一聚焦伺服系統(tǒng)是記錄/再生光側(cè)伺服系 統(tǒng)，第二聚焦伺服系統(tǒng)是伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)，但也可以與第二實(shí)施方式類似，第一聚焦伺服 系統(tǒng)可以為伺服光側(cè)伺服系統(tǒng)，而第二聚焦伺服系統(tǒng)可以為記錄/再生側(cè)伺服系統(tǒng)。具體地，在這種情況下，可以省略圖14所示的用于伺服光的聚焦機(jī)構(gòu)(固定透鏡 27、可移動(dòng)透鏡觀和透鏡驅(qū)動(dòng)單元29)。在記錄期間和再生期間，均執(zhí)行物鏡20的聚焦伺 服控制，使得基于伺服激光束的反射光，伺服激光束聚焦在基準(zhǔn)面Ref上，并且類似地，在 記錄期間和再生期間，均執(zhí)行用于記錄/再生光的聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)單元16)的聚焦伺 服控制，使得基于記錄/再生激光束的反射光，記錄/再生激光束聚焦在作為目標(biāo)的信息記 錄層L (半透明記錄膜56)上。在這種情況下，通過驅(qū)動(dòng)物鏡20執(zhí)行跟蹤伺服控制，使得在記錄期間基于伺服激 光束的反射光，伺服激光束的聚焦位置跟隨形成在基準(zhǔn)面Ref中的引導(dǎo)凹槽，并且通過驅(qū) 動(dòng)物鏡20執(zhí)行跟蹤伺服控制，使得在再生期間基于記錄/再生激光束的反射光，記錄/再 生激光束的聚焦位置跟隨所記錄的標(biāo)記串。<4.變形實(shí)例>盡管描述了本發(fā)明的實(shí)施方式，但本發(fā)明不限于上述實(shí)例。例如，盡管在上面的描述中描述了提供二向棱鏡19使得當(dāng)通過裝置側(cè)獨(dú)立接收 記錄/再生激光束和伺服激光束的反射光時(shí)使用光波長之間的差值執(zhí)行分光的方法，但可 以使用其他方法來執(zhí)行分光，例如，通過采用用于使用P偏振光/s偏振光在偏振方向上的CN 102129866 A
說明書
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差值執(zhí)行分光的結(jié)構(gòu)。盡管在上面的描述中描述了通過應(yīng)用諸如凹槽或凹坑行的凹凸截面圖樣來形成 光盤記錄介質(zhì)的位置引導(dǎo)元件的情況，但可以例如通過另一方法(諸如記錄標(biāo)記串)來形 成本發(fā)明的光盤記錄介質(zhì)的位置引導(dǎo)元件。盡管在上面的描述中描述了在記錄層的上層側(cè)形成位置引導(dǎo)元件的基準(zhǔn)面Ref 的情況，但本發(fā)明可適當(dāng)應(yīng)用于在記錄層的下層側(cè)形成基準(zhǔn)面Ref的情況。盡管在上面的描述中本發(fā)明應(yīng)用于用來對光盤記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄和再生的記錄/ 再生裝置，但本發(fā)明可適當(dāng)應(yīng)用于用來僅對光盤記錄介質(zhì)執(zhí)行再生的再生專用裝置(再生 裝置)。本申請包含于2010年1月14日向日本專利局提交的日本優(yōu)先專利申請JP 2010-005735的主題，其全部內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，根據(jù)設(shè)計(jì)要求和其他因素，可以進(jìn)行各種修改、組 合、再組合和改變，它們均在所附權(quán)利要求或其等同替換的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，包括 第一光源；第二光源；物鏡，被配置為接收來自所述第一光源的第一光和來自所述第二光源的第二光，并且 向光盤記錄介質(zhì)照射所述第一光和所述第二光；第一聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)所述物鏡；第二聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為改變?nèi)肷涞剿鑫镧R的所述第二光的準(zhǔn)直，以及獨(dú)立于所述 第一光改變所述第二光的聚焦位置；第一聚焦伺服控制單元，被配置為基于通過接收所述第一光的反射光獲得的第一聚焦 誤差信號驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行所述第一光的聚焦伺服控制；誤差信號減法單元，被配置為從通過接收所述第二光的反射光獲得的第二聚焦誤差信 號中減去所述第一聚焦誤差信號；以及第二聚焦伺服控制單元，被配置為基于經(jīng)受了所述誤差信號減法單元的減法運(yùn)算的所 述第二聚焦誤差信號驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行所述第二光的聚焦伺服控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述光盤記錄介質(zhì)包括具有其中形成有位置引導(dǎo)元件的反射膜的基準(zhǔn)面以及塊型記 錄層，所述塊型記錄層不具有反射膜并且對深度方向的所需層位置選擇性地執(zhí)行標(biāo)記記 錄，所述第一光包括用于對作為對象的所述記錄層執(zhí)行標(biāo)記記錄和/或再生的記錄/再生 光，以及所述第二光包括用于基于形成在所述基準(zhǔn)面中的所述位置引導(dǎo)元件執(zhí)行伺服控制的 伺服光。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，在再生期間，所述第一聚焦伺服控制單元基于通過接收所述記錄/再生光的反射光而 獲得的所述第一聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述 記錄/再生光聚焦在記錄在所述記錄層中的標(biāo)記串上，在再生期間，所述誤差信號減法單元從通過接收所述伺服光的反射光而獲得的所述第 二聚焦誤差信號中減去所述第一聚焦誤差信號，并且在再生期間，所述第二聚焦伺服控制單元基于經(jīng)受了所述誤差信號減法單元的減法運(yùn) 算的所述第二聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述伺 服光聚焦在所述基準(zhǔn)面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，在記錄期間基于通過接收所述伺服光 的反射光而獲得的聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)，使得所述伺服光聚焦在所述基 準(zhǔn)面上，并且所述第一聚焦機(jī)構(gòu)包括記錄位置設(shè)置控制單元，所述記錄位置設(shè)置控制單元 被配置為在記錄期間驅(qū)動(dòng)用于改變?nèi)肷涞剿鑫镧R的所述記錄/再生光的準(zhǔn)直并獨(dú)立于 所述伺服光改變所述記錄/再生光的聚焦位置的記錄/再生光獨(dú)立聚焦機(jī)構(gòu)，以設(shè)置所述 記錄/再生光在所述記錄層中的聚焦位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述光盤記錄介質(zhì)包括具有其中形成有位置引導(dǎo)元件的反射膜的基準(zhǔn)面以及塊型記錄層，所述塊型記錄層不具有反射膜并且對深度方向的所需層位置選擇性地執(zhí)行標(biāo)記記 錄，所述第一光包括用于基于形成在所述基準(zhǔn)面中的所述位置引導(dǎo)元件執(zhí)行伺服控制的 伺服光，以及所述第二光包括用于對所述記錄層執(zhí)行標(biāo)記記錄和/或再生的記錄/再生光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，在再生期間，所述第一聚焦伺服控制單元基于通過接收所述伺服光的反射光而獲得的 所述第一聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述伺服光 聚焦在所述基準(zhǔn)面上，在再生期間，所述誤差信號減法單元從通過接收所述記錄/再生光的反射光而獲得的 所述第二聚焦誤差信號中減去所述第一聚焦誤差信號，并且在再生期間，所述第二聚焦伺服控制單元基于經(jīng)受了所述誤差信號減法單元的減法運(yùn) 算的所述第二聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述記 錄/再生光聚焦在記錄在所述記錄層中的標(biāo)記串上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，甚至在記錄期間，所述第一聚焦伺服控 制單元也基于通過接收所述伺服光的反射光而獲得的第一聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一 聚焦機(jī)構(gòu)以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述伺服光聚焦在所述基準(zhǔn)面上，并且所述第一聚焦 伺服控制單元包括記錄位置設(shè)置控制單元，所述記錄位置設(shè)置控制單元被配置為在記錄期 間驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)以設(shè)置所述記錄/再生光在所述記錄層中的聚焦位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述光盤記錄介質(zhì)包括具有其中形成有位置引導(dǎo)元件的反射膜的基準(zhǔn)面以及其中形 成有多個(gè)半透明記錄膜的多層記錄層，所述第一光包括用于對作為目標(biāo)的所述記錄層執(zhí)行標(biāo)記記錄和/或再生的記錄/再生 光，以及所述第二光包括用于基于形成在所述基準(zhǔn)面中的所述位置引導(dǎo)元件執(zhí)行伺服控制的 伺服光。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述第一聚焦伺服控制單元基于通過接收所述記錄/再生光的反射光而獲得的所述 第一聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述記錄/再生 光聚焦在所需的所述半透明記錄膜上，所述誤差信號減法單元從通過接收所述伺服光的反射光而獲得的所述第二聚焦誤差 信號中減去所述第一聚焦誤差信號，并且所述第二聚焦伺服控制單元基于經(jīng)受了所述誤差信號減法單元的減法運(yùn)算的所述第 二聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述伺服光聚焦在 所述基準(zhǔn)面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述光盤記錄介質(zhì)包括具有其中形成有位置引導(dǎo)元件的反射膜的基準(zhǔn)面以及其中形 成有多個(gè)半透明記錄膜的多層記錄層，所述第一光包括用于基于形成在所述基準(zhǔn)面中的所述位置引導(dǎo)元件執(zhí)行伺服控制的伺服光，并且所述第二光包括用于對作為目標(biāo)的所述記錄層執(zhí)行標(biāo)記記錄和/或再生的記錄/再生光。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述第一聚焦伺服控制單元基于通過接收所述伺服光的反射光而獲得的所述第一聚 焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述伺服光聚焦在所述 基準(zhǔn)面上，所述誤差信號減法單元從通過接收所述記錄/再生光的反射光而獲得的所述第二聚 焦誤差信號中減去所述第一聚焦誤差信號，并且所述第二聚焦伺服控制單元基于經(jīng)受了所述誤差信號減法單元的減法運(yùn)算的所述第 二聚焦誤差信號來驅(qū)動(dòng)所述第二聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行聚焦伺服控制，使得所述記錄/再生光 聚焦在所需的所述半透明記錄膜上。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述第一光源和所述第二光源發(fā)出不 同波長的光。
13.一種光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置的聚焦伺服控制方法，所述光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置包括第一光源；第二 光源；物鏡，被配置為接收來自所述第一光源的第一光和來自所述第二光源的第二光，并且 向光盤記錄介質(zhì)照射所述第一光和所述第二光；第一聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為在聚焦方向上驅(qū) 動(dòng)所述物鏡；以及第二聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為改變?nèi)肷涞剿鑫镧R的所述第二光的準(zhǔn)直，以及 獨(dú)立于所述第一光改變所述第二光的聚焦位置，所述方法包括以下步驟基于通過接收所述第一光的反射光而獲得的第一聚焦誤差信號驅(qū)動(dòng)所述第一聚焦機(jī) 構(gòu)，以執(zhí)行所述第一光的聚焦伺服控制；從通過接收所述第二光的反射光而獲得的第二聚焦誤差信號中減去所述第一聚焦誤 差信號；以及基于經(jīng)受了所述誤差信號減法步驟的減法運(yùn)算的所述第二聚焦誤差信號驅(qū)動(dòng)所述第 二聚焦機(jī)構(gòu)，以執(zhí)行所述第二光的聚焦伺服控制。
全文摘要
本發(fā)明涉及光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置和聚焦伺服控制方法。一種光學(xué)驅(qū)動(dòng)裝置，包括第一光源；第二光源；物鏡，被配置為接收來自第一光源的第一光和來自第二光源的第二光，并且向光盤記錄介質(zhì)照射第一光和第二光；第一聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)物鏡；第二聚焦機(jī)構(gòu)，被配置為改變?nèi)肷涞轿镧R的第二光的準(zhǔn)直，并獨(dú)立于第一光改變第二光的聚焦位置；第一聚焦伺服控制單元，被配置為驅(qū)動(dòng)第一聚焦機(jī)構(gòu)；誤差信號減法單元，被配置為從第二聚焦誤差信號中減去第一聚焦誤差信號；以及第二聚焦伺服控制單元，被配置為驅(qū)動(dòng)第二聚焦機(jī)構(gòu)。
文檔編號G11B7/09GK102129866SQ20111000242
公開日2011年7月20日 申請日期2011年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月14日
發(fā)明者堀籠俊宏, 石本努 申請人:索尼公司