專利名稱：晶圓研磨用定位環(huán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種研磨用夾具，特別有關(guān)一種研磨定位環(huán)。
如圖1-4所示，新型第172349號專利案定位環(huán)1之環(huán)體2，系由極佳之承載性及耐磨性與耐化學(xué)品腐蝕性之聚苯檔硫(Polyphenylene sulfidePPS)晶狀塑膠一體成型，為正圓形無端環(huán)，內(nèi)徑配合待研磨晶圓之外徑，用以套合待研磨之晶圓周邊定位(圖上未示)，兩者無間隙存在，故環(huán)體的旋轉(zhuǎn)中心即為晶圓的旋轉(zhuǎn)中心，且旋轉(zhuǎn)時不致產(chǎn)生位移。環(huán)體周壁上有貫穿周壁等角度排列之復(fù)數(shù)個橫向出水孔3，用以出水。本實施例之出水孔3各間隔90°共四個。環(huán)體2外周壁頂緣設(shè)有同體適當(dāng)寬度與高度之環(huán)形凸緣4，該環(huán)形凸緣4上，設(shè)有復(fù)數(shù)個等距離環(huán)形排列配合螺護(hù)套5壓入固定之凹孔6，用以壓入配合之螺護(hù)套5固定。本實施例之凹孔6各相距30°環(huán)形排列共12個，用以分別各壓入螺護(hù)套5定位。該環(huán)形排列之復(fù)數(shù)個螺護(hù)套5位置必需十分正確，用以結(jié)合驅(qū)動件定位(圖上未示)，同時用電腦測定旋轉(zhuǎn)中心。
原專利案之晶圓研磨定位環(huán)1，系針對保持於適當(dāng)研磨壓力下旋轉(zhuǎn)定位環(huán)1帶動其中的晶圓旋轉(zhuǎn)，在與以適當(dāng)相對速度作相對運(yùn)動的研磨盤研磨劑上，作第一次研磨過程與第二次精研磨過程，兩者皆可使用，且避免於第二次精研磨過程中不致破壞第一次研磨成果。
本實用新型的主要目的，是要提供一種新的晶圓研磨用定位環(huán)，將上述前案晶圓研磨定位環(huán)構(gòu)造作更進(jìn)一步設(shè)計，在環(huán)體下緣增設(shè)復(fù)數(shù)個斜錐狀廢物槽，用以利用環(huán)體研磨旋轉(zhuǎn)時之離心力甩出研磨所產(chǎn)生廢物。
本實用新型之其他目的、構(gòu)造及功能，將參照實施例之圖式詳細(xì)地說明。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種晶圓研磨用定位環(huán)，包括有一環(huán)體，為正圓形無端環(huán)，內(nèi)徑配合待研磨晶圓的外徑，用以套合待研磨晶圓，帶動晶圓同心旋轉(zhuǎn)；所述環(huán)體外周壁頂緣有同體適當(dāng)寬度與高度的環(huán)形凸緣，所述環(huán)形凸緣上有復(fù)數(shù)個等距離環(huán)形排列的凹孔，用以分別壓嵌入配合之螺護(hù)套；一螺護(hù)套，配合所述環(huán)體環(huán)形凸緣上復(fù)數(shù)個凹孔數(shù)量，用以分別壓嵌入所述凹孔定位；一出水孔，有復(fù)數(shù)個，設(shè)於所述環(huán)體周壁上并貫穿周壁，用以出水；其特征在於所述環(huán)體下緣有復(fù)數(shù)個凹入環(huán)體的廢物槽，該廢物槽是內(nèi)端封閉漸趨擴(kuò)大至外周緣而呈斜錐狀，用以利用前述晶圓研磨定位環(huán)旋轉(zhuǎn)時離心力，將研磨所產(chǎn)生廢物經(jīng)該廢物槽甩出。以及所述復(fù)數(shù)個斜錐狀廢物槽是以等分等角度設(shè)置。
所述復(fù)數(shù)個斜錐形廢物槽的一側(cè)壁與離心力方向一致或相交，另一側(cè)壁與上述側(cè)壁形成一設(shè)定夾角。
所述環(huán)體是由具極佳的承載性及耐磨性與耐化學(xué)品腐蝕性的晶狀塑膠一體成形。
本實用新型與前案相比較，所不同者是在環(huán)體下緣，增設(shè)有復(fù)數(shù)條凹入環(huán)體的廢物槽，該廢物槽貫穿環(huán)體外周緣與內(nèi)周緣之間，用以在晶圓研磨定位環(huán)旋轉(zhuǎn)時，利用其旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生之離心力，經(jīng)過該廢物槽甩出研磨所產(chǎn)生廢物，可使研磨表面質(zhì)量提高。


圖1為本實用新型前案斜視立體圖；圖2為圖1中II-II位置剖面圖；圖3、4為圖2的局部放大圖；圖5為本實用新型的正面斜視立體圖；圖6為圖5反面斜視立體圖；圖7為本實用新型另一實施例的廢物槽形狀示意圖。件號對照1定位環(huán) 2環(huán)體 3出水孔4環(huán)形凸緣5螺護(hù)套6凹孔7廢物槽 8內(nèi)周緣9外周緣10弧形端如圖7所示，本實用新型之研磨定位環(huán)1下緣復(fù)數(shù)個廢物槽7，系配合研磨定位環(huán)1使用時旋轉(zhuǎn)離心力方向設(shè)置，可為配合離心力方向之其他各種形狀之斜錐形，均可達(dá)到相同的效果。
權(quán)利要求1.一種晶圓研磨用定位環(huán)，包括有一環(huán)體，為正圓形無端環(huán)，內(nèi)徑配合待研磨晶圓的外徑，用以套合待研磨晶圓，帶動晶圓同心旋轉(zhuǎn)；所述環(huán)體外周壁頂緣有同體適當(dāng)寬度與高度的環(huán)形凸緣，所述環(huán)形凸緣上有復(fù)數(shù)個等距離環(huán)形排列的凹孔，用以分別壓嵌入配合的螺護(hù)套；一螺護(hù)套，配合所述環(huán)體環(huán)形凸緣上復(fù)數(shù)個凹孔數(shù)量，用以分別壓嵌入所述凹孔定位；復(fù)數(shù)個出水孔，設(shè)於所述環(huán)體周壁上并貫穿周壁，用以出水；其特征在于所述環(huán)體下緣有復(fù)數(shù)個凹入環(huán)體的廢物槽，該廢物槽是內(nèi)端封閉漸趨擴(kuò)大至外周緣而呈斜錐狀，用以利用所述晶圓研磨定位環(huán)旋轉(zhuǎn)時離心力，將研磨所產(chǎn)生廢物經(jīng)該廢物槽甩出。
2.如權(quán)利要求1所述晶圓研磨用定位環(huán)，其特征在于所述復(fù)數(shù)個斜錐狀廢物槽是以等分等角度設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述晶圓研磨用定位環(huán)，其特征在于所述復(fù)數(shù)個斜錐形廢物槽的一側(cè)壁與離心力方向一致或相交，另一側(cè)壁與上述側(cè)壁形成一設(shè)定夾角”。
4.如權(quán)利要求1所述晶圓研磨用定位環(huán)，其特征在于，所述環(huán)體是由具極佳的承載性及耐磨性與耐化學(xué)品腐蝕性的晶狀塑膠一體成形。
專利摘要一種晶圓研磨用定位環(huán),包括有一環(huán)體,為正圓形無端環(huán),內(nèi)徑配合待研磨晶圓的外徑,用以套合待研磨晶圓,帶動晶圓同心旋轉(zhuǎn);所述環(huán)體外周壁頂緣有同體適當(dāng)寬度與高度的環(huán)形凸緣,所述環(huán)形凸緣上有復(fù)數(shù)個等距離環(huán)形排列的凹孔,用以分別壓嵌入配合的螺護(hù)套;還有一螺護(hù)套,配合所述環(huán)體環(huán)形凸緣上復(fù)數(shù)個凹孔數(shù)量,用以分別壓嵌入所述凹孔定位;及復(fù)數(shù)個出水孔,設(shè)於所述環(huán)體周壁上并貫穿周壁,用以出水;其改進(jìn)部分在於所述環(huán)體下緣有復(fù)數(shù)個凹入環(huán)體的廢物槽,該廢物槽是內(nèi)端封閉漸趨擴(kuò)大至外周緣而呈斜錐狀,用以利用所述晶圓研磨定位環(huán)旋轉(zhuǎn)時離心力,將研磨所產(chǎn)生廢物經(jīng)該廢物槽甩出。
文檔編號H01L21/68GK2517110SQ0127931
公開日2002年10月16日 申請日期2001年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月24日
發(fā)明者陳水源, 陳水生, 陳添丁 申請人:陳水源, 陳水生, 陳添丁