專利名稱：負(fù)壓型磁頭滑塊以及含有該滑塊的磁盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適用于磁盤裝置的負(fù)壓型磁頭，更具體地說是涉及一種能夠以一個(gè)小間隙量穩(wěn)定地浮在磁盤上方的負(fù)壓型磁頭。
通常，磁盤裝置必須減少在安裝于磁頭滑塊上的磁頭元件以及磁盤之間的間隙量，除此之外，還必須穩(wěn)定地保持磁頭以一個(gè)給定的間隙量浮動，以便增加記錄到該磁盤上的數(shù)據(jù)的錄制密度。
流入高速旋轉(zhuǎn)的磁盤和磁頭滑塊之間的一股粘滯空氣氣流使磁頭滑塊浮起。然而，由于粘滯空氣氣流支承著一個(gè)滑塊表面，當(dāng)滑塊的空氣支承表面具有允許的制造誤差時(shí)，或者是當(dāng)磁盤的轉(zhuǎn)動發(fā)生動態(tài)變化時(shí)，上述的間隙量也容易產(chǎn)生改變。這種間隙量的改變可能影響讀/寫性能，并進(jìn)一步造成磁頭滑塊和磁盤之間的撞擊，從而導(dǎo)致錄制在磁盤上的信息被破壞。為了對付這一問題，在磁盤裝置中磁頭必須穩(wěn)定地保持一個(gè)預(yù)定的間隙量。
在已有技術(shù)中，曾推薦過一種所謂的負(fù)壓型磁頭滑塊，建議將它作為一種用于穩(wěn)定磁頭小間隙浮動的裝置。這種負(fù)壓型磁頭滑塊減少間隙量的措施如下在一個(gè)用來產(chǎn)生正壓力的面對磁盤的滑塊表面上做出一個(gè)溝槽，起到吸附磁盤作用的負(fù)壓力就由該溝槽生成，并且負(fù)壓力與正壓力平衡。
已經(jīng)得知，由于負(fù)壓力與到達(dá)磁盤表面的距離成反比例，這種負(fù)壓型磁頭滑塊能迅速地離開磁盤表面，從而改善磁頭滑塊的抗磨損性能，所述溝槽可以機(jī)械加工成隨意的形狀，而且這種滑塊易于制造。
例如JP-B2-63-56635號就曾披露過這種已有技術(shù)的負(fù)壓型磁頭滑塊。
在僅僅利用由粘滯氣流產(chǎn)生的正壓力進(jìn)行浮動的一種磁頭滑塊中，通常是，當(dāng)由磁盤轉(zhuǎn)動引起的空氣流進(jìn)入滑塊的一個(gè)側(cè)面時(shí)，在此側(cè)面上的間隙量增加；而當(dāng)空氣流從該滑塊的一側(cè)面流出時(shí)，該處間隙量減??；而且一個(gè)磁頭元件(磁轉(zhuǎn)換線圈)被安裝在滑塊的間隙量最小的一個(gè)位置上，也就是說，在滑塊后端附近，在該處磁盤表面和滑塊之間的間距最小。
然而，這種正壓型磁頭滑塊具有下述缺點(diǎn)磁頭滑塊以及磁頭支承彈簧的允許制造誤差均會改變上述間隙量。并且，當(dāng)磁盤裝置運(yùn)行時(shí)，所述磁頭滑塊的間隙量容易由于施加變化的外力，例如磁盤尋找操作導(dǎo)致的外力，在磁頭和磁盤之間的氣流造成的外力等等，而產(chǎn)生動態(tài)改變，從而導(dǎo)致正壓型磁頭滑塊的另一個(gè)缺點(diǎn)，即磁盤上的數(shù)據(jù)以及磁頭均可能因磁頭碰撞而損壞。
還有，雖然上述傳統(tǒng)的負(fù)壓型磁頭有助于縮小間隙量，但是由于制造過程產(chǎn)生的間隙量允許誤差，以及由于磁盤裝置在運(yùn)行時(shí)的動態(tài)變化導(dǎo)致的間隙量改變，均沒有得到足夠的改善。因此，提供具有穩(wěn)定的小間隙量的磁頭仍然是困難的。特別是，在最近的磁盤裝置中，由于把間隙量做得較小能增加記錄密度，越來越需要減少間隙量的制造誤差及其變化量。因此，這種傳統(tǒng)的負(fù)壓型磁頭滑塊的缺點(diǎn)是不能解決上述問題。
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的是提供一種能穩(wěn)定地保持小間隙量的磁頭滑塊以及一種包括這種磁頭滑塊的磁盤裝置。
為了達(dá)到上述目標(biāo)，本發(fā)明提供一種負(fù)壓型磁頭滑塊，該滑塊上施加有荷載力，并在粘滯空氣流作用下生成一個(gè)正壓力，所述空氣流由于磁盤高速轉(zhuǎn)動而從一個(gè)滑塊表面上流過，從而使滑塊克服荷載力，相對于磁盤浮起；而且該滑塊還在該粘滯空氣流作用下生成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流進(jìn)入一個(gè)在該滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使滑塊接近磁盤；其特征為，該滑塊表面的一個(gè)負(fù)壓力生成中心位置相對于荷載力施加位置而言，位于粘滯氣流流入側(cè)。
此外，用來使負(fù)壓磁頭滑塊在荷載力和負(fù)壓力作用下接近磁頭的接近力最好做成等于用來使磁頭滑塊在正壓力作用下浮起的力，并且，所述滑塊表面的負(fù)壓力生成中心位置，相對于荷載力施加位置而言，位于粘滯氣流流入側(cè)，以便在磁盤元件和磁盤之間保持一個(gè)不變的間隙。
更詳細(xì)地說，當(dāng)負(fù)壓型磁頭滑塊的所述浮動表面被相等地分成四個(gè)部分，或者從滑塊的前邊緣(相對氣流流向而言)沿氣流方向排列第一至第四部分，正壓力生成表面和負(fù)壓力生成表面的關(guān)系是以這樣的次序安排的在第一部分中正壓力大于負(fù)壓力，在第二部分中正壓力小于負(fù)壓力，在第三部分中正壓力近似等于負(fù)壓力，而在第四部分中正壓力又大于負(fù)壓力。
由于所述滑塊表面的負(fù)壓力生成中心位置相對于荷載力施加位置而言位于粘滯氣流流入側(cè)，即使有一個(gè)外力作用在滑塊表面上，而且所述外力試圖縮小在尾部棱邊處的磁頭元件間隙量(此時(shí)外力使滑塊移到上述姿態(tài))時(shí)，由于負(fù)壓力抵抗外力，磁頭滑塊也能保持滑塊姿態(tài)，使磁頭元件的間隙量維持預(yù)定的數(shù)值，從而能穩(wěn)定地保持一個(gè)小間隙量。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)磁頭滑塊實(shí)施例的側(cè)立面圖。
圖2是一底視平面圖，畫出該本發(fā)明實(shí)施例磁頭滑塊的一個(gè)浮動表面。
圖3用來解釋上述磁頭滑塊實(shí)施例的浮動姿態(tài)變化。
圖4用來解釋該實(shí)施例中磁頭滑塊的尺寸關(guān)系。
下面首先介紹根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)負(fù)壓型磁頭滑塊實(shí)施例。
在圖1中畫出一個(gè)作為本發(fā)明實(shí)施例的負(fù)壓型磁頭滑塊在浮動時(shí)的側(cè)面。當(dāng)本發(fā)明磁頭滑塊2在一個(gè)高速轉(zhuǎn)動的磁盤10的作用下浮起時(shí)，從側(cè)面看過去它的姿態(tài)就如同圖1所示，位于空氣流入方向1的滑塊端部的一個(gè)斜削部分22從磁盤10浮起一個(gè)間隙量11，而連結(jié)在滑塊后端(氣流從此處流出)的一個(gè)磁頭元件3從磁盤10浮起一個(gè)間隙量12，以致于該磁頭滑塊2保持一種引導(dǎo)棱邊高于尾部棱邊的前側(cè)抬起姿態(tài)?；瑝K2的這種姿態(tài)以荷載力4、負(fù)壓力5與正壓力6平衡的方式保持著，所述荷載力4通過一樞軸或類似物使滑塊2壓向磁盤10，而負(fù)壓力5與一正壓力6平衡，所述正壓力6在一個(gè)流到滑塊浮動表面7的空氣流的作用下將滑塊2從磁盤10上抬起，在圖中荷載力4和負(fù)壓力5都用箭頭表示出。應(yīng)該指出，盡管負(fù)壓力5和正壓力6各自按照滑塊浮動表面的形狀進(jìn)行分布(下文中將作介紹)，但為了便于理解起見，在這個(gè)介紹實(shí)例中將它們畫在各自的壓力生成中心上。
磁頭元件3安裝在磁頭滑塊2上，位于滑塊2后端尾部棱邊的與磁盤10最為接近的一側(cè)，所述磁頭元件3在與磁盤10產(chǎn)生相對運(yùn)動的同時(shí)浮起，以致于在滑塊浮動表面7上形成一個(gè)轉(zhuǎn)換間隙部分，該間隙部分用來從磁盤上讀寫數(shù)據(jù)或?qū)?shù)據(jù)讀寫到磁盤上。
如同圖2所示，磁頭滑塊2的浮動表面7包括一個(gè)斜削部分22，一個(gè)橫軌23，一個(gè)正壓力生成軌24，一個(gè)負(fù)壓力生成槽部25以及一個(gè)隙槽21；所述斜削部分22是傾斜的，它能把沿著空氣流動方向1流動的空氣流引導(dǎo)到浮動表面7上；所述橫軌23與斜削部分22鄰接，用來接納空氣流；所述正壓力生成軌24與橫軌23鄰接，用于生成正壓力，所述負(fù)壓力生成槽部25用于產(chǎn)生負(fù)壓力；而所述隙槽21用來把空氣流沿著空氣流動方向1引向負(fù)壓生成槽部25。負(fù)壓生成槽部25是用在平的正壓力生成軌24上做出一個(gè)溝槽的方法形成的，它具有一個(gè)比隙槽21寬的負(fù)壓生成槽寬度26，所述寬度26從橫軌23朝向尾部棱邊的后端部開始逐漸變窄到一個(gè)負(fù)壓生成槽寬度27，以便釋放已從隙槽21流過橫軌23后端左右的空氣流。負(fù)壓力生成槽部25的深度約為幾個(gè)微米。而正壓力生成軌24被槽部25分成左右兩部分，在橫軌23的后端部處軌道寬度較窄，然后朝尾部棱邊方向逐漸加寬。
對于這種結(jié)構(gòu)的磁頭滑塊而言，浮動表面7的負(fù)壓力生成中心位置取決于橫軌23的后端部位置以及在負(fù)壓力生成槽部的兩個(gè)寬度之間的一個(gè)比率，所述比率最好為5∶2。此處涉及的負(fù)壓生成槽部寬度比率是橫軌23后端位置附近的負(fù)壓力生成槽寬度26與在尾部棱邊位置的負(fù)壓力生成槽寬度27之比。此外，橫軌23的后端部位置要根據(jù)荷載力4的施加位置來確定。
舉例來說，如圖4所示，當(dāng)荷載力通過磁頭滑塊2的樞軸之類進(jìn)行加載的位置被安排在這樣一個(gè)位置，該位置離開滑塊2的引導(dǎo)棱邊的距離為滑塊2縱向長度的65％時(shí)，只要把橫軌后端部的位置安排在離開滑塊引導(dǎo)棱邊大約20％的位置就足夠了。由于這種安排，負(fù)壓力5的中心位置由橫軌23的后端部位置以及上述負(fù)壓力生成槽寬度的比率來確定，被定位在荷載力4施加位置前方大約25％的一個(gè)位置上。這個(gè)位置足以保持在磁頭元件3位置處的間隙量不變。
在上文所述的負(fù)壓型磁頭滑塊實(shí)施例中，在正常浮動狀態(tài)，滑塊浮動表面7被設(shè)置在圖3虛線所示的一個(gè)平衡浮動姿態(tài)線70的位置上。在此狀態(tài)下，當(dāng)沿著減少尾部棱邊間隙量12的方向施加一個(gè)外力(瞬時(shí)作用力)13時(shí)，尾部棱邊處的間隙量12幾乎不變，而在引導(dǎo)棱邊處的間隙量11卻沿著使滑塊浮動表面7離開磁盤10的方向變動，以致于移動到浮動姿態(tài)線9的位置。
這是因?yàn)?，?fù)壓力5向下作用在圖3所示的一個(gè)位置上，因此，即便施加外力，尾部棱邊上的磁頭元件3位置能起到一個(gè)大體平衡的轉(zhuǎn)動中心的作用，所以，間隙量幾乎不會改變。反之，在一個(gè)傳統(tǒng)的磁頭滑塊中，由于負(fù)壓力5不處在圖3所示位置，當(dāng)沿著減少尾部棱邊間隙量12的方向施加一個(gè)外力(瞬時(shí)作用力)13時(shí)，滑塊2的末端被浮動到一個(gè)用點(diǎn)劃線表示的浮動姿態(tài)線8的位置，以致于磁頭元件3的間隙量與尾部棱邊處的最初間隙量1 2相比，相對地減少了。在這種情況下，磁頭元件3靠近磁性記錄介質(zhì)10，有可能損壞后者的抗滑性能。
如上所述，在本發(fā)明的這種磁頭滑塊實(shí)施例中，對浮動表面上的軌道以及荷載力的施加位置作出了安排，使得負(fù)壓力中心位置、正壓力中心位置、荷載力位置以及磁轉(zhuǎn)換元件的位置從引導(dǎo)棱邊開始按此順序排列，在這種情況下，重要的是負(fù)壓力的中心位置相對于磁頭元件位置而言，被設(shè)置在跨越荷載力位置的一個(gè)位置上。也就是說，一個(gè)負(fù)壓力產(chǎn)物以及一個(gè)從負(fù)壓力中心位置到荷載力(瞬時(shí)作用力)中心位置的距離能起到防止磁頭元件間隙量改變的作用，所述磁頭元件安裝在磁頭滑塊的尾部棱邊上，從而基本上防止了這種改變的發(fā)生。具體地說，根據(jù)磁頭滑塊的這個(gè)實(shí)施例，由于負(fù)壓力的中心位置相對于磁頭元件位置而言，被設(shè)置在跨越荷載力位置的一個(gè)位置上，當(dāng)相同數(shù)量級的外力13(瞬時(shí)作用力)沿著俯仰方向起作用時(shí)，與傳統(tǒng)的磁頭元件相比較，磁頭元件3的間隙量12的改變能少到傳統(tǒng)的改變量的十分之一到千分之一。
權(quán)利要求
1.一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述磁頭滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在該滑塊上的荷載力，相對于磁盤浮起；此外它還在一股空氣流作用下生成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽中，從而使所述滑塊接近所述磁盤；所述磁頭滑塊包括一個(gè)磁頭元件，它安裝在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上，并且用來將數(shù)據(jù)記錄或到所述磁盤上或從其上再現(xiàn)，所述磁頭滑塊的浮動表面上的一個(gè)所述負(fù)壓力生成中心位置相對于一個(gè)所述荷載力施加位置而言，位于滑塊的前棱邊一側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓型磁頭滑塊，其特征為，用來使所述磁頭滑塊在所述荷載力和所述負(fù)壓力作用下接近所述磁盤的一個(gè)接近力，等于一個(gè)用來在所述正壓力作用下使所述磁頭滑塊浮起的力，并且所述磁頭滑塊浮動表面上的所述負(fù)壓力生成中心位置相對于一個(gè)所述荷載力施加位置而言，位于所述前棱邊一側(cè)，以便在一個(gè)被安裝的磁頭元件和所述磁盤之間保持一個(gè)不變的間隙。
3.一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述磁頭滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在該滑塊上的荷載力，相對于磁盤浮起；此外它還在一股空氣流作用下生成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽中，從而使所述滑塊接近所述磁盤，該磁頭滑塊包括一個(gè)磁頭元件，它安裝在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上，并且用來將數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)，當(dāng)所述磁頭滑塊的一個(gè)縱向長度被相等地分成四個(gè)部分，或者從滑塊的前棱邊沿氣流方向排列第一至第四部分，正壓力生成表面和負(fù)壓力生成表面是以這樣的次序安排的在所述第一部分中所述正壓力大于所述負(fù)壓力，在所述第二部分中所述正壓力小于所述負(fù)壓力，在所述第三部分中所述正壓力近似等于所述負(fù)壓力，而在所述第四部分中所述正壓力又大于所述負(fù)壓力。
4.一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述磁頭滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在該滑塊上的荷載力，相對于磁盤浮起；此外它還在一股空氣流作用下生成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤，該磁頭滑塊包括一個(gè)磁頭元件，它安裝在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上，并且用來將數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)，一個(gè)所述負(fù)壓力中心位置，一個(gè)所述正壓力中心位置、一個(gè)所述荷載力施加位置以及一個(gè)所述磁頭元件位置沿所述空氣流流入方向開始按照上述順序排列；此處所述的負(fù)壓力用來使所述滑塊接近所述磁盤，并且由流入在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的所述溝槽的所述空氣流生成；而所述的正壓力用來使所述磁頭滑塊相對于所述磁盤浮起，并且由所述磁盤的轉(zhuǎn)動導(dǎo)致的空氣流生成。
5.一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述磁頭滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在該滑塊上的荷載力，相對于磁盤浮起；此外它還在一股空氣流作用下生成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤，該磁頭滑塊包括一個(gè)磁頭元件，它安裝在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上，并且用來將數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；所述磁頭滑塊的所述浮動表面包括一個(gè)斜削部分，它朝著一個(gè)前棱邊傾斜，以便引導(dǎo)所述空氣流流到所述浮動表面上；一個(gè)橫軌，它與所述斜削部分鄰接，用來接納所述空氣流；一個(gè)正壓力生成軌，它與所述橫軌鄰接，用來生成所述正壓力；一個(gè)負(fù)壓力生成槽部，它是用從所述正壓力生成軌的一個(gè)浮動表面上凹入的方式形成的，用來生成所述負(fù)壓力；以及一個(gè)隙槽，它由分開的所述斜削部分以及所述橫軌界定，用來引導(dǎo)所述空氣流進(jìn)入所述負(fù)壓力生成槽部。其中所述正壓力生成軌具有一個(gè)軌道寬度，所述軌道寬度從所述橫軌的朝向尾部棱邊的后端部開始逐漸增大，在所述后端部處所述正壓力生成軌與所述橫軌鄰接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的負(fù)壓型磁頭滑塊，其特征為，位于所述橫軌后端部的一個(gè)負(fù)壓力生成槽寬度與位于所述尾部棱邊的一個(gè)負(fù)壓力生成槽寬度之間的比率被設(shè)置成5∶2。
7.一種磁盤裝置，它包括一個(gè)磁盤，一個(gè)使所述磁盤轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，一個(gè)磁頭滑塊以及一個(gè)機(jī)構(gòu)；所述磁頭滑塊由于所述磁盤的轉(zhuǎn)動而浮動，以便借助于一個(gè)安裝在上面的磁頭元件，把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上或從其上再現(xiàn)；而所述機(jī)構(gòu)借助于施加的荷載力，使所述磁頭滑塊貼近所述磁盤，并且相對于所述磁盤可轉(zhuǎn)動地支承所述磁頭滑塊，其中所述磁頭滑塊是一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在所述滑塊上的荷載力，相對于所述磁盤浮起；此外，它還用來在一股空氣流作用下形成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤；在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上裝有一個(gè)磁頭元件，它用來把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；所述磁頭滑塊浮動表面上的一個(gè)所述負(fù)壓力生成中心位置相對于一個(gè)所述荷載力施加位置而言，位于前棱邊一側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁盤裝置，其特征為，所述負(fù)壓型磁頭滑塊是這樣安排的，以致于用來使所述磁頭滑塊在所述荷載力和所述負(fù)壓力作用下接近所述磁盤的一個(gè)接近力，等于一個(gè)用來在所述正壓力作用下使所述磁頭滑塊浮起的力，并且所述磁頭滑塊浮動表面上的所述負(fù)壓力生成中心位置相對于一個(gè)所述荷載力施加位置而言，位于所述前棱邊一側(cè)，以便在一個(gè)被安裝的磁頭元件和所述磁盤之間保持一個(gè)不變的間隙。
9.一種磁盤裝置，它包括一個(gè)磁盤，一個(gè)使所述磁盤轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，一個(gè)磁頭滑塊以及一個(gè)機(jī)構(gòu)；所述磁頭滑塊由于所述磁盤的轉(zhuǎn)動而浮起，以便借助于一個(gè)安裝在上面的磁頭元件，把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上并可從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；而所述機(jī)構(gòu)借助于施加的荷載力使所述磁頭滑塊貼近所述磁盤，并且相對于所述磁盤可轉(zhuǎn)動地支承所述磁頭滑塊，其中所述磁頭滑塊是一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在所述滑塊上的荷載力，相對于所述磁盤浮起；此外，它還用來在一股空氣流作用下形成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤；在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上裝有一個(gè)磁頭元件，它用來把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；當(dāng)所述磁頭滑塊的一個(gè)縱向長度被相等地分成四個(gè)部分，或者從滑塊的前棱邊開始排列第一到第四部分，在各個(gè)部分中所述負(fù)壓力和所述正壓力之間的關(guān)系被設(shè)置為在所述第一部分中所述正壓力大于所述負(fù)壓力，在所述第二部分中所述正壓力小于所述負(fù)壓力，在所述第三部分中所述正壓力近似等于所述負(fù)壓力，而在所述第四部分中所述正壓力大于所述負(fù)壓力。
10.一種磁盤裝置，它包括一個(gè)磁盤，一個(gè)使所述磁盤轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，一個(gè)磁頭滑塊以及一個(gè)機(jī)構(gòu)；所述磁頭滑塊由于所述磁盤的轉(zhuǎn)動而浮起，以便借助于一個(gè)安裝在上面的磁頭元件，把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，并可從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；而所述機(jī)構(gòu)借助于施加的荷載力安排所述磁頭滑塊貼近所述磁盤，并且相對于所述磁盤可轉(zhuǎn)動地支承所述磁頭滑塊，其中所述磁頭滑塊是一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在所述滑塊上的荷載力，相對于所述磁盤浮起；此外，它還用來在一股空氣流作用下形成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤；在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上裝有一個(gè)磁頭元件，它用來把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；一個(gè)所述負(fù)壓力中心位置，一個(gè)所述正壓力中心位置，一個(gè)所述荷載力施加位置以及一個(gè)所述磁頭元件位置從一個(gè)前棱邊開始按照上述順序排列；此處所述的負(fù)壓力用來使所述滑塊接近所述磁盤，并且由流入在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的所述溝槽的所述空氣流生成；而所述的正壓力用來使所述磁頭滑塊相對于所述磁盤浮動，所述磁盤的轉(zhuǎn)動導(dǎo)致所述空氣流，而所述正壓力就由所述空氣流生成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁盤裝置，其特征為，所述磁頭滑塊是這樣安排的，以致于生成的所述負(fù)壓力的中心位置，位于離開所述磁頭滑塊的前棱邊的距離為所述磁頭滑塊縱向長度40％的一個(gè)位置上。而施加荷載力的中心位置，位于離開所述磁頭滑塊的前棱邊的距離為所述磁頭滑塊縱向長度65％的一個(gè)位置上。
12.一種磁盤裝置，它包括一個(gè)磁盤，一個(gè)使所述磁盤轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，一個(gè)磁頭滑塊以及一個(gè)機(jī)構(gòu)；所述磁頭滑塊由于所述磁盤的轉(zhuǎn)動而浮起，以便借助于一個(gè)安裝在上面的磁頭元件，把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，并可從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；而所述機(jī)構(gòu)借助于施加的荷載力安排所述磁頭滑塊貼近所述磁盤，并且相對于所述磁盤可轉(zhuǎn)動地支承所述磁頭滑塊，其中所述磁頭滑塊是一種負(fù)壓型磁頭滑塊，它用來在一股空氣流的作用下生成一個(gè)正壓力，該空氣流由于磁盤轉(zhuǎn)動而從所述滑塊的一個(gè)浮動表面上流過，從而使磁頭滑塊克服施加在所述滑塊上的荷載力，相對于所述磁盤浮起；此外，它還用來在一股空氣流作用下形成一個(gè)負(fù)壓力，所述空氣流流入一個(gè)在所述磁頭滑塊浮動表面上界定的溝槽，從而使所述滑塊接近所述磁盤；在所述磁頭滑塊的一個(gè)尾部棱邊上裝有一個(gè)磁頭元件，它用來把數(shù)據(jù)記錄到所述磁盤上，以及從所述磁盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)；所述負(fù)壓力的一個(gè)中心位置相對于所述磁頭元件位置而言，位于跨越所述荷載力施加位置的一個(gè)位置上。
全文摘要
在一種負(fù)壓型磁頭滑塊中，安裝在磁頭滑塊尾部棱邊上的一個(gè)磁頭元件能穩(wěn)定地保持一個(gè)小的間隙量，它具有下述安排在浮動表面上的一個(gè)負(fù)壓力生成中心位置相對于荷載力施加位置而言位于前棱邊側(cè)，從而使磁頭滑塊具有穩(wěn)定的讀/寫性能。而且能減少磁頭滑塊損壞磁盤表面上數(shù)據(jù)及產(chǎn)生磁頭撞擊的危險(xiǎn)。當(dāng)一臺磁盤裝置裝有上述負(fù)壓型磁頭滑塊時(shí)，磁頭元件的間隙量就能穩(wěn)定地保持很小的數(shù)值，從而使這臺磁盤裝置具有穩(wěn)定的讀/寫性能。
文檔編號G11B21/21GK1135642SQ96102509
公開日1996年11月13日 申請日期1996年2月17日 優(yōu)先權(quán)日1995年2月21日
發(fā)明者小島康生, M·中沢, 小平英一, 松本真明, 竹內(nèi)芳德, 中村滋男 申請人:株式會社日立制作所