專利名稱：涂覆方法、涂覆設備、以及制造圖案部件的方法和設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于形成涂覆薄膜的涂覆方法和涂覆設備，尤其涉及一種給連續(xù)行進的織物(柔性支撐帶)涂覆多種類型的液體復合物以形成連續(xù)的、長且寬的涂覆薄膜表面的涂覆方法和涂覆設備。本發(fā)明還涉及一種利用其上已經由上述涂覆方法和涂覆設備形成涂覆薄膜的柔性支撐帶(片)制造圖案部件的方法，尤其涉及一種用于制造適于電子顯示應用的圖案部件的制造方法，例如，用于液晶顯示器的濾色器和用于有機發(fā)光二極管(OLED)元件的像素。
背景技術：
在感光材料和磁性記錄介質領域，已經采用在連續(xù)運動的柔性支撐帶(下文稱作“織物”)上涂覆特定涂覆液而形成涂覆薄膜的涂覆工藝。近年來，在這些領域，已經需要能夠生產具有較高的厚度精度和光滑表面的非常薄的涂層薄膜的涂覆技術。
利用涂覆液涂布織物表面的涂覆設備包括，例如，輥式涂布機類型、凹版式涂布機類型、輥式涂布機加刮刀類型、擠壓式涂布機類型和滑塊式涂布機類型。近年來，擠壓式涂布機式的涂覆設備已經廣泛用于這些領域，因為在這些類型的涂覆設備中，在利用泵供給固定量的涂層液體時，可以進行涂覆，而能夠非常容易地獲得所需的薄膜厚度。
作為電子顯示器比如用于液晶顯示器的濾光器和用于OLED元件的像素的材料，已經使用了玻璃基底、片式基體和薄膜形成的圖案部件，其中在這些基體上已經形成例如紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的任何一種顏色或三種顏色的條紋或矩陣圖案。
作為生產這些圖像元件的方法，已經提出并使用了多種方法。它們包括，例如，照相平版印刷、顏料分散法、電沉積法和印刷法。然而這些方法具有優(yōu)點和缺點，在目前的情況下，生產商使用的是他們認為最適當的單一方法。
即使使用了擠壓涂布機類型的涂覆設備，也很難獲得均勻、大面積的、干燥后厚度為0.1μm或更小的涂覆薄膜。例如，當使用擠壓涂布機類型的涂覆設備時，緊接涂布所述涂覆液之后，獲得的涂覆薄膜的最小厚度約為20μm。為了獲得干燥后厚度為0.2μm或更小的涂覆薄膜，所使用的涂覆液的濃度必須低至1％，為了獲得干燥后厚度小于0.1μm或更小的涂覆薄膜，所使用的涂覆液的濃度必須低至0.5％；因此所述涂覆液應非常稀薄。因為這種稀薄液體的粘度低，很難將它們均勻地涂覆并干燥涂布的涂層，達到均勻的厚度。
具有較低濃度和粘性的涂覆薄膜在干燥時非常容易受到氣流的影響，因此希望控制氣流速度，使其盡可能小，然而，如果在干燥時氣流速度非常低，將需要更多的時間干燥所述涂覆薄膜，從而導致生產率低下的問題。
關于圖案部件的生產，在目前的情況下，很難使用上述用于制造圖案部件的傳統(tǒng)方法滿足質量(圖案精度)和成本需求。
具體而言，照相制版法、沉積法等(例如參見日本專利申請公報No.2000-36385和9-204984)不僅需要很多人工和復雜的設備，而且不適用于在連續(xù)的柔性支撐件和單元上處理和大規(guī)模生產。
在凹版膠印法中(例如參見日本專利申請公報No.62-85202)，存在的問題是在轉印時圖案成形破壞和高精度(數十微米級)處理時的困難。這種方法不適于形成大面積的薄膜，而且，提供均勻油墨厚度和對準精度的能力上存在問題。
噴墨方法(例如參見日本專利申請公報No.10-153967)不僅具有降低孔徑比的問題，因為它需要分隔壁，而且具有在使有機層形成多層時存在困難的問題。而且，該方法不適于制造大面積的薄膜，且其提供均勻油墨厚度的能力上存在問題。
凸版染色工藝、顏料散布法和電沉積法都存在需要大量工時的問題，因此，不適于大批量生產。
轉印方法(例如參見日本專利申請公報No.2000-246866)是用于將已經在薄膜上形成的圖案轉印到玻璃基底等上的技術；然而，該方法不能將圖案轉印到連續(xù)薄膜形式的基底上。
轉印方法的其他形式(例如參見日本專利申請公報No.8-171008)包括，例如，在連續(xù)薄膜形式的基底上轉印圖案。然而，這種技術是首先將顏色集薄膜轉印到版表面，然后轉印到薄膜形式的基底上。因此，該技術需要重復轉印工藝，而導致例如低產量和圖案附著力變化的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明根據上述情況作出。因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于在通過涂覆頭的狹縫供給涂覆液時，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜的涂覆方法和涂覆設備，所述方法和設備能夠生產具有較高厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于制造圖案部件的方法，該圖案部件包括基底和多種不同材料在基底上形成的的圖案，所述方法能提高生產率和生產質量(圖案精度)。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于在通過涂覆頭的狹縫供給涂覆液時，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜，隨后干燥在所述基底帶上形成涂覆薄膜的涂覆方法，所述方法特征在于緊接涂布了涂覆液之后，涂覆薄膜的厚度設為2至40μm，涂覆薄膜表面上的相對氣流速度設為0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa.s；以及裝有上述方法中使用的干燥裝置的涂覆設備。
根據本發(fā)明，因為緊接涂布了涂覆液之后涂覆薄膜的厚度保持在適當范圍內，且涂覆薄膜表面的相對氣流速度保持在0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)樘囟ㄖ?，所以可以獲得具有較高厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
在重復進行集中研究后，本發(fā)明的發(fā)明人注意到緊接涂覆液涂布在織物上之后涂覆液的干燥狀況，直到其粘度變?yōu)橐欢ㄖ?，且在發(fā)明人發(fā)現(xiàn)如何保持干燥條件最佳時完成本發(fā)明。為了保持最佳的條件，必須介紹防止氣流的干燥裝置。
“涂覆薄膜表面上的相對氣流”在本說明書中規(guī)定的原因是，即使干燥裝置內的氣流速度保持在0.2m/sec或更小，涂覆薄膜表面和氣流之間的相對氣流速度可以為0.2m/sec或更大，這取決于柔性支撐帶的輸送速度。具體而言，即使干燥裝置內的氣流速度保持為0，當柔性支撐帶的輸送速度為0.2m/sec時，涂覆薄膜表面的相對氣流速度為0.2m/sec。
雖然現(xiàn)在已經提出了多種用低粘度液體涂覆織物的技術，但沒有一種實現(xiàn)了等效于本發(fā)明的原理和優(yōu)點。例如，日本專利申請公報No.2000-157923中提出的技術規(guī)定了織物進入干燥區(qū)之前的氣流速度，然而，沒有提及其他的干燥條件，它不同于本發(fā)明。
而且，日本專利申請公報No.2000-329463中提出的技術與本發(fā)明的共同之處在于規(guī)定了涂布了涂覆液之后固定時間內的氣流速度；然而，它規(guī)定了涂布涂覆液之后的涂覆薄膜的厚度為50μm或更大，而不同于本發(fā)明。
日本專利申請公報No.10-68587提出的技術僅規(guī)定了干燥空氣的氣流方向，因此與本發(fā)明不同。
本發(fā)明提供了一種用于在通過涂覆頭的狹縫供給涂覆液時，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜，隨后干燥在所述基底帶上形成涂覆薄膜的涂覆方法，所述方法特征在于涂覆頭狹縫的涂覆液的平均流速設為100至500mm/sec，緊接涂布了涂覆液之后涂覆薄膜的厚度設為2至40μm，在涂布了涂覆液之后0.5秒內柔性支撐帶保持在水平位置；以及上述方法中使用的涂覆設備。
根據本發(fā)明，因為涂覆頭狹縫的涂覆液的平均流速保持在適當范圍內，且在涂布了涂覆液之后很短時間內織物處于水平位置，所以可以獲得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
在重復進行集中研究之后，本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，如果涂覆頭的狹縫的涂覆液的平均流速不能令人滿意地高，那么涂覆液不能沿織物的寬度方向均勻流動，如果平均流速過高，涂覆液以從涂覆頭的狹縫噴出的方式供給，那么涂覆液不能穩(wěn)定地流動。
而且，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，如果緊接在織物上涂布了涂覆液之后直到織物保持在水平位置的經過時間過長，則涂布在織物上的液體流動，導致涂覆不均勻。
雖然現(xiàn)在已經提出了多種用低粘度液體涂覆織物的技術，但沒有一種實現(xiàn)了等效于本發(fā)明的原理和優(yōu)點。例如，日本專利申請公報No.10-290946和11-207230提出的技術是使涂覆頭的狹縫間隔非常窄，而使以涂覆液從狹縫噴出的方式進行涂覆。利用這些技術，涂覆液不能穩(wěn)定地流動，難以獲得均勻厚度的涂覆薄膜。這些技術的目的是防止外界物質進入涂覆薄膜；在這方面，它們與本發(fā)明不同。
日本專利申請公報No.2001-906中提出的技術規(guī)定了涂覆頭內部的形狀，從而在從涂覆頭側面供給涂覆液時限制慣性力，且涂覆液可以沿織物的寬度方向均勻地流動。這在目的和原理上與本發(fā)明不同。
涂覆頭狹縫中的涂覆液的平均流速可以通過供給到涂覆頭的涂覆液流量除以狹縫的截面積而得到。
在本發(fā)明中，涂覆液的粘度最好為10mPa·s或更小。本發(fā)明的優(yōu)點在使用具有低粘度的涂覆液時明顯。
在本發(fā)明中，涂覆液最好含有有機溶劑。本發(fā)明的優(yōu)點在使用含有有機溶劑的涂覆液時明顯。
在本發(fā)明中，干燥之后涂覆薄膜的厚度最好為0.01至0.4μm。本發(fā)明的優(yōu)點在用于形成干燥之后厚度非常薄的涂覆薄膜的涂覆方法中明顯。
在本發(fā)明中，干燥裝置最好包括加熱器加熱干燥裝置、輥子加熱干燥裝置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置中的至少一種。利用這些干燥裝置，可以獲得滿意的干燥速度，即使涂覆薄膜表面上的相對氣流速度保持在規(guī)定范圍內。
本發(fā)明提供了一種利用上有已經通過上述涂覆方法形成的相應涂覆薄膜的柔性支撐帶制造圖案部件的方法，其中多種不同種類的材料在基底上形成圖案，所述方法特征在于它包括在為所述材料制備的相應柔性支撐帶上涂布不同種類材料的步驟；干燥已經涂布了相應材料的柔性支撐帶的步驟；對每種材料重復進行以已經涂布在支撐帶上的材料與所述基底相對的方式將柔性支撐帶之一疊加在基底上、并利用推板從其背面頂推柔性支撐帶以使所述材料以圖案方式轉印到基底上的操作的步驟，從而使多種不同種類材料在基底上形成圖案。
根據本發(fā)明，首先，許多不同種類的材料(R、G和B)涂布在用于紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的相應柔性支撐帶(轉印片)上，并干燥轉印片。然后，如果以所述薄片上的材料與所述基底相對的方式在將成為產品的基底上疊加一層轉印片，并利用推板從背面頂推轉印片，則可以使材料以圖案形式轉印到基底上。如果對每種材料(R、G和B)重復這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
當意圖將材料以圖案形式轉印到基底上時，如果所述材料經掩模材料以與基底相對的方式疊加在基底上，且利用推板從其背面頂推轉印片，其中掩模材料具有與所需圖案幾乎相同的開口形狀，那么所述材料經掩模材料的開口以圖案形式轉印到基底上。
因此，在制造多種不同種類的材料以圖案形式轉印到基底上的圖案部件的過程中，本發(fā)明的上述方法可以提高生產率和產品質量(圖案精度)。而且，所述方法在選擇材料種類(油墨)方面具有較高的自由度。
雖然本發(fā)明規(guī)定“利用推板從其背面頂推轉印片”，但如果所述方法這樣構成，即以對著推板頂推的方式從背面頂推基底，那么也可以以圖案形式將所述材料轉印到基底上。所以，這種結構也包括在本發(fā)明范圍內。
本發(fā)明提供了一種用于制造多種不同種類的材料在基底上形成圖案的圖案部件的方法，所述方法特征在于包括步驟在已經形成相應材料圖案的相應版上涂布不同種類的材料的步驟；干燥在其表面涂布材料的版的步驟；對每種材料重復進行以所述圖案接觸基底的方式將一塊版疊加并定位在基底上，并從其背面頂推基底和/或版而使所述圖案轉印到基底上，從而使不同種類的材料在基底上形成圖案；以及上述方法中使用的設備。
根據本發(fā)明，不同種類的材料(R、G和B)以圖案形式涂布在已經形成紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)圖案的相應版上，并干燥所述版。然后，如果以所述版上的圖案與所述基底接觸的方式在將成為產品的基底上疊加并定位一塊版，且從其背面頂推基底和/或版，那么圖案形式的材料可以轉印到基底上。如果對每種材料(R、G和B)重復這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
因此，在制造多種不同種類的材料以圖案形式轉印到基底上的圖案部件過程中，本發(fā)明的上述方法可以提高生產率和產品質量(圖案精度)。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是上述推板或所述版在其表面具有圖案形式的突起。如果所述推板在其表面上具有圖案形式的突起，則所述材料可以在轉印片上容易、可靠地形成特定圖案。
已經形成相應的不同材料圖案的推板或版不必是凸版，它們可以是扁平的，比如PS版，只要它們上面形成不同材料的圖案，當利用涂覆裝置在所述版上涂布材料時，所述材料可以在版上形成特定的圖案。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，所述基底是柔性支撐帶。如果基底是柔性支撐帶(例如柔性薄膜)，那么基底易于輸送，而生產率較高。而且，如果基底是柔性支撐帶，則它們可以用于各種應用中，比如OLED元件。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，所述版在圖案材料轉印到基底上之后通過清洗/干燥重復使用。如果所述版可以重復使用，那么不僅設備的成本，而且?guī)齑婵臻g都可以減小，從生產設備角度而言希望這樣。


下面將參照附圖描述本發(fā)明的性質、以及其他目的和優(yōu)點，其中在整個附圖中相同的附圖標記表示相同或相似的部件。
圖1是體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆設備的示意圖；圖2是局部切除示意圖，示出了涂覆頭；圖3是圖1的主要部件的放大圖；圖4(a)至4(d)是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的示意流程圖；圖5(a)和5(b)是體現(xiàn)本發(fā)明的圖案部件的簡圖；圖6是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一示意流程圖；圖7是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的示意流程圖；圖8是示出體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的設備布局的示意圖；圖9是干燥印版的干燥裝置的簡圖；圖10是轉印裝置的簡圖；
圖11示出了作為圖案材料組分的化合物的化學式；圖12示出了作為圖案材料組分的化合物的化學式。
具體實施例方式
下面將參照附圖詳細描述本發(fā)明的涂覆方法和設備的優(yōu)選實施例。圖1是體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆設備10的示意圖，圖2是局部切除的示意圖，示出了涂覆頭18。
如圖1所示，涂覆設備10包括利用涂覆液涂布織物12的涂覆裝置10A、連續(xù)輸送織物12的輸送裝置10B、和干燥已經涂覆在織物12上的涂覆液的干燥裝置10C。
涂覆裝置10A由涂覆液儲槽14、將涂覆液從涂覆液儲槽14中泵出的泵16、利用經泵16泵送出的涂覆液涂布織物12的涂覆頭18，和連接上述各部分的管路。
優(yōu)選的是，計量泵用作泵16，因為它可穩(wěn)定輸送的涂覆液的流速。作為計量泵，可用使用多種類型的泵，例如齒輪泵和輥子泵；然而，對于本發(fā)明的涂覆來說，尤其適于采用齒輪泵。
涂覆頭18的尖端接近連續(xù)行進的織物12，并與之相對。如圖2所示，在涂覆頭18內，平行于織物12的寬度方向形成圓柱形袋狀部分18B，且所述涂覆袋狀部分18B連接于供給管路18A。在涂覆頭18內，還形成具有在涂覆頭尖端的排出端口的涂覆狹縫18C。涂覆狹縫18C與涂覆袋狀部分18B連通。
涂覆狹縫18C是較窄的流道，連接袋狀部分18B和涂覆頭的尖端，并在織物12的寬度方向上延伸。待涂布到織物12上的所需涂覆液從供給管路18A送入涂覆頭18的涂覆袋狀部分18B中。
雖然圖2示出了一種類型的泵送方法，其中涂覆液從涂覆袋狀部分18B的一側送入，但還有其他類型例如，涂覆液從所述涂覆袋狀部分18B一側送入并從另一側抽出的類型；涂覆液從所述涂覆袋狀部分18B的中部送入而流向兩側的類型。上述任一類型都可用于本發(fā)明。
本發(fā)明中使用的涂覆頭18不限于擠出型，可用使用任何類型的涂覆頭，只要它們這樣構成，即涂覆液可以經其狹縫輸送并涂覆在織物12上。
輸送裝置10B由解開纏繞狀態(tài)的織物12的解繞輥24、與涂覆頭18相對布置且在涂覆時支撐織物12的支撐輥20、多個張緊織物12而有助于輸送連續(xù)行進的織物12的導輥22、22...、和纏繞織物12的纏繞輥26構成。通過以一定的轉速驅動上述任一輥，使織物12以固定的速度連續(xù)輸送。
也可任意設置控制織物12的張力的張緊輥和控制織物12的輸送的驅動輥，但在附圖中省略了。
如圖3所示，涂覆設備10這樣構成，即涂覆頭18的尖端與支撐輥20按順時針方向的“9點鐘位置”相對。這樣，涂覆頭18尖端和織物12表面之間的距離t被確定。如該圖所示，涂覆頭18已經涂布涂覆液的織物12在其表面形成涂覆薄膜28，并沿順時針方向輸送，其背面由支撐輥20支撐。
控制織物12使得它在0.5秒之內從涂布涂覆液時的位置(9點鐘位置)輸送到水平位置(12點鐘位置)保持。以這種方式控制織物12，避免了已經涂布到織物上的涂覆液沿重力方向流動，出現(xiàn)涂覆不均勻的現(xiàn)象。
涂覆頭18尖端的位置不必限于按順時針方向支撐輥20的9點鐘位置。該位置可任意選取，只要它確保均勻涂覆，并在0.5秒內將織物12輸送到水平位置(12點鐘位置)。
然而，如果涂覆頭尖端位于較低的位置(例如7點鐘位置)，那么已經涂布到織物12上的涂覆液可能由于重力在織物上流下來，但如果涂覆頭尖端位于較高的位置(例如11點鐘位置)，則涂覆液可能不能穩(wěn)定、均勻地涂布到織物上。
支撐輥20的外徑不限于任何具體的值，它可以任意選取，只要保證均勻的涂覆。優(yōu)選的是，支撐輥20的外徑使得可以在0.5秒內將織物12輸送到水平位置。代替圖中所示的支撐輥20，也可以在圓周上設置許多較小直徑的支撐輥。
作為圖1中所示的干燥裝置10C，提供隧道型干燥器30和32。在干燥器32的下游設有溫度/濕度控制區(qū)36。在干燥器30和32內部，織物12由上述導輥22、22....支撐。
作為干燥裝置10C的前期的干燥器32這樣構成，即內部氣流速度為0。具體而言，在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，涂覆薄膜表面上的相對氣流速度為0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s，干燥器30的結構滿足這一要求。尤其是，沿垂直于織物12的輸送方向的方向設置多個屏蔽板(在圖中未示出)，此外，在織物12附近設置紅外加熱器34、34。
至于其他的組成部分，在干燥器30底部設有排氣孔30B、30B，因為應排出涂覆液中的有機溶劑、水分等，且在干燥器30頂部以對應于排氣孔的方式設有進氣孔30A、30A。設有滑動板(在圖中未示出)，以防止經過上述氣孔的氣流造成的干擾。
當采用這種結構時，在輸送織物12的位置設置熱線風速計的傳感器部分，同時測量氣流速度，通過反復試驗精確確定最佳結構。而且，涂覆頭18和干燥器30之間的部分由罩子(圖中未示出)包圍，而使涂覆薄膜不受氣流的影響。
即使干燥器30內的氣流速度為0，織物12的輸送會產生相對氣流速度，如上所述。例如，如果織物12的輸送速度為10m/min，氣流速度為0.167m/sec。因此如果織物12的輸送速度設定為12m/min或更高，則相對氣流速度為0.2m/sec或更高。因此，在這種情況下，需要產生沿平行于織物12的輸送方向的方向流動的氣流的結構。
該實施例的干燥裝置10C的結構假定在織物12到達干燥器30的出口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s；所以，干燥器30的長度應當根據涂覆液的成分、涂覆液(儲備液)的粘度、涂覆薄膜的厚度、織物12的輸送速度和紅外加熱器34、34的規(guī)格(功率)進行最佳設計。
作為用于干燥器30的干燥裝置，采用紅外加熱器34、34；然而，該裝置不限于上述加熱器，也可用使用各種類型的已知干燥裝置，比如其他種類的加熱器加熱干燥裝置、輥子加熱干燥裝置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置，只要可以均勻地干燥涂布到織物12上的涂覆液。
上述輥子加熱干燥裝置這樣構成，即它們具有相互緊鄰布置的多個導輥22、22....、和為輥子而設的加熱裝置?？梢圆捎酶鞣N類型的結構；例如，作為內部加熱裝置，加熱介質穿過導輥22內部，作為外部加熱裝置，加熱器位于導輥22的底側。
在作為干燥裝置10C的中期的干燥器32中，其內部的氣流速度不限制，與干燥器30不同。其原因是干燥裝置10C的結構假定在織物12到達干燥器32的入口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s或更大；所以，即使相對氣流速度較高，對形成的涂覆薄膜的影響也很小。然而，推薦氣流速度為10m/sec。
因此，可以采用各種類型的已知干燥裝置作為干燥器32。在圖中所示的結構中，采用了循環(huán)型干燥裝置。在干燥器32中，在干燥器32底部設有排氣孔32B、32B，在干燥器32頂部以對應于排氣孔的方式設有進氣孔32A、32A。
作為干燥裝置10C后期的溫度/濕度控制區(qū)36，用于在干燥之后控制織物12的溫度/濕度(含水量)，可以采用各種類型的已知結構。
下面將描述使用所述涂覆設備10制成涂覆薄膜的過程。在涂覆薄膜的形成過程中，優(yōu)選采用粘度為10mPa·s或更小且含有有機溶劑的涂覆液。
作為織物12，可以使用固定寬度、固定長度和厚度約2至200μm的柔性帶，包括塑料薄膜，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚乙烯-2，6-萘酯(polyethylene-2，6-naphthalate)，纖維素二醋酸脂、纖維素三醋酸脂、醋酸丙酸纖維素、聚氯乙稀、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亞胺和聚酰胺；紙；涂覆有或層疊有2至10個碳的α-聚烯烴比如聚乙烯、聚丙烯和乙烯—丁烯共聚物的紙；或金屬板，或包括上述柔性帶作為基底材料、以及在所述基底材料上形成的處理層的帶。
在涂覆設備10中，在經解繞輥24解開織物12的同時，進行涂覆，并控制泵16的流速，而使涂覆頭18的狹縫18C中的涂覆液的平均流速為100至500mm/sec，控制織物12的輸送速度而使涂布涂覆液后涂覆薄膜28的厚度為2至40μm，并使織物12在涂布涂覆液之后0.5秒內處于水平位置(12點鐘位置)的方式。
在涂布了涂覆液之后的干燥過程中，干燥器30控制成使得涂覆薄膜表面上的相對氣流速度為0.2m/sec或更低，并調節(jié)成使得在織物12到達干燥器30的出口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa.s。干燥器30設定成可以獲得具有較高厚度精度和平滑表面的涂覆薄膜。
已經通過干燥器32和溫度/濕度控制區(qū)36的織物12纏繞在纏繞輥26上。
下面參照附圖詳細描述使用其上已經通過本發(fā)明的涂覆方法和設備形成薄膜的柔性支撐帶制造圖案部件的方法的優(yōu)選實施例。在圖4(a)至4(d)中，通過示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的工藝流程圖。
在該實施例中，作為數種類型的織物12的轉印片(柔性支撐帶)，使用三種類型的轉印片用于紅色(R)的轉印片12R、用于綠色(G)的轉印片12G和用于蘭色(B)的轉印片12B，如圖4(a)所示。對于轉印片12，可以使用具有特定形狀的片狀材料，可以涂覆多種類型的材料(圖案材料)P，使材料P在轉印過程中轉印到基底B上。換言之，在轉印工藝的條件下，用于轉印片的材料必須在材料P的濕潤能力或粘附性方面比基底B的材料差。對于這種轉印片12，可以使用上述織物。
材料P在轉印片12上的涂布利用涂覆設備10來完成?？梢允褂脝蝹€涂覆設備10來涂布數種類型的圖案材料P，或可以對每一圖案材料P設置一個涂覆設備10。如上所述，涂覆設備10的系統(tǒng)無關緊要，只要可以將圖案材料P涂布到轉印片12上達到固定的厚度。已經涂布了圖案材料P的轉印片12送往干燥器(干燥裝置)30，使圖案材料P干燥。
優(yōu)選的是，上述工藝順序在良好的無塵和最佳溫度/濕度的環(huán)境條件下進行。因此，所述工藝優(yōu)選在清潔室內進行，尤其是所述涂覆裝置10A和干燥裝置10C置于清潔等級100或更小的環(huán)境中。為此，所述方法可以采用向下流動的清潔室或凈化臺。
尤其是當圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時，優(yōu)選的是將其保持在低濕度環(huán)境中，因為發(fā)光層的產品壽命受水分的影響顯著。尤其推薦將其保持在負20℃或更低的空氣或氮氣氣氛中。也可盡可能地減小相對濕度(RH)。
在圖4(b)所示的轉印工藝中，圖案材料P以下述步驟轉印到基底B上在基底B上疊加轉印片12之一，使圖案材料P與基底B相對；利用推板40從轉印片12背面推壓。
作為在轉印過程中送入的基底B的材料，可以使用玻璃板(例如液晶顯示器的濾色器)、硅基底、金屬板等。也可以使用柔性支撐帶作為基底B。
作為柔性支撐帶形成的基底B，可以使用固定寬度、長度為45至20000m和厚度為2至200μm的柔性帶，包括塑料薄膜，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚乙烯-2，6-萘酯，纖維素二醋酸脂、纖維素三醋酸脂、醋酸丙酸纖維素、聚氯乙稀、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亞胺和聚酰胺；紙；涂覆有或層疊有2至10個碳的α-聚烯烴比如聚乙烯、聚丙烯和乙烯—丁烯共聚物的紙；或金屬板；或包括上述柔性帶作為基底材料、以及在所述基底材料上形成的處理層的帶。
作為推板40，使用在其表面形成幾乎與所述圖案形狀相同的突起40A、40A...的板式部件。所述突起40A位于推板40上，對應每一材料(R，G，B等)的圖案。突起40A的尺寸應當與所述圖案幾乎相同。尤其是，例如，當圖案是100×200μm的矩形時，突起40A的尺寸與該矩形相同。
對于推板40上的突起40A的節(jié)距，雖然根據圖案的尺寸、厚度和所需精度，可以采用最佳值，但通?？梢圆捎?0至70μm的節(jié)距。從圖案所需精度，或者，從突起40A的成形精度的觀點出發(fā)，最好突起40A的節(jié)距盡可能??；但另一方面，從轉印性能的觀點出發(fā)，最好突起40A的節(jié)距稍大。
優(yōu)選的是，這種推板40由一定或更大厚度的金屬部件制成。推板40的突起40A可以通過光刻等制成。
當基底B和推板40在X、Y、Z和θ方向上對齊時，可以采用常用的對準裝置，例如滾珠絲杠和步進馬達組合構成的裝置。用于基底B和推板40的位置檢測裝置可以通過顯微鏡或數字照相機和相連接的CRT監(jiān)視器組合而構成。
作為推動推板40的頂推裝置，可以采用常用的頂推裝置，例如氣缸和調節(jié)器組合構成的裝置，一次頂推推板40的整個面。代替使用一次推動推板40整個面的裝置，也可以采用利用輥子部件連續(xù)地或線性地頂推推板40的頂推方法。換言之，可以使用移動輥子部件，同時由輥子部件從背面頂推推板40的裝置。
優(yōu)選的是，推板這樣構成，即當轉印圖案材料P時，可以根據形狀和材料，對圖案材料P施加特定的壓力，并根據情況施加特定的熱量。例如，可以采用在其內部具有作為加熱裝置的護套式加熱器的推板。
在完成對準操作時，如果推板40被頂推裝置從背面頂推，那么圖案材料P轉印到基底B上。這種情況在圖4(c)中示出。如果重復這種操作，例如對于三種顏色R、G和B進行三次，則形成圖4(d)所示的基底B。
當圖案設計成產生帶時，在基底B上形成如圖5(a)所示的條形圖案a、b、c、a、b、c....。當圖案設計成產生矩陣時，在基底B上形成如圖5(b)所示的矩陣圖案a、b、c、a、b、c....。
下面詳細描述本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一優(yōu)選實施例。在圖6中，通過示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一實施例。在該實施例中，在基底B的輸送路徑上設置多個轉印裝置50，按工藝順序連續(xù)形成三種顏色R、G和B的圖案。
在每一轉印裝置50R、50G和50B中，從解繞輥52上解開的轉印片12纏繞在推輥54上，該推輥具有在其表面上形成的圖案突起(圖中未示出)，保持在推輥54和支撐輥56之間，同時接觸基底B，其中圖案材料P借助于推輥54的突起轉印到基底B上。隨后，轉印片12纏繞在纏繞輥58上。
類似于前述實施例，所述轉印裝置最好這樣構成，即在轉印時根據情況，可以施加適當的特定壓力和特定熱量。圖案材料P(用于三種顏色R、G和B的材料)這樣轉印到基底B上。
下面詳細描述本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一優(yōu)選實施例和用于制造所述圖案部件的設備的優(yōu)選實施例。在圖7中，通過示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的工藝流程圖。在圖8至10中，示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的設備的示意圖。圖8是示出用于制造圖案部件的設備100的布局的平面圖。在圖9和10中分別示出了干燥用于制造圖案部件的設備100的版的干燥裝置(板干燥裝置)118的簡圖和上述設備的轉印裝置124的簡圖。
在該實施例中，作為不同類型的版122，如圖7所示使用4種類型的版用于紅色(R)的版122R、用于綠色(G)的版122G、用于藍色(B)的版122B和用于絕緣層(I)的版122I。凸版用于各種類型的版122。在每一凸版上，初始圖案僅以浮雕的形式形成。因此，當利用涂覆裝置112對版122涂布多種不同材料(圖案材料)P時，圖案材料P僅涂布到圖案部分122A上，且僅在同一部分上形成圖案。
即使當利用涂覆裝置112對所述版122涂布不同材料時，多種不同材料(圖案材料)P不僅涂布/形成在圖案部分122A上，而且涂布在除圖案部分122A之外的部分上，也無關緊要，只要圖案材料P可以在下面描述的轉印裝置124中轉印到基底B上，而在其上形成圖案。
例如當圖案材料P涂布/形成在除所述圖案部分122A之外的部分上時，情況如所述，但此后，在干燥過程中圖案材料P的厚度減小，在轉印裝置124中圖案材料P單獨地在基底B上形成圖案。
在各種類型的版122上，如果需要，則形成對準標記，用于在下面描述的轉印工藝中對準。
作為凸版的版122的材料，可以使用玻璃板、硅基底、金屬板等。作為用于形成作為版122上的凸出部分的圖案部分122A的方法，根據版122的材料、圖案部分122A的形狀等可以采用各種已知的方法，比如光刻、機加工、放電加工和激光束加工。
在制造圖案部件之前，進行各種類型的版122的清洗/干燥。換言之，在該實施例中，如果進行清洗和干燥，可以重復使用各種類型的版122。因此，用于制造圖案部件的設備100設有版清洗設備(版清洗裝置)116和版干燥設備(版干燥裝置)118。
作為版清洗設備116，根據版122的材料和尺寸和所述圖案部分122A的形狀可以使用各種類型的已知清洗設備，且適于使用的典型清洗設備包括例如超聲波清洗設備、氧等離子體清洗設備、高壓噴射清洗器和擦洗清洗器。如果不使版122刮擦或變形，可以使用各種類型的版清洗設備116。
作為版清洗設備116中使用的清洗流體，根據版122的材料和尺寸、圖案部分122A的形狀等可以使用各種類型的已知流體，比如去離子水、各種類型的清潔劑和有機溶劑。
作為版干燥設備118，可以使用各種類型的已知設備，比如熱空氣干燥器、使用遠紅外線輻射加熱的干燥設備、真空干燥設備和溶劑蒸發(fā)干燥設備。圖9中所示的該實施例的版干燥設備118包括除水區(qū)118A，其中通過從噴嘴130、130噴出的氣刀吹去版122上的水分；熱空氣干燥區(qū)118B，其中通過熱空氣干燥版122；冷卻區(qū)118C，其中將版122冷卻到室溫。在該實施例中的情況，最好在使用之前版122冷卻到室溫。
氣刀不是必不可少的構成條件。當熱空氣干燥區(qū)118B的設定溫度較低時，冷卻區(qū)118C也不是必不可少的構成條件。
在圖9中，每一版122由輸送裝置132支撐，且可以移動穿過所述區(qū)域。在熱空氣干燥區(qū)118B和冷卻區(qū)118C中，熱空氣噴射面134、134和冷空氣噴射面136、136在輸送路徑的上、下側上形成，使版122干燥、冷卻。
作為涂覆設備(涂覆裝置)112，可以采用各種類型的已知裝置。敷貼類型的裝置，比如輥式涂覆機、浸漬涂覆機和噴注式涂覆機，以及計量型裝置，比如氣刀涂覆機、刮刀涂覆機和刮棒涂覆機尤其適用。而且，比如擠出式涂覆機、滑動液滴式涂覆機和幕簾式涂覆機也是適用的，可以完成敷貼型和計量型涂覆。
作為圖7中所示的涂覆設備(涂覆裝置)112，采用輥式涂覆機。在該輥式涂覆機中，當版122沿箭頭所示方向以特定速度移動到沿圖中所示方向轉動的涂布輥112A下方時，圖案材料P涂布在各版122的圖案部分122A上，直到固定厚度。在涂布輥112A的背面，設有計量輥112B，控制輸送到涂布輥112A的圖案材料P的量均勻。
可以使用一個涂覆設備112在版122上涂布各種類型的圖案材料P；然而，從生產率(例如工作變化和設備清洗)、質量控制(例如避免夾雜圖案材料P)和產量的增加而言，最好對每一種類型的圖案材料P準備一個涂覆設備112。在該實施例的用于制造圖案部件的設備100中，設有四個對應紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)和絕緣層(I)的圖案材料P的涂覆設備112。
如上所述，涂覆設備112的系統(tǒng)無關緊要，只要它可以在版122的圖案部分122A涂布圖案材料P，直到固定的厚度。也可以采用除上述涂覆方法之外的屬于上位概念的薄膜形成方法，比如沉積法。
已經涂布了圖案材料P的版122送往涂覆液干燥設備(干燥裝置)114，以使圖案材料P干燥。作為涂覆液干燥設備114，可以使用各種類型的已知設備，比如熱空氣循環(huán)干燥設備、使用遠紅外線輻射加熱的干燥設備和真空干燥設備。
當圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時，因為發(fā)光層對外界顆粒和水分的抵抗能力較小，且其產品壽命受到很大的影響，所以它們應當充分干燥。在這種情況下，最好將多個版122儲存例如在熱空氣循環(huán)干燥設備(清潔爐)中，并按照先進先出的順序進行處理。這樣確保生產效率較高。在該實施例的用于制造圖案部件的設備100中，設有兩個涂覆液干燥設備114，如圖8所示。
在上述工藝順序中，從產品質量(例如無塵)和生產效率而言，所述版122最好通過圖8所示的第一輸送設備126自動搬運。作為第一輸送設備126，可以使用已知的自動倉庫機器人。版122的流向在圖8中由箭頭示出。
優(yōu)選的是，上述工藝順序在良好的無塵和最佳溫度/濕度的環(huán)境條件下進行。因此，所述工藝優(yōu)選在清潔室內進行，尤其是所述涂覆裝置112和干燥裝置114置于清潔等級100或更小的環(huán)境中。為此，所述方法可以采用向下流動的清潔室或凈化臺。
尤其是當圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時，優(yōu)選的是將其保持在低濕度環(huán)境中，因為發(fā)光層的產品壽命受水分的影響顯著。尤其推薦將其保持在負20℃或更低的空氣或氮氣氣氛中。也可盡可能地減小相對濕度(RH)。
已經在涂覆液干燥設備(干燥裝置)114中干燥的版122由第一輸送設備126自動搬運，并輸送到第二輸送設備128。第二輸送設備128這樣構成，即它可以在圖8中自由地左右移動，并接收來自第一輸送設備126的版122，將版122送至轉印設備(轉印裝置)124。作為第二輸送設備128，可以采用各種類型的已知輸送裝置。
通過以所述圖案接觸基底B的方式將版122之一疊加在基底上并定位，然后從背面頂推基底B和/或版122，在轉印工藝中使用的轉印設備(轉印裝置)124將圖案材料P轉印到基底B上。
作為在該轉印過程中送入的基底B的材料，可以使用玻璃板(例如液晶顯示器的濾色器)、硅基底、金屬板等。對于OLED元件，最好采用使用上述柔性支撐帶的基底B。
下面描述使用柔性帶制成的基底B的實施例。在圖10中示出的轉印裝置124的簡圖中，柔性支撐帶制成的基底B從解繞區(qū)140(UW部分)的輥142上解開，穿過包括除塵器等的除塵區(qū)146，送至對準/轉印區(qū)150。在對準/轉印區(qū)150中，圖案材料P轉印到基底B上。這樣，基底B穿過纏繞區(qū)(W部分)156的EPC(邊緣位置控制設備)，并纏繞在輥子158上。
在轉印裝置124中，吸附輥144、148和152是輥的分段驅動系統(tǒng)，可以輸送柔性支撐帶制成的基底B，同時吸附并保持所述基底，而基底B的張緊可以在吸附輥144、148和152之前和之后確定。
浮動輥157、159用于控制柔性支撐帶制成的基底B的張力和吸附輥144、148和152的轉速，且它們可以通過使用氣缸等對柔性支撐帶制成的基底B施加任意的張力。而且，通過改變所述浮動輥的位置，所述浮動輥157、159可以將柔性支撐帶制成的基底B的輸送速度控制在固定速度(可以完成反饋控制)。
在除塵區(qū)146中，除塵器去除附著在柔性支撐帶制成的基底B上的灰塵。在該去除操作過程中，壓力約10kPa的空氣吹在基底上，且收集空氣和灰塵。此時，如果約10kg/m的張力沒有施加在柔性支撐帶制成的基底B上，那么基底B失去支撐，可能導致基底的蠕動。
另一方面，考慮到在對準/轉印區(qū)150中基底B與版122高精度對齊，最好使施加到基底B上的張力較小。換言之，從高精度對準而言，最好盡可能避免基底B的彈性變形。尤其是當基底B被基底支撐座160吸附并保持時，最好不對基底B施加張力。
在纏繞區(qū)(W部分)156中，如果在柔性支撐帶制成的基底B纏繞時施加到基底B的平面壓力(垂直于基底B的平面的壓力)過高，則已經轉印到基底B上的圖案材料P可能有時會受到不利的影響；因此，最好保持施加到基底B上的平面壓力值為一定值或更小。優(yōu)選地，控制施加到基底B上的張力，使得纏繞扭矩總是保持恒定，即使輥158的回轉直徑增加。
如前所述，施加到基底B上的優(yōu)選張力在除塵區(qū)146、對準/轉印區(qū)150和纏繞區(qū)(W部分)156之間不同。因此，最好在每一區(qū)中控制施加到基底B上的張力。這種控制由吸附輥144、148和152以及浮動輥157、159實現(xiàn)。作為控制基底B的輸送速度和施加到基底B上的張力的裝置，也可以使用其他已知裝置，代替吸附輥144、148和152以及浮動輥157、159。
例如通過濺射或真空蒸發(fā)工藝，柔性支撐帶制成的基底B可以設有陰極/帶電子層，使其具有屏蔽功能，或者它可以設有為有機薄膜提供空穴的陽極。下面將描述陰極和陽極的細節(jié)。
圖中所示的轉印設備(轉印裝置)124用于配合柔性支撐帶制成的基底B，然而，用于板式材料，比如玻璃板、硅基板或金屬板制成的基底B的轉印設備的基本結構，與柔性支撐帶制成的基底B的轉印設備機構幾乎相同，除了輸送裝置之外。
下面參照圖7描述對準/轉印區(qū)150的細節(jié)。對準/轉印區(qū)150包括版支撐座，圖中未示出，在支撐版的同時使版122在X、Y、Z和θ方向上對齊；基底支撐座160，其表面(底面)平坦，可以吸附并支撐基底B的背面(頂面)；兩個或多個定位檢測裝置(圖中省略)，位于每一版122兩端附近，使其可以定位版122，并檢測版122的定位標記或圖案部分122a；頂推裝置(圖中省略)，從背面頂推基底B和/或版122，以使圖案材料P轉印到基底B上。
在X、Y、Z和θ方向上使版122對齊的基底支撐座160中的對準裝置可以利用常用的對準裝置構成，例如利用滾珠絲杠和步進馬達組合構成。在基底支撐座160中吸附/支撐基底B的吸附/支撐裝置，可以由位于基底支撐座160表面上的多個細小的真空吸附口和與所示真空吸附口連通的抽吸裝置(例如旋轉式真空泵)組合構成。定位檢測裝置可以通過顯微鏡或數碼相機與連接的CRT監(jiān)視器組合構成。
作為頂推裝置，可以采用常用的頂推裝置；例如可以使用氣缸和調節(jié)器組合構成的裝置來頂推基底B和/或版122的整個面。代替使用頂推基底B和/或版122的整個面的裝置，也可以采用利用輥子部件連續(xù)地或線性地頂推基底B和/或版122的頂推方法。換言之，可以使用移動輥子部件，同時由輥子部件從背面頂推基底B和/或版122的裝置。
可以通過手工方式完成對準，其中操作者在讀取定位檢測裝置獲得的檢測結果時利用對齊裝置在X、Y、Z和θ方向上使版122對齊，或者通過自動系統(tǒng)完成對準，其中根據定位檢測裝置獲得的檢測結果，自動完成版122在X、Y、Z和θ方向上的對準。
首先，圖7所示狀態(tài)的基底支撐座160下降到幾乎接觸基底B背面(頂面)的位置以吸附/支撐基底B。然后版支撐座支撐(例如真空吸附)版122，在X、Y、Z和θ方向上使版對準，同時使其接近基底B，并與之相對。
在完成對準時，基底B和/或版122被頂推裝置從背面頂推，而使圖案材料P轉印到基底B上。優(yōu)選的是，所述對準/轉印區(qū)150這樣構成，使得當轉印圖案材料P時，根據其形狀和材料對圖案材料P施加特定的壓力，并根據情況施加特定的熱量。例如，可以采用為基底支撐座160設置作為加熱裝置的護套式加熱器的結構。
在完成第一種圖案材料P的轉印時，基底支撐座160和支撐的基底B保持在待用狀態(tài)。然后，用第二種版122更換第一種版122。在這種更換操作時，第二種版122定位成使得其移動條形或矩陣圖案的一個節(jié)距。
在利用位置檢測裝置讀取每一版122兩端附近形成的對準標記，或利用位置檢測裝置讀取已經在基底B上形成的第一種圖案材料P時，進行第二和后續(xù)的版122的對準，使得它們相對于已經在基底B上形成的第一圖案材料保持適當的位置。在對每種版122進行這種操作之后，完成圖案材料P向基底B的轉印。
當利用位置檢測裝置讀取第一種圖案材料P進行對準時，如果基底支撐座160的一部分由透明材料制成，或切除一部分，那么可以利用位置檢測裝置穿過基底支撐座160方便地讀取第一種圖案材料P。
當使用版支撐座支撐(例如真空吸附)版122時，最好采用版支撐座上三點設有定位銷的結構，通過版122的兩側壓在定位銷上將每一版122固定在同一位置。類似地，也可以采用版支撐座和版122的對準位置設有透孔的結構，所述透孔與穿透銷(在這種情況下優(yōu)選錐形銷)連接而使版122定位。
當圖案材料P的定位精度可以較粗時，可以不采用上述的位置檢測裝置，而僅采用上述的定位銷完成定位。
在完成轉印工藝之后，基底B穿過吸附輥152和EPC154，而確保圖案材料P粘附在基底B上，如上所述，且在纏繞區(qū)(W部分)156中纏繞在輥158上。
下面描述利用制造圖案部件的設備100制造基底B的流程。利用版清洗設備116和版干燥設備118對新版122或已經經過轉印工藝的版122進行清洗/干燥，并輸送到對應于各圖案材料P的相應涂覆設備112(涂覆設備1至4)。在該操作過程中，在版干燥設備118中，版122經過除水區(qū)118A的水分去除，在熱空氣干燥區(qū)118B中在真空下100至300℃的適當溫度下干燥，然后在冷卻區(qū)118C中冷卻到室溫。
在涂覆設備112中，利用涂布輥112A將圖案材料P涂布到版122的圖案部分122A上，直到特定厚度。所涂布的薄膜要求是這樣的，即例如包括相應圖案材料P且粘度為數十mPa·s的液體涂布到圖案部分122A上，直到μm或亞μm級的薄膜厚度。在干燥之后該薄膜厚度減小至1/30。優(yōu)選的是，在涂布涂覆液時薄膜厚度的變化限制在±5％。
已經涂覆有涂覆液的版122送至涂覆液干燥設備114，干燥圖案材料P。干燥條件可以根據涂覆液的成分選??；然而，當涂覆液的溶劑是水時，最好在50至150℃在真空中干燥3分鐘或更長。已經干燥的版122送至轉印設備124。
當供應到轉印設備124的基底B是柔性支撐帶，且具有通過獨立設置的設備濺射、真空蒸發(fā)等預先形成的陰極/帶電子層產生的屏蔽功能時，例如可以采用下述結構。
在轉印設備124中，通過以圖案材料P接觸基底的方式將版122之一疊加并定位在基底B上，并從背面頂推基底B和/或版122，每一圖案材料P轉印到基底B上，如上所述。通過對每一種圖案材料重復所述操作，可以將多種圖案材料P轉印在基底B上。
在轉印操作過程中，當轉印第一種圖案材料P時，版122不必精確定位，只要它與基底B平行布置。當轉印第二種和后續(xù)圖案材料P時，從生產高精度產品而言，精確定位版122很重要。
轉印條件必須根據圖案材料P和基底B的材料最佳選取。至于轉印時的頂推作用力，當例如使用輥子部件(彈性輥子比如橡膠輥)進行線性頂推時，可以采用0.5至5kg/m的線性壓力。
至于轉印時的加熱溫度，通?？梢圆捎?0至250℃范圍內的溫度，且更優(yōu)選的是采用60至180℃內的溫度。優(yōu)選的是在版122和/或基底B(基底支撐座160)中保持余熱，因為提高了生產率。
在完成了轉印工藝之后，基底B經過吸附輥152和EPC(邊緣位置控制設備)154，以確保圖案材料P粘附在基底B上，如上所述，并在纏繞區(qū)(W部分)156纏繞在輥158上。同時，版122輸送到版清洗設備116，并重復使用。
圖5(a)和5(b)是示出了已經轉印了圖案材料P的基底B的簡圖，前面已經描述過。在基底B的表面上，重復形成具有固定寬度和固定節(jié)距的三種(R、G和B)圖案材料的圖案。
雖然已經從制造圖案部件的設備和方法的優(yōu)選實施例的角度描述了本發(fā)明，但這些實施例僅是說明性的，并不意味著限制本發(fā)明，而是各種其他實施例也是可行的。
例如，可以選取與上述不同的各種實施例，如果根據圖案部件的產品尺寸、產品類型和產品數量在下述方面改變版122的類型和數目；涂覆設備112，涂覆液干燥設備114等的數目和布局；以及輸送設備的布置。
而且，在轉印設備124中，代替定位后續(xù)版122而使其移動條形或矩陣圖案的一個節(jié)距的結構，可以選擇定位基底支撐座160(基底B)而使其移動條形或矩陣圖案的一個節(jié)距的結構。
示例示例1下面描述體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆方法的示例。利用圖1至3所示的涂覆設備10將涂覆薄膜涂布在織物12上，然后評價涂覆表面的狀態(tài)。
作為織物12，使用0.02mm的PET薄膜。作為涂覆液，使用混合并分散有顏料、粘結劑、乙醇和涂覆助劑，且粘度調整到7mPa·s的液體。涂覆寬度和涂覆厚度(濕態(tài))分別設定為1m和20μm，在改變織物12的輸送速度U(單位m/min)的同時進行涂覆。上述涂覆液的粘度7mPa·s和涂覆厚度(濕態(tài))20μm的設定使干燥之后涂覆厚度變?yōu)?.1μm。在涂覆之后，涂覆頭18和干燥設備20之間的涂覆薄膜表面上的相對氣流速度V0(單位m/sec)和干燥設備30中的涂覆薄膜表面上的相對氣流速度V1(單位m/sec)分別利用熱線風速計測量。利用固定在織物12上的熱線風速計進行測量。在測量過程中使用的織物12模型，涂覆表面狀態(tài)的評價利用在相同條件下已經干燥的另一織物12進行。
作為織物12剛從干燥設備30出來的位置的涂覆薄膜的粘度ρ(單位mPa·s)，首先得到涂覆薄膜的蒸發(fā)損失，然后通過離線強制蒸發(fā)薄膜而準備涂覆薄膜的液體，然后利用B型粘度計測量液體的粘度。
在干燥設備30中，內部氣溫設為100℃，紅外加熱器34、34的溫度設為200℃。在一個比較例(示例5)中，加熱器34、34設為OFF。而且，在比較例中，去除全部或部分屏蔽板，使涂覆薄膜表面上的相對氣流速度V1增加。
在干燥設備32中，內部氣溫設為80℃，干燥設備32內的氣流速度設為3至5m/sec。
通過對涂覆的非均勻性主要進行目測評價涂覆表面的狀態(tài)。良好狀態(tài)的涂覆表面為“A”，臨界狀態(tài)的為“B”，明顯不均勻的為“F”。上述參數、測量值和評價結果在表1中匯總。
表1

在表1中，示例1和2是在本發(fā)明范圍內的條件下制成涂覆薄膜的方法，示例3至5示為比較例。具體而言，示例3和4是在干燥設備30中的涂覆薄膜表面上的相對氣流速度V1在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法，而示例5是在織物12剛從干燥設備30出來的位置涂覆薄膜的粘度ρ在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法。
比較表1中所示的評價結果，在作為本發(fā)明的實施例的示例1和2中得到了滿意的涂覆表面，與作為比較例的示例3和5由于整個干燥過程的不均勻性而造成臨界的涂覆表面形成對照。在作為比較例的示例4中，由于其顯著的干燥不均勻性，所得到的涂覆表面較差。
推測示例3中的干燥不均勻性是由于涂覆薄膜表面上較高的相對氣流速度V1造成的。
推測示例4中的明顯的干燥不均勻性是由于涂覆薄膜表面上明顯較高的相對氣流速度V1造成的。
推測示例5中的干燥不均勻性是由于這一事實造成的，即紅外加熱器34、34設為關閉，干燥速度下降，進入干燥設備32的織物的涂覆薄膜的粘度仍然較低。
示例2下面描述體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆方法的示例。利用圖1至3所示的涂覆設備10將涂覆薄膜涂布在織物12上，然后評價涂覆表面的狀態(tài)。
作為織物12，使用0.02mm的PET薄膜。作為涂覆液，使用混合并分散有顏料、粘結劑、乙醇和涂覆助劑，且粘度調整到7mPa·s的液體。涂覆寬度和涂覆厚度(濕態(tài))分別設定為1m和30μm，在改變輸送的涂覆液每cm寬度的量A(單位ml/sec)、從涂覆頭18尖端到織物12表面的距離t(單位mm)以及輸送速度U(單位m/min)的同時進行涂覆。
上述涂覆液的粘度7mPa·s和涂覆厚度(濕態(tài))30μm的設定使干燥之后涂覆厚度變?yōu)?.2μm。
通過對涂覆的非均勻性主要進行目測評價涂覆表面的狀態(tài)。良好狀態(tài)的涂覆表面為“A”，臨界狀態(tài)的為“B”，明顯不均勻的為“F”。上述參數、測量值和評價結果在表2中匯總。
表2

在表2中，從涂覆頭18尖端到支撐輥20的頂部的垂直距離H(單位mm，如圖1所示)、涂覆頭18的狹縫18C中的涂覆液的平均流速V(單位mm/sec)、和涂覆之后將織物12保持在水平狀態(tài)所需的時間T(單位sec)不可避免地由涂覆設備10的設定參數和結構確定。
在表2中，示例11和12是在本發(fā)明的范圍內的條件下制成涂覆薄膜的方法，示例13至15示為比較例。具體而言，示例13和14是在涂覆頭18的狹縫18C的涂覆液的平均流速V在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法，而示例15是涂覆織物12保持在水平狀態(tài)所需的時間T在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法。
比較表2中所示的評價結果，在作為本發(fā)明的實施例的示例11和12中得到了滿意的涂覆表面，與作為比較例的示例14和15由于整個干燥過程的不均勻性而造成臨界的涂覆表面形成對照。在作為比較例的示例13中，由于其顯著的干燥不均勻性，所得到的涂覆表面較差。
示例3下面詳細描述當根據本發(fā)明制造OLED元件時使用的材料等?；譈可以由下述材料制成例如無機材料比如由氧化鋯穩(wěn)定的氧化釔(YSZ)或玻璃；聚酯比如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯、大分子材料比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹脂、聚氯三氟乙烯、Teflon(注冊商標)或聚四氟乙烯—聚乙烯共聚物；金屬箔比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔；或聚酰亞胺或液晶聚合物制成的塑料片。
在該實施例中，從耐破裂、易彎曲和重量輕的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用柔性基底B。作為形成這種基底B的材料，優(yōu)選使用聚酰亞胺、聚酯、聚碳酸酯、聚砜醚、金屬箔(例如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔)、液晶聚合物或含氟大分子測量(聚氯三氟乙烯、Teflon(注冊商標)或聚四氟乙烯—聚乙烯共聚物)制成的塑料片，它們在耐熱、尺寸穩(wěn)定性、耐溶劑、電絕緣性能、可加工性、低透氣性和低水分吸收方面優(yōu)良。
根據有機薄膜元件的應用和目的，可以適當地選擇基底B的形狀、結構和尺寸等。所述結構可以是單層結構或層疊結構?；譈可以單個部件或兩個或多個部件形成。而且，基底B可以是透明的或不透明的。然而，當從支撐側發(fā)光時，因為下面將描述的透明電極位于基底B一側，相對于包括發(fā)光層的有機層，所以基底B最好是無色的、透明的或有色的、透明的，且從抑制光線散射和衰減的角度出發(fā)，基底B最好是無色透明的。
作為即使形成電極并產生發(fā)光層時也不短路的柔性基底B，最好是金屬箔制成的基底B，并且在金屬箔的一側或兩側設有絕緣層。所使用的金屬箔的種類不特別限制，可以使用任何金屬箔，比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔。然而，從易于處理和成本而言，鋁箔或銅箔尤其推薦使用。
所述絕緣層不特別限制于任何特定種類，它可以由下述材料制成無機材料，比如無機氧化物或無機氮化物；聚酯，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯；或塑料，比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹脂、聚氯三氟乙烯或聚酰亞胺。
優(yōu)選的是，基底B具有20ppm/℃或更小的線性熱膨脹系數。所述線性熱膨脹系數這樣確定，在以固定速度加熱試樣時通過TMA方法檢測試樣長度的變化。當在粘結過程中或使用時加熱基底時，大于20ppm/℃的線性熱膨脹系數有助于電極和有機薄膜層從基底的剝離，從而降低基底的耐久性。
優(yōu)選的是，位于基底B上的絕緣層也具有20ppm/℃或更小的線性熱膨脹系數。作為用于形成具有20ppm/℃或更小的線性熱膨脹系數的絕緣層的材料，優(yōu)選使用金屬氧化物，比如氧化硅、氧化鍺、氧化鋅、氧化鋁、氧化鈦和氧化銅；金屬氮化物，比如氮化硅、氮化鍺和氮化鋁，且可以使用上述材料的一種或兩種或多種的組合作為所述材料。
優(yōu)選的是，金屬氧化物和/或金屬氮化物制成的無機絕緣層的厚度為10nm至1000nm。如果無機絕緣層的厚度小于10nm，則絕緣性能過低，但如果無機絕緣層的厚度大于1000nm，則絕緣層中可能產生裂紋，而導致絕緣層中產生針孔，并降低絕緣性能。
形成金屬氧化物和/或金屬氮化物制成的無機絕緣層的工藝不限于任何特定的一種，可以使用干式工藝，比如濺射工藝和CVD工藝，濕式工藝，比如溶膠—凝膠工藝，或金屬氧化物和/或金屬氮化物顆粒分散在溶劑中、然后涂布在金屬箔一側或兩側的工藝。
作為具有20ppm/℃或更小的線性熱膨脹系數的塑料，優(yōu)選使用聚酰亞胺和液晶聚合物。這些塑料的細節(jié)例如在“塑料數據手冊”(“塑料”編輯部編輯，Asahi Kaser AMIDAS)中描述。
當使用聚酰亞胺等作為絕緣層時，優(yōu)選的是使一片聚酰亞胺等與鋁箔層疊。聚酰亞胺等薄片的厚度優(yōu)選為10μm至200μm。如果聚酰亞胺等薄片的厚度小于10μm，則在層疊時處理薄片存在困難，但如果聚酰亞胺等薄片的厚度大于200μm，則薄片的柔性下降，處理不方便。
所述絕緣層可以位于金屬箔的一側或兩側。當在金屬箔兩側設有絕緣層時，兩側可以設有金屬氧化物和/或金屬氮化物形成的絕緣層或設有塑料比如聚酰亞胺制成的絕緣層?；蛘撸饘俨囊粋仍O有金屬氧化物和/或金屬氮化物形成的絕緣層，而另一側設有聚酰亞胺片形成的絕緣層。根據情況，也可以設有硬涂層或底涂層。
在基底B的電極側面上或相對側面上，或兩表面上也可設有防水滲透層(氣障層)。作為構成防水滲透層的材料，優(yōu)選使用無機材料，比如氮化硅或氧化硅。可以通過射頻濺射工藝等形成防水滲透層。根據情況，基底B可以設有硬涂層或底涂層。
優(yōu)選的是，基底B由金屬箔制成，且在金屬箔的一側或兩側上設有絕緣層。金屬箔的種類不具體限定于任何特定的種類。可以使用金屬箔，比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔。從易于處理和成本而言，優(yōu)選使用鋁箔或銅箔。
絕緣層不具體限于任何特定的種類，它可以由下述材料制成例如無機材料，比如無機氧化物或無機氮化物；聚酯，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯；或塑料，比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹脂、聚氯三氟乙烯或聚酰亞胺。
優(yōu)選的是，基底B的透水率為0.1g/m2·天或更小，更優(yōu)選的是0.05g/m2·天或更小，尤其優(yōu)選的是0.01g/m2·天或更小。
優(yōu)選的是，基底B的透氧性為0.1ml/m2·天·大氣壓或更小，更優(yōu)選的是0.05ml/m2·天·大氣壓或更小，尤其優(yōu)選的是0.01ml/m2·天·大氣壓或更小。
透水性可以由根據JIS K7129B(主要是MOCON方法)的方法確定。透氧性可以由根據JIS K7126B(主要是MOCON方法)的方法確定。將基底的透水性和透氧性限制在上述范圍內可以防止水或氧進入發(fā)光元件，其中水和氧是元件耐久性下降的原因。
基底B上形成的電極，透明電極或背面電極可以用作陰極或陽極。是陰極還是陽極取決于構成有機薄膜元件的成分。作為陽極，其形狀、結構和尺寸等不具體限制，只要它起到為有機薄膜層提供空穴(正空穴)的作用，且可以根據發(fā)光元件的應用和目的，從公知的電極中選取。
作為形成陰極的材料，可以使用單質的金屬、合金、金屬氧化物、導電復合物，或其混合物，優(yōu)選的是可以使用逸出功為4.5eV的材料。具體的示例包括，例如堿金屬(例如Li，Na，K，Cs)、堿土金屬(例如Mg，Ca)、金、銀、鉛、鋁、鈉—鉀合金、鋰—鋁合金、錳銀合金、銦、稀土金屬(例如釔)。這些材料中的每一種都可以單獨使用；然而，從穩(wěn)定性和電子注入性而言，優(yōu)選使用兩種或多種材料組合。
在上述材料中，從電子注入性而言，堿金屬和堿土金屬是優(yōu)選的，從儲存穩(wěn)定性而言，含有鋁作為主要成分的材料是優(yōu)選的。在此所用的術語“含有鋁作為主要成分的材料”不僅指單質的鋁，而且指鋁和重量百分比為0.01％至10％的堿金屬的合金或混合物，以及鋁和重量百分比為0.01％至10％的堿土金屬(例如，鋰—鋁合金，錳—鋁合金)的合金或混合物。
當從陰極側發(fā)光時，必須使用透明陰極。作為透明電極，可以使用任何電極，只要它們基本上透光。為了使電子注入性和透明度互相兼容，陰極可以具有兩層結構，包括作為薄膜的金屬層和透明的導電層。用于薄膜金屬層的材料已在日本專利申請公報No.2-15595和No.5-12117中詳細描述。優(yōu)選的是，薄膜金屬層的厚度為1nm至50nm。如果厚度小于1nm，則難以均勻地形成薄膜，但如果厚度大于50nm，則透光性下降。
作為用于透明的導電層的材料，不限于任何特定的種類，優(yōu)選使用用于上述陽極的任何材料，只要它們是導電或半導體材料。優(yōu)選的材料包括例如摻雜銻或氟的氧化錫(ATO，F(xiàn)TO)、氧化錫、氧化鋅、氧化銦、氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)。
優(yōu)選的是，透明導電層的厚度為30nm至500nm。如果透明導電層的厚度小于30nm，則導電性和半導電性下降，但如果透明導電層的厚度大于500nm，則生產率下降。
用于形成陰極的工藝不限于任何特定的工藝，可以使用任何已知工藝。優(yōu)選的是，陰極在真空設備中制成?？紤]到陰極材料的適用性，可以從物理工藝，比如真空沉積工藝、濺射工藝和離子電鍍工藝，和化學工藝，比如CVD工藝和等離子CVD工藝中選擇。例如，當選擇金屬等作為陰極材料時，可以通過一次或依次濺射一種或兩種或多種金屬而制成陰極。當使用有機導電材料時，可以使用濕式薄膜成形工藝。
陰極可以通過使用光刻等的化學蝕刻、利用激光等的物理蝕刻、利用掩模的真空沉積工藝或濺射工藝，或提升(lift off)法或印刷法形成圖案。
可以在陰極和有機薄膜層之間插入厚度為0.1nm至5nm的堿金屬氟化物或堿土金屬氟化物制成的絕緣層?？梢酝ㄟ^例如真空沉積工藝、濺射工藝或離子電鍍工藝形成絕緣層。
根據圖7至10所示的工藝制造圖案部件。版22使用三塊凸版，用于OLED元件的R、G和B油墨涂布到版上。涂覆的油墨厚度調節(jié)為在干燥狀態(tài)時變成0.05μm。
R、G和B油墨(圖案材料P)的成分如下按質量計，具有圖11所示化學式的每種化合物1有1份，具有圖12所示化學式(平均分子量為17000)的每種化合物2有40份，和3200份二氯乙烷。
在這些圖案材料P中，R油墨(圖案材料P)是從化合物1的R-1、R-2和R-3中選擇的，G油墨(圖案材料P)是從化合物1的G-1和G-2中選擇的，B油墨(圖案材料P)是從化合物1的B-1和B-2中選擇的。
從上述化合物1中制備5種不同顏色的油墨組合(參照下述的表3)進行圖案轉印。
作為基底B，使用50μm厚的聚酰亞胺薄膜(Ube Industries，Ltd.生產，商品名UPILEX-50S)。在對基底B表面處理之后，在約0.1mPa的減小壓力環(huán)境中Al汽化沉積在基底上，形成0.3μm厚的電極。然后，LiF汽化沉積在Al沉積的基底上，而形成與Al層相同圖案的3nm厚的絕緣層。
圖案的轉印以這種方式進行，即使版22和基底B互相相對，通過加熱到20℃的基底支撐座60對它們施加12Mpa的壓力，并保持15秒，如圖7所示。這種操作重復三次，同時使版22和基底B互相對齊。
圖案轉印的結果通過利用光學顯微鏡目測進行評價。所關注的限于圖案的均勻性，在沒有觀測到缺陷時，圖案的轉印定為A級，在觀測到缺陷時，定為P級。評價結果在表3中匯總。表3示出在每種顏色油墨組合中結果良好。
表3

如前所述，根據本發(fā)明，因為在涂布了涂覆液之后的涂覆薄膜厚度保持在適當范圍內，且涂覆薄膜表面上的相對氣流速度保持在0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)樘囟ㄖ担钥梢垣@得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
而且，根據本發(fā)明，許多不同種類的材料(R、G和B)可以首先以圖案方式轉印到基底上在例如為紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)制備的相應柔性支撐帶(轉印片)上涂布材料；干燥轉印片；以所述薄片上的材料與所述基底相對的方式在將成為產品的基底上疊加一層轉印片；然后利用推板從背面頂推轉印片。如果對每種材料(R、G和B)重復這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
根據本發(fā)明，因為涂覆頭的狹縫中的涂覆液的平均流速保持在適當范圍內，且在涂布了涂覆液之后很短時間內織物處于水平位置，所以可以獲得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
而且，根據本發(fā)明，許多不同種類的材料(R、G和B)可以首先以圖案方式轉印到基底上在例如為紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)制備的相應柔性支撐帶(轉印片)上涂布材料；干燥轉印片；以所述薄片上的材料與所述基底相對的方式在將成為產品的基底上疊加一層轉印片；然后利用推板從背面頂推轉印片。如果對每種材料(R、G和B)重復這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
根據本發(fā)明，圖案形式的材料可以轉印到基底上在例如已經形成紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)圖案的相應版上以圖案形式涂布許多不同種類的材料(R、G和B)；干燥所述版；以所述版上的圖案接觸基底的方式在將成為產品的基底上疊加并定位一塊版；然后利用推板從背面頂推轉印片。如果對每種材料(R、G和B)重復這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
因此，在制造圖案部件的過程中，本發(fā)明可以提高生產率和產品質量(圖案精度)，其中在基底上以圖案形式形成多種不同種類的材料。
然而，應當理解，并不意圖將本發(fā)明限制于所公開的具體形式，而正相反，本發(fā)明旨在覆蓋落在所附權利要求表述的本發(fā)明的思想和范圍內的所有改進方式、替代結構和等效方案。
權利要求
1.一種涂覆方法，包括步驟通過涂覆頭(18)的狹縫(18C)供給并涂布涂覆液，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；以及隨后干燥所述織物(12)上形成的涂覆薄膜(28)；其中，緊接涂布步驟之后涂覆薄膜(28)的厚度設為2至40μm，涂覆薄膜(28)表面上的相對氣流速度設為0.2m/sec或更小，直到涂布的涂覆液粘度變?yōu)?00mPa.s。
2.如權利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟中所述涂覆液的粘度為10mPa.s或更小。
3.如權利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆液包含有機溶劑。
4.如權利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，干燥之后所述涂覆薄膜(28)的厚度為0.01至0.4μm。
5.一種涂覆方法，包括步驟通過涂覆頭(18)的狹縫(18C)供給并涂布涂覆液，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；其中，涂覆頭(18)的狹縫(18C)中的涂覆液的平均流速設為100至500mm/sec，緊接涂布步驟之后涂覆薄膜(28)的厚度設為2至40μm，并且在涂布步驟之后0.5秒內織物(12)保持在水平位置。
6.如權利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟中的涂覆液粘度為10mPa.s或更小。
7.如權利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆液包含有機溶劑。
8.如權利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，干燥之后所述涂覆薄膜(28)的厚度為0.01至0.4μm。
9.一種涂覆設備(10)，包括具有狹縫(18C)的涂覆頭(18)，涂覆液經該狹縫(18C)輸送并涂布，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；以及隨后干燥所述織物(12)上形成的涂覆薄膜(28)的干燥裝置(10C)，所述干燥裝置(10C)能控制涂覆薄膜(28)表面上的相對氣流速度到0.2m/sec或更小。
10.如權利要求9所述的涂覆設備(10)，其特征在于，所述干燥裝置(10C)包括加熱器加熱干燥裝置(34)、輥式加熱干燥裝置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置中的至少一個。
11.一種涂覆設備(10)，包括具有狹縫(18C)的涂覆頭(18)，涂覆液經該狹縫(18C)輸送并涂布，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；其中，所述涂覆設備(10)能在100至500mm/sec的范圍內改變涂覆頭(18)狹縫(18C)中的涂覆液的平均流速，并在涂布了涂覆液之后0.5秒內將所述織物(12)保持在水平位置。
12.一種利用具有通過權利要求1至8任一所述的涂覆方法在其上形成相應的涂覆薄膜(28)的織物(12R，12G，12B)制造圖案部件的方法，其中多種不同種類的材料(P(R)，P(G)，P(B))在基底(B)上以圖案形式形成，所述方法包括步驟在為所述材料制備的相應織物(12R，12G，12B)上涂布不同種類的材料(P(R)，P(G)，P(B))；干燥已經涂布了相應材料(P(R)，P(G)，P(B))的織物(12R，12G，12B)；對每種材料(P(R)，P(G)，P(B))重復進行以已經涂布在織物(12R，12G，12B)上的材料(P(R)，P(G)，P(B))與所述基底(B)相對的方式將織物(12R，12G，12B)之一疊加在基底(B)上、并利用推板(40)從其背面頂推織物(12R，12G，12B)以使所述材料(P(R)，P(G)，P(B))以圖案方式轉印到基底(B)上的操作，從而使多種不同種類材料(P(R)，P(G)，P(B))在基底(B)上形成圖案。
13.如權利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述推板(40)在其表面形成有圖案形式的突起(40A)。
14.如權利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述多種不同種類的材料包括對應至少紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的用于發(fā)光或顯示的材料(P(R)，P(G)，P(B))。
15.如權利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述基底(B)是織物。
16.一種用于制造多種不同種類的材料(P)以圖案形式在基底(B)上形成的圖案部件的方法，包括步驟在已經形成相應材料(P)圖案的相應版(122R，122G，122B，122I)上涂布不同種類的材料(P)；干燥在其表面涂布材料(P)的版(122R，122G，122B，122I)；對每種材料(P)重復進行以所述圖案(P)接觸基底(B)的方式將一塊版(122R，122G，122B，122I)疊加并定位在基底(B)上、并從它們背面頂推基底(B)和/或版(122R，122G，122B，122I)以使所述圖案(P)轉印到基底(B)上的操作，從而使不同種類的材料(P)以圖案形式形成在基底(B)上。
17.如權利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述版(122R，122G，122B，122I)在其表面形成有圖案形式的突起(122A)。
18.如權利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述多種不同種類的材料(P)包括對應至少紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的用于發(fā)光或顯示的材料。
19.如權利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述基底(B)是織物。
20.如權利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，如果在將已經形成圖案的材料(P)轉印到基底(B)上之后對版進行清洗和干燥，可以重復使用所述版(122R，122G，122B，122I)。
21.一種用于制造有多種不同種類的材料(P)以圖案形式在基底(B)上形成的圖案部件的設備，包括以不同的材料(P)涂覆版(122)的涂覆裝置(112)，其中在所述版上已經形成不同材料(P)的圖案；干燥其表面已經涂布所述材料(P)的版(122)的干燥裝置(114)；以及轉印裝置(124)，通過以所述圖案(P)接觸所述基底(B)的方式在基底(B)上疊加并定位一塊版，且從它們背面頂推基底(B)和/或版(122)，將所述圖案(P)轉印到基底(B)上。
全文摘要
在用于制造圖案部件的方法中，多種不同種類的材料(P)在織物(B)上形成相應的圖案。在該方法中，上面已經形成用于圖案部件的材料層(P)的材料轉印片(12)位于所述織物(B)附近，且沿與織物(B)行進方向相交的方向行進，同時使織物(B)行進，在織物(B)和所述材料轉印片(12)的交點處，利用轉印裝置(50)將用于圖案部件的材料層(P)從所述材料轉印片(12)上轉印到織物(B)上，從而形成圖案。這樣，在制造圖案部件的過程中提高生產率和產品質量。
文檔編號H01L51/00GK1473664SQ0311018
公開日2004年2月11日 申請日期2003年4月15日 優(yōu)先權日2002年4月15日
發(fā)明者高田克彥, 永野英男, 小川正太郎, 勝本隆一, 一, 太郎, 男 申請人:富士膠片株式會社