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      多芯片半導體封裝件及其制法的制作方法

      文檔序號:6924772閱讀:416來源:國知局
      專利名稱:多芯片半導體封裝件及其制法的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明是關于一種具有多芯片模塊的半導體封裝件及其制法,特別是關于一種具有兩個以上的芯片,且以疊晶方式(Stacked)設置于芯片承載件上的多芯片半導體封裝件及其制法。
      背景技術
      為提高單一半導體封裝件的性能與容量以符合電子產(chǎn)品小型化的需求,半導體封裝件予以多芯片模塊化乃成一趨勢。具有多芯片模塊(Multi chip Module)的半導體封裝件是在單一封裝件的芯片承載件(如基板或導線架)上粘接至少二個以上的芯片,且芯片與芯片承載件間的粘接方式一般有兩種一為各芯片間隔開地粘接于芯片承載件上,此種粘接方式雖不致增加封裝件的整體高度,但需要在芯片承載件上布設大面積的芯片接置區(qū)域(Die Attachment Area)以容設所需數(shù)量的芯片;同時,芯片承載件面積增大,往往在封裝時有較大的熱應力效應,易導致芯片承載件產(chǎn)生翹曲(Warpage)現(xiàn)象進而造成芯片與芯片承載件間的粘接面發(fā)生剝離(Delamination),因此采用此法會具有較大的可靠性疑慮(Reliability Concern)。而另一種芯片粘接方式是以疊晶方法(Stacked),將芯片一一垂直疊接于芯片承載件上,此方法雖會增加封裝成品的整體高度,但因其能避免芯片承載件面積過于龐大,并減少封裝件發(fā)生翹曲或分層的機率,故仍然廣獲業(yè)界采用。
      通常采用疊接型態(tài)的多芯片模塊式半導體封裝件是如附圖8所示。此種結構的半導體封裝件6在第一芯片61粘接到基板60上后,會將一第二芯片64黏著至第一芯片61上,并以第一金線62及第二金線65分別將該第一芯片61及第二芯片64電性連接至基板60上。但為避免第二芯片64設置干擾到第一金線62與第一芯片61的焊接,該第二芯片64的尺寸須限制須小于該第一芯片61尺寸,因此堆棧于越靠上層的芯片,其芯片尺寸愈小,相對地可供電子電路及電子組件布設的使用面積便會更少,而不利于封裝件高度集成化的發(fā)展趨勢。
      為避免上述半導體封裝件受芯片尺寸局限而影響到封裝件的集成化程度。美國專利第5,323,060號″Multichip Module Having A StackedChip Arrangement″及第6,005,778號″Chip Stackingand CapacitorMounting Arrangement Including Spacers″提出一種上層芯片外伸的封裝結構予以回應。如第9圖所示,該半導體封裝件6第一芯片61粘接到基板60,并用多條第一焊線62將該第一芯片61與基板60導電連接后,于第一芯片61作用表面610未布設焊墊的區(qū)域上黏設一具預設厚度的阻隔件63,該阻隔件63可從絕緣膠片(Insulated Tape)、不具芯片電路功能的偽芯片(Dummy Die)或由硅薄片等物質中擇一選用,但該阻隔件63高度H必須大于第一焊線62弧高(Loop Height,即第一焊線62線弧距離該第一芯片61作用表面610的最大高度差),以免第二芯片64接置到阻隔件63上時誤觸到第一焊線62造成短路。
      阻隔件設置有效地隔開上下層芯片而形成一大于第一線弧弧高的高度差,使第二芯片即便外伸到金線線弧的正上方亦不會碰觸到第一線弧造成短路,因此第二芯片尺寸無須受到限制而能選擇大于等于第一芯片面積的芯片使用,大幅提升多芯片模塊半導體封裝件的集成化程度。
      然而,以絕緣膠片,如聚亞醯胺(Polyimide)等黏著性膠材作為阻隔件供第二芯片粘接時,往往因膠材流動性較大,形狀固定不易而影響到第二芯片的平面度;并且,膠材與芯片間的熱膨脹系數(shù)(Coefficient of Thermal Expansion,CTE)差異甚大,因而在后續(xù)制造過程的溫度循環(huán)下極容易使芯片接合部位發(fā)生翹曲、分層或導致芯片裂損(Crack)。因此,為解決熱膨脹系數(shù)差異等問題,業(yè)內人士另開發(fā)出以不具電路傳遞功能的偽芯片(Dummy Die)或與芯片材質相同的硅薄片作為阻隔件的疊晶型半導體封裝件。如第10圖所示,該種封裝件6的制造過程步驟如下首先備妥一黏有第一芯片61的芯片承載件60,并于該第一芯片61的作用表面610上涂布一第一黏著層613,而后,將一預設高度的阻隔件63粘接到該第一黏著層613上烘烤固定后,經(jīng)過打線步驟使該第一芯片61與芯片承載件60間形成電性導接,接著使第二芯片64借涂布于阻隔件63上的第二黏著層614粘接到阻隔件63上,再經(jīng)烘烤及打線步驟使第二芯片64與芯片承載件60形成電性連接,即形成一具疊晶結構的半導體封裝件6。
      此一方法雖能成功克服芯片與阻隔件間的熱膨脹系數(shù)問題,但上述方法的成本很高,且制造過程步驟太過復雜,生產(chǎn)周期長而難以增加產(chǎn)量。再者,組隔件或上層芯片(即第二芯片)在黏合前要先使用膠黏劑涂布于第一芯片作用表面或阻隔件表面上以便執(zhí)行上片作業(yè),然而流動性高的膠黏劑常會導致阻隔件或上層芯片發(fā)生偏位或出現(xiàn)沾膠異常,膠劑溢流甚至污染第一芯片焊墊等情況,故產(chǎn)品依然會有不良率高及芯片接合可靠性不足的疑慮。
      鑒此,美國專利第6,388,313號又發(fā)明一種將部分第一焊線直接包埋于膠黏劑里,使接合于膠黏劑上的第二芯片不致誤觸金線的疊晶型封裝方法。如第11圖所示,該方法與前述以膠黏劑作為阻隔件的方式相當類似首先,在第一芯片61作用表面610各焊墊位置上形成相對應的凸點620(Stud),再以反向焊接技術(Reverse Bond)將一端已與芯片承載件60焊接的第一焊線62的另一端焊接到該凸點620上;之后,借網(wǎng)板印刷(Print Screening)等方法將膠黏劑63涂布至第一芯片61作用表面610上達一定厚度,使位于第一芯片61上方的第一焊線62完全包埋于膠黏劑63內,再將一第二芯片64壓合至膠黏層63上完成芯片疊晶步驟。
      此封裝方法是先以反向焊接技術減少焊線弧高(弧高只有約2密爾),再用膠黏劑包覆住部分線弧并使膠黏層略為增厚使第二芯片不致誤觸金線,因此,膠黏層的厚度可以減到最小而能降低封裝成品的整體高度。然而,上述反向焊接技術必須先在第一芯片上形成提供焊線連結的凸點,因此生產(chǎn)過程會拖長并且增加成本;同時,膠黏劑與金線間的熱膨脹系數(shù)差異極大,故在后續(xù)制造過程的溫度循環(huán)下亦易因不同熱應力導致包覆于膠材內的金線發(fā)生斷裂,嚴重影響金線電性功能;此外,在第二芯片接合過程中為避免該芯片非作用表面不慎誤觸金線產(chǎn)生短路,機器必須精密控制第二芯片對膠黏層的壓合力(BondForce)而必須增設提高精密度的設備,然此舉亦會明顯增加封裝成本。

      發(fā)明內容
      本發(fā)明的主要目的即在提供一種運用現(xiàn)有設備及方法即能達到簡化制造過程步驟,縮短生產(chǎn)過程并且降低封裝成本的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的再一目的在提供一種減小膠黏層與上下層芯片間熱膨脹系數(shù)差距,以免芯片接合部位發(fā)生分層、芯片裂損或金線斷裂等現(xiàn)象而明顯增進產(chǎn)品優(yōu)良率的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的另一目的在提供一種提升上下層芯片間散熱效能,而有助于改善疊晶結構運作時的熱量積存問題的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的又一目的在提供一種降低膠黏劑流動性,使上層芯片粘接到膠黏層上能維持良好平面度的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的又一目的在提供一種芯片在選用上無尺寸大小限制的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的又一目的在提供一種減少上下層芯片間的膠黏層厚度,以降低封裝成品的整體高度的多芯片半導體封裝件及其制法。
      本發(fā)明的又一目的在提供一種控制上下層芯片間的膠黏層厚度,以避免上層芯片觸接到下層芯片上的金線而導致金線斷裂或短路的多芯片半導體封裝件及其制法。
      依據(jù)本發(fā)明上述及其它目的,本發(fā)明提供的多芯片半導體封裝件,是包含一芯片承載件;至少一第一芯片,其具有一作用表面及一相對的非作用表面,使該第一芯片借由其非作用表面與該芯片承載件粘接;多條的第一焊線,其一端是焊接于該第一芯片的作用表面上,而另一端則焊接至該芯片承載件上,使第一芯片與芯片承載件可借由該第一焊線提供電性導接;至少一第二芯片,其具有一作用表面及一相對的非作用表面;一膠黏層,是涂布于該第一芯片的作用表面上,該膠黏層中懸浮有多個決定膠黏層厚度的顆粒,使該第二芯片借其非作用表面粘接到該第一芯片上后,在第一及第二芯片之間的膠黏層厚度大于該第一線弧弧高;多條的第二焊線,用以電性連接該第二芯片與芯片承載件;以及一封裝膠體,借以包覆該第一芯片,第一焊線,第二芯片及第二焊線。
      本發(fā)明的多芯片半導體封裝件制法,則包含以下步驟首先備妥一芯片承載件,再將至少一第一芯片黏著至該芯片承載件上,該第一芯片具有一作用表面及一非作用表面;而后,以多條第一焊線焊連該第一芯片作用表面及該芯片承載件,使該第一芯片與芯片承載件間形成電性導接關系;接著,將一膠黏劑涂布到該第一芯片作用表面上,該膠黏劑中含有多個預設高度的懸浮顆粒,借以決定該膠黏劑的涂層厚度;再將至少一第二芯片借該膠黏劑粘接到第一芯片上,其中,形成于該第一及第二芯片間的膠黏層厚度須大于該第一線弧弧高;之后,以多條第二焊線電性連接該第二芯片至該芯片承載件上;再進行模壓及其它后續(xù)制造過程。
      本發(fā)明多芯片半導體封裝件的另一實施例乃是在第二芯片上再粘接一第三芯片以形成一芯片承載件上疊接三片芯片的多芯片模塊式封裝結構,由于膠黏劑內懸浮顆粒的高度大于線弧弧高,因此第三芯片不須顧慮恐誤觸金線而對芯片尺寸有所限制,使同一封裝件里可容納更多的相同芯片。
      本發(fā)明多芯片半導體封裝件的再一實施例是運用反向焊接技術(Reverse Bond)減小第一焊線的線弧高度,使懸浮顆粒可采用直徑較小的顆粒來減少膠黏層厚度,繼而達到縮減封裝件整體高度的目的。
      相較于現(xiàn)有技術產(chǎn)生的種種缺陷,本發(fā)明提出的解決方法是在絕緣性或導電性膠黏劑里混入許多懸浮顆粒,借由控制懸浮顆粒的粒子直徑來決定上下層芯片間的膠黏層厚度。該懸浮顆粒應配合第一焊線線弧的最大高度(即由芯片作用表面算起的最大線弧高度,簡稱線弧弧高)選擇適合的顆粒大?。划?shù)谝缓妇€采用一般打線技術焊接時得到的弧高較高(約為4密爾),因此應選擇粒徑較大(粒子高度較大)的顆粒方能使膠黏層具有較大的高度,而若該第一焊線是以反向焊接技術進行打線,由于反向焊接形成的弧高較小(約為2密爾),故膠黏劑里可選擇粒徑較小的顆粒進行混合,為避免第二芯片與第一焊線碰觸導致短路,懸浮顆粒的粒子直徑不得小于等于第一焊線弧高。
      懸浮顆??捎山^緣性高分子聚合物材料、銅、鋁及其合金等金屬球或其它剛性及導熱性俱佳的材質制成,因此借由懸浮粒子的加入,可以改變膠黏劑的組成物特性,使膠黏劑的熱膨脹系數(shù)降低而能減少膠黏劑與芯片及焊線間的熱應力差距較大的問題,以免芯片接合部位發(fā)生分層、芯片裂損甚至金線斷裂等問題。此外,在半液態(tài)的膠黏劑中混入固體粒子也可以有效減少膠材的流動性,使該第二芯片壓合到膠黏層上以后不會產(chǎn)生偏位而能維持較佳的平面度;而且,金屬材質制成的懸浮顆粒亦能增強芯片的散熱效能,故而有助于解決疊晶結構運作時的熱量積存問題。


      以下以較佳實施例配合附圖進一步詳細說明本發(fā)明的特點及功效附圖1是本發(fā)明第一實施例的多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖2是本發(fā)明半導體封裝件完成第一金線打線及布膠后,該膠黏層與第一金線線弧的局部放大示意圖;附圖3A至附圖3F是本發(fā)明第一實施例的多芯片半導體封裝件的制作流程圖;附圖4是本發(fā)明第二實施例的多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖5是本發(fā)明第三實施例的多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖6是本發(fā)明第四實施例的多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖7是本發(fā)明第五實施例的多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖8是現(xiàn)有疊晶型半導體封裝件的剖示圖;
      附圖9是現(xiàn)有美國專利第5,323,060號多芯片半導體封裝件的剖示圖;附圖10是現(xiàn)有美國專利第6,005,778號多芯片半導體封裝件的剖示圖;以及附圖11是現(xiàn)有美國專利第6,388,313號多芯片半導體封裝件的剖示圖。
      符號說明1,2,3,4,5,6半導體封裝件10,30,60基板100基板頂面 101基板底面50導線架500芯片座501管腳11,21,31,41,51,61第一芯片110,310,610第一芯片作用表面111第一芯片非作用表面112銀膠 613第一黏著層614第二黏著層12,32,42,52,62第一金線 320,620凸點13,23,33,43膠黏層 63阻隔件130,430膠材基質131,231,331,431懸浮顆粒 14,24,34,44,64第二芯片240第二芯片作用表面141第二芯片非作用表面15,25,55,65第二金線 16,46封裝膠體17焊球 28第三芯片h第一線弧弧高H膠黏層高度(顆粒粒徑)h′第二線弧弧高具體實施方式
      以下即以附圖配合各實施例詳細說明本發(fā)明多芯片半導體封裝件及其制法,各附圖的組件種類、組件數(shù)量及結構僅按實施例內容簡單繪制,并非依照實物等比例制成,本發(fā)明多芯片半導體封裝件的實際的實施結構以及樣式應較附圖更為復雜。
      實施例1
      附圖1所示為本發(fā)明第一實施例的多芯片半導體封裝件的剖面示意圖。如圖所示,該半導體封裝件1包括有一基板10,黏著于該基板10上的一第一芯片11,提供該基板10及第一芯片11電性連接的多條第一金線12,涂布于該第一芯片11上的膠黏層13,粘接至該膠黏層13上的第二芯片14,用以將第二芯片14電性連結至基板10的多條第二金線15,以及用以包覆該第一芯片11、第一金線12、第二芯片14及第二金線15的封裝膠體16。
      該基板10是采用一般雙層或多層式基板,亦即于一由樹脂、陶瓷或玻璃布等材料制成的基層上、下表面上布設由銅箔(Copper Foil)蝕刻形成的導電跡線(Conductive Trace Pattern),此種基板為現(xiàn)用結構,故于此不另重復贅述。該基板10具有一頂面100及一相對的底面101,該頂面100上定義有多個提供芯片及金線接置的區(qū)域(未圖標),而基板10底面101則植接有成數(shù)組方式列置的焊球17,以供粘接于基板10上的第一芯片11及第二芯片14可借該焊球17與外界電性連接。
      該第一芯片11是以如銀膠(Silver Paste)或聚亞醯胺(PolyimideTape)膠片112等粘接到基板10頂面100的預設位置上,其具有一作用表面110及一相對的非作用表面111,該第一芯片11作用表面110的單側、雙側或周側布設有多條焊墊(未圖標),使第一芯片11上片(Die Bonding)到基板10上之后,該第一金線12能借焊墊(未圖標)以與該第一芯片11的內部回路連結。
      第一金線12焊接作業(yè)完成后,即可將該膠黏劑13涂布于第一芯片11作用表面110上未布設焊墊的區(qū)域。該膠黏劑13是由聚亞醯胺樹脂、環(huán)氧樹脂等絕緣或導電性膠材130為基質,混入多個顆粒131均勻攪拌所制成的膠狀物質,其中,該膠黏劑13的涂層厚度便是借由該懸浮于膠材130內的顆粒131所決定。懸浮顆粒131的大小(即粒子直徑,以下簡稱粒徑)必須預先經(jīng)過控制,如附圖2所示,形成于第一芯片11與第二芯片14間的膠黏層13涂層厚度H是取決于懸浮于膠材130內的顆粒131粒徑(亦稱H),顆粒粒徑H范圍一般介于1至8密爾,較佳者為5密爾;該顆粒131的粒徑H必須大于該第一金線12線弧高出第一芯片11作用表面110的最大高度h(即線弧弧高),以免第二芯片14壓合到膠黏劑13上時誤觸到第一金線12引發(fā)短路產(chǎn)生。
      膠黏劑13內的顆粒131是由高分子聚合物材質或如銅、鋁、銅合金(如CuW)、鋁合金(如AlN)等金屬材質以及其它具有良好剛性(Rigidity)及導熱性的材質,如碳硅化合物或硅粒等制成。為避免電傳導性良好的懸浮顆粒131碰觸到金線或芯片時會形成不當電性導接,打磨后具有特定粒徑大小的顆粒131表面得視實際需要外覆一絕緣性薄層(未圖標)。另一方面,在環(huán)氧樹脂或聚亞醯胺等熱膨脹系數(shù)極大的膠材130內混入懸浮顆粒131,可以降低膠黏劑13成品的熱膨脹系數(shù),繼而減小膠黏劑13與芯片11,14間的熱應力之差,故不致使芯片接合部位產(chǎn)生分層、芯片裂損等情況;再而,如銅鋁等金屬材質制成的懸浮顆粒131為膠黏劑13提供優(yōu)良的導熱性,因此第一芯片11與第二芯片14運作時產(chǎn)生的熱量得通過懸浮顆粒131快速傳遞至外界環(huán)境,而有助于解決疊晶結構的熱積存問題。
      此外,由于該顆粒131粒徑H僅需高出第一金線12弧高,使得該第二芯片14不致碰觸到第一金線12即可,因此業(yè)內內士可以有效控制該膠黏層13的厚度,令第二芯片14黏設至第一芯片11后的整體封裝件1高度較前述美國專利第5,323,060號案發(fā)明的封裝件為低,而更加切合半導體封裝件的薄化趨勢。況且,在半液態(tài)的膠材基質130中添加固體粒子更可降低膠黏劑13的流動性,使第二芯片14壓合到膠黏劑13上后能維持較佳的平面度,而不致出現(xiàn)芯片移位或膠劑溢流等問題。
      第二芯片14粘接到膠黏劑13后,是利用多條第二金線15將該第二芯片14電性連接至基板10上。由于形成于第一芯片11與第二芯片14間的膠黏層13厚度已預先限定須大于第一金線12弧高,因此,完成上片的第二芯片14即使外伸出第一金線12上方亦不會有誤觸金線的疑慮,而使得該第二芯片14在芯片種類及芯片尺寸上具有更大的選擇空間。
      接著,另以附圖3A至附圖3F詳細說明本發(fā)明多芯片半導體封裝件的制作流程,該封裝件結構里各細部定義以及組件名稱,因前述實施例已敘明,在此遂不另重予贅述。
      如附圖3A及附圖3B所示,先備妥一基板10,該基板10上預設有一芯片接置區(qū)(未圖標),再以點膠或畫膠等方式將銀膠112涂布于該芯片接置區(qū)上,以供一第一芯片11粘接。
      如附圖3C所示,以現(xiàn)用焊線作業(yè)將第一芯片11與基板10電性導接;其中,該焊線作業(yè)是在烘烤步驟(Die Bond Curing)結束后再以打線機(Bonder)(未圖標)將該第一金線12的一端燒熔并焊接到第一芯片11作用表面110的焊墊(未圖標)上,再上引外拉該第一金線12至基板10上以與該基板10的焊線墊(Fingers)(未圖標)焊接,故焊線作業(yè)完成后,該第一金線12線弧會高出第一芯片11作用表面110一線弧高度h。
      如附圖3D所示,以網(wǎng)板印刷(Print Screening)或其它現(xiàn)用布膠方法將混有預設粒徑顆粒131的膠黏劑13涂覆于第一芯片11作用表面110上,該膠黏劑13涂層的厚度H是由膠黏劑13內的懸浮顆粒131所決定,且該懸浮顆粒131的粒徑大小須大于第一線弧弧高(即附圖3C中h所示)。
      接著,如附圖3E所示,施予上片作業(yè),令第二芯片14借其非作用表面141壓合到該膠黏層13上,由于膠黏劑13的懸浮顆粒131粒徑大于第一焊線12弧高,因此,當機器(未圖標)壓合第二芯片14到膠黏層13上時,該機器無須顧慮第二芯片15恐與第一金線12形成不當電性導接而刻意控制芯片壓合力(Bond Force),繼而有效減少生產(chǎn)周期以及封裝成本。
      如附圖3F所示,該第二芯片14與基板10亦可采用如同前述焊線方法進行導電連接。待第二金線15完成焊接后,將形成有第一芯片11、膠黏層13、第二芯片14及基板10的結構體置于封裝模具(未圖標)中進行模壓作業(yè)(Molding),以由封裝樹脂固化成型出包覆該第一芯片11、第一金線12、第二芯片14及第二金線15的封裝膠體(如附圖116所示),即完成本發(fā)明的多芯片半導體封裝件1的制造過程步驟。
      實施例2附圖4所示為本發(fā)明第二實施例的多芯片半導體封裝件的剖面示意圖。如圖所示,該第二實施例的半導體封裝件結構2與前述第一實施例的結構大致相同,其不同處在于該第二芯片24于第二金線25焊接完成后,另于第二芯片24作用表面240的未設置焊墊區(qū)域(未圖標)上涂覆一膠黏劑23,粘接至少一第三芯片28而形成一基板20上疊接三片芯片的多芯片模塊式封裝結構2;涂布于該第二芯片24上的膠黏劑23內亦懸浮有多條粒徑預經(jīng)篩選的顆粒231,且該顆粒231的粒徑大小亦必須大于第二線弧弧高h′。因此,如同前述第二芯片24,第三芯片28在上片時亦不必慮及恐與第二金線25觸接而對芯片尺寸多所限制,第三芯片28亦可選擇大于等于該第一或第二芯片21,24尺寸的半導體芯片。
      實施例3附圖5所示為本發(fā)明第三實施例的多芯片半導體封裝件的剖面示意圖。如圖所示,該第三實施例的半導體封裝件結構3與前述第一實施例的結構大致相同,其不同處在于第一金線32的焊接方式是采用反向焊接技術(Reverse Bond);亦即,先在第一芯片31的作用表面310焊墊上形成焊接凸點320(Stud),而后將第一金線32一端先燒結焊接到基板30的焊線墊(未圖標)上,再上引內拉金線使該第一金線32的另一端綴接(Stitch Bond)到該凸點320上而完成第一金線32的焊接作業(yè)。利用反向焊接技術可以改變線弧走向,使第一芯片31上方的線弧高度變得極小(約2密爾以下),因此膠黏層33內的懸浮顆粒331能采用直徑較小的粒子來減少膠黏層33厚度,以縮減封裝件3成品的整體高度。
      實施例4附圖6所示為本發(fā)明第四實施例的多芯片半導體封裝件的剖面示意圖。如圖所示,該第四實施例的半導體封裝件結構4與前述第一實施例的結構大致相同,其不同處在于該膠黏層43是完全填滿于第一芯片41與第二芯片44之間,包括位于第一芯片41上方的第一金線42部分皆完整包覆于該膠黏層43內,然為使膠黏層43高度不致受弧高影響而變得過厚,本實施例封裝結構4乃采用反向焊接技術焊接該第一金線42。另一方面,由于膠黏劑43里有絕緣性基質膠材430隔離,且由絕緣性高分子聚合物或銅鋁材質制得的懸浮顆粒431表面亦已預先涂布有一絕緣性薄層,故包覆于膠黏劑43內的金線42即使與懸浮顆粒431接觸亦不致短路;并且,該第一芯片41與第二芯片44間因膠黏層43涂布完全而無空隙存在,故該封裝膠體46成型時不會在第一芯片41與第二芯片44間形成氣泡(Void),封裝件4不致于后續(xù)高溫制造過程中發(fā)生氣爆(Popcorn),而能確保制成品的品質可靠性。
      實施例5附圖7所示者為本發(fā)明第五實施例的多芯片半導體封裝件的剖面示意圖。如圖所示,該第五實施例的半導體封裝件結構5與前述第一實施例的結構大致相同,其不同處在于該第一芯片51是黏設于一導線架50的芯片座500上,故該第一金線52及第二金線55的一端俱會焊接到芯片座500周圍的導線架50管腳501上,以借該管腳501供該第一芯片51及第二芯片54與外界電性連接。
      以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并非用以限定本發(fā)明的實質技術內容范圍。本發(fā)明的實質技術內容是廣義地定義于權利要求書中,任何他人所完成的技術實體或方法,若是與權利要求書中所定義者完全相同,或為一種等效的變更,均將被視為涵蓋于此專利保護范圍之內。
      權利要求
      1.一種多芯片半導體封裝件,其特征在于,該多芯片半導體封裝件是包括一芯片承載件;至少一第一芯片,該第一芯片具有一作用表面及一相對的非作用表面,使該第一芯片借由其非作用表面與該芯片承載件粘接;多條的第一焊線,其一端是焊接于該第一芯片的作用表面上,而另一端則焊接至該芯片承載件上,使該第一芯片與該芯片承載件間電性導接;至少一第二芯片,其具有一作用表面及一相對的非作用表面;一膠黏層,是涂布于該第一芯片的作用表面上,該膠黏層內懸浮有多條決定膠黏層厚度的顆粒,使該第二芯片以其非作用表面粘接到該第一芯片上后,形成于第一及第二芯片間的膠黏層厚度會大于該第一焊線弧高;多條的第二焊線,用以電性連接該第二芯片與晶片承載件;以及一封裝膠體,用以包覆該第一芯片,第一焊線,第二芯片及第二焊線。
      2.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該多芯片半導體封裝件為一疊晶型半導體封裝件。
      3.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該芯片承載件為一基板。
      4.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該芯片承載件為一導線架。
      5.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該第一焊線為一金線。
      6.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該膠黏層為一膠材基質中均勻懸浮有多個顆粒的膠狀物質。
      7.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該膠材基質為一絕緣性膠材。
      8.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該膠材基質為一導電性膠材。
      9.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該膠材基質是選自環(huán)氧樹脂、聚亞醯胺等材料所組成組群的一種所制成。
      10.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該懸浮顆粒是選自銅、鋁、銅合金、鋁合金、碳硅化合物、硅等材質所組成組群的一種所制成。
      11.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該懸浮顆粒是由一絕緣性高分子聚合物材質所制成。
      12.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該懸浮顆粒為一高導熱性及剛性的材料所制成。
      13.如權利要求6所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該懸浮顆粒表面涂覆一絕緣性薄層。
      14.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該膠黏層的厚度是由該懸浮顆粒的粒子直徑所決定。
      15.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該懸浮顆粒的粒子直徑大于該第一焊線的弧高。
      16.如權利要求1所述的多芯片半導體封裝件,其特征在于,該第一焊線弧高是指第一焊線線弧高出該第一芯片作用表面的最大高度。
      17.一種多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該制法包含以下步驟備一芯片承載件;將至少一第一芯片黏著至該芯片承載件上,該第一芯片具有一作用表面及一非作用表面;以多條第一焊線焊連該第一芯片作用表面及該晶片承載件,使該第一芯片電性導接至芯片承載件上;將一膠黏劑涂布至該第一芯片作用表面上,該膠黏劑內懸浮有多條具預設高度的顆粒,以借該顆粒決定膠黏層的形成厚度;令至少一第二芯片借該膠黏劑粘接到第一芯片上,其特征在于,形成于該第一及第二芯片間的膠黏層其厚度大于該第一焊線弧高;以多條第二焊線電性連接該第二芯片至該芯片承載件上;以及用一封裝膠體包覆該第一芯片、第一焊線、第二芯片及第二焊線。
      18.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該多芯片半導體封裝件為一疊晶型半導體封裝件。
      19.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該芯片承載件為一基板。
      20.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該芯片承載件為一導線架。
      21.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該第一焊線是以反向焊接技術進行焊接。
      22.如權利要求21所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,以反向焊接技術焊連該第一焊線前,該第一晶片作用表面上須先形成若干個焊接凸點。
      23.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠黏層是以網(wǎng)板印刷技術涂布到該第一芯片上。
      24.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠黏層為一膠材基質中均勻懸浮有多個顆粒的膠狀物質。
      25.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠材基質為一絕緣性膠材。
      26.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠材基質為一導電性膠材。
      27.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠材基質是選自環(huán)氧樹脂、聚亞醯胺等材料所組成組群的一種所制成。
      28.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該懸浮顆粒是選自銅、鋁、銅合金、鋁合金、碳硅化合物、硅等材質所組成組群的一種所制成。
      29.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該懸浮顆粒是由一絕緣性高分子聚合物材質所制成。
      30.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該懸浮顆粒為一高導熱性及剛性的材料所制成。
      31.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該懸浮顆粒表面涂覆一絕緣性薄層。
      32.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該膠黏層的厚度是由該懸浮顆粒的粒子直徑所決定。
      33.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該懸浮顆粒的粒子直徑大于該第一焊線的弧高。
      34.如權利要求17所述的多芯片半導體封裝件制法,其特征在于,該第一焊線弧高是指第一焊線線弧高出該第一芯片作用表面的最大高度。
      全文摘要
      一種多芯片半導體封裝件及其制法,一粘接有至少一第一芯片的芯片承載件上先以多條第一金線電性連接該第一芯片與芯片承載件,在該第一芯片的作用表面上布覆一膠黏層以供一第二芯片粘接;其中,該膠黏層中懸浮有多個充填顆粒,且該充填顆粒的粒子直徑須大于該第一金線線弧高出第一芯片作用表面的最大高度,以防第二芯片壓合至膠黏層時誤觸到第一金線引發(fā)短路產(chǎn)生;另外,于傳統(tǒng)封裝制造過程,以膠黏層粘接芯片可明顯簡化制造過程并縮短工時,同時膠黏劑里含有導熱性極佳的顆粒,有助于改善疊晶結構運作時的散熱問題。
      文檔編號H01L21/50GK1466213SQ02123198
      公開日2004年1月7日 申請日期2002年6月28日 優(yōu)先權日2002年6月28日
      發(fā)明者劉正仁, 張錦煌 申請人:矽品精密工業(yè)股份有限公司
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