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      具有整體承載梁和撓性部的磁頭懸掛組件的制作方法

      文檔序號:6743079閱讀:259來源:國知局
      專利名稱:具有整體承載梁和撓性部的磁頭懸掛組件的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種磁頭懸掛組件,它具有用于小型磁盤驅(qū)動(dòng)器的空氣軸承非母托滑塊(femtoslider)。
      本發(fā)明相應(yīng)的于1992年8月5日遞交的未授權(quán)的美國專利申請No.07/926,033涉及一種特別適用于滑塊(nanoslider)的磁頭懸掛組件,它的尺寸的標(biāo)準(zhǔn)為全尺寸空氣軸承滑塊的大的約50%。本申請公開了一種特別適用于非母托滑塊(femtoslider)的修改和改進(jìn)了的磁頭懸掛組件,這種滑塊的尺寸為標(biāo)準(zhǔn)全尺寸滑塊的25%。在這里把上述共同申請的主題作為參照。
      目前已知的例如用于筆記本式計(jì)算機(jī)的磁盤驅(qū)動(dòng)器包括至少一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤,至少一個(gè)用于轉(zhuǎn)換記錄在磁盤上的數(shù)據(jù)的磁頭組件和一個(gè)將磁頭送至轉(zhuǎn)動(dòng)盤的選擇的數(shù)據(jù)道上的轉(zhuǎn)動(dòng)磁頭致動(dòng)器。磁頭組件包括一帶剛性承載梁和萬向撓曲部的磁頭懸掛件。一種典型的磁頭懸掛件包括一承載梁件和一分開的撓性部件,然后在磁頭懸掛件組裝過程中將這兩部分連接起來。需要特殊的工具來對齊和組裝承載梁和撓性件,在將承載梁和撓性部連接起來后,在撓性部端部安裝一空氣軸承滑塊?;瑝K支承一薄膜磁轉(zhuǎn)換器,它與磁盤共同作用以記錄或讀取數(shù)據(jù)信號。
      在磁盤驅(qū)動(dòng)器操作過程中,轉(zhuǎn)動(dòng)磁盤給滑塊提供一氣動(dòng)升力,而同時(shí)通過撓性部給滑塊施加一相對的克承載力。這兩個(gè)相對力作用的結(jié)果決定滑塊和其轉(zhuǎn)換器相對磁盤表面的懸浮高度。在其懸浮工作方式中,滑塊繞形成于撓性部的承載凹窩萬向轉(zhuǎn)動(dòng)。
      在現(xiàn)有技術(shù)的磁頭懸掛件和撓性部設(shè)計(jì)中,承載力轉(zhuǎn)換和萬向作用被分開以提供具有低的仰俯度和低的剛度的高的第一彎曲頻率。撓性部稍稍加入承載梁的承載轉(zhuǎn)換,而初始提供低的縱向和側(cè)傾穩(wěn)定性的萬向作用并為橫向運(yùn)動(dòng)提供高的穩(wěn)定性。這些懸置件的特征為當(dāng)磁頭懸浮于磁盤表面之上時(shí)具有低的縱向、側(cè)傾和彎曲穩(wěn)定性。然而,為具有最佳功能,懸置件的結(jié)構(gòu)應(yīng)能提供一高的第一彎曲模式共振頻率,從而滑塊能跟隨轉(zhuǎn)動(dòng)磁盤表面外形的變化而變化并提供低的縱向和側(cè)傾穩(wěn)定性。
      用于筆記本式計(jì)算機(jī)的小型磁盤驅(qū)動(dòng)器的設(shè)計(jì)的另一個(gè)目標(biāo)是使驅(qū)動(dòng)元件的尺寸和質(zhì)量最少。懸置件和滑塊組件的Z方向高度(垂直高度)的減少相應(yīng)地導(dǎo)致裝有這種組件的小型磁盤驅(qū)動(dòng)器的Z方向高度的減少。標(biāo)準(zhǔn)全尺寸滑塊約0.160英寸長,0.125英寸寬和0.0345英寸高。現(xiàn)有的磁盤驅(qū)動(dòng)器應(yīng)用納諾滑塊(nanoslider),其尺寸大約為0.080英寸長,0.063英寸寬和0.017英寸高,其尺寸約為標(biāo)準(zhǔn)滑塊的50%。這里公開的新型的懸置件和滑塊設(shè)計(jì)對非母托滑塊(femtoslider)特別有用,其尺寸為約0.040英寸長,0.020-0.026英寸寬和總高0.0110英寸,其尺寸約為標(biāo)準(zhǔn)全尺寸滑塊的25%。應(yīng)當(dāng)理解,這種新穎的設(shè)計(jì)也可用于其它尺寸的滑塊。
      本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有顯著減小的Z方向高度的磁頭懸掛件和滑塊組件。
      本發(fā)明的另一目的是提供一種具有低的俯仰和側(cè)傾穩(wěn)定性的磁頭懸掛組件。
      本發(fā)明的再一目的是提供一種具有減少的克承載能力的低的彎曲剛度的磁頭懸掛組件。
      本發(fā)明的再一目的是提供一種具有相對高的第一彎曲模式,第一扭曲模式和第一橫向模式諧振頻率的磁頭掛置組件。
      本發(fā)明的再一目的是提供一種在制造和批量生產(chǎn)中能夠大大節(jié)省并具有其它優(yōu)點(diǎn)的磁頭懸掛件結(jié)構(gòu)。
      根據(jù)本發(fā)明,一磁頭懸掛件由一包括一承載梁部和撓性部的整體平面塊形成。承載梁最好為截頭圓錐形,其邊緣有突緣,并在其窄端有一延伸的舌部。側(cè)突緣形成有U形槽并為承載梁部提供剛度,承載梁舌部延伸入撓性部,其中形成一向下朝向磁頭滑塊的非空氣軸承表面的半球形承載凹窩。形成于靠近承載梁的撓性部中的U形槽部限定出舌部的形狀。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,撓性部包括兩個(gè)窄的侵蝕段,它們從承載梁延伸并靠近槽部分。窄段由一位于撓性部端部的橫向耳部連接。在該實(shí)施例中,磁頭滑塊粘接在橫向耳部的底表面上。在另一種實(shí)施例中,撓性部包括形成為對開舌部的支架,其上粘接塊。
      下面參照附圖對本發(fā)明進(jìn)行更加詳細(xì)的說明。附圖中

      圖1A為根據(jù)本發(fā)明的磁頭懸掛和滑動(dòng)組件的俯視圖;
      圖1B為圖1中的磁頭懸掛件的前視圖;
      圖2為圖1的磁頭懸掛件的側(cè)視圖,圖中示出在裝載位置與撓性端部相加的磁頭滑動(dòng)件,并以虛線示出釋載位置時(shí)的情形;
      圖3為圖1中的磁頭懸掛件的仰視圖;
      圖4為圖3中的組件的側(cè)視圖,示出沒有懸掛滑塊的承載凹窩;
      圖5A為圖3中的磁頭懸掛件的部分的放大視圖;
      圖5B為圖5A中磁頭懸掛件的前視圖;
      圖6A為磁頭懸掛件和具有另一種設(shè)計(jì)的撓性部的部分放大視圖;
      圖6B為圖6A的磁頭懸掛件部分的前視圖;
      圖6C為示出圖6A中支架相對滑塊伸出的前視圖;
      圖7為圖6A中所示磁頭懸掛件的部分的側(cè)視圖;
      圖8為示出在一塊不銹鋼板上沖壓形成三個(gè)磁頭懸掛件的葉形板的平面視圖;
      圖8A為圖8中葉形板的側(cè)視圖;
      圖9為在上述相應(yīng)的美國申請所公開的納諾滑塊(nanoslider)懸掛件的俯視圖;
      圖10為帶有方便生產(chǎn)過程中操作的延伸部的非母托滑塊(femtoslicler)懸掛件的俯視圖;
      圖11為圖10中非母托滑塊(femtoslicder)懸掛件的視圖,其具有相對延伸部的傾斜的結(jié)構(gòu);
      圖12示出不帶延伸部的非母托滑塊(femtoslicder)懸掛件,其目的是為了說明納諾滑塊(nanoslder)懸掛件和非母托滑塊(femtoslicder)懸掛件的相對尺寸;
      圖13為包括承載/釋承載片的部分破碎的非母托滑塊(femtoslicder)懸掛件的俯視圖;
      圖13A為沿圖13中A-A線的截面圖;
      圖14A為示出帶階梯的撓性部的懸掛件的撓性部的部分破碎的俯視圖;
      圖14B為圖14A中撓性部的側(cè)視圖;
      圖14C為圖14A中撓性部的前視圖。
      在附圖中相同的標(biāo)號指相同的部件。
      根據(jù)圖1A-5B,磁頭懸掛組件包括一承載梁部10,一撓性部12,一葉簧部56和一后安裝部42。該懸掛件由一整塊平的非磁性材料制成,這種材料最好為一種厚度為大約0.0012-0.0015英寸的300系列型號的不銹鋼。由于使用了整塊材料,承載梁部10和撓性部12以及葉簧部56和后安裝部42基本處于同一平面。不需要分別制成承載梁和撓性部分。因此,也不需要將撓性件裝到承載梁上的連接和焊接組裝步驟。
      承載梁部10最好為截頭圓錐或三角形。承載梁部有一短的從其相對窄的端部延伸至撓性部12的漸細(xì)的舌部14。舌部14的輪廓由撓性部中的U形槽16所限定。承載梁舌部14由于其長度較短和低的承載力而具有沿垂直于承載梁部和撓性部的平面的方向較小的偏移。
      如圖1所示,在承載梁的主要部分的上表面上設(shè)置的約束層減振件19以使懸掛件的不希望的共振減至最少,該減振件由厚度為大約0.002英寸的彈性體10A和一厚度約0.002英寸的不銹鋼覆蓋層10B構(gòu)成。另外,如圖3所示,可在承載梁的底表面上沉積一不妨礙撓性部12的類似的減振件21。
      撓性部12包括鄰近U形槽16的側(cè)邊而設(shè)置的窄段32,撓性段32被化學(xué)侵蝕一大約0.0010英寸的厚度以增加撓性。窄段32很薄且相對較軟以允許所希望的繞承載凹窩18的萬向支架運(yùn)動(dòng)以及使懸掛件有較低的側(cè)傾和縱向穩(wěn)定性。與整體的平承載梁和撓性部一起制成一個(gè)橫向連接部或耳部38,該耳部用于連接窄段32的端部。
      在本發(fā)明的實(shí)施例中,滑動(dòng)件22粘接到橫向連接部38上。在承載梁舌部14上設(shè)置半球形承載凹窩18并使其與空氣軸承滑動(dòng)件22的頂部非空氣軸承表面接觸,所述滑動(dòng)件22粘在橫向部或耳部38上。承載凹窩18的半球形向下朝向滑動(dòng)件。為了控制懸浮高度特性,可使凹窩18從滑動(dòng)件的中心線偏離,例如偏高0-0.006英寸的距離。
      U形突緣24沿承載梁部的側(cè)邊延伸并在到達(dá)撓性部12之前終止。突緣24有利于提高承載梁部的剛度并將彎曲作用限定于彈簧部上,從而使由于臂/磁盤的垂直容許間隙而產(chǎn)生的俯仰角變化減至最小。不帶常規(guī)軟絕緣管的磁頭線路92位于突緣24的槽中,由于設(shè)有軟絕緣,使得突緣24的U形槽較淺,從而減少磁頭懸掛組件Z方向的高度。用粘接材料90使線路92固定到位。在靠近耳部38和滑動(dòng)件22的地方設(shè)有粘接嵌條91。嵌條91是裸露的,因而很容易通過紫外線輻射予以處理。
      在使用這種磁頭懸掛和滑動(dòng)組件的磁盤驅(qū)動(dòng)器中,在承載梁舌部14和撓性段32之間產(chǎn)生撓曲。利用這種結(jié)構(gòu),將承載力通過舌部14傳到承載梁的截頭圓錐部。這種整體的承載梁/撓性部結(jié)構(gòu)使所作用的載荷傳送力與萬向支架作用力相分離,因此,可使這種結(jié)構(gòu)在承載梁處具有剛性以作適當(dāng)彎曲并在承載凹窩處相對較弱以使滑塊具有適當(dāng)?shù)母┭龊蛡?cè)傾角。
      這里公開的磁頭懸掛和滑動(dòng)組件的一個(gè)特征是滑動(dòng)件22具有階梯28,它由在滑動(dòng)件22的非空氣軸承頂表面上切出一凹部或平臺30而形成。階梯28的Z方向的高度幾乎與半球形承載凹窩18的Z方向的高度相等。在承載梁舌部14和滑動(dòng)件頂面之間有足夠的空間,因而允許滑動(dòng)件22自由的方向支架作用而不會受承載梁的干擾?;瑒?dòng)件階梯28具有充分的高度以使滑動(dòng)件端部的后緣可容納-包括其線圈匝的薄膜磁轉(zhuǎn)換器。
      為形成撓性在位于承載梁部10和后安裝部42之間的葉簧56上設(shè)有一梯形的孔60。撓性部56用于提供一所需的承載力,以抵銷在磁盤驅(qū)動(dòng)器工作過程中由于磁盤轉(zhuǎn)動(dòng)所產(chǎn)生的氣動(dòng)升力。如圖2所示,當(dāng)將懸掛件沿箭頭所指方向由虛線所示位置彎曲至上升位置時(shí)將產(chǎn)生承載力。
      承載梁10的后安裝部42上有一孔48,用以通過凸臺48和激光焊接將型鋼板46連接到懸掛件上。型鋼板46為后安裝部42提供了剛度。后突緣54上設(shè)有導(dǎo)線引導(dǎo)槽用以在操作過程中保護(hù)導(dǎo)線。
      這里描述的磁頭懸掛和滑動(dòng)組件設(shè)有一剛性承載梁和一相對較長較窄的撓曲部,該撓曲部包括薄弱的撓曲段和連接橫向部。利用這種結(jié)構(gòu),可實(shí)現(xiàn)低的彎曲剛度和具有低的俯仰和側(cè)向穩(wěn)定性的高的橫向和縱向剛度。承載梁舌部具有高的垂直剛度,從而其相對于懸掛件平面向上和向下的彎曲最少。第一彎曲方式共振頻率或振動(dòng)明顯地大于具有可比尺寸的現(xiàn)有技術(shù)中的懸掛件。
      在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)際例子中,滑動(dòng)件的總高度為約0.0110英寸,長約0.0400英寸,寬約0.020英寸。階梯28的高度為高于凹部30約0.0015英寸,凹部長0.0336英寸。最好使階梯28頂部表面積最小以便減小在滑動(dòng)件階梯表面處的彎曲或撓曲,這種彎曲或撓曲可以是由于陶瓷滑動(dòng)件22和不銹鋼耳部38不同的熱膨脹系數(shù)所形成的。
      部分如圖6A-7所示在磁頭懸掛件的另一個(gè)實(shí)施例中,撓曲部62上設(shè)有一舌部64和一槽66。在舌部64上設(shè)有一朝下的承載凹窩76。由一橫向部70連接從承載梁10延伸的窄的侵蝕段68。段68經(jīng)化學(xué)侵蝕而比用作承載梁和撓曲部的整體平面塊薄。形成一對開舌部的支架72設(shè)置在撓曲部62邊緣并由槽74與薄膜68分開。支架72伸出在滑動(dòng)件22側(cè)邊之上,并且滑動(dòng)件22通過一粘接條90而固定到支架上。在該實(shí)施例中,如圖6C所示滑動(dòng)件22的頂部非空氣軸承表面20通過在槽16處提供粘接強(qiáng)度的粘接條而粘接到支架72上?;瑒?dòng)件22安裝在支架72上,從而使滑動(dòng)件的中心與承載凹窩76對齊,并且滑動(dòng)件從橫向部70的端部伸出。承載凹窩76相對滑動(dòng)件的中心線無偏置。借助這個(gè)實(shí)施例,可實(shí)現(xiàn)較低的垂直高度(Z方向高度),而且支架72的滑動(dòng)件粘接面積大于圖1中撓性部12的橫向連接部38的粘接面積。在本實(shí)施例中,幾乎沒有使滑動(dòng)件相對承載凹窩向前移動(dòng)的空間,這對獲得最佳的浮動(dòng)位置是必須的。而且,為了使兩個(gè)支架段72向下朝彎曲部20彎曲,不需要附加的加工,這將增加生產(chǎn)過程中的公差。
      圖8示出了由不銹鋼板制成的槳葉狀形板80,其上形成有多個(gè)磁頭懸掛件82,每個(gè)懸掛件均具有圖1所示的結(jié)構(gòu)。其上設(shè)有用于進(jìn)一步處理的工具孔84和支承段86。圖8A示出帶支承86的槳葉形板80,支承段86彎曲以便于在非常小的非母托滑動(dòng)件(femtoslicder)懸掛件上工作。
      圖9示出一種在相關(guān)的未授權(quán)的美國申請No.07/926,033所公開的納諾滑動(dòng)懸掛件(nancoslidersuopension),該納諾滑動(dòng)件(nancoslider)包括主承載梁94,撓性部96,承載梁舌部98,彈簧部100,后安裝部102和滑動(dòng)件104。
      圖10和11示出本發(fā)明的非母托滑動(dòng)懸掛件(femfoslidersuspension),它具有承載梁10,撓性部12,彈簧部56和一帶有工具孔106的后部。工具孔部106要裝在穿孔型鋼板110形成的延伸部108上,以使其可安裝到一轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器上。對于非常小的驅(qū)動(dòng)器,例如1.3英寸或更少,延伸部108作為臂樞軸從而不需要一個(gè)如現(xiàn)有技術(shù)中所使用的單獨(dú)的臂結(jié)構(gòu)。延伸部108還使得組件可與其它工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)70%微滑動(dòng)件懸掛件的總長度相配合。從而易于使用現(xiàn)有的工具。
      圖11示出相對于延伸部108彎曲的懸掛件以補(bǔ)償讀取過程中磁頭在磁盤外直徑和內(nèi)徑之間移動(dòng)所產(chǎn)生的彎曲變形。如圖10和11所示,延伸部可包括用于減輕重量的孔112???12用于調(diào)節(jié)共振條件/或調(diào)節(jié)繞樞軸的總體致動(dòng)平衡。
      圖12示出一不帶延伸部的毫微微滑動(dòng)懸掛件,并且示出納滑動(dòng)件(nanoslider)和非母托滑動(dòng)件(femfoslider)的尺寸的大的差異。在非母托滑動(dòng)件(femfoslider)懸掛件的一個(gè)實(shí)施例中,其長約0.395英寸,最大寬度為約0.056英寸。
      參見圖13和13A,一磁頭滑塊懸掛件包括平的側(cè)片120,該側(cè)片伸出以使磁頭懸掛組件相對磁盤驅(qū)動(dòng)器中的磁盤表面承載和卸載。側(cè)片可位于承載梁的一側(cè)或兩側(cè)。通過工具移動(dòng)側(cè)片120以使懸掛組件上升或下降。增加與承載梁位于同一平面的平的側(cè)片不會使懸掛組件Z方向的高度增加。
      圖14A-C示出具有一塊122和一位于滑塊端部的薄膜轉(zhuǎn)換器124的懸浮組件的一部分?;瑝K122具有一平的頂表面126,其上設(shè)有一承載凹窩76?;瑝K122形成如圖7中滑塊的階梯78。平的表面126在滑塊的整個(gè)頂部延伸,然而,如圖14B所示,撓性部128的前端在130和132處彎曲,以使撓性部向下移動(dòng)一與承載凹窩76的高度大致相同的距離。這樣,撓性部128與滑塊122的平的頂表面126接觸?;瑝K通過粘性條134和136而粘接到彎曲部130和132上。撓性部128的平的接觸表面和滑塊頂部的平的表面126也用粘接劑粘結(jié)在一起。由于用了表面滑塊,可減少對滑塊的加工,從而節(jié)省時(shí)間和勞務(wù)費(fèi)。以及減小在生產(chǎn)過程中的斷裂和失誤。
      在本發(fā)明中,由于使承載梁和撓性部形成為一單一整塊,因而可顯著地節(jié)約材料和工時(shí)??墒÷允钩休d梁與撓性部對齊和將分開的部件焊接起來的工序。不再需要在以前的承載梁/撓性部組件中所需的某種臨界公差,從而提高組裝工序。這種設(shè)計(jì)使承載轉(zhuǎn)換功能與萬向作用公開,后者能消除現(xiàn)有技術(shù)中懸浮件的弱的彎曲特性。應(yīng)當(dāng)理解,本發(fā)明的參數(shù),尺寸和材料,和其它東西一樣,均可在本發(fā)明的范圍內(nèi)改動(dòng)。例如,這里公開的帶有階梯和平臺結(jié)構(gòu)的滑塊設(shè)計(jì)可用于“50%”納諾滑塊懸浮件(nanoslidersuspensionb)或其它尺寸的滑塊懸浮件。
      權(quán)利要求
      1.用于轉(zhuǎn)換從轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤驅(qū)動(dòng)器的表面讀出的記錄于其上的信號的磁頭懸掛組件,它包括-包括一承載梁部和一撓性部的具有一定厚度的整塊,所述承載梁部具有側(cè)邊和位于其一端的伸入所述撓性部的舌部;-限定出所述承載梁舌部輪郭的位于所述撓性部中的槽;沿所述槽側(cè)邊并與所述舌部相距一定間隔形成有大大薄于所述整塊厚度的窄段,其中,承載力基本上通過所述舌部傳遞,并獨(dú)立于由所述窄段提供的萬向支架和橫向定位。
      2.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,包括一磁頭滑動(dòng)件,它具有與所述撓性部連接的頂部非空氣軸承表面。
      3.如權(quán)利要求2的組件,其特征在于,包括用于支承所述連接磁頭滑塊的與所述撓性部形成一體的裝置。
      4.如權(quán)利要求3的組件,其特征在于,所述支承裝置包括形成在所述撓性部的外邊緣的支架或一分開的舌部。
      5.如權(quán)利要求3所述的組件,其特征在于,所述支承件包括一與所述窄段相連的橫向部。
      6.如權(quán)利要求2所述的組件,其特征在于,所述滑動(dòng)件大約0.0110英寸高,0.0400英寸長和0.0200-0.0260英寸寬。
      7.如權(quán)利要求2的組件,其特征在于,所述滑動(dòng)件形成有一靠近平臺的階梯。
      8.如權(quán)利要求7的組件,其特征在于,所述滑動(dòng)件的所述平臺大約0.0336英寸長,所述階梯大約0.0015英寸高。
      9.如權(quán)利要求2的組件,其特征在于,包括一形成在所述舌部中的承載凹窩。
      10.如權(quán)利要求9的組件,其特征在于,所述凹窩為半球形并朝下與所述滑動(dòng)件的所述頂表面接觸。
      11.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,所述包括所述分開的舌部和橫向部的整塊約厚0.0012至0.0015英寸,并且所述窄段厚約0.0010英寸。
      12.如權(quán)利要求1所述組件,其特征在于,所述承載梁部的形狀為一截頭三角形。
      13.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,包括一位于所述承載部后端用于將所述懸掛件安裝到一致動(dòng)臂上的安裝部;和一位于所述后安裝部和所述承載梁部之間用于給所述懸掛件提供撓性的葉簧部。
      14.如權(quán)利要求13的組件,其特征在于,包括一與所述安裝部相連用于給所述懸掛組件的所述后端提供剛性的型鋼板。
      15.如權(quán)利要求13的組件,其特征在于,包括沿所述承載梁部邊緣形成的前緣和沿所述后安裝部邊緣形成的后突緣之間具有一縫隙。
      16.如權(quán)利要求15的組件,其特征在于,所述突緣上形成有淺的U形槽,不帶軟絕緣管的電子線路位于所述槽中。
      17.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,包括一位于所述葉簧部中用以給所述懸掛件提供撓性的孔。
      18.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,還包括一形成于所述懸浮組件的帶孔延伸部,以使其與磁盤驅(qū)動(dòng)器的致動(dòng)器相連,而不需分開的使所述懸浮件樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的磁頭臂。
      19.如權(quán)利要求1的組件,其特征在于,包括一位于所述承載梁上的減振材料。
      20.如權(quán)利要求1的組件,包括一至少形成于所述承載梁部一側(cè)的承載/釋載片。
      21.如權(quán)利要求2的組件,其特征在于,所述頂部非空氣承載表面基本上是平面。
      22.如權(quán)利要求21的組件,其特征在于,所述孔部包括使所述撓性部與所述滑塊頂表面接觸的彎曲部。
      全文摘要
      一種磁頭懸掛組件被制成一整塊,包括一承載梁部,一撓性部,一后安裝部和一位于承載梁和后安裝部的是葉簧部。一舌部從承載梁延伸至撓性部,并具有一與懸掛的空氣軸承滑塊的非空氣軸承表面接觸的朝下的承載凹窩。撓性部包括窄的薄段,它靠近限定出承載梁舌部的槽。磁頭懸掛件的特征在于具有高的第一彎曲模式頻率和低的俯抑和側(cè)傾穩(wěn)定性。
      文檔編號G11B21/12GK1085679SQ93118620
      公開日1994年4月20日 申請日期1993年10月6日 優(yōu)先權(quán)日1992年10月7日
      發(fā)明者米歇爾·R·哈奇, 切克·M·龍 申請人:里德-萊特公司
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