專利名稱：帶有相配的指狀件的將磁盤支架組件加載于磁盤上的加載機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種將硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭鄰近磁盤放置的加載機(jī)構(gòu)。
硬盤驅(qū)動(dòng)器含有在轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤上讀寫信息的磁傳感器。該傳感器通常集成在裝配于一撓曲臂的磁頭內(nèi)。某些磁頭包含一用于書寫信息的傳感器和另一用于讀取信息的傳感器。該讀取傳感器可由磁阻材料(MR)構(gòu)成。磁頭和臂通常稱為磁頭支架組件(HGA)。每個(gè)HGA附著于能移動(dòng)磁頭橫過磁盤的表面的傳動(dòng)臂和音圈馬達(dá)上。
每一磁頭具有一與轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤所產(chǎn)生的氣流相配合的氣墊表面，該氣流在磁盤和傳感器之間產(chǎn)生一氣墊。該氣墊避免了在磁盤表面和磁頭之間的磨損。減小分隔傳感器和磁盤的間隔的長度到最小來使該兩部件之間磁耦合達(dá)最大程度是所期望的。因此磁頭設(shè)計(jì)得在傳感器和磁盤之間產(chǎn)生一最佳的間隔。
測量由磁頭產(chǎn)生的氣墊的高度是所期望的。該高度一般由將磁頭鄰近轉(zhuǎn)動(dòng)的透明磁盤放置的光學(xué)系統(tǒng)來測量。一束光直射穿過該透明磁盤并從磁頭反射回一光檢測器。該檢測到的光用來計(jì)算磁頭的“浮動(dòng)高度”。
浮動(dòng)高度檢測器通常包括一加載機(jī)構(gòu)，該加載機(jī)構(gòu)將磁頭放置在鄰近該透明玻璃磁盤處。加載該磁頭的步驟一般需要移動(dòng)該磁頭徑向上橫過該磁盤的一部分。某些浮動(dòng)高度檢測器包括一與該撓曲臂接合的片狀或指狀件，從而使得該磁頭在移動(dòng)橫過磁盤時(shí)將不會(huì)刮傷玻璃。在玻璃上的刮傷可使穿過磁盤反射的光線失真。
大多數(shù)撓曲臂具有彎曲的護(hù)條部分來提高該臂的剛度?，F(xiàn)有技術(shù)中的加載機(jī)構(gòu)片狀件一般沿垂直于該撓曲臂的縱軸線的方向越過護(hù)條延伸。當(dāng)磁頭加載到磁盤上時(shí)，該撓曲臂定位于靠近該玻璃磁盤的位置。通常當(dāng)磁頭加載時(shí)，在該護(hù)條和磁盤之間沒有足夠的用于片狀件或指狀件的空間。為了這個(gè)原因，在磁頭加載到磁盤上之前該片狀件必須從該撓曲臂縮回?？s回和重新插入該片狀件可能使該撓曲臂變彎和損壞。此外，該加載機(jī)構(gòu)需要一附加的機(jī)構(gòu)來縮回和重新插入該片狀件。因此期望提供一種在磁頭加載到磁盤上時(shí)不必移開的加載機(jī)構(gòu)片狀件。
本發(fā)明的一實(shí)施例是一將磁頭加載到磁盤上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件，該指狀件與該撓曲臂在不與護(hù)條的上邊相接觸的位置接合。


圖1是本發(fā)明的浮動(dòng)高度檢測器的實(shí)施例的示意圖；圖2是該浮動(dòng)高度檢測器的加載機(jī)構(gòu)的實(shí)施例的頂視圖；圖3是該加載機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖；圖4是該加載機(jī)構(gòu)的指狀件的另一實(shí)施例的頂視圖；圖5a-d是顯示正被加載到磁盤上的磁頭支架組件的側(cè)視圖。
本發(fā)明的實(shí)施例是一將磁頭加載到磁盤上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一具有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件，該指狀件可與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。采用本發(fā)明，該指狀件可在磁頭加載到磁盤上之后保持在鄰近該撓曲臂的位置。在加載磁頭后不需要縮回該指狀件。
參照附圖特別是通過附圖標(biāo)記，圖1顯示了一浮動(dòng)高度檢測器10的實(shí)施例。該浮動(dòng)高度檢測器10用于測量磁盤12和磁頭14之間的間隔。該間隔通常稱為磁頭14的“浮動(dòng)高度”。磁盤12一般由光學(xué)透明材料比如玻璃構(gòu)成。該玻璃磁盤12可通過一旋轉(zhuǎn)電動(dòng)機(jī)16來轉(zhuǎn)動(dòng)。
該浮動(dòng)高度檢測器10包括一光源18，該光源18直射一束光穿過磁盤12而到達(dá)磁頭14上。光線從磁頭14反射到光檢測器20。該光檢測器20將該光能轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。例如，該光檢測器20可以是一電荷耦合器件(CCD)攝像機(jī)。該光源18和光檢測器20連接于一計(jì)算機(jī)22，該計(jì)算機(jī)可從該反射光計(jì)算分隔磁頭14和磁盤12的間隔。
該浮動(dòng)高度檢測器10可包括一將磁頭14鄰近磁盤12放置的加載機(jī)構(gòu)24。該加載機(jī)構(gòu)24包括一支撐撓曲臂28的基板26。該撓曲臂28附著于磁頭14上。該臂28和磁頭14通常稱為磁頭支架組件(HGA)。該基板26可附著于一線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)上，該致動(dòng)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)磁頭14徑向橫過磁盤12。加載機(jī)構(gòu)24可包括一凸輪機(jī)構(gòu)(未示出)，該凸輪機(jī)構(gòu)可移動(dòng)磁頭14朝向和遠(yuǎn)離磁盤12的表面。
該浮動(dòng)高度檢測器10可從磁頭/磁盤界面反射光線來計(jì)算該磁頭14的浮動(dòng)高度。在該浮動(dòng)高度確定后，撓曲臂28和磁頭14卸載而從該磁盤12縮回，然后由另一HGA代替。該測量HGA最終組裝于硬盤驅(qū)動(dòng)器內(nèi)。操作者一般只加載一個(gè)HGA到加載機(jī)構(gòu)24上，然后致動(dòng)該加載機(jī)構(gòu)以將磁頭14加載到磁盤12上。
圖2和3顯示了加載機(jī)構(gòu)24的一實(shí)施例。該加載機(jī)構(gòu)24可包括一指狀件30，該指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于基板26上。該指狀件30與該撓曲臂28接合，以確保在該線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)移動(dòng)磁頭14橫過磁盤12時(shí)磁頭14不與磁盤12接觸。
該撓曲臂28一般有一對(duì)彎曲的護(hù)條部分32來增加該臂28的剛度。該指狀件30的形狀是這樣的，使得當(dāng)與該撓曲臂28接合時(shí)不接觸該護(hù)條32的上邊。此外，該指狀件30的厚度小于磁盤12與該撓曲臂28的沒有護(hù)條的部分分開的間隔，使得當(dāng)磁頭14加載到磁盤12上時(shí)該指狀件30不必縮回。應(yīng)當(dāng)理解，撓曲臂28有許多不同的形狀。該指狀件30最好構(gòu)形成能與任何類型的撓曲臂28接合，而當(dāng)磁頭14加載到磁盤12上時(shí)不必縮回該指狀件30。
基板26可包括一夾子34，當(dāng)該HGA加載到檢測器上時(shí)來固定該撓曲臂28。該指狀件30可集成于一旋轉(zhuǎn)臂36上，該旋轉(zhuǎn)臂與基板26樞轉(zhuǎn)地連接。該旋轉(zhuǎn)臂36可在加載位置和卸載位置(如虛線所示)之間手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)。加載機(jī)構(gòu)24還可具有一彈簧38，來確保指狀件30不會(huì)轉(zhuǎn)動(dòng)到中間位置。
圖4顯示了指狀件30’的另一實(shí)施例，該指狀件有一與撓曲臂28’接合的凹座40。該凹座40可與撓曲臂28在沿臂28’延伸的兩金屬絲42之間的位置接觸。該凹座40確保該指狀件30’不損壞金屬絲42。
圖5a-d是顯示將磁頭14加載到磁盤12上的步驟的示意圖。該撓曲臂28和磁頭14最初加載并夾持到基板26上。如圖5b所示，然后旋轉(zhuǎn)臂36旋轉(zhuǎn)到加載位置，使得該指狀件30與該撓曲臂28接合。然后該線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)在磁盤12下面移動(dòng)磁頭14，如圖5c所示。該指狀件30施加一個(gè)力來保持該撓曲臂28遠(yuǎn)離磁盤表面，確保磁頭14不刮傷磁盤12。
如圖5d所示，基板26可通過凸輪機(jī)構(gòu)(未示出)轉(zhuǎn)動(dòng)來將磁頭14“加載”到磁盤12上。在加載過程中當(dāng)撓曲臂28朝向磁盤12移動(dòng)時(shí)，磁頭14與轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤12所產(chǎn)生的氣流相配合，該氣流在磁盤12和磁頭14之間產(chǎn)生一氣墊層。
該指狀件30的角度是這樣的，當(dāng)磁頭14完全加載且在磁盤12上“浮動(dòng)”時(shí)，它不與撓曲臂28接觸。然后氣墊層的高度可通過浮動(dòng)高度檢測器來測量而不必縮回指狀件30。該檢測器也可通過移動(dòng)磁頭14遠(yuǎn)離磁盤12然后朝向磁盤12返回到加載位置來測定。該測定程序也可不必縮回指狀件30來進(jìn)行。
盡管已經(jīng)描述并在附圖中顯示了特定的實(shí)施例，但應(yīng)當(dāng)理解這些實(shí)施例僅僅對(duì)主要發(fā)明進(jìn)行了非限制性的說明，且本發(fā)明不局限于所示的和所述的特定的結(jié)構(gòu)和布置，因?yàn)槟切┰擃I(lǐng)域的普通技術(shù)人員可作出各種其它的改進(jìn)。
例如，盡管顯示和描述了一種浮動(dòng)高度檢測器，但應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)可用于其它的系統(tǒng)比如動(dòng)態(tài)磁頭檢測器，其中該加載機(jī)構(gòu)將磁頭鄰近磁盤放置。
權(quán)利要求
1.一種將磁頭加載到磁盤上的加載機(jī)構(gòu)，該磁頭安裝在一撓曲臂上，該撓曲臂具有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，該加載機(jī)構(gòu)包括支撐該撓曲臂的基板，有效地連接于所述基板的指狀件，且該指狀件與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。
2.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于所述基板。
3.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件包括一凹座，該凹座與該撓曲臂在沿該撓曲臂延伸的一對(duì)金屬絲之間的位置相接合。
4.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述基板包括一捕獲該撓曲臂的夾子。
5.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件有一小于當(dāng)該磁頭加載到磁盤上時(shí)分隔該撓曲臂和磁盤的間隔的厚度。
6.一種用于將磁頭加載到磁盤上的方法，該磁頭安裝在一撓曲臂上，該撓曲臂具有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，該方法包括a)移動(dòng)一指狀件與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合；b)朝向該磁盤移動(dòng)該指狀件、該撓曲臂和磁頭，從而將磁頭加載到磁盤上。
7.一種如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，該指狀件轉(zhuǎn)動(dòng)入該撓曲臂。
8.一種如權(quán)利要求6所述的方法，其還包括當(dāng)該指狀件位于該撓曲臂和磁盤之間時(shí)從磁頭穿過磁盤反射光束的步驟。
9.一種如權(quán)利要求8所述的方法，其還包括檢測該反射的光束并計(jì)算磁頭和磁盤之間的間隔的步驟。
10.一種測量磁盤和安裝于一撓曲臂上的磁頭的間隔的浮動(dòng)高度檢測器，其特征在于，該撓曲臂有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，其包括一透明磁盤；一轉(zhuǎn)動(dòng)所述透明磁盤的旋轉(zhuǎn)電動(dòng)機(jī)；一將該磁頭鄰近所述透明磁盤放置的加載機(jī)構(gòu)，所述加載機(jī)構(gòu)有一支撐該撓曲臂的基板和一與所述撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合的指狀件；一穿過該透明磁盤從該磁頭反射光束的光源；一檢測該反射的光束的光檢測器；和一與所述光檢測器相配合并從該檢測到的光束計(jì)算該間隔的計(jì)算機(jī)。
11.一種如權(quán)利要求10所述的檢測器，其特征在于，所述指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于所述基板。
12.一種如權(quán)利要求10所述的檢測器，其特征在于，所述指狀件包括一凹座，該凹座與該撓曲臂在沿該撓曲臂延伸的一對(duì)金屬絲之間的位置接合。
13.一種如權(quán)利要求10所述的檢測器，其特征在于，所述基板包括一捕獲該撓曲臂的夾子。
14.一種如權(quán)利要求10所述的檢測器，其特征在于，所述指狀件有一小于當(dāng)該磁頭加載到磁盤上時(shí)分隔該撓曲臂和磁盤的間隔的厚度。
全文摘要
一種將磁頭加載到磁盤上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件,該指狀件可與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。采用本發(fā)明,該指狀件可在磁頭加載列磁盤上之后保持在鄰近該撓曲臂的位置。在加載磁頭后不需要縮回該指狀件。
文檔編號(hào)G11B5/58GK1249502SQ9911870
公開日2000年4月5日 申請(qǐng)日期1999年9月8日 優(yōu)先權(quán)日1998年9月8日
發(fā)明者S·諾德爾曼 申請(qǐng)人:費(fèi)斯美特里克斯公司