專利名稱：自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種研磨墊及制造方法，特別是有關(guān)于一種可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊及其制造方法。
其中一種平坦化晶片的技術(shù)為化學(xué)機(jī)械研磨(chemical mechanicalpolish)。于此技術(shù)中，由一載具固持的晶片會(huì)被壓向粘在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上的一研磨墊，研磨墊在提供有化學(xué)研磨溶劑的同時(shí)，用以研磨晶片的表面。
由于，研磨墊的損耗程度對(duì)于整個(gè)化學(xué)機(jī)械研磨制程的研磨效率，有著十分大的影響，例如，當(dāng)研磨墊的損耗程度大于一既定量時(shí)，對(duì)晶片的研磨效果，就會(huì)不如損耗程度低于該既定量時(shí)，因此會(huì)造成晶片被移除的厚度不平均。
然而，已知方法中，要測(cè)量研磨墊損耗程度的有效方法，都是破壞性的，例如由研磨墊上切取一塊，并且使用電子顯微鏡來(lái)量厚度，或是使用跨在研磨墊上的一高度尺標(biāo)(straightedge)來(lái)接觸研磨墊表面，用以測(cè)量厚度。因此，于已知測(cè)量方法中，會(huì)破壞研磨墊或是造成研磨墊表面不干凈。
根據(jù)上述目的，本發(fā)明提供一種自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，包括一研磨基板，具有一研磨面、一基準(zhǔn)面、至少一第一標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第一既定距離處、至少一第二標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第二既定距離處，以及至少一第三標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第三既定距離處，其中該第一、第二及第三標(biāo)記孔，由該研磨面往該基準(zhǔn)面方向延伸，并且該第三既定距離大于該第二既定距離，且該第二既定距離大于該第一既定距離。
根據(jù)上述目的，本發(fā)明還提供一種可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，包括提供一研磨基板，具有一研磨面、一背面以及一第一既定顏色；以及于該研磨基板的背面下，形成具有一第一既定深度的至少一第一標(biāo)記孔、具有一第二既定深度的至少一第二標(biāo)記孔，以及具有一第三既定深度的至少一第三標(biāo)記孔，其中該第一既定深度大于該第二既定深度，該第二既定深大于該第三既定深度。
為讓本發(fā)明的上述目的、特征及優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下
圖2a、圖3a、圖4a、圖5a表示本發(fā)明的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊的剖面示意圖。
圖2b、圖3b、圖4b、圖5b分別表示圖2a、圖3a、圖4a、圖5a中該研磨墊的上視圖。
首先，如

圖1a中所示，提供一研磨基板100，具有一研磨面SF1及一背面SF2。
一般來(lái)說(shuō)，研磨基板通常由聚亞胺酯(聚安基甲酸酯)材質(zhì)所構(gòu)成，上述聚亞胺酯材質(zhì)是先被形成一個(gè)圓柱體后，再切成具有一既定厚度Ts的多個(gè)研磨基板，其中研磨基板的既定厚度Ts大約為數(shù)毫米。
接著，使用鐳射光或機(jī)械方式于該研磨基板100的背面SF2打洞，分別形成具有一第一既定深度d1的至少一第一標(biāo)記孔V1、具有一第二既定深度d2的至少一第二標(biāo)記孔V2，以及具有一第三既定深度d3的至少一第三標(biāo)記孔V3，其中該第一既定深度d1大于該第二既定深度d2，且該第二既定深度d2大于該第三既定深度d3，如圖1b所示。
舉例來(lái)說(shuō)，該等第一標(biāo)記孔V1的第一既定深度d1約為0.6mm-0.7mm，且該等第一標(biāo)記孔V1排列成一第一既定圖案。該等第二標(biāo)記孔V2的第二既定深度d2約為0.4mm-0.5mm，且該等第二標(biāo)記孔V2排列成一第二既定圖案。而該等第三標(biāo)記孔V3的第三既定深度d3約為0.2mm-0.3mm，且該等第三標(biāo)記孔V3排列成一第三既定圖案。于本實(shí)例中，該第一、第二、第三既定圖案為三個(gè)同心圓，但不用以限定本發(fā)明。
接著，請(qǐng)參考圖2a-圖5a及圖2b-圖5b，圖2a-圖5a是表示本發(fā)明的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊10的剖面示意圖。圖2b-圖5b是分別表示圖2a-圖5a中該研磨墊10的上視圖。
如圖2a所示，本發(fā)明的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊10包括一研磨基板100，具有一研磨面SF1、一基準(zhǔn)面SF2、至少一第一標(biāo)記孔V1，設(shè)置于該研磨面SF1下方一第一既定距離T1處、至少一第二標(biāo)記孔V2，設(shè)置于該研磨面SF1下方一第二既定距離T2處，以及至少一第三標(biāo)記孔V3，設(shè)置于該研磨面SF1下方一第三既定距離T3處，其中該第一、第二及第三標(biāo)記孔V1、V2及V3，皆由該研磨面SF1往該基準(zhǔn)面SF2方向延伸，并且該第三既定距離T3大于該第二既定距離T2，且該第二既定距離T2大于該第一既定距離T1，于本說(shuō)明例中，上述第一、第二、第三既定距離是分別為0.3mm、0.5mm、0.7mm，但不用以限定本發(fā)明。
當(dāng)本發(fā)明的研磨墊10的損耗程度，未大于該第一既定距離T1時(shí)，該等第一、第二及第三標(biāo)記孔V1、V2、V3所分別排列成的一第一、第二及第三既定圖案，不會(huì)出現(xiàn)于該研磨墊10的研磨面SF1，如圖2b中所示。
如圖3a中所示，當(dāng)本發(fā)明的研磨墊10的損耗程度，大于該第一既定距離T1時(shí)，則該等第一標(biāo)記孔所排列成的一第一既定圖案，會(huì)出現(xiàn)于該研磨墊10的研磨面SF1，如圖3b中所示。
接著，如圖4a，當(dāng)本發(fā)明的研磨墊10的損耗程度，大于該第二既定距離T2時(shí)，則該等第一及第二標(biāo)記孔所排列成的一第一及第二既定圖案，會(huì)出現(xiàn)于該研磨墊10的研磨面SF1，如圖4b中所示。
然后，如圖5a中所示，當(dāng)本發(fā)明的研磨墊10的損耗程度，大于該第一既定距離T3時(shí)，則該等第一、第二及第三標(biāo)記孔所排列成的一第一、第二及第三既定圖案，會(huì)出現(xiàn)于該研磨墊100的研磨面SF1，如圖5b中所示。
于本實(shí)施例中，第一、第二及第三既定圖案分別為三個(gè)不同直徑的圓形。所以，當(dāng)研磨墊的損耗程度大于第一既定距離T1時(shí)，于研磨墊的研磨面上會(huì)顯示出一個(gè)由孔洞排列面成的圓形(第一既定圖案)。并且，當(dāng)研磨墊的損耗程度大于第二既定距離時(shí)，于研磨墊的研磨面上會(huì)顯示出兩個(gè)由孔洞排列面成的圖形(第一、第二既定圖案)。另外，當(dāng)研磨墊的損耗程度大于第三既定距離T3時(shí)，于研磨墊的研磨面上會(huì)顯示出三個(gè)由孔洞排列而成的圓形(第一、第二、第三既定圖案)。故本發(fā)明的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊10，會(huì)于不同損耗程度時(shí)，顯示出不同的圖案。
因此，制程人員可依據(jù)研磨墊的研磨面上顯示的圖形，判別研磨墊的損耗程度，而得知是否需要更換研磨墊，借以由提高整個(gè)CMP制程的研磨效率。同時(shí)，本發(fā)明不會(huì)像已知測(cè)量方法，需要破壞研磨墊或是會(huì)造成研磨墊被污染。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例公開如上，然其并非用以限制本發(fā)明，任何熟習(xí)此項(xiàng)技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可做更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書的內(nèi)容為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，包括提供一研磨基板，具有一研磨面及一背面；以及于該研磨基板的背面下，形成具有一第一既定深度的至少一第一標(biāo)記孔、具有一第二既定深度的至少一第二標(biāo)記孔，以及具有一第三既定深度的至少一第三標(biāo)記孔，其中該第一既定深度大于該第二既定深度，該第二既定深度大于該第三既定深度。
2.如權(quán)利要求1所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述第一、第二以及第三標(biāo)記孔，是使用鐳射光所形成。
3.如權(quán)利要求1所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述第一、第二以及第三標(biāo)記孔，是使用機(jī)械方式所形成。
4.如權(quán)利要求2所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述第一、第二及第三標(biāo)記孔分別排列成一第一既定圖案、一第二既定圖案以及一第三既定圖案。
5.如權(quán)利要求4所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述的第一、第二、第三既定圖案為三個(gè)同心圓。
6.如權(quán)利要求1所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述的第一既定深度為0.6mm-0.7mm。
7.如權(quán)利要求1所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述的第二既定深度為0.4mm-0.5mm。
8.如權(quán)利要求1所述的可自動(dòng)顯示損耗程度的研磨墊的制造方法，其特征在于所述的第三既定深度為0.2mm-0.3mm。
9.一種自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，包括一研磨基板，具有一研磨面、一基準(zhǔn)面、至少一第一標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第一既定距離處、至少一第二標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第二既定距離處，以及至少一第三標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第三既定距離處，其中該第一、第二及第三標(biāo)記孔，由該研磨面往該基準(zhǔn)面方向延伸，并且該第三既定距離大于該第二既定距離，且該第二既定距離大于該第一既定距離。
10.如權(quán)利要求9所述的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，其特征在于所述的第一既定距離為0.2mm-0.3mm。
11.如權(quán)利要求9所述的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，其特征在于所述的第二既定距離為0.4mm-0.5mm。
12.如權(quán)利要求9所述的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，其特征在于所述的第三既定距離為0.6mm-0.7mm。
13.如權(quán)利要求9所述的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，其特征在于所述第一、第二及第三標(biāo)記孔是分別排列成一第一既定圖案、一第二既定圖案以及一第三既定圖案。
14.如權(quán)利要求13所述的自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，其特征在于所述的第一、第二、第三既定圖案為三個(gè)同心圓。
全文摘要
一種自動(dòng)顯示磨耗程度的研磨墊，包括一研磨基板，具有一研磨面、一基準(zhǔn)面、至少一第一標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第一既定距離處、至少一第二標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第二既定距離處，以及至少一第三標(biāo)記孔，設(shè)置于該研磨面下方一第三既定距離處，其中該第一、第二及第三標(biāo)記孔，由該研磨面往該基準(zhǔn)面方向延伸，并且該第三既定距離大于該第二既定距離，且該第二既定距離大于該第一既定距離。
文檔編號(hào)H01L21/304GK1480991SQ0213199
公開日2004年3月10日 申請(qǐng)日期2002年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月4日
發(fā)明者陳志焜, 龔耀雄, 陳志 申請(qǐng)人:南亞科技股份有限公司