專利名稱：盤形記錄介質的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種適用于磁光盤及類似器件的盤形記錄介質。
在用作數(shù)據(jù)記錄/重放裝置的光盤裝置及類似裝置中，例如以一種預定方式儲存并處理傳輸?shù)囊暵爺?shù)據(jù)信息的視聽(AV)盤，有兩種類型，一種是手動類型，用戶變換作為信息記錄介質的碟盤；另一種是自動類型，由機械裝置自動變換碟盤。通常，后者是一種被稱作變換器的自動碟盤變換裝置。
變換器存放多個碟盤(無保護盒的碟盤)。在該變換器中設有碟盤提取裝置，以從存放多個碟盤的盒(倉室)中提取所需的碟盤，將其送到碟盤驅動器的托架(盤架)上，用完后將其從盤架上收回，送回到盒中。


圖18是用來解釋以通常方式變換碟盤的一種碟盤驅動器的平面圖，圖19是沿箭頭IX方向的側視圖。如圖18所示，芯軸72裝在碟盤驅動器的基座71的中心，用以驅動碟盤10旋轉，一個磁卡盤形的轉臺安裝在該芯軸72上。在支撐碟盤10中心的芯軸72的兩邊裝有盤架73，以帶動光盤上下移動。
芯軸72兩邊的盤架73具有如圖19所示的相同的結構，每個盤架都由從基座71伸出的立柱74支撐。每個盤架能夠沿與碟盤10的旋轉平面垂直的碟盤接觸/移開方向(圖19中的垂直方向)移動，由壓縮彈簧75的推力使盤架向上偏置。
這些盤架73與碟盤10的外邊緣的相對部位吻合(見圖18的交叉陰影線)以支承碟盤。當盤架73抬起時，由盤架73支撐的碟盤10位于芯軸72的較上部，如圖19的右半部分所示。當盤架73克服壓縮彈簧75的彈力向下移動時，盤架73處于比在轉臺70上的碟盤10低的位置，如圖19的左半部分所示。
一塊壓板76位于芯軸72和盤架73之上，將其蓋住，如圖18所示，圖中壓板76的一部分被割開。在圖18中壓板76具有左右邊緣部分，由邊板(圖中未畫出)支撐，由一個驅動裝置(圖中未畫出)使壓板76沿碟盤的安裝/分離方向(圖19中的垂直方向)移動。推桿77固定在壓板76的面對盤架73的部位。當壓板76向下移動時，它與盤架73接觸，使其克服壓縮彈簧75的彈力向下推。
變換器的盤柄78包括一對支撐桿和四個面對芯軸72安裝的爪形架(柄架)80，每個支撐桿79有兩個固定的柄架80。碟盤10可放在四個柄架80上。如圖20所示，由驅動裝置(圖中未畫出)驅動支撐桿79，使其能在基座71與壓板76之間的空間中進入，退出以及上下移動。
在這種現(xiàn)有裝置中，碟盤10可以按如下所述方式相對芯軸72作更換。為安放碟盤10，如圖20所示，將碟盤10放在盤柄78的柄架80上。然后，碟盤10進入基座71和壓板76之間的空間，即在盤架73與壓板76之間的位置，如圖19所示。當?shù)P10到達預定的位置時，碟盤10向下移動并被安放在盤架73內。然后移去盤柄78(見圖19和20的右半部分)。
隨后，由驅動裝置使壓板76向下移動，以致推桿77將盤架73推向較低位置。在這個過程中，碟盤10放在芯軸72上(見圖19的左半部分)。由在芯軸72上的磁卡盤形轉臺70將光盤10卡住。這就完成了放置碟盤10的整個過程。
在從轉臺70上退出碟盤10之前，先向上移動壓板76。當壓縮彈簧75的彈力使盤架73向上移動時，盤架73克服轉臺70的磁吸力從芯軸72取下碟盤10。這種情況表示在圖19的右半部分中。然后，盤柄78通過與裝入過程相反的較低位置進入基座71與壓板76之間的空間。盤柄78向上移動，從盤架73取下碟盤10并隨碟盤10一起從基座71與壓板76之中的空間移出。
碟盤10可以是用于記錄和重放信號，例如數(shù)據(jù)的磁光盤或僅用于重讀數(shù)據(jù)信息的光盤。圖21給出了這種碟盤10的一種構造。
參照圖21和22，圖22是圖21的側視圖，從圖21和圖22可以看出，具有很小線性膨脹系數(shù)的玻璃被用作碟盤10的介質基底1。用熱聚合物分兩步在玻璃基底1的一面形成用于軌跡控制的凹線(刻槽紋)，預先已記錄了碟盤管理信號、控制信號等的預格式化部分以及類似物，由濺射方法涂復并形成作為信號記錄部分的記錄膜2。用粘合劑在玻璃基底1上覆蓋并形成保護基片3，用以保護記錄膜2。標號5代表粘合劑層。卡盤形轂盤4在玻璃基底1的中間，在附圖的實例中，該轂盤4裝載成其上面面向轉臺70。
在現(xiàn)有技術中，作為保護部件的保護基片3用以保護形成在玻璃基底1上的記錄膜2。因為保護基片3的直徑等于玻璃基底1的直徑，所以玻璃基底1不能被充分保護。例如，當移動碟盤，玻璃基底1的外緣碰到固定物時，由于碰撞，玻璃基底1可能裂開或者由于扭曲受損，以致不能再使用。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種碟盤，克服現(xiàn)有技術的上述缺陷，改進基底外邊緣碰撞防護性能，提高碟盤的可靠性。
本發(fā)明是一種盤形記錄介質，它至少有一個盤形記錄介質基底，其一面作為信號記錄部分。該盤形記錄介質包括一個保護部件，用以保護記錄部分，相對記錄介質基底的外緣部分，該保護部件有一個周邊部分；一個凸緣部件，在記錄介質基底的外緣并與其相對。
由參照以下詳細描述來理解本發(fā)明的范圍。然而，以下描述只是優(yōu)選實施例，顯然對本領域的技術人員來說，可以作出本發(fā)明的各種修改和改變，其并不超出本發(fā)明的精神范圍。
參照以下描述以及實施例的附圖可以很好地理解本發(fā)明。然而，這些附圖只用作解釋而不是限定。附圖中圖1是用于本發(fā)明的記錄介質的一個實施例的透視圖；圖2是圖1的一個截面圖；圖3表示記錄介質的記錄面接觸到安放面的示意圖；圖4是圖3中A部分的放大圖；圖5是保護凸緣一部分的放大圖；圖6表示柄邊架與碟盤之間的關系圖；圖7表示當?shù)P正確放置時驅動器邊架與碟盤之間的關系圖；圖8表示當?shù)P反向放置時驅動器邊架與碟盤之間的關系圖；圖9表示當?shù)P放置不當時驅動器邊架與碟盤之間的關系圖；圖10表示一種前/后測定傳感器的一個實施例的電路圖；圖11表示傳感器輸出與碟盤距離之間的特性曲線；圖12表示一種前/后測定處理裝置的一個實施例的方框圖；圖13是記錄介質另一個實施例的部分截面圖；圖14是記錄介質的一個補充實施例的部分截面圖；圖15是能在雙面記錄數(shù)據(jù)的記錄介質的部分截面圖16是卡盤式記錄介質的一個實施例的部分截面圖；圖17是圖16的部分放大圖；圖18是一種碟盤重放裝置的主要部分的平面圖；圖19表示盤架升起狀態(tài)；圖20表示盤柄與驅動器之間的關系圖；圖21是記錄介質的立體圖；圖22是圖21的截面圖。
參照附圖將詳細討論根據(jù)本發(fā)明的記錄介質，在此本發(fā)明應用到了上述的碟盤記錄/重放裝置中。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的記錄介質10的一個實施例的立體圖。在這個實施例中，記錄介質10是一個磁光盤。該記錄介質被稱作一種碟盤。
記錄介質基底1可以是線性膨脹系數(shù)很小的盤形玻璃基底，由濺射在玻璃基底1的一個表面上一個預定區(qū)域均勻涂復并形成一個記錄膜2。一個保護基片6置于玻璃基底1上，蓋住記錄膜2，以致它們成為一體。一個卡盤形轂盤4設在玻璃基底1的中心部位。該轂盤4從玻璃基底1的表面稍微凸起一點。粘合劑可以是熱熔性粘合劑，兩面粘合膠帶及其類似物。
保護凸緣7覆蓋住玻璃基底1的外邊緣(邊緣部位)。在本實施例中，保護凸緣7可以是形成在保護基片6的外周邊上的法蘭并與保護基片6成為一體。保護凸緣7的高度La比從公共面至玻璃基底1的表面高度稍高一點，如圖4所示，其差值a最大約為1.5毫米，但在本實施例中為0.5毫米。
保護凸緣7吸收從外界來的撞擊，使其不能直接作用在玻璃基底1上。這樣，玻璃基底1受到保護而不被撞擊損壞。因為保護凸緣7和轂盤4從玻璃基底1表面稍稍凸出，所以當?shù)P10放在一個安放面8上以致玻璃基底1處在較低位置時，如圖3所示，玻璃基底1并不接觸安放面8，如圖4所示。因此，當安放時碰撞不能直接作用到玻璃基底1上。
保護基片6可以由聚碳酸酯樹脂或ABC樹脂制成。因為保護基片的材料不同于玻璃基底1的材料，所以在使用溫度下，它們的線性膨脹系數(shù)可能相互不同。當玻璃基底1膨脹，其外邊緣接觸并擠住保護凸緣7的內周邊表面時，玻璃基底1和保護基片6可能變形。為避免這種變形，在玻璃基底1和保護凸緣7之間留有一個間隙b(約0.5毫米)，如圖4所示。保護凸緣7的厚度可以是約1.0毫米。
圖5詳細地表示了保護凸緣7。如圖所示，保護凸緣7的外邊緣包括一個直面部分7a和一個從直面部分7a延伸下來的斜錐面部分7b。其尺寸取決于柄架80和放置碟盤10的盤架73之間的關系。在形成保護基片的過程中當從金屬模具中將其取出時斜錐面部分7b很有用。在樹脂成型中，在金屬模具的一個模腔側形成外表面6a，形成的空心部分6b作為模芯。在模芯側形成斜錐面部分，使從金屬模具中的取出過程得到改進。
當?shù)P10從倉室中取出和放入倉室或被送至驅動器時，圖18所示的盤柄78沿圖20的箭頭方向迅速移動。這樣，碟盤10在柄架80和盤架73中有一個比較大的加速度。
柄架80包括一個內表面圓錐部分81和一個底部82，臺階部分83支撐碟盤10，如圖6所示。內表面圓錐部分81形成為使得碟盤10平穩(wěn)地滑入至臺階部分83，甚至對碟盤10處理操作不當或將碟盤10放到臺階部分83的外部也能使其平穩(wěn)滑入到位。由于保護凸緣7有斜錐面部分7b，這就更容易將碟盤10放置在臺階部分83。
對于碟盤10來說，柄架80的安裝位置及其尺寸應適當?shù)刈鞒鋈缦逻x擇，以致臺階部分83的內表面的直面部分與保護凸緣7的直面部分7a緊密接觸。然而，下列值是當?shù)P10為8英寸盤時的一個實施例。
凸緣7的高度A＝2.6毫米凸緣7的斜錐面部分7b的高度B＝1.1毫米凸緣7的直面部分7a的高度(A-B)＝1.5毫米臺階部分83的高度C＝2.2毫米因此，保護凸緣7的直面部分7a與臺階部分83的直面部分的接觸面的高度(長度)D是1.1毫米。因為，接觸高度D等于或大于1毫米，所以，即使由換盤的進出操作使盤柄78沿箭頭P的方向迅速移動和碟盤10在柄架80中受到沿箭頭P方向的力的情況下，碟盤10也不會從柄架80中脫出。因此，對于盤柄78的高速進出能夠進行穩(wěn)定操作。
圖7給出了碟盤10和與裝在驅動器上的盤架73之間的關系。在該圖中，盤架73包括一個內表面圓錐部分86，一個底凸緣(法蘭)87和一個在上述兩者之間的直面匹配臺階部分88。匹配臺階部分88的作用是將碟盤10恰當?shù)匕卜旁诒P架73上而不晃動。與上述討論類似，內表面圓錐部分86形成為使得碟盤10保持在該內表面圓錐部分86的范圍之內并落入臺階部分88，既使是碟盤沒有恰當?shù)厮腿氡P架73也能如此。
最好是盤架73的厚度E盡可能薄，以使該器件小型化。在本實施例中，臺階部分88的高度L選為1.0毫米。另一方面，設在保護凸緣7上的斜錐面部分7b的尺寸為1.1毫米，并做成錐形。如果斜錐面部分7b的錐角是大的，或斜錐部分7b的圓角部分的圓度R是大的，則碟盤10和盤架73之間的間隙值K(盤架73的匹配臺階部分88的表面與保護凸緣7之間的距離)也大。這樣，相對于轉臺70可能降低碟盤10的定位精確性。
在圖5的實施例中，斜錐面部分7b的最大錐角是1.0度，圓角部分R的尺寸G小于0.2毫米。由于這些值被選定，所以碟盤10的間隙K很小，并且容易使其定位。
參見圖7，在底凸緣87的預定位置有一個開口89，其中有一個傳感器90用以確定碟盤10的前后面。前/后面?zhèn)鞲衅?0可以是反射式光學傳感器。
根據(jù)裝在盤架73上的碟盤10的光反射率，前/后面確定傳感器90確定碟盤10的前后面，因為碟盤前面的光反射不同于其背面的光反射。在本實施例中，來自玻璃基底1的反射光強，而來自保護基片6的反射光弱。因為玻璃基底1的反射率很高，所以不需作特殊處理。然而，保護基片6應作如下處理以使反射光變弱。
保護基片6的基質材料為聚碳酸酯樹脂并呈黑色。如圖5所示，通過刮刷打磨(scratch-brush finish)對保護基片6的外表面6a進行處理使其變得粗糙?？捎美?80號砂噴砂工藝(blast process)完成拋磨。刮刷打磨(拋磨)可用于部分或全部表面。處理表面應當是當?shù)P10正確放置時探測光能射到的碟盤10的表面(環(huán)帶面)。如果處理所有表面，則除最外邊緣區(qū)域6c(實際等于凸緣7的寬度)外都進行刮刷打磨。如果在最外邊緣區(qū)域6c也進行刮刷打磨，就會在該區(qū)域面上有交叉毛邊，這就需要清除交叉毛邊。然而，最外邊緣區(qū)域6c的寬度最好是盡可能的窄。當最外邊緣區(qū)域6c的寬度太寬，即使是碟盤10放置正確，該區(qū)域也可能接受探測光。這就可能導致錯誤探測。
如圖7所示，即使碟盤10與盤架73有間隙K，探測光也應射到最外邊緣區(qū)域6c的內側。為此，前/后面探測傳感器90需裝在從臺階部分88的內表面至玻璃基底1的邊緣表面的距離M更靠里的位置，如圖7所示。
前/后面確定傳感器90并不是放在任何靠里的位置都合適。其位置應選擇在盡可能靠近距離M的位置，從而，當由于斜放使碟盤10跑到了盤架73上時也能將該不正確的放置探測出來，如圖9所示。
當?shù)P10放在如圖7所示正確位置時，玻璃基底1的一側面對前/后面確定傳感器90，并且探測到的反射光很強。如果碟盤10放置合適，但由于放反而使保護基片6面對傳感器90，如圖8所示，反射光很弱。這樣，由探測反射光的強度能確定前后表面。
當玻璃基底1側面朝下，但碟盤10放置并不正確時，如圖9所示，此時底法蘭87與碟盤邊緣表面接觸，碟盤的另一邊緣表面跨過了另一個盤架73的內表面圓錐部分86。在這種情況下，碟盤10騎在了盤架73上，并且其偏移量大于盤架73的內表面圓錐部分86的寬度(在本裝置中大約為5毫米)，前/后面確定傳感器置于碟盤10之外，如圖9所示。在本例中，盤架73上的前/后面確定傳感器探測不到反射光，如圖9所示。由于另一個前/后面測定傳感器90實際上探測不到反射光，因為其發(fā)光值很小，所以通過監(jiān)測傳感器的輸出可以探測出這種不正確的放置情況。
圖10給出的前/后面確定傳感器90為反射式傳感器的一個實施例。在圖10中，光發(fā)射器可以是發(fā)光二極管91，光接收器可以是光敏晶體管94。驅動電壓通過電阻92加到發(fā)光二極管91。類似地，該驅動電壓通過電阻93加到光敏晶體管94。電阻93與光敏晶體管94的共同節(jié)點q為輸出端95。
當?shù)P10放置正確，玻璃基底1朝向傳感器1，如圖9所示，來自碟盤10的反射光很強，輸出端95的測定輸出(傳感器輸出)很小(參見圖11的曲線La)。如果碟盤10反向放置，如圖8所示，反射光很弱，輸出端95的傳感器輸出很大(參見圖11的曲線Lb)。圖9中碟盤沒有放置好時的傳感器輸出比圖8中的傳感器輸出還大(大約5V，參見圖11的曲線Lc)。根據(jù)各種傳感器輸出電平測定前后放置和碟盤的不正確放置。
圖11給出了傳感器輸出電平與從前/后面確定傳感器90到碟盤10的距離之間的關系，當該距離為1至3毫米時，傳感器輸出最穩(wěn)定。因此，當?shù)P10正確地放置在盤架73上時，它離前/后面確定傳感器90的距離大約保持在1毫米。在本實施例中，前/后面確定傳感器90安裝在低于底凸緣87表面的位置，如圖7所示。前/后面確定傳感器90固定在安裝板96上。
在碟盤10完全放置在盤架73上之前傳感器就開始工作了，立刻確認碟盤的前后面。例如，傳感器工作定時在當?shù)P向下移動至離底凸緣87約2毫米時。
圖12是一個確定前后狀態(tài)或不正確放置狀態(tài)的處理裝置的一個實施例。因為驅動器有一對盤架73，如圖18所示，每個盤架73有一個自己的前/后面確定傳感器90(90A、90B)。來自前/后面確定傳感器90A和90B的傳感器輸出Sa和Sb被送到各自的A/D轉換器101A和101B，并被變換成數(shù)字信號。這對數(shù)字化的比較輸出送到作為控制部分的一微機103。在軟件控制下微機103對比較輸出進行處理。
微機103設置兩個參照電平REFa和REFb，如圖11所示。第一個參照電平REFa用作確定前后面，第二個參照電平REFb用作確定不正確的放置狀態(tài)。
如果傳感器的輸出Sa和Sb低于參照電平REFa，碟盤10被確定為放置正確，如圖7所示。如果傳感器輸出Sa和Sb大于第一參照電平REFa，小于第二參照電平REFb，碟盤10被確定為反向放置，如圖8所示。當傳感器輸出Sa和Sb大于第二參照電平REFb，碟盤10被確定為放置不正確，如圖9所示。
根據(jù)微機103的控制輸出來控制驅動器104，以致控制壓板76的提升裝置105的升降狀況。微機103控制指示燈106的開/關狀態(tài)以及如LCD那樣的顯示器107的顯示狀況。
當?shù)P10放置不正確但并沒有改變其前后面時，如圖7所示，兩個比較輸出都是低電平。那么，壓板的提升裝置105起動，使碟盤10放置在盤架73上。在圖8所示的情形，微機103的控制輸出阻止壓板76上下移動。指示燈106產(chǎn)生報警(閃爍)并產(chǎn)生錯誤顯示信號，以致顯示部分107顯示該狀態(tài)(例如，反向放置狀態(tài))。根據(jù)指示和顯示，操作者能作出適當?shù)恼{整。在放置不正確的情況下，如圖9所示，壓板76不能上下移動，指示報警并作出報警顯示(如連續(xù)顯示狀態(tài))。
由于壓板76不能提升，在碟盤10卡入轉臺70之前該不正確狀態(tài)能被探測出來。這樣，碟盤10得到保護而不被損壞。這是因為，碟盤10的轂盤4只能從前表面?zhèn)?記錄表面?zhèn)?被卡住，如圖2所示，而不能從后表面?zhèn)?保護表面?zhèn)?卡住。如果碟盤10在放置不正確的情況下轉動，它會旋轉紊亂。如果碟盤并未正確地放在盤架3上而提升碟盤，如圖9所示，碟盤不能卡入轉臺70而可能被損壞。然而，這些不正確的放置狀態(tài)能被探測出來。
沒有必要在碟盤10的兩邊設置轂盤4，因為在碟盤10被卡住前就能確定不正確的放置狀態(tài)。如果根據(jù)碟盤10旋轉時產(chǎn)生的軌跡錯誤信號是否存在來測定前/后放置狀態(tài)，那么碟盤10應做成也能從背面卡住。
如圖12所示的轉換器101A和101B中的比較過程可通過軟件方式執(zhí)行，所以這兩個部件可以被省略，傳感器輸出可以直接加到微機103。
可采用在保護基片6上涂色代替用刮刷拋磨來減小保護基片6的反射率。可考慮混合約三種固定的顏料將保護基片6涂黑。在本例中，當使用紅外線確定前/后面時，紅外線可能穿透保護基片。可以將碳加到黑色顏料中防止紅外線穿透保護基片。
在圖1所示的情況下，在保護基片6的外邊緣形成保護凸緣7使之成為一體。然而，環(huán)形件110可以作為保護凸緣粘到保護基片6上，如圖13所示。在本例中，保護基片6的直徑比玻璃基底1稍大，環(huán)形件110被粘到保護基片6的伸出環(huán)形圓周上。環(huán)形件110的材料可以與保護基片6相同，或使用另一種材料，例如橡膠那樣的彈性體。
如果彈性體用作環(huán)形件110，就會提高減震效果。由于圓盤能用作保護基片6，采用一種滾輪將粘合劑迅速全部地涂上，使保護基片6與玻璃基底1合在一起。因此，大大提高生產(chǎn)效率。
在圖14所示的實施例中，保護基片6的直徑大致上等于玻璃基底1的直徑，環(huán)形件112粘在保護基片6上，以致蓋住保護基片6的外邊緣表面和玻璃基底1的外邊緣。環(huán)形件112的高度為La。
根據(jù)該圖，可加大環(huán)形件112的粘合劑覆蓋面，使環(huán)形件112牢固地粘在保護基片6上。在環(huán)形件112與玻璃基底1之間的空隙中可插入墊套113，墊套113的線性膨脹系數(shù)與保護基片6的相等。當然，墊套113可以起到固定環(huán)形件112的作用。環(huán)形件112可以由諸如橡膠那樣的彈性體制成。
圖15給出了能雙面記錄數(shù)據(jù)的一種碟盤，在本實施例中，玻璃基底1和1′聯(lián)結在保護基片115的兩面，基中記錄面2和2′在玻璃基底1和1′的內表面。一對轂盤4和4′分別裝在玻璃基底1和1′上，以致碟盤10從前后兩面的任何一面都能被卡住。為保護玻璃基底1和1′的外邊緣，保護凸緣116與保護基片115形成一體，從保護基片115的外邊緣部分上下凸起，上下凸起部分的高度相等。
保護凸緣116可以在保護基片115上獨立形成。在本例中，很容易將粘合劑涂在保護基片115的兩邊并且在很短的時間內就能完成這個過程。
圖16給出了存放帶保護凸緣的碟盤10的一種盤盒120。當要使用碟盤10時，就從盤盒120中將其取出。盤盒120包括一個主體122和一個上蓋123。主體122的內壁124防止碟盤10振動。在內壁124和碟盤10之間可以有一個小空隙，因為無此空隙很難放入碟盤10。
這樣，由于撞擊內壁124碟盤10有可能受損。保護基片6上的保護凸緣7能夠防止這種損壞，如圖17所示。保護凸緣7保護了玻璃基底1使其不能直接撞擊內壁124。從而防止了玻璃基底1的損壞。
如上所述，本發(fā)明用保護凸緣覆蓋了記錄介質基底的外邊緣。
根據(jù)本發(fā)明，當記錄介質基底的外邊緣受到撞擊，這樣的撞擊不能直接作用在記錄介質上并會被保護凸緣吸收。因此改善了碰撞保護特性，防止了記錄介質由于碰撞和事故造成的損壞。提高了記錄介質的可靠性。本發(fā)明適用于盤形記錄介質，例如用于視聽盤的磁光盤和其它磁光記錄/重放裝置。
權利要求
1.一種盤形記錄介質，具有至少一個盤形記錄介質基底，其一面有信息記錄部分，其包括一個相對于所述記錄介質基底外周邊有一個周邊部分的保護部件，用以保護所述的記錄部分；和一個在所述記錄介質基底的外邊緣與其面對的凸緣部件。
2.根據(jù)權利要求1所述的盤形記錄介質，其中所述凸緣部件裝在所述保護部件的周邊部位。
3.根據(jù)權利要求2所述的盤形記錄介質，其中在所述保護部件的周邊部位形成凸緣部件并與所述保護部件成為一體。
4.根據(jù)權利要求2所述的盤形記錄介質，其中所述凸緣部件固定在所述保護部件的周邊部位。
5.根據(jù)權利要求2所述的盤形記錄介質，其中在所述記錄介質其底邊緣和所述凸緣部件之間有一個間隙，該間隙吸收所述記錄介質基底和/或所述保護部件的膨脹變形。
6.根據(jù)權利要求2所述的盤形記錄介質，其中選擇所述凸緣部件的高度，使所述凸緣部件高出所述記錄介質基底的與所述保護部件不相接觸的一面。
7.根據(jù)權利要求6所述的盤形記錄介質，其中所述凸緣部件的外周邊與所述記錄介質基底不相對的表面上有一個斜錐面部分和一個在該表面上與所述斜錐面部分連續(xù)相接的直面部分，由所述直面部分限定了攜帶裝置安放所述盤形記錄介質的放置位置。
8.根據(jù)權利要求7所述的盤形記錄介質，其中所述保護部件的與所述記錄部分不接觸的表面的光反射率小于所述記錄介質基底的光反射率。
9.根據(jù)權利要求1所述的盤形記錄介質，其中所述記錄介質基底包括使用光束進行重放或記錄/重放信息的所述記錄部分。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種盤形記錄介質，其中，在一種玻璃基底上涂覆并形成一層記錄膜，一個保護基片與該玻璃基底粘合保護該記錄膜。保護凸緣與保護基片成為一體并面向玻璃基座的外邊緣。由于保護凸緣的存在，外部撞擊不能直接作用到玻璃基底上，使玻璃基底1得到了保護，從而玻璃基底不易碎裂或損壞。
文檔編號G11B11/00GK1164736SQ9610739
公開日1997年11月12日 申請日期1996年4月7日 優(yōu)先權日1995年4月7日
發(fā)明者淺野隆一, 小池重明, 坂本進 申請人:索尼公司