專利名稱：光記錄光盤的初始化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及可將相變位光記錄光盤或磁光盤初始化的裝置，特別是一種具有特殊設(shè)計(jì)的機(jī)構(gòu)及光學(xué)系統(tǒng)，可快速地將光記錄材料初始化的初始化裝置。
以相變位光記錄光盤的初始化為例，目前已有商業(yè)化的相變位光記錄光盤的典型結(jié)構(gòu)，其由具有微細(xì)溝紋1.2或0.6厘米的PC基材、第一介電層、相變位光記錄材料、第二介電層、鍍鋁反射層及紫外線硬化涂層組成。其中相變位光記錄材料利用濺鍍或其它鍍膜程序鍍膜后，由于目前通用的各種鍍膜工序限制，此鍍膜乃以非晶質(zhì)的形態(tài)均勻鍍在光盤基材上。經(jīng)過鍍層處理后的每一片相變位光記錄光盤必須經(jīng)過初始化程序，利用加熱方式將相變化材料加熱至超過攝氏200度以上的晶質(zhì)化溫度，使非晶質(zhì)化的相變位光記錄材料轉(zhuǎn)變?yōu)榫з|(zhì)化形態(tài)，提高相變位光記錄光盤的反射率，如此才能提供光學(xué)拾取頭足夠反射光強(qiáng)度，使光學(xué)拾取頭的自動尋軌及自動對焦機(jī)制能正常運(yùn)作，達(dá)到寫入數(shù)據(jù)的目的。目前將相變位光記錄材料由非晶質(zhì)化狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榫з|(zhì)化形態(tài)的方法有全域加熱及局部加熱兩種方式。由于一般PC基材的玻璃溫度均在攝氏150度至200度之間，因此全域加熱方式無法應(yīng)用于相變位光記錄材料的初始化；至于局部加熱方式，在不超過PC基材的玻璃溫度且能在相變位光記錄材料面上產(chǎn)生攝氏約200度以上溫度，最佳的方式是利用高功率激光管，將高功率激光管經(jīng)由高數(shù)值孔徑的透鏡將光束能量聚焦在相變位光記錄材料面上，使記錄材料層局部瞬間加熱而達(dá)到初始化。此時由于聚焦光束投影在PC基材的面積比聚焦在相變位光記錄材料層的光點(diǎn)大許多，投影在PC基材的光強(qiáng)度較低，所以當(dāng)聚焦光束聚焦在相變位光記錄材料層局部瞬間加熱作初始化時，PC基材的溫度仍可維持低于玻璃溫度以下，不會有相變位光記錄光盤變形翹曲的問題產(chǎn)生。
相變位光記錄光盤的可擦試能力直接影響盤片的重復(fù)讀寫的次數(shù)，可擦試能力又與初始化條件直接相關(guān)，此所指的初始化條件特別指的是激光點(diǎn)在光盤的相變位光記錄層對盤片每一位置局部加熱，使光盤片上每個位置接收到同樣的能量，使得晶質(zhì)化的相變位光記錄材料層的結(jié)晶顆粒具有一致性，即經(jīng)初始化后的相變位光記錄光盤具有一致的反射率，此時相變位光記錄光盤的可擦試能量便可提高。而要提高相變位光記錄光盤反射率的均勻度，主要的關(guān)鍵為初始化所使用高能量激光聚焦在相變位光記錄材料的光點(diǎn)的大小及能量密度的變異度。在能量密度維持不變的情形之下，若聚焦在相變位光記錄材料上的光點(diǎn)寬度愈寬，則可提高相變位光記錄光盤的可擦試能力，而且初始化線速度也可相對提高，增加產(chǎn)量。


圖1為習(xí)知的光記錄光盤的初始化裝置，此裝置主要由單一旋轉(zhuǎn)主軸103、線性位移平臺102及包含自動對焦系統(tǒng)與初始化光源的光學(xué)頭101所組成，光記錄光盤104以真空吸附或其它機(jī)械固定方式被固定在旋轉(zhuǎn)主軸103上一起轉(zhuǎn)動，光學(xué)頭101固定在線性位移平臺102上，而且光學(xué)頭101內(nèi)的自動對焦系統(tǒng)與初始化光源均來自同一高功率激光管，部分激光光源用于自動對焦系統(tǒng)，其余的激光功率被聚焦后，在光記錄材料層上形成約寬1微米長96微米的細(xì)長條光點(diǎn)，當(dāng)線性位移平臺102載著激光頭沿著光記錄光盤104的半徑方向移動，配合自動對焦系統(tǒng)在光記錄材料層維持一定大小光點(diǎn)及旋轉(zhuǎn)主軸103的轉(zhuǎn)動，達(dá)到光盤104初始化的目的。在此，習(xí)知技術(shù)的光學(xué)系統(tǒng)系在光記錄材料層上形成如圖2所示的約寬1微米長96微米的細(xì)長條光點(diǎn)201。此習(xí)知技術(shù)利用一對一對應(yīng)的光學(xué)方式，將高功率激光管約寬1微米長100微米的發(fā)射開口，去掉100微米方向兩端強(qiáng)度不均勻區(qū)后，直接成像聚焦在光記錄材料層形成約寬1微米長96微米的細(xì)長條光點(diǎn)，此一作法因?yàn)橛行Ь劢股疃容^短，使得自動對焦系統(tǒng)及光點(diǎn)大小對于系統(tǒng)振動、光盤片軸向偏擺及其它外界擾動較為敏感，造成自動對焦不穩(wěn)定及聚焦在光記錄材料層光點(diǎn)的能量密度具有變異量，這些負(fù)面效應(yīng)將直接降低初始化裝置的初始化能力；另外，此習(xí)知技術(shù)的初始化與自動對焦光源均利用同一支高功率激光管，并整合在整個光學(xué)頭中，由于一般的高功率激光管的壽命在2000至3000小時之間，當(dāng)此一習(xí)知系統(tǒng)的運(yùn)作時間超過激光管壽命期后，必需將含有自動對焦系統(tǒng)的激光頭整組汰換掉，而無法只汰換高功率激光管，因此經(jīng)濟(jì)效益較低。再者，此習(xí)知技術(shù)采用單一旋轉(zhuǎn)主軸，系統(tǒng)的初始化速度又將因主軸啟動與停止時間而更為降低。
鑒于上述，本實(shí)用新型的目的就是提供一種相變位光記錄光盤的初始化裝置，它可提高相變位光或磁光記錄光盤的初始化品質(zhì)及速度。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案一種光記錄光盤的初始化裝置，它包含有一光學(xué)頭、一用以承載光學(xué)頭的直線位移平臺及用以承載相變位光記錄光盤或磁光光盤的旋轉(zhuǎn)主軸，其特征在于所述光學(xué)頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。
在本實(shí)用新型的實(shí)施措施中所述初始化光源組合包含有至少兩支以上高功率激光管；至少兩組以上多元件光學(xué)元件系統(tǒng)，每一組多元件光學(xué)元件系統(tǒng)對應(yīng)至每一支高功率激光管，對發(fā)射開口做成像轉(zhuǎn)換；一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡；一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導(dǎo)入自動對焦系統(tǒng)中的預(yù)先聚焦透鏡。
所述初始化光源組合也可包含有一高功率激光管；一多元件光學(xué)元件系統(tǒng)，對應(yīng)至一支高功率激光管，對發(fā)射開口作成像轉(zhuǎn)換；一將前述成像轉(zhuǎn)換后的光束先行收束后導(dǎo)入自動對焦系統(tǒng)中的預(yù)先聚焦透鏡。
所述自動對焦組合中具有聚焦透鏡位置感測系統(tǒng)，可用以檢測相變位光記錄或磁光光盤的盤片垂直偏擺量。
所述初始化光源組合中的每一支高功率激光管與對應(yīng)的多元件光學(xué)元件系統(tǒng)組合形成獨(dú)立單元。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是光學(xué)系統(tǒng)具有整合一支以上高功率激光管的能力，可使輻射方向入射的高功率激光聚焦在一微小反射多面鏡后，所有的反射光將沿著同一方向的光路前進(jìn)，最后由自動聚焦系統(tǒng)的聚焦透鏡聚焦在光記錄材料層上。由于此光學(xué)系統(tǒng)的特殊設(shè)計(jì)，不僅在光記錄材料層上可形成較大區(qū)域的光點(diǎn)，而且可維持照射光記錄材料層所需的足夠的激光能量密度，以進(jìn)行初始化，得到具有高擦試率的相變位光記錄光盤或高品質(zhì)的磁光光記錄光盤。另外，光學(xué)系統(tǒng)的獨(dú)特設(shè)計(jì)、初始化光源及自動對焦光源系采用不同的激光光源，初始化光源與部分光學(xué)元件設(shè)計(jì)成初始化光學(xué)組合，與自動對焦系統(tǒng)形成兩個獨(dú)立模組。初始化裝置的光學(xué)系統(tǒng)的特殊設(shè)計(jì)，系利用兩次光學(xué)成像轉(zhuǎn)換過程使得光學(xué)系統(tǒng)聚焦光束的聚焦深度比習(xí)知技術(shù)提高了約九倍，并且使得系統(tǒng)對于初始化光源模組及自動對焦系統(tǒng)在機(jī)械定位上的誤差容忍度提高許多，此一特性不僅可增強(qiáng)初始化裝置在初始化時抗外界擾動的能力，使本裝置對不同基材厚度(1.2mm及0.6mm)的相變位光盤做初始化時，對于因基材厚度所衍生的球面像差具有較佳的抗像差能力，使系統(tǒng)運(yùn)作更加穩(wěn)定，而且，當(dāng)高功率激光管到達(dá)2000至3000小時的使用壽命時，只需單獨(dú)更換含有高功率激光管的初始化光源組合即可，而不必如習(xí)知技術(shù)那樣連自動對焦系統(tǒng)一起更換整組光學(xué)頭，因而可提高經(jīng)濟(jì)效益。本實(shí)用新型除可采用習(xí)知技術(shù)的單一主軸外，還可采用雙旋轉(zhuǎn)主軸或更多旋轉(zhuǎn)主軸的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，以避免習(xí)知技術(shù)因主軸啟動與停止所浪費(fèi)的等待時間(約10秒左右)，因此可有效提高系統(tǒng)初始化速度，增加產(chǎn)量。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作詳細(xì)說明。
圖1是習(xí)知光盤的初始化裝置；圖2是習(xí)知的光學(xué)系統(tǒng)在光盤材料層形成的細(xì)長條光點(diǎn)；圖3為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖；圖4為本實(shí)用新型裝置的光學(xué)頭中的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)施例之一；圖5為本實(shí)用新型在光盤材料層上形成的光點(diǎn)；圖6為本實(shí)用新型的自動對焦系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)示意圖；圖7為本實(shí)用新型裝置的光學(xué)頭中的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)施例之二；圖8為本實(shí)用新型裝置的光學(xué)頭中的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)施例之三。
圖3所示為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖，其主要包括有一個光學(xué)頭301、一個直線位移平臺302與兩個旋轉(zhuǎn)主軸303及304，相變位或磁光光盤305及306系以真空吸附方式被分別固定在旋轉(zhuǎn)主軸303及304上，而光學(xué)頭301系被適當(dāng)固定在直線位移平臺302上，與光盤依等線速度(CLV)或等角速度(CAV)做相對運(yùn)動。當(dāng)直線位移平臺302載著激光頭沿著旋轉(zhuǎn)主軸303上的光盤305的半徑方向移動進(jìn)行初始化時，另一個旋轉(zhuǎn)主軸304開始進(jìn)行準(zhǔn)備狀態(tài)，當(dāng)旋轉(zhuǎn)主軸303上的光盤305完成初始化后，直線位移平臺302由馬達(dá)307驅(qū)動沿著旋轉(zhuǎn)主軸303及304的中心連線方向運(yùn)動，載著光學(xué)頭301快速移動到旋轉(zhuǎn)主軸304上的光盤306進(jìn)行初始化，此時旋轉(zhuǎn)主軸303又開始進(jìn)行準(zhǔn)備狀態(tài)，如此循環(huán)動作，進(jìn)行本初始化裝置的初始化程序。光學(xué)頭301裝有六支一瓦特的高功率激光管，可在光盤材料層上產(chǎn)生寬約3微米長約180微米的聚焦光點(diǎn)，此時光盤材料層具有如習(xí)知技術(shù)一樣的激光能量密度。以直徑120mm相變位光記錄光盤的初始化為例，每一片的初始化時間可在15秒內(nèi)完成，由于聚焦在相變位材料層的光點(diǎn)范圍比習(xí)知技術(shù)提高六倍左右，而且在大區(qū)域光點(diǎn)內(nèi)仍可維持習(xí)知技術(shù)一樣的能量密度，因此經(jīng)本實(shí)用新型裝置初始化的相變位光記錄光盤可得到最佳的結(jié)果，也就是說可以得到可擦試率較高的相變位光記錄光盤。
以下對本實(shí)用新型裝置光學(xué)頭中光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造進(jìn)行說明。
圖4所示為本實(shí)用新型裝置中光學(xué)頭301的光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造的第一個實(shí)施例，其中包括有初始化光源系統(tǒng)401與自動對焦系統(tǒng)402兩部分。光源系統(tǒng)401具有六支高功率激光管403～408，它們以微小反射多面鏡409為中心沿約輻射狀排列，每支高功率激光管分別對應(yīng)一組含有多個光學(xué)元件的光學(xué)系統(tǒng)410～415，每一組光學(xué)元件的作用是調(diào)整每支高功率激光管發(fā)射開口的數(shù)值孔徑，使得垂直及平行于發(fā)射開口的數(shù)值孔徑相當(dāng)，并且補(bǔ)償因矯正數(shù)值孔徑所產(chǎn)生的像散像差，使得每道光形成近乎平行化光束。然后這些光束再分別經(jīng)過聚焦透鏡416～421聚焦，每支高功率激光管的寬1微米長100微米的發(fā)射開口經(jīng)對應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)后，可分別在微小反射多面鏡409的附近成像聚焦，此六道高功率激光經(jīng)微小反射多面鏡409反射后的等效成像聚焦位置具有共平面的特性，而且每支高功率激光管發(fā)射開口的影像經(jīng)上述光學(xué)系統(tǒng)后，在長及寬方向?qū)⒎謩e被放大約50倍及6.6倍，也就是說經(jīng)微小反射多面鏡409反射后的每一高功率激光管在微小反射多面鏡409處的成像共平面的光點(diǎn)大小均為50微米及660微米，在此，微小反射多面鏡409的作用是將六道高功率激光匯集成六道主光束互為平行的光源，并且可精確控制每道高功率激光反射后的光束長度區(qū)域大小，此六道主光束互為平行的光源再經(jīng)過具有等效放大倍率為0.06的預(yù)先聚焦透鏡422及自動對焦系統(tǒng)402中的聚焦透鏡616(請參閱圖6)的光學(xué)組合，將光束聚焦在相變位光記錄材料層615上(請參閱圖6)，在此光學(xué)構(gòu)造之下，每支高功率激光管在相變位光記錄材料層上產(chǎn)生如圖5所示的寬3微米長約30微米的光點(diǎn)，光點(diǎn)502～507依序橫向排列形成長約180微米的光條501。其中光盤材料層光點(diǎn)大小的長度方向由原來的約40微米變成30微米，乃因微小反射多面鏡409控制每道高功率激光反射后的光束長度區(qū)域大小的結(jié)果。圖6所示為自動對焦系統(tǒng)402的光學(xué)設(shè)計(jì)示意圖，所采用的低功率激光源601的波長與高功率激光管不同，激光源601經(jīng)平行化透鏡602將光束平行化后，經(jīng)偏極分光鏡603反射后入射至聚焦透鏡616一側(cè)，與高功率激光束423一同聚焦在光盤材料層615上，所產(chǎn)生的反射光再經(jīng)由聚焦透鏡616的另一側(cè)回到偏極分光鏡603，反射后的光束經(jīng)直角棱鏡604折射后，再由聚焦透鏡605將光訊號聚在光檢測器606上，光檢測器606所檢測的信號回饋控制音圈馬達(dá)607，調(diào)整聚焦透鏡616位置，使得自動對焦與高功率激光在光盤進(jìn)行初始化時得以保持聚焦?fàn)顟B(tài)。另外，自動對焦系統(tǒng)中，內(nèi)建有位置檢測光學(xué)608，此裝置具有檢測聚焦透鏡616位置的功能，其原理為發(fā)光二極管609及610發(fā)光照射在聚焦透鏡616的固定套筒613外圍的刻劃線614上，成像透鏡611用以將刻劃線614影像成像在光檢測器612上。當(dāng)相變位光記錄材料層615與聚焦透鏡616之間具有相對變動量時，光檢測器612將可得到與位置直接相關(guān)的訊號，由此訊號便可得知相變位光記錄材料層615與聚焦透鏡616之間相對位置變動量，當(dāng)光盤進(jìn)行初始化時可利用此位置檢測光學(xué)608得知光盤片的垂直偏擺量是否超出規(guī)范，因此此附加功能可作為光盤片偏擺品質(zhì)的監(jiān)視作用。
圖7所示為本實(shí)用新型裝置中光學(xué)系統(tǒng)的實(shí)施例之二，此系統(tǒng)中光學(xué)元件的配置與圖4所示大致相同，但在圖4中的微小反射多面鏡409，在此系以一平面繞射式光學(xué)元件409a所取代，繞射式光學(xué)元件409a的細(xì)密光柵條紋平面分為六個區(qū)域，利用細(xì)密光柵繞射方法，取代圖4中微小反射多面鏡409所利用的反射原理，將六道高功率激光匯集成六道主光束互為平行的光源，并且可由半導(dǎo)體或其它方法控制繞射式光學(xué)元件409a每一區(qū)域的大小，精確控制每道高功率激光反射后的光束長度區(qū)域大小，圖7的局部放大圖為繞射式光學(xué)元件409a的運(yùn)作示意圖，其中繞射式光學(xué)元件409a分為幾個區(qū)域，每一個區(qū)域依據(jù)入射光及繞射光方向具有各自光柵間距。至于繞射式光學(xué)元件409a光柵的剖面形狀可以是二元化、正弦或鋸齒狀，但為了使經(jīng)繞射式光學(xué)元件409a的繞射效率提高，在本實(shí)用新型中采用鋸齒狀設(shè)計(jì)，使經(jīng)繞射式光學(xué)元件409a繞射后的出射光強(qiáng)度得到最大。
上述初始化光源系統(tǒng)中的每一支高功率激光管與對應(yīng)的多元件光學(xué)元件系統(tǒng)組合形成獨(dú)立單元，可單獨(dú)拆換。
圖8為本裝置光學(xué)系統(tǒng)的又一實(shí)施例，圖中，高功率激光管403經(jīng)多個光學(xué)元件模組410后，由聚焦透鏡416將高功率激光管的發(fā)射開口成像在光路空間中，并直接透過預(yù)先聚焦透鏡422及自動對焦系統(tǒng)402中的聚焦透鏡616，在光盤材料層615上產(chǎn)生寬3微米長40微米的聚焦光點(diǎn)。調(diào)整聚焦透鏡416及預(yù)先聚焦透鏡422的尺寸位置，可在光盤材料層615上產(chǎn)生不同長寬比例(例如寬3微米長100微米)的聚焦光點(diǎn)。圖中的高功率激光管403與對應(yīng)的多元件光學(xué)元件系統(tǒng)組合形成獨(dú)立的單元，可單獨(dú)拆換。由于圖中的光學(xué)設(shè)計(jì)利用兩次聚焦成像轉(zhuǎn)換過程，使光學(xué)系統(tǒng)的品質(zhì)對光學(xué)元件機(jī)械定位誤差容忍度提高，使得本實(shí)施例中的光學(xué)設(shè)計(jì)仍可象圖4設(shè)計(jì)一樣，容忍機(jī)械定位具有較大的誤差度，因此可整個初始化模組單獨(dú)汰換不需做特殊調(diào)校程序，并且整體系統(tǒng)對外界抗干擾能力同樣具有優(yōu)異性能。
本實(shí)用新型所述的相變位光記錄材料是CD-RW或DVD-RW或DVD-RAM或其它更高容量的相變位光記錄材料。
以上內(nèi)容系用以闡述本實(shí)用新型的工作原理而不在限制本實(shí)用新型的范圍，任何基于本實(shí)用新型的其它形態(tài)或細(xì)節(jié)上的變化，均不出本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種光記錄光盤的初始化裝置，它包含有一光學(xué)頭、一用以承載光學(xué)頭的直線位移平臺及用以承載相變位光記錄光盤或磁光光盤的旋轉(zhuǎn)主軸，其特征在于所述光學(xué)頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。
2.如權(quán)利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述初始化光源組合包含有至少兩支以上高功率激光管；至少兩組以上多元件光學(xué)元件系統(tǒng)，每一組多元件光學(xué)元件系統(tǒng)對應(yīng)至每一支高功率激光管，對發(fā)射開口做成像轉(zhuǎn)換；一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡；一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導(dǎo)入自動對焦系統(tǒng)中的預(yù)先聚焦透鏡。
3.如權(quán)利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述自動對焦組合中具有聚焦透鏡位置感測系統(tǒng)，可用以檢測相變位光記錄或磁光光盤的盤片垂直偏擺量。
4.如權(quán)利要求2所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述初始化光源組合中的每一支高功率激光管與對應(yīng)的多元件光學(xué)元件系統(tǒng)組合形成獨(dú)立單元，每一獨(dú)立單元具有拆換的特性。
5.如權(quán)利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述光學(xué)頭中的初始化光源組合包含有一高功率激光管；一多元件光學(xué)元件系統(tǒng)，對應(yīng)至一支高功率激光管，對發(fā)射開口作成像轉(zhuǎn)換；一將前述成像轉(zhuǎn)換后的光束先行收束后導(dǎo)入自動對焦系統(tǒng)中的預(yù)先聚焦透鏡。
6.如權(quán)利要求5所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述初始化光源組合中的高功率激光管與對應(yīng)的多元件光學(xué)元件系統(tǒng)組合形成獨(dú)立的單元，每一獨(dú)立單元具有拆換的特性。
7.如權(quán)利要求2所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述微小反射多面鏡為繞射式光學(xué)元件。
8.如權(quán)利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述相變位光記錄光盤特別指的是CD-RW、DVD-RW或DVD-RAM或其它高容量相變位光記錄光盤。
專利摘要本裝置包含有光學(xué)頭、直線位移平臺及旋轉(zhuǎn)主軸,光學(xué)頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。初始化光源組合包含有:兩支以上高功率激光管;兩組以上多元件光學(xué)元件系統(tǒng),每一組多元件光學(xué)元件系統(tǒng)對應(yīng)至每一支高功率激光管,對發(fā)射開口做成像轉(zhuǎn)換;一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡;一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導(dǎo)入自動對焦系統(tǒng)中的預(yù)先聚焦透鏡。它可提高相變位光或磁光記錄光盤的初始化品質(zhì)及速度。
文檔編號G11B7/26GK2360909SQ9825091
公開日2000年1月26日 申請日期1998年12月23日 優(yōu)先權(quán)日1998年12月23日
發(fā)明者謝啟堂, 李世光, 吳文中, 楊運(yùn)昌, 陳正宜, 賴振群, 陳火棋, 林延真, 王國全, 林長青, 威廉·T·普魯姆, 道格拉斯·S·古德曼, 杰弗瑞·W·羅伯利, 詹姆斯·J·扎布托, 理查·A·喬利 申請人:華錦光電科技股份有限公司