專利名稱：：磁記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用一種支承顏料(supportingpigment)穩(wěn)定化的磁記錄介質(zhì)。對(duì)于現(xiàn)代磁記錄介質(zhì)，經(jīng)常需要更大的儲(chǔ)存容量和更快的獲取儲(chǔ)存信息的速度。對(duì)磁帶狀記錄介質(zhì)，這些要求意味著，針對(duì)第一個(gè)要求，一方面磁帶厚度不斷減小，另一方面，磁層厚度不斷減少，至少對(duì)于實(shí)際中使用最多的縱向記錄法是這樣。針對(duì)第二個(gè)要求，結(jié)果是磁帶速度不斷增加。例如，現(xiàn)在高儲(chǔ)存容量磁帶狀記錄介質(zhì)的磁帶厚度僅10μm，與讀寫操作有關(guān)的磁層厚度約1μm，而現(xiàn)代高速驅(qū)動(dòng)器中的磁帶速度可能處于每秒幾米的范圍內(nèi)。尤其對(duì)于啟-停操作，當(dāng)目的是獲取預(yù)先選擇好的信息包時(shí)，高加速度可能在某些情況下對(duì)磁記錄介質(zhì)沿縱向產(chǎn)生作用力。與此相連的是動(dòng)態(tài)拉伸荷載以及作用在磁帶橫截面上的短期、高動(dòng)態(tài)拉伸應(yīng)力值。這可能甚至足以使磁帶狀記錄介質(zhì)產(chǎn)生塑性變形，該塑性變形可能在伴隨有荷載重復(fù)變化的連續(xù)應(yīng)力作用下導(dǎo)致撕裂。通常采用聚酯薄膜作為磁帶狀記錄介質(zhì)的帶基材料，例如含聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯者。已經(jīng)知道，這種材料的彈性模量為4～8GPa，視生產(chǎn)過程的具體條件而異，并且彈性極限不超過大約0.5％的伸長(zhǎng)率。這些數(shù)值是對(duì)薄膜試樣在靜態(tài)拉伸試驗(yàn)中測(cè)試得到的，這些試樣沿著薄膜生產(chǎn)機(jī)器的機(jī)器方向切割出來，并用一個(gè)適當(dāng)?shù)睦鞙y(cè)試裝置鉗住。因此，帶基材料本身能在彈性范圍內(nèi)吸收不超過這兩個(gè)特征之積的最大拉應(yīng)力，即40MPa。在EP-A0520155中，薄于或等于1μm厚度的現(xiàn)代磁層的彈性范圍特征是最小屈服點(diǎn)30MPa，屈服時(shí)的最小伸長(zhǎng)率0.2％。該帶基層和該磁層的上述彈性極限決定了，用所述帶基層和所述磁層所構(gòu)成的磁帶狀記錄介質(zhì)的彈性拉伸應(yīng)力為30～40MPa，彈性伸長(zhǎng)率為0.2～0.5％。類似地，JP-A57-078630、JP-A57-078629和JP-A02-260229的主題也是磁帶狀記錄介質(zhì)的彈性。前兩個(gè)文獻(xiàn)的創(chuàng)新概念在于確定縱向和橫向的彈性模量之比不大于2.5，以使得磁記錄性能不會(huì)受到記錄介質(zhì)的變形的損害。JP-A02-260229涉及到改善磁層的壽命及其運(yùn)轉(zhuǎn)性能。該文建議增加另一個(gè)磁層作為解決辦法，該磁層作為在非磁性帶基層和實(shí)際記錄層之間的下層，且該下層的彈性模量大于記錄層。根據(jù)這些專利所生產(chǎn)的磁帶狀磁記錄介質(zhì)均不能具有令人滿意的高彈性拉伸應(yīng)力范圍和令人滿意的高彈性模量。本發(fā)明的一個(gè)目的是改正上述缺點(diǎn)，并提供一種彈性的磁帶狀磁記錄介質(zhì)，用于高速磁帶驅(qū)動(dòng)器中隨時(shí)間變化的高拉伸應(yīng)力情況。我們已發(fā)現(xiàn)這樣一種磁帶狀記錄介質(zhì)I可達(dá)到該目的，該磁帶狀記錄介質(zhì)包含一個(gè)非磁性帶基層III，在該帶基層上涂敷至少一層，并在這些層的至少一層中，含有一種適用于作為支承顏料、且其平均長(zhǎng)度和平均直徑之比至少為3的無機(jī)針狀顏料II，其中，上述各層沿磁帶狀記錄介質(zhì)I縱向上的平均彈性模量不小于15GPa。我們還發(fā)現(xiàn)了適用作支承顏料的新型含鉻無機(jī)針狀顏料VI和VII、其制備方法及其應(yīng)用，尤其是用于聚合物材料的各向異性強(qiáng)化。在本文中，彈性模量被理解為拉伸時(shí)的彈性模量E，它由拉應(yīng)力與縱向伸長(zhǎng)相比而得，并可方便地根據(jù)眾所周知的方法而確定。支承顏料宜采用鐵磁性和非鐵磁性無機(jī)針狀顏料II。鐵磁性顏料II宜用金屬顏料，例如Fe、Co、Ni和這些元素的合金，以及氧化物顏料，例如γ-Fe2O3，和含Co的γ-Fe2O3、Fe3O4，優(yōu)選含鉻的氧化物顏料，例如CrO2，尤其是那些分子式為VI的氧化物顏料CraOx·nH2OVI其中，a是鉻的平均化合價(jià)，3.0＜a≤3.25，優(yōu)選3.0＜a≤3.1；x是鉻的化合價(jià)所決定的氧當(dāng)量？；n則是含水量，0＜n＜(4-a)/2。根據(jù)本發(fā)明，顏料VI可由占重量50％的內(nèi)核和占重量50％的外殼組成，內(nèi)核和外殼中Cr(IV)和Cr(III)的原子比可能相同或不同。非鐵磁性顏料II宜優(yōu)選氧化物顏料，例如FeOOH、α-Fe2O3，尤其是分子式為VII的含鉻顏料Cr2O3·nH2OVII其中，n值為0～0.5。顏料VI和VII的制備是通過在400～500℃下、優(yōu)選440～480℃下、尤其有利的是在450～470℃下，在尤其含有分子氧的氣體中，例如空氣中，加熱分子式如下的顏料VIIICrOx其中，x為1.8≤x≤2.2。生成這兩種顏料的反應(yīng)時(shí)間為0.5～10小時(shí)，優(yōu)選0.5～2小時(shí)，其中顏料VIII可以在加熱之前采用本來已知的方式提純，例如用水沖洗。有利的是，顏料VIII在加熱之前可以用有機(jī)化合物或者優(yōu)選無機(jī)化合物處理，例如無機(jī)堿，宜用堿金屬氫氧化物、堿土金屬氫氧化物和土金屬氫氧化物，例如氫氧化鉀、氫氧化鈣，尤其是氫氧化鈉，或者它們的堿式鹽，例如碳酸鹽或亞硫酸鹽，尤其是亞硫酸鈉。宜在無機(jī)物，尤其是水溶液中，在pH為7～14，尤其是11～13下，在10～90℃下反應(yīng)0.5～10小時(shí)，尤其是0.5～5小時(shí)，但亞硫酸鹽除外，對(duì)其建議采用7～9的pH值。顏料VI和VII也可通過顏料VIII和一種還原劑在水熱條件下首先反應(yīng)而制備，反應(yīng)溫度為110～250℃，優(yōu)選160～230℃，尤其是190～210℃；反應(yīng)壓力為2～500巴，優(yōu)選100～300巴，尤其是150～250巴；反應(yīng)過程為10～500小時(shí)，優(yōu)選50～250小時(shí)，尤其是80～120小時(shí)。還原劑宜用無機(jī)化合物，或者優(yōu)選有機(jī)化合物，例如羧酸，尤其是草酸。反應(yīng)產(chǎn)物可在反應(yīng)混合物中進(jìn)一步處理，或者宜用已知的方法，例如過濾，從懸浮液中分離出來，并且宜提純，例如沖洗。根據(jù)本發(fā)明，接著在100～500℃下，優(yōu)選200～400℃下，在一種尤其是含分子氧的氣體中，例如空氣，加熱反應(yīng)產(chǎn)物，反應(yīng)時(shí)間為0.5～10小時(shí)，優(yōu)選0.5～2小時(shí)。反應(yīng)產(chǎn)物在加熱之前可以用有機(jī)化合物或者優(yōu)選無機(jī)化合物處理，例如無機(jī)堿，宜用堿金屬氫氧化物、堿土金屬氫氧化物和土金屬氫氧化物，例如氫氧化鉀、氫氧化鈣，尤其是氫氧化鈉，或者它們的堿式鹽，例如碳酸鹽或亞硫酸鹽，尤其是亞硫酸鈉。宜在無機(jī)物，尤其是水溶液中，在pH為7～14，尤其是11～13下，在10～90℃下反應(yīng)0.5～10小時(shí)，尤其是0.5～5小時(shí)，但亞硫酸鹽除外，對(duì)其建議采用7～9的pH值。顏料VI和VII可以用有機(jī)化合物或者優(yōu)選無機(jī)化合物處理，例如無機(jī)堿，宜用堿金屬氫氧化物、堿土金屬氫氧化物和土金屬氫氧化物，例如氫氧化鉀、氫氧化鈣，尤其是氫氧化鈉，或者它們的堿式鹽，例如碳酸鹽或亞硫酸鹽，尤其是亞硫酸鈉。宜在無機(jī)物，尤其是水溶液中，在pH為7～14，尤其是11～13下，在10～90℃下反應(yīng)0.5～10小時(shí)，尤其是0.5～5小時(shí)，但亞硫酸鹽除外，對(duì)其建議采用7～9的pH值。如同眾所周知的那樣，支承顏料II、VI和VII可以含有其它化學(xué)元素或化合物。根據(jù)本發(fā)明，針狀顏料II、VI和VII的針狀物平均長(zhǎng)度與針狀物平均直徑之比為3∶1～15∶1，優(yōu)選5∶1～10∶1，長(zhǎng)度為50～400nm，優(yōu)選90～300nm，尤其是100～200nm。按照DIN66132測(cè)試，顏料VI和VII的比表面積應(yīng)為30～150m2/g，優(yōu)選50～100m2/g。根據(jù)本發(fā)明，顏料VI的飽和磁化強(qiáng)度為0.1～65nTm3/g，優(yōu)選0.1～40nTm3/g，尤其是0.1～22nTm3/g，且剩余磁感為0.05～24nTm3/g，優(yōu)選0.05～12nTm3/g，尤其是0.05～5nTm3/g。顏料II，優(yōu)先是VI和VII，適宜用于尤其是聚合物材料的各向異性強(qiáng)化。這種聚合物材料可能適合于涂敷表面，例如薄膜，或者涂敷三維物體，諸如圓柱體，例如線材。為了生產(chǎn)以該方式強(qiáng)化的聚合物材料或?qū)樱鶕?jù)本發(fā)明，在聚合物材料的熔融物或溶液中，或者在可用于制備聚合物材料的化合物的熔融物或溶液中，加入顏料II，尤其是VI或VII，然后固化混合物或者任其固化。對(duì)于聚合物材料的各向異性強(qiáng)化，特別有利于用在新型磁記錄介質(zhì)I中，可以在聚合物材料的固化或固化之前，定向支承顏料II，尤其是VI或VII。對(duì)于非鐵磁性支承顏料，通過諸如流變學(xué)措施來達(dá)到該定向，例如將混合物傾倒、流過一個(gè)窄縫。對(duì)于鐵磁性支承顏料II，尤其是VI，宜借助于一個(gè)外加磁場(chǎng)進(jìn)行定向。由一個(gè)含鐵磁性支承顏料II的層夾在帶基層III和一個(gè)適合于信息儲(chǔ)存的層IV之間所組成的特別有利的的磁記錄介質(zhì)中，層V中的定向率至少應(yīng)為2.5，而層IV的至少為4.0。定向率指磁帶狀磁記錄介質(zhì)在運(yùn)轉(zhuǎn)方向上的剩余磁感與磁記錄介質(zhì)在垂直于該方向上的剩余磁感之比。顏料II(優(yōu)選VI和VII)的定向可以用超薄切片法測(cè)定。為此，使用一臺(tái)透射電子顯微鏡在不低于20,000倍的放大倍數(shù)下，觀察厚度為0.1～0.2μm的超薄切片。在約20μm寬的測(cè)量區(qū)域內(nèi)，每塊切片隨機(jī)選擇50～100粒針狀顏料，確定沿磁帶縱向的平均直徑(dL)和橫向的平均直徑(dT)。當(dāng)dL≥2·dT時(shí)，認(rèn)為顏料主要沿磁帶縱向定向。已經(jīng)知道，磁帶狀磁記錄介質(zhì)I含有非磁性帶基層III和至少一層適合于儲(chǔ)存磁信息的層IV(磁層)。本新型磁記錄介質(zhì)I可以在非磁性帶基層III中，在至少一層適合于信息儲(chǔ)存的層IV中，或在至少一層層V中，含有所述的支承顏料II。層V可以置于帶基層III和一個(gè)磁層IV之間，或者置于帶基層III的背離磁層IV一面上。非磁性帶基層III可以采用常規(guī)的剛性或柔性帶基層，尤其是線型聚酯，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的膜，其厚度通常為4～200μm，尤其為6～36μm。該新型磁記錄介質(zhì)I的磁層IV可以基于或者蒸鍍或者噴鍍的金屬薄膜，該薄膜主要含鐵磁性元素，例如Fe、Co和Ni或它們的合金，或者基于鐵磁性顏料。為了生產(chǎn)這種層，可以采用本身已知的方式將顏料，如果需要，和填料分散在含有一種溶劑、粘合劑和另外的添加劑(如潤(rùn)滑劑和分散劑)的溶液中，并可以涂敷到非磁性帶基層上。當(dāng)鐵磁性顏料在一個(gè)強(qiáng)磁場(chǎng)中定向后，可采用普通方式進(jìn)一步處理，例如在需要時(shí)除去溶劑、固化粘合劑并隨后用壓光機(jī)壓光。磁性顏料宜為常規(guī)氧化物顏料，例如γ-Fe2O3、Fe3O4和CrO2，或金屬顏料，如Fe、Co和Ni。眾所周知的是，這些顏料可以含有其它化學(xué)元素或化合物。所用的溶劑照例可以是水、醚(例如四氫呋喃或二氧己環(huán))、酮(例如丁酮或環(huán)己酮)、酯(例如醋酸乙酯)或烴(例如烷烴或芳烴)，或這些溶劑的混合物。已經(jīng)知道，粘合劑宜用聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酰胺、乙烯基聚合物，如聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚醋酸乙烯酯、聚丙酸乙烯酯或聚丙烯腈，含纖維素的粘合劑，如纖維素酯，尤其是硝酸纖維素，醋酸纖維素、三醋酸纖維素、乙酰-丙酸纖維素或乙酰-丁酸纖維素，苯氧基樹脂，環(huán)氧樹脂，或優(yōu)選聚氨酯和嵌段聚合物或這些化合物的共聚物。適宜的聚氨酯可參見，例如DE-B1106959、DE-B2753694、DE-A3226995、DE-A3227163和DE-A3227164所述?？梢圆捎镁郯滨プ鳛槲ㄒ坏恼澈蟿?，或者優(yōu)選地，與其他聚合物一起使用，例如聚乙烯醇縮甲醛、苯氧基樹脂、PVC或PVC共聚物。聚氨酯或聚氨酯混合物的耐磨性和彈性模量可進(jìn)一步通過將這些化合物與多官能異氰酸酯交聯(lián)而提高，尤其是具有兩個(gè)以上異氰酸酯基團(tuán)者。宜采用二官能異氰酸酯，如亞甲苯基二異氰酸酯、1，6-己二異氰酸酯或具有分子式的異佛爾酮二異氰酸酯，與多元醇加成反應(yīng)，或者通過縮二脲或異氰尿酸酯形成而制備這種交聯(lián)劑。三羥甲基丙烷和二甘醇與亞甲苯基二異氰酸酯的加合物尤其適用作交聯(lián)劑。經(jīng)過幾次簡(jiǎn)單的預(yù)備試驗(yàn)，就可方便地確定所需的交聯(lián)劑數(shù)量與達(dá)到最佳性能特征的聚氨酯數(shù)量之比。常用的潤(rùn)滑劑為含10～20個(gè)碳原子的羧酸，尤其是硬脂酸和棕櫚酸，羧酸衍生物，如它們的鹽，酯和酰胺，或氟化烴。分散劑可按通常的方式使用陽離子、非離子表面活性劑，優(yōu)選陰離子表面活性劑，諸如羧酸鹽、磺酸鹽、膦酸鹽或碳?xì)浠衔锏牧姿猁}，尤其是烷基或芳基化合物。已經(jīng)知道，填料宜用無機(jī)或有機(jī)顏料，如氧化鋁、二氧化硅、碳黑、聚乙烯和聚丙烯。在生產(chǎn)磁記錄介質(zhì)I時(shí)，可在帶基層上涂敷多個(gè)磁層IV，其中至少一層含有一種支承顏料II，或者多個(gè)層V，其中至少一層含有一種支承顏料II。實(shí)施例CrO2顏料的制備實(shí)施例1在10分鐘內(nèi)將554gCrO3分散在159g水中，在40～60℃下向混合物中緩慢加入70g酒石酸氧銻鉀(PAT)，并在60℃下攪拌5分鐘。然后在20～30℃下，在3分鐘內(nèi)一邊攪拌一邊加入170gCr2O3。然后充分?jǐn)嚢?5分鐘以均化，同時(shí)溫度上升到80℃。在混合物冷卻到30℃后，在一個(gè)高壓釜中，在3小時(shí)內(nèi)將其加熱到320～350℃，并在該溫度下保持9小時(shí)，最大壓力為360巴。然后冷卻混合物，在混合物溫度為200℃時(shí)將高壓釜去壓。然后在50℃下干燥產(chǎn)物并磨細(xì)。性能見表1。實(shí)施例2a-g攪拌下將1000g實(shí)施例1中的產(chǎn)物25℃下懸浮在由780g草酸溶于1490g水中所得到的混合物中。然后將混合物置于高壓釜中，在210℃和混合物自身產(chǎn)生的壓力下保持96小時(shí)。再將產(chǎn)物按表2所述的處理?xiàng)l件在空氣中加熱。性能見表2。實(shí)施例3將100g實(shí)施例1所得的產(chǎn)物分散在1000g水中并濕磨。然后，過濾混合物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs，再將殘余物分散在1000g水中。然后將由11g亞硫酸鈉溶于50g水中得到的溶液加入混合物中，并在20～28℃下攪拌30分鐘。接著過濾產(chǎn)物，并沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs。濾餅在50℃下干燥，并磨細(xì)至顆粒尺寸小于1mm。性能見表1。實(shí)施例4將100g實(shí)施例1所得的產(chǎn)物分散在1000g水中并濕磨。然后，過濾混合物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs，再將殘余物分散在1000g水中。接著用15％重量濃度的氫氧化鈉溶液將pH值調(diào)到12，并且在55℃和pH＝12下攪拌2小時(shí)。然后，過濾產(chǎn)物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs。濾餅在50℃下干燥，并磨細(xì)至顆粒尺寸小于1mm。性能見表1。實(shí)施例5將100g實(shí)施例1所得的產(chǎn)物分散在1000g水中并濕磨。然后，過濾混合物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs，再將殘余物分散在1000g水中。在攪拌和氮?dú)獗Ｗo(hù)下，將混合物加熱到85℃，在85℃下加入20g亞硫酸鈉溶于100g水中得到的溶液，并在85℃下攪拌2小時(shí)。然后，過濾產(chǎn)物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μs。濾餅在50℃下干燥，并磨細(xì)至顆粒尺寸小于1mm。性能見表1。實(shí)施例6將100g實(shí)施例1所得的產(chǎn)物分散在1000g水中并濕磨。然后，過濾混合物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μS，濾餅在50℃下干燥，并磨細(xì)至顆粒尺寸小于1mm。產(chǎn)物在一個(gè)旋轉(zhuǎn)管式爐中加熱，其中在460℃下和空氣氛圍中停留30分鐘。性能見表1。實(shí)施例7將100g實(shí)施例6所得的產(chǎn)物分散在1000g水中并濕磨。然后，過濾混合物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μS，再將殘余物分散在1000g水中。然后用15％重量濃度的氫氧化鈉水溶液將pH值調(diào)到12，并且在55℃和pH＝12下攪拌2小時(shí)。之后，過濾產(chǎn)物，用水沖洗濾餅，直到?jīng)_洗用水在20℃下的電導(dǎo)率小于50μS。濾餅在50℃下干燥，并磨細(xì)至顆粒尺寸小于1mm。性能見表1。磁記錄介質(zhì)的制備實(shí)施例8在一層14μm厚的非磁性聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯帶基層上涂敷一層1.2μm厚的第一種分散體，該分散體含1000重量份實(shí)施例5所述的氧化鉻顏料、75重量份含極性結(jié)合基團(tuán)(anchorgroup)的乙烯基聚合物、95重量份含含極性結(jié)合基團(tuán)的聚氨酯、25重量份硬脂酸、180重量份四氫呋喃和180重量份二噁烷。再在該層上涂敷一層0.4μm厚的第二種分散體，用定向磁場(chǎng)定向，干燥并以壓光機(jī)壓光；第二種分散體含1000重量份矯頑力為133kA/m且比表面積為52m2/g的鐵磁性金屬顏料、80重量份顆粒尺寸為0.2μm的α-Al2O3、77重量份含極性結(jié)合基團(tuán)的乙烯基聚合物、77重量份含極性結(jié)合基團(tuán)的聚氨酯、10重量份磷酸酯、25重量份硬脂酸、22.5重量份聚異氰酸酯、1837.5重量份四氫呋喃和1837.5重量份二噁烷。這樣得到一種具有很好的磁性能與機(jī)械性能的新型磁記錄介質(zhì)。實(shí)施例9除了第一種分散體不是含1000重量份實(shí)施例5所述的氧化鉻顏料，而是含1000重量份實(shí)施例7所述的氧化鉻顏料之外，其余過程同實(shí)施例8。這樣得到一種具有優(yōu)異的磁性能與機(jī)械性能的新型磁記錄介質(zhì)。實(shí)施例10除了第一種分散體不是含1000重量份氧化鉻顏料，而是含1000重量份平均針長(zhǎng)為125nm、平均針直徑為25nm的α-Fe2O3顏料之外，其余過程同實(shí)施例8。這樣得到一種具有良好的磁性能與機(jī)械性能的新型磁記錄介質(zhì)。比較例除了第一種分散體不是含1000重量份氧化鉻顏料，而是含1000重量份平均長(zhǎng)度為60nm、平均直徑為30nm的TiO2顏料之外，其余過程同實(shí)施例8。所得磁記錄介質(zhì)各層的彈性模量為13GPa。表1</tables>表2</tables></tables>權(quán)利要求1.一種磁帶狀磁記錄介質(zhì)I，它含有一個(gè)非磁性帶基層III，在該帶基層上涂敷至少一層，并在這些層的至少一層中，含有一種適用于作為支承顏料、且其平均長(zhǎng)度和平均直徑之比為3∶1～15∶1的無機(jī)針狀顏料II，其中，上述各層沿磁帶狀記錄介質(zhì)I縱向上的平均彈性模量不小于15GPa。2.按照權(quán)利要求1的一種磁帶狀磁記錄介質(zhì)I，它在磁帶狀磁記錄介質(zhì)I縱向上的彈性模量不小于20GPa。3.按照權(quán)利要求1或2的一種記錄介質(zhì)I，它含有a)一個(gè)非磁性帶基層III和b)一個(gè)適合于磁信息儲(chǔ)存的層IV。4.按照權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，包括一含有一種粘合劑和一種支承顏料的層V。5.按照權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，其中非磁性帶基層III含有一種支承顏料II。6.按照權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，其中適合于儲(chǔ)存磁信息的層IV含有一種支承顏料II。7.按照權(quán)利要求3的一種記錄介質(zhì)I，其中層V設(shè)置在一個(gè)非磁性帶基層III和一個(gè)適合于磁信息儲(chǔ)存的層IV之間。8.按照權(quán)利要求3的一種記錄介質(zhì)I，其中非磁性帶基層III設(shè)置在一個(gè)層V和一個(gè)適合于磁信息儲(chǔ)存的層IV之間。9.按照權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，其中一個(gè)適合于儲(chǔ)存磁信息的層IV含有一種粘合劑和細(xì)分散的鐵磁性顏料。10.按照權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，其中一個(gè)適合于儲(chǔ)存磁信息的層IV基本上包括一種鐵磁性金屬或鐵磁性合金。11.按照權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，它含有一種鐵磁性顏料作為支承顏料II。12.按照權(quán)利要求11的一種記錄介質(zhì)I，它含有鐵磁性金屬或合金顏料作為支承顏料II。13.按照權(quán)利要求11的一種記錄介質(zhì)I，它含有鐵磁性金屬氧化物顏料作為支承顏料II。14.按照權(quán)利要求13的一種記錄介質(zhì)I，它含有γ-Fe2O3顏料、含Co的γ-Fe2O3顏料、γ-Fe3O4顏料或CrO2顏料作為支承顏料II。15.按照權(quán)利要求13的一種記錄介質(zhì)I，它含有分子式如下的針狀含鉻顏料作為支承顏料CraOx·nH2OVI其中，a是鉻的平均化合價(jià)，3.0＜a≤3.25，x是鉻的化合價(jià)所決定的氧當(dāng)量，n則是含水量，0＜n＜(4-a)/2，該顏料的平均針長(zhǎng)與平均針直徑之比為3∶1～10∶1。16.按照權(quán)利要求15的一種記錄介質(zhì)I，其中顏料VI包含a)占重量50％的內(nèi)核和b)占重量50％的外殼且內(nèi)核和外殼中Cr(IV)與Cr(III)的原子比相等。17.按照權(quán)利要求15的一種記錄介質(zhì)I，其中顏料VI包含a)占重量50％的內(nèi)核和b)占重量50％的外殼且外殼中的Cr(IV)與Cr(III)的原子比高于內(nèi)核中該值。18.按照權(quán)利要求15的一種記錄介質(zhì)I，其中顏料VI包含a)占重量50％的內(nèi)核和b)占重量50％的外殼且內(nèi)核中的Cr(IV)與Cr(III)的原子比高于外殼中該值。19.按照權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，它含有一種非鐵磁性顏料作為支承顏料II。20.按照權(quán)利要求19的一種記錄介質(zhì)I，它含有FeOOH或-Fe2O3作為支承顏料II。21.按照權(quán)利要求19的記錄介質(zhì)I，它含有式VII顏料Cr2O3·nH2OVII作為一種支承顏料II，其中，n值為0～0.5，該顏料的平均針長(zhǎng)與平均針直徑之比為3∶1～10∶1。22.按照權(quán)利要求14～18和21中任一項(xiàng)的一種記錄介質(zhì)I，它含有a)一種非磁性帶基層III，且其上設(shè)置b)一個(gè)含有粘合劑和含鉻針狀金屬氧化物的層V，該金屬氧化物的顏料平均長(zhǎng)度與平均直徑之比至少為7，且定向率至少為4。且該層V上設(shè)置c)一個(gè)含有一種粘合劑和鐵磁性金屬顏料的適合于信息儲(chǔ)存的層IV，該磁帶狀記錄介質(zhì)I在縱向上的彈性模量大于30GPa。23.一種適合于作為支承顏料且按照權(quán)利要求15～18、21和22的顏料VI或VII。24.按照權(quán)利要求15～18和21～23的適合于作為支承顏料的顏料VI或VII，該顏料的平均針長(zhǎng)為100～400nm。25.制備按照權(quán)利要求15～18和21～24的顏料VI或VII的方法，其中在400～500℃下加熱分子式為VIIICrOxVIII的顏料，在此x滿足1.8≤x≤2.2。26.制備按照權(quán)利要求15～18和21～24的顏料VI或VII的方法，其中分子式為VIIICrOxVIII的顏料在110～250℃在水熱條件下與一種還原劑反應(yīng)，然后在200～400℃下加熱，在此，x滿足1.8≤x≤2.2。27.按照權(quán)利要求15～18和21～26的顏料VI或VII在改善聚合物材料機(jī)械性能上的應(yīng)用。28.按照權(quán)利要求15～18和21～26的顏料VI和VII在聚合物材料機(jī)械性能的各向異性改善上的應(yīng)用。29.按照權(quán)利要求27的聚合物材料的機(jī)械性能的一種改善方法，其中顏料VI或VII被添加到聚合物材料的熔融物或溶液中，或者添加到可以用來制備聚合物材料的化合物的熔融物或溶液中，然后再固化混合物或任其固化。30.按照權(quán)利要求28的聚合物材料機(jī)械性能的各向異性改善方法，其中顏料VI或VII被添加到聚合物材料的熔融物或溶液中，或者添加到可以用來制備聚合物材料的化合物的熔融物或溶液中，且其中用流變學(xué)方法定向這些顏料，并固化這些材料或任其固化。31.按照權(quán)利要求28的聚合物材料機(jī)械性能的各向異性改善方法，其中顏料VI或VII被添加到聚合物材料的熔融物或溶液中，或者添加到可以用來制備聚合物材料的化合物的熔融物或溶液中，且其中在一個(gè)外加磁場(chǎng)中定向顏料，并固化這些材料或任其固化。32.按照權(quán)利要求29～31中任一項(xiàng)能得到的混合物。33.含有一種按照權(quán)利要求32的混合物的一種磁記錄介質(zhì)。全文摘要一種磁帶狀磁記錄介質(zhì)Ⅰ,它含有一個(gè)非磁性帶基層Ⅲ,在該帶基層上涂敷至少一層,并在這些層的至少一層中,含有一種適用于作為支承顏料、且其平均長(zhǎng)度和平均直徑之比為3∶1～15∶1的無機(jī)針狀顏料Ⅱ,其中,上述各層沿磁帶狀記錄介質(zhì)Ⅰ縱向上的平均彈性模量不小于15GPa。文檔編號(hào)G11B5/708GK1179851SQ96192876公開日1998年4月22日申請(qǐng)日期1996年3月18日優(yōu)先權(quán)日1996年3月18日發(fā)明者A·里恩爾,H·加庫切,V·科切,M·奧林格爾,A·科爾,W·倫茲,N·施奈德,P·赫爾曼,R·J·維特切,E·霍夫曼,W·霍布尼爾,H·加喬,R·里奈特申請(qǐng)人:埃姆特克磁性公司