專利名稱：熱處理裝置和熱處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對半導(dǎo)體圓片等被處理體實(shí)施規(guī)定的熱處理和化學(xué)/物理處理的熱處理裝置和熱處理方法。
背景技術(shù)：
一般情況下，為制造半導(dǎo)體集成電路，要對由硅襯底等所形成的半導(dǎo)體圓片，進(jìn)行成膜處理、刻蝕處理、氧化處理、擴(kuò)散處理、改質(zhì)處理等各種熱處理。在用縱型的所謂分批式的熱處理裝置進(jìn)行這些熱處理的情況下，首先，從能容納多枚半導(dǎo)體圓片，例如25枚左右的盒中，將半導(dǎo)體圓片移送到縱型的圓片舟內(nèi)，并將其多級支撐。這種圓片舟，例如，最多能放置150枚圓片。另外，為了使氣體流動均勻或調(diào)整高度方向的溫度曲線圖，必要時，在規(guī)定的位置上，支撐與制品圓片不同的偽圓片。
這樣，在多級支撐各種圓片的狀態(tài)下，將圓片舟，從下方搬入(加載)到可以抽真空的處理容器內(nèi)，并使處理容器維持氣密封。然后，執(zhí)行預(yù)先做成的流程程序，根據(jù)上述流程程序，控制處理氣體的流量、流程壓力、流程溫度等各種流程條件，實(shí)施規(guī)定的熱處理。
在這種情況下，熱處理之前，根據(jù)處理的種類、處理時的制品圓片的枚數(shù)等，應(yīng)事先指定有關(guān)圓片布局(配置狀態(tài))的布局程序，該程序是關(guān)于在圓片舟中，圓片應(yīng)如何被支撐、偽圓片放置在哪個位置上、在盒內(nèi)被支撐的圓片存在有空位的情況下，圓片舟移送時，在其空位上是否插入偽圓片、或者將其空位空著的圓片的布局(配置狀態(tài))的布局程序。另外，當(dāng)然，還應(yīng)事先指定，與應(yīng)執(zhí)行的熱處理相應(yīng)的流程程序。
上述的以往熱處理裝置，操作員必須輸入特定布局程序的記號和特定流程程序的記號的2種記號，尤其是在各自記號種類多的情況下，將存在輸入的記號產(chǎn)生錯誤的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是針對這種問題而進(jìn)行的，其目的在于提供用簡便的操作就能對布局程序和流程程序的組合進(jìn)行選擇的熱處理裝置和熱處理方法。
本發(fā)明熱處理裝置的特征在于具備處理容器；被處理體舟，其被配置在處理容器內(nèi)、在規(guī)定位置多級放置多枚被處理體；布局存儲部，其包含使上述多枚被處理體以不同的布局狀態(tài)放置到上述被處理體舟上的、并且各自具有特定的布局識別記號的多個布局程序；流程存儲部，其包含為對上述被處理體實(shí)施不同的熱處理，各自流程條件不同的、并且各自具有特定的流程識別記號的多個流程程序；作業(yè)處方存儲部，其包含從與上述多個布局程序的各個分別相對應(yīng)的布局識別記號和與上述多個流程程序的各個分別相對應(yīng)的流程識別記號中，選擇任意的布局識別記號和流程識別記號，按照應(yīng)執(zhí)行的順序，將它們按時間序列排列的、并且各自具有特定作業(yè)識別記號的多個作業(yè)處方；控制單元，其控制執(zhí)行通過由外部輸入的上述作業(yè)識別記號所對應(yīng)的作業(yè)處方而特定的上述布局程序和上述流程程序。
這樣，操作員只需要例如從輸入操作部輸入所希望的作業(yè)識別記號，就能分別從布局存儲部和流程存儲部讀出以該作業(yè)識別記號所特定的布局程序和流程程序，并以作業(yè)處方所表示的時間序列的順序依次執(zhí)行，因此只需要對作業(yè)識別記號進(jìn)行選擇，就能選擇各種布局程序和流程程序的組合，而且還能抑制輸入錯誤的發(fā)生。
本發(fā)明熱處理裝置的特征在于上述作業(yè)處方存儲部包含具有1個或多個流程識別記號的作業(yè)處方。
本發(fā)明熱處理裝置的特征在于上述作業(yè)處方存儲部包含具有1個或多個布局識別記號的作業(yè)處方。
本發(fā)明熱處理裝置的特征在于上述處理容器是下端開放的縱型處理容器。
本發(fā)明熱處理裝置的特征在于由輸入操作部向控制單元輸入作業(yè)識別記號。
本發(fā)明的熱處理方法，是將被處理體舟支撐的被處理體導(dǎo)入到處理容器內(nèi)，實(shí)施規(guī)定的熱處理的熱處理方法，其特征在于包括將以相互不同的布局狀態(tài)放置上述被處理體的、并且各自具有特定的布局識別記號的多個布局程序預(yù)先存儲到布局存儲部的工序；將用于熱處理的流程條件分別不同的、并且各自具有特定的流程識別記號的多個流程程序預(yù)先存儲到流程存儲部的工序；將從上述多個布局程序的各自相對應(yīng)的布局識別記號和上述多個流程程序的各自相對應(yīng)的流程識別記號中選擇任意的布局識別記號和流程識別記號，并按應(yīng)執(zhí)行的順序，將它們按時間序列排列的、并且各自具有特定的作業(yè)識別記號的多個作業(yè)處方預(yù)先存儲到作業(yè)處方存儲部的工序；以基于通過使由外部輸入的作業(yè)識別記號所對應(yīng)的作業(yè)處方而特定的上述布局程序的布局狀態(tài)，將被處理體放置到被處理體舟導(dǎo)入到處理容器內(nèi)，并以基于通過上述作業(yè)處方而特定的流程程序的流程條件，對被處理體進(jìn)行熱處理。


圖1是表示有關(guān)本發(fā)明的熱氧化裝置一例的構(gòu)成圖；圖2是表示本發(fā)明熱處理裝置的控制系統(tǒng)的框圖；圖3是表示流程存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖4是表示布局存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖5是表示作業(yè)處方存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖6是表示被放置到圓片舟的圓片布局狀態(tài)的附圖。
實(shí)施方式下面，基于添加的圖，對有關(guān)本發(fā)明的熱處理裝置和熱處理方法的實(shí)施例，予以詳述。
圖1是表示有關(guān)本發(fā)明的熱氧化裝置一例的構(gòu)成圖；圖2是表示本發(fā)明熱處理裝置的控制系統(tǒng)的框圖；圖3是表示流程存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖4是表示布局存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖5是表示作業(yè)處方存儲部內(nèi)的存儲內(nèi)容的附圖；圖6是表示被裝置到圓片舟中的圓片布局狀態(tài)的附圖。
該熱處理裝置22，具有由內(nèi)筒24和外筒26所構(gòu)成的石英制的、雙重管結(jié)構(gòu)的、縱型規(guī)定長度的處理容器28。在上述內(nèi)筒24內(nèi)的處理空間S中，放置作為用于支撐被處理體的被處理體舟的、石英制的圓片舟30，在該圓片舟30中，以規(guī)定的間距多級保持作為被處理體的半導(dǎo)體圓片W。另外，在該圓片舟30中，如后述那樣還保持偽圓片等。
為了使該處理容器28的下方開閉而設(shè)有蓋32，并設(shè)有穿過磁性流體密封34的旋轉(zhuǎn)軸36。在該旋轉(zhuǎn)軸36的上端設(shè)有旋轉(zhuǎn)臺38，在該旋轉(zhuǎn)臺38上設(shè)置保溫筒40，在該保溫筒40上放置上述圓片舟30。上述旋轉(zhuǎn)軸36被安裝在可升降的舟升降機(jī)42的支架44上，可以和上述蓋l2或圓片舟30等一起升降，圓片舟30可從其下方對處理容器28插入或脫離，另外，也可以使圓片舟30不旋轉(zhuǎn)，而使其為固定狀態(tài)。
上述處理容器28的下端開口部連接有例如不銹鋼制的歧管46，在該歧管46，用于向處理容器28導(dǎo)入各種所需要的氣體的在圖示例中的3個氣體噴嘴48A、48B、48C穿通設(shè)置。然后，各氣體噴嘴48A～48C分別與氣體供給系統(tǒng)50A、50B、50C相連接，并且在各氣體供給系統(tǒng)50A～50C設(shè)置控制氣體流量的例如質(zhì)量流量調(diào)節(jié)器那樣的流量控制器52A、52B、52C。這里設(shè)置了3個氣體噴嘴48A～48C，當(dāng)然可以根據(jù)需要增減氣體噴嘴的數(shù)量。
另外，由上述各氣體噴嘴48A～48C供給的各種氣體，在內(nèi)筒24內(nèi)的處理空間S即圓片的容納區(qū)域上升后，在頂部向下方折回，然后，流入內(nèi)筒24和外筒26之間的間隙內(nèi)被排出。另外，在外筒26的底部側(cè)壁，設(shè)有排氣口54，該排氣口54與在排氣路56上設(shè)置有壓力控制閥58和真空泵60的真空排氣系統(tǒng)62相連接，把處理容器28內(nèi)抽真空。
另外，在處理容器28的外圍，設(shè)置有絕熱層64，在其內(nèi)側(cè)設(shè)置有作為加熱手段的加熱器66，將位于內(nèi)側(cè)的圓片W加熱到規(guī)定的溫度。
這里，處理容器28的整體大小，例如當(dāng)應(yīng)進(jìn)行熱處理的圓片W的大小為8英寸，圓片舟30保持的圓片枚數(shù)為150枚(制品圓片130枚左右，偽圓片20枚左右)時，則內(nèi)筒24的直徑約為260～270mm，外筒26的直徑約為275～285mm，處理容器28的高度約為1280mm。
圖1中，符號68是將蓋32和歧管46之間的間隙密封的O形環(huán)等的密封件，符號70是將歧管46和外筒26下端部之間的間隙密封的O形環(huán)等的密封件。
另外，在上述處理容器28的下方，設(shè)置用于對上述圓片舟30移送圓片W或從其取出的圓片移送機(jī)構(gòu)82。該圓片移送機(jī)構(gòu)82，具有利用滾珠螺桿可以上下方向移動的移送桿84，在該移送桿84上，設(shè)置可以沿著該移送桿84滑行移動和旋轉(zhuǎn)移動的叉頭86。從該叉頭86延出多根、圖示例中為5根的叉88，由該叉88，對圓片舟30一次可以移送最多5杖的圓片W等。
下面，參照圖2對該熱處理裝置的控制系統(tǒng)進(jìn)行說明。
圖2中，熱處理裝置的控制系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)中央運(yùn)算部等的控制單元2。在從該控制單元2延伸出的總線4上，分別連接有控制熱處理裝置的加熱器66等的加熱器控制部6；對使圓片舟30上下移動即加載·卸載的舟升降機(jī)42和圓片舟30控制圓片移送·取出的圓片移送機(jī)構(gòu)82等的機(jī)械部控制部8；對控制處理氣體的供給·流量的流量控制器52A～52C等進(jìn)行控制的氣體控制部10；對控制處理容器28內(nèi)的壓力的壓力控制閥58等進(jìn)行控制的壓力控制部12；存儲有為了進(jìn)行各種不同流程的多個流程程序的流程存儲部14；存儲為實(shí)現(xiàn)對圓片舟30的圓片配置的各種布局狀態(tài)而執(zhí)行的多個布局程序的布局存儲部16；存儲將上述布局程序的布局識別記號和流程程序的流程識別記號分別組合并按應(yīng)執(zhí)行的順序進(jìn)行時間系列排列的多個作業(yè)處方的作業(yè)處方存儲部72。另外，上述流程存儲部14、布局存儲部16以及作業(yè)處方存儲部72，被形成在同一輔助存儲部例如硬盤74內(nèi)。
另外，在該總線4上，還連接由觸盤或鍵盤等構(gòu)成的輸入操作部18和控制該裝置整體工作的控制單元2。另外，也有各種控制指令從主機(jī)20側(cè)輸入的情況。上述各控制部是代表例，實(shí)際上在上述總線2上還連接有各種控制部。
在此，對上述各存儲部14、16、72的各存儲內(nèi)容進(jìn)行說明。
首先，流程存儲部14，如圖3中示出的那樣存儲有用于實(shí)際執(zhí)行熱處理(流程)的各種流程程序和用于識別它們的流程識別記號。在圖3，共存儲有m個(m正整數(shù))流程程序，分別附加有P1～Pm的程序識別記號。例如，流程程序1是進(jìn)行成膜處理1的程序，流程程序2是進(jìn)行成膜處理2的程序，流程程序3是進(jìn)行成膜處理3的程序，流程程序4是進(jìn)行檢驗(yàn)處理的程序，流程程序5是進(jìn)行干燥處理的程序，流程程序6是進(jìn)行清洗處理的程序。
在上述各流程程序中，還附加有所使用的氣體種類、氣體流量、流程溫度、流程壓力、流程時間等的各種流程條件。上述成膜處理1～3例如是進(jìn)行使各個不同種類的膜沉積在圓片上的處理。上述檢驗(yàn)處理特別是在實(shí)際進(jìn)行成膜處理等之前，檢驗(yàn)加熱器66、流量控制器52A～52C、壓力控制閥58等是否正常工作的處理。
上述干燥處理，例如是在清洗處理之后等所進(jìn)行的處理，實(shí)際上是在將膜沉積在圓片上之前，向處理容器28內(nèi)流入成膜用的氣體，使相同種類的膜附著在處理容器28的內(nèi)面等上，而使處理容器28內(nèi)的環(huán)境達(dá)到穩(wěn)定化的處理。
上述清潔處理，是除去附著在處理容器28內(nèi)面和圓片舟30表面上的多余膜的處理。
這里所示的熱處理種類，只不過僅舉1例，還可進(jìn)行其它的，例如氧化擴(kuò)散處理、刻蝕處理、改質(zhì)處理、退火處理等各種熱處理。
布局存儲部16，還如圖4和圖6所示，存儲有用于實(shí)現(xiàn)將圓片移送到圓片舟30時規(guī)定的布局狀態(tài)的各種布局程序和對其進(jìn)行識別的布局識別記號。圖4中，共存儲有n個(n正整數(shù))布局程序，分別附加有L1～Ln布局識別記號。上述各布局程序，各自如實(shí)現(xiàn)相互不同的布局狀態(tài)那樣，將圓片放置到圓片舟30上。
例如，布局程序1是實(shí)現(xiàn)如圖6(A)所示的布局1的放置狀態(tài)的程序。圖6(A)所示的布局1的放置狀態(tài)是在圓片舟30的上下端放置多枚、在圖示例中各自5枚的偽圓片DW，而在中央部放置制品圓片W，把它稱之為中裝。布局程序2，是用來實(shí)現(xiàn)如圖6(B)所示的布局2的放置狀態(tài)的程序，其放置狀態(tài)是在圓片舟30的下端側(cè)放置多枚在圖示例中是10枚的偽圓片DW，由此，在上方以上裝狀態(tài)放置所有制品圓片W，把它稱之為上裝。
布局程序3，是用來實(shí)現(xiàn)如圖6(C)所示的布局3的放置狀態(tài)的程序，其放置狀態(tài)是在圓片舟30的上端側(cè)放置多枚在圖示例中是10枚的偽圓片DW，由此，以下裝狀態(tài)放置所有制品圓片W，把它稱之為下裝。
布局程序4是用來實(shí)現(xiàn)如圖6(D)所示的布局4的放置狀態(tài)的程序，它表示圖6(A)所示的中裝狀態(tài)的變形。也就是，在搬送來圓片的例如容納25枚的盒內(nèi)，通常不一定滿載圓片，也有部分漏掉，呈所謂豁牙狀態(tài)的情況，在這種情況下，其豁牙部分保持原狀態(tài)(不裝圓片)，并以這種狀態(tài)，將所有圓片移送到圓片舟30。從而，如圖6(D)所示，在圓片舟30上，產(chǎn)生部分未放置圓片的豁牙部80，把這種放置狀態(tài)稱之為中裝變形1。
另外，布局程序5，是用來實(shí)現(xiàn)如圖6(E)所示的布局5的放置狀態(tài)的程序，是在圖6(D)所示的豁牙部80放置偽圓片DW。把這種放置狀態(tài)稱之為中裝變形2。
上述各放置狀態(tài)，只不過僅是一例，在此布局存儲部16還存儲用于實(shí)現(xiàn)各種不同的放置狀態(tài)的多個布局程序。
作為本發(fā)明特征的作業(yè)處方存儲部72，如圖5所示，存儲有從上述布局識別記號和上述流程識別記號中，選擇任意的布局識別記號和流程識別記號，并按照應(yīng)執(zhí)行的順序，將它們進(jìn)行時間序列排列的多個作業(yè)處方。
在圖5中，共存儲有h(h正整數(shù))個作業(yè)處方，分別附加有J1～Jh作業(yè)識別記號。例如，作業(yè)識別記號J1的作業(yè)處方為“L1→P1”，意味著按這個順序進(jìn)行圓片放置和流程。這些作業(yè)處方，也可各自每選擇一個或多個圖3所示的流程程序和圖4所示的布局程序，并按所希望的時間系列的順序組合起來，與作業(yè)識別記號一起存儲到上述作業(yè)處方存儲部72。
接著，對使用上述那樣被構(gòu)成的本發(fā)明熱處理裝置所進(jìn)行的本發(fā)明的方法進(jìn)行說明。
首先，操作員事先要判明想要執(zhí)行的圓片的布局狀態(tài)和應(yīng)執(zhí)行的流程，因此，要由圖2所示的輸入操作部18輸入與其組合相對應(yīng)的作業(yè)識別記號。在這種情況下，也有操作員從主機(jī)20側(cè)輸入該作業(yè)識別記號的情況。
這樣，控制單元2從作業(yè)處方存儲部7 2讀出與被輸入的作業(yè)識別記號相對應(yīng)的作業(yè)處方，并解析其內(nèi)容。其解析結(jié)果，控制單元2以在作業(yè)處方中被特定的順序，分別依次執(zhí)行布局程序或流程程序。
例如，在操作員輸入了作業(yè)識別記號“J1”的情況下，該作業(yè)處方以“L1→P1”為內(nèi)容，所以，圓片移送機(jī)構(gòu)82驅(qū)動，如圖6(A)所示的布局1那樣，將制品圓片W和偽圓片DW移送到圓片舟30，然后，使該圓片舟30上升，向處理容器28內(nèi)加載圓片，執(zhí)行流程程序1。另外，有關(guān)圓片的移送，該圓片移送機(jī)構(gòu)82以下同樣工作。
同樣，在輸入了作業(yè)識別記號“J2”的情況下，作業(yè)處方以“L2→P3”為內(nèi)容，所以，如圖6(B)所示的布局2那樣，向圓片舟30移送制品圓片W和偽圓片DW，執(zhí)行流程程序3。
同樣，在輸入了作業(yè)識別記號“J3”的情況下，作業(yè)處方以“L3→P1→P2→P3”為內(nèi)容，所以，如圖6(C)所示的布局3那樣，向圓片舟30移送制品圓片W和偽圓片DW，依次執(zhí)行流程程序1，流程程序2和流程程序3。這樣，連續(xù)執(zhí)行數(shù)次例如3次流程程序的處理方式，被用于依次形成例如氧化膜·氮化膜·氧化膜的疊層結(jié)構(gòu)那樣的多層膜結(jié)構(gòu)。
同樣，在輸入了作業(yè)識別記號“J4”的情況下，作業(yè)處方以“P4→L2→P2→P1”為內(nèi)容，所以在處理容器28內(nèi)空著的狀態(tài)下，執(zhí)行流程程序4即檢驗(yàn)處理，確認(rèn)熱處理裝置的各構(gòu)成部件是否正常工作，如能確認(rèn)正常工作，則如圖6(B)所示的布局2那樣，向圓片舟30移送制品圓片W和偽圓片DW，依次執(zhí)行流程程序2和流程程序1。
同樣，在輸入了作業(yè)識別記號“J5”的情況下，作業(yè)處方以“L4→P3→P6”為內(nèi)容，所以，如圖6(D)所示的布局4那樣，向圓片舟30移送制品圓片W和偽圓片DW，依次執(zhí)行流程程序3和流程程序6即清洗處理。這時，在執(zhí)行清洗處理即流程程序6之前，當(dāng)然要降下圓片舟30進(jìn)行卸載，將圓片W從處理容器28中取出。
另外，同樣，在輸入了作業(yè)識別記號“J6”的情況下，作業(yè)處方以“L1→P1→L2→P3”為內(nèi)容，所以，首先如圖6(A)所示的布局1那樣，將制品圓片W和偽圓片DW移送到圓片舟30后，執(zhí)行流程程序1。接著，當(dāng)該流程程序1執(zhí)行完后，將圓片舟30卸下，并從處理容器28中取出圓片，再如圖6(B)所示的布局2那樣，通過替換相同的制品圓片W，而改變布局，接著執(zhí)行流程程序2。
如以上那樣，對于相同的制品圓片W也可以按不同的布局實(shí)施不同的流程。
這樣，利用本發(fā)明，操作員只輸入1個作業(yè)識別記號，則可以選擇一個或者多個所希望的作業(yè)處方，以所希望的圓片布局狀態(tài)實(shí)施所希望的流程。
另外，因僅僅輸入一個作業(yè)識別記號，所以與現(xiàn)有的方法相比，還可以抑制輸入錯誤的發(fā)生。
在本實(shí)施例中，舉出了雙重管結(jié)構(gòu)的熱處理裝置進(jìn)行說明，但是，如果是分批式的熱處理裝置的話，則其結(jié)構(gòu)沒有特別的限定，單管結(jié)構(gòu)的熱處理裝置、由處理容器的底部導(dǎo)入氣體，從頂部排出氣體那樣結(jié)構(gòu)的熱處理裝置、或者與此相反，從處理容器的頂部導(dǎo)入氣體，從底部排出氣體那樣結(jié)構(gòu)的熱處理裝置等，也可以適用本發(fā)明。另外，本發(fā)明不僅可適用于縱型熱處理裝置，也可適用于橫式熱處理裝置。
另外，作為被處理體，不僅只限于半導(dǎo)體圓片，還可以用于LCD襯底、玻璃襯底等。
如上所述，利用本發(fā)明的熱處理裝置和熱處理方法，能發(fā)揮下述的出色作用效果。
操作員，例如只從輸入操作部，輸入所希望的作業(yè)識別記號，就能分別從布局存儲部和流程存儲部讀出由該作業(yè)識別記號所特定的布局程序和流程程序，按作業(yè)處方所表示的時間系列的順序依次執(zhí)行這些程序，從而只選擇作業(yè)識別記號，就可以選擇各種布局程序和流程程序的組合，而且還可以抑制輸入錯誤的發(fā)生。
權(quán)利要求
1.一種熱處理裝置，其特征在于具有處理容器；被處理體舟，其被配置在處理容器內(nèi)、在規(guī)定位置多級放置多枚被處理體；布局存儲部，其包含使上述多枚被處理體以不同的布局狀態(tài)放置到上述被處理體舟上的、并且各自具有特定的布局識別記號的多個布局程序；流程存儲部，其包含為對上述被處理體實(shí)施不同的熱處理，各自流程條件不同的、并且各自具有特定的流程識別記號的多個流程程序；作業(yè)處方存儲部，其包含從與上述多個布局程序的各個分別相對應(yīng)的布局識別記號和與上述多個流程程序的各個分別相對應(yīng)的流程識別記號中，選擇任意的布局識別記號和流程識別記號，按照應(yīng)執(zhí)行的順序，將它們按時間序列排列的、并且各自具有特定作業(yè)識別記號的多個作業(yè)處方；控制單元，其控制執(zhí)行通過由外部輸入的上述作業(yè)識別記號所對應(yīng)的作業(yè)處方而特定的上述布局程序和上述流程程序。
2.權(quán)利要求1中記載的熱處理裝置，其特征在于上述作業(yè)處方存儲部包含具有1個或多個流程識別記號的作業(yè)處方。
3.權(quán)利要求1中記載的熱處理裝置，其特征在于上述作業(yè)處方存儲部包含具有1個或多個布局識別記號的作業(yè)處方。
4.權(quán)利要求1中記載的熱處理裝置，其特征在于上述處理容器是下端開放式的縱型處理容器。
5.權(quán)利要求1中記載的熱處理裝置，其特征在于作業(yè)識別記號是由輸入操作部輸入到控制單元的。
6.一種熱處理方法，其是將被處理體舟所支撐的被處理體導(dǎo)入到處理容器內(nèi)，實(shí)施規(guī)定的熱處理的熱處理方法，其特征在于包括將以相互不同的布局狀態(tài)放置上述被處理體的、并且各自具有特定的布局識別記號的多個布局程序預(yù)先存儲到布局存儲部的工序；將用于熱處理的流程條件分別不同的、并且各自具有特定的流程識別記號的多個流程程序預(yù)先存儲到流程存儲部的工序；將從上述多個布局程序的各自相對應(yīng)的布局識別記號和上述多個流程程序的各自相對應(yīng)的流程識別記號中選擇任意的布局識別記號和流程識別記號，并按應(yīng)執(zhí)行的順序，將它們按時間序列排列的、并且各自具有特定的作業(yè)識別記號的多個作業(yè)處方預(yù)先存儲到作業(yè)處方存儲部的工序；以基于通過使由外部輸入的作業(yè)識別記號所對應(yīng)的作業(yè)處方而特定的上述布局程序的布局狀態(tài)，將被處理體放置到被處理體舟導(dǎo)入到處理容器內(nèi)，并以基于通過上述作業(yè)處方而特定的流程程序的流程條件，對被處理體進(jìn)行熱處理。
全文摘要
熱處理裝置具有處理容器28和被放置到處理容器28內(nèi)、多級支撐被處理體W的被處理體舟30。當(dāng)操作員比如從輸入操作部18輸入所希望的作業(yè)識別記號J1～Jh時，則通過利用該作業(yè)識別記號所特定的作業(yè)處方，分別從布局存儲部16和流程存儲部14讀出布局程序和流程程序，并按作業(yè)處方所表示的時間序列的順序依次執(zhí)行這些程序。由此，只選擇作業(yè)識別記號就可以選擇各種布局程序和流程程序的組合。
文檔編號H01L21/205GK1488162SQ02802802
公開日2004年4月7日 申請日期2002年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月4日
發(fā)明者高橋彰, 川村和廣, 廣 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社