專利名稱:用于和計算設(shè)備一起使用的受照輸入裝置以及鍵盤的制作方法
【專利摘要】本公開涉及一種用于和計算設(shè)備一起使用的受照輸入裝置以及一種鍵盤。所述受照輸入裝置包括：多個按鍵，每個按鍵都包括：具有頂表面的金屬鍵帽；在金屬鍵帽中形成的圖標符號孔；圖標符號孔中的圖標符號散射體材料；配置為支撐鍵帽的可壓縮剪刀機構(gòu)；以及具有開狀態(tài)和關(guān)狀態(tài)的光源，所述光源定向為將光透射通過圖標符號孔。本公開的一個實施例解決的一個問題是提供一種耐用且薄的受照輸入裝置。根據(jù)本公開的一個實施例的一個用途是提供了一種用于薄外形鍵盤的受照鍵帽。
【專利說明】用于和計算設(shè)備一起使用的受照輸入裝置以及鍵盤

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開內(nèi)容涉及用于信息處理設(shè)備的輸入裝置，并且更具體而言，涉及用于薄外形鍵盤的受照鍵帽。

【背景技術(shù)】
[0002]許多電子設(shè)備包括諸如按鈕、鍵盤、輔助鍵盤等輸入組件，這些組件可以包括可以被選擇性照亮的單獨的按鈕或按鍵。例如，個人計算設(shè)備可以包括背光照亮的鍵盤，以便使用戶能夠在低照明條件下操作鍵盤。在另一個例子中，有些電子設(shè)備純粹為了美觀而選擇性地照亮按鍵或按鈕。還有電子設(shè)備可以為了通知目的而選擇性地照亮按鍵或按鈕。
[0003]另外，對受照輸入設(shè)備的需求已經(jīng)增加，但同時消費者期望輸入設(shè)備耐用、薄而且輕。但是，設(shè)計例如耐用、薄、可照亮并且輕的受照鍵盤提出了幾個挑戰(zhàn)。例如，許多鍵盤只照亮鍵帽的選定部分，諸如圖標符號(legend)區(qū)域，而留下鍵帽的其余部分不照亮。據(jù)此，圖標符號的材料常常是半透明的，而按鍵其余部分的材料常?；旧鲜遣煌该鞯?。
[0004]半透明的鍵帽經(jīng)常是由注塑塑料，諸如聚碳酸酯(PC)或與聚碳酸酯混合的丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS-PC)制成，并且以耐用的涂料涂覆。其后，涂料層被激光切割，以顯露透明的圖標符號。雖然制造起來不昂貴，但是涂色后的背光照亮的鍵的發(fā)光質(zhì)量會隨著時間的推移由于重復(fù)使用而惡化。此外，為了充分耐用，塑料鍵帽可能需要相對厚。
[0005]因此，目前存在對耐用且薄的受照輸入裝置的需求。
實用新型內(nèi)容
[0006]本公開的一個實施例的一個目的是要提供一種耐用且薄的受照輸入裝置。
[0007]根據(jù)本公開的一個方面，提供了一種用于和計算設(shè)備一起使用的受照輸入裝置，其特征在于，所述受照輸入裝置包括:多個按鍵，每個按鍵都包括:具有頂表面的金屬鍵帽；在金屬鍵帽中形成的圖標符號孔；圖標符號孔中的圖標符號散射體材料；配置為支撐鍵帽的可壓縮剪刀機構(gòu)；以及具有開狀態(tài)和關(guān)狀態(tài)的光源，所述光源定向為將光透射通過圖標符號孔。
[0008]根據(jù)一個實施例，開狀態(tài)包括鍵帽周界照明模式，在所述鍵帽周界照明模式中，光源在金屬鍵帽周界附近發(fā)射光。
[0009]根據(jù)一個實施例，開狀態(tài)包括圖標符號照明模式，在所述圖標符號照明模式中，光源將光透射通過圖標符號散射體材料并通過圖標符號孔。
[0010]根據(jù)一個實施例，金屬鍵帽由鋁材料形成。
[0011]根據(jù)一個實施例，圖標符號散射體材料配置為散射透射通過圖標符號孔的光。
[0012]根據(jù)一個實施例，金屬鍵帽被陽極化處理。
[0013]根據(jù)一個實施例，圖標符號孔是利用激光切割工藝在金屬鍵帽中形成的。
[0014]根據(jù)一個實施例，圖標符號孔是利用激光燒蝕工藝在金屬鍵帽中形成的。
[0015]根據(jù)一個實施例，光源包括發(fā)光二極管。
[0016]根據(jù)一個實施例，圖標符號散射體材料的一部分與頂表面共面。
[0017]根據(jù)一個實施例，圖標符號孔部分地由連接到孤島部分的至少一個橋部分定義。
[0018]根據(jù)一個實施例，至少一個橋部分具有比金屬鍵帽厚度小的厚度。
[0019]根據(jù)一個實施例，至少一個橋部分是利用激光燒蝕工藝形成的。
[0020]根據(jù)本公開的另一方面，提供了一種鍵盤，其特征在于，所述鍵盤包括:多個按鍵，每個按鍵都包括鍵帽，所述按鍵包括:具有均勻厚度的金屬頂層；金屬頂層中定義圖標符號的孔；以及沉積在金屬頂層的底表面上的散射體填充物；所述多個按鍵下面的光發(fā)射層；以及包括多個電氣開關(guān)的電氣開關(guān)層，所述多個電氣開關(guān)中的每個電氣開關(guān)在所述多個按鍵中的對應(yīng)一個按鍵下面。
[0021 ] 根據(jù)一個實施例，光發(fā)射層包括多個發(fā)光二極管。
[0022]根據(jù)一個實施例，孔部分地通過激光切割工藝并且部分地通過激光燒蝕工藝打開。
[0023]本文所述的實施例可以涉及或采取受照輸入裝置的形式，諸如與計算設(shè)備一起使用的鍵盤。鍵盤可以包括多個按鍵，每個按鍵都包括金屬鍵帽。金屬鍵帽可以是受過陽極化處理的或者以別的方式加工的鋁。金屬鍵帽可以具有包括圖標符號孔的頂表面、圖標符號孔中的圖標符號散射體材料、配置為激活電氣開關(guān)電路系統(tǒng)的可壓縮剪刀機構(gòu)、諸如發(fā)光二極管(“LED”)的具有開狀態(tài)和關(guān)狀態(tài)的光源，其中光源定向為將光透射通過圖標符號孔。在一個例子中，所述開狀態(tài)可以包括圖標符號照明模式，在所述圖標符號照明模式中，光源將光透射通過散射體材料并通過圖標符號孔。在另一個例子中，開狀態(tài)可以包括鍵帽周界照明模式，在所述鍵帽周界照明模式中，光源可以在金屬鍵帽周界附近發(fā)射光。
[0024]在某些實施例中，圖標符號孔可以通過激光切割、激光燒蝕工藝或者其組合在金屬鍵帽中被打開。在某些實施例中，圖標符號孔的周界可以部分地由連接到孤島部分的至少一個橋部分定義，所述至少一個橋部分具有比金屬鍵帽厚度小的厚度。
[0025]在有些示例實施例中，加工或固化后的圖標符號散射體材料的一部分可以與金屬鍵帽的頂表面共面。
[0026]本文所描述的其它實施例可以涉及或采取用于制造照亮鍵盤的透光鍵帽的方法的形式，包括在金屬鍵帽中形成圖標符號孔的至少一部分；在圖標符號孔之上沉積半透明的圖標符號散射體材料；把金屬鍵帽和沉積的圖標符號散射體材料放在固化條件下；平滑剩余的圖標符號散射體材料使得固化后的圖標符號散射體材料與頂表面共面，其中頂表面可以是平坦的或者任意彎曲的；平滑剩余的圖標符號散射體材料，使得固化后的圖標符號散射體材料與底表面共面；沿著垂直軸對準金屬鍵帽與位于電氣開關(guān)電路系統(tǒng)之上的可壓縮剪刀機構(gòu)。在進一步的實施例中，鍵帽的頂表面不需要是平坦的。例如，圖標符號散射體材料可以被平滑，以遵循鍵帽的任意曲率，從而與鍵帽的頂表面形成基本上連續(xù)的表面。例如，某些鍵帽可以輕微凸起，從而與打字員的手指輪廓相合。
[0027]本文所描述的進一步實施例可以涉及或采取鍵盤的形式，所述鍵盤包括多個按鍵、在多個按鍵下面的光發(fā)射層、包括多個電氣開關(guān)的電氣開關(guān)層，其中多個電氣開關(guān)中的每個電氣開關(guān)在所述多個按鍵中的對應(yīng)一個按鍵下面，其中每個按鍵包括鍵帽，所述按鍵具有均勻厚度的金屬頂層、金屬頂層中定義圖標符號的孔、沉積在金屬頂層的底表面上的散射體填充物。
[0028]根據(jù)本公開的一個實施例的一個技術(shù)效果是提供了一種耐用且薄的受照輸入裝置。

【附圖說明】

[0029]現(xiàn)在將參考在附圖中說明的代表性實施例。應(yīng)當理解，以下描述不是要把實施例限定到一種優(yōu)選實施例。相反，它是要覆蓋可以包括在如所附權(quán)利要求定義的所述實施例的主旨與范圍內(nèi)的備選方案、修改和等價物。
[0030]圖1是用于和電子設(shè)備一起使用的受照鍵盤的樣本實施例的透視圖。
[0031]圖2是沿圖1的線2-2取得的受照鍵盤實施例的鍵帽的特寫和分解側(cè)剖視圖。
[0032]圖3A是鍵帽的頂部平面圖，示出了作為如圖1所示實施例的一部分的圖標符號。
[0033]圖3B是沿線3B-3B取得的、圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。
[0034]圖3C是沿線3C-3C取得的、圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。
[0035]圖3D是沿線3D-3D取得的、圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。
[0036]圖3E是沿線3E-3E取得的、圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。
[0037]圖3F是沿線3F-3F取得的、圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。
[0038]圖4A是另一個鍵帽的頂部平面圖，示出了支撐中央孤島部分的橋的被隱藏的幾何結(jié)構(gòu)。
[0039]圖4B是圖4A鍵帽的底部平面圖，示出了支撐中央孤島部分的橋的幾何結(jié)構(gòu)。
[0040]圖5A是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光切割之前反向的金屬鍵帽。
[0041]圖5B是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光切割之后反向的金屬鍵帽。
[0042]圖5C是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光切割之后并且應(yīng)用一層圖標符號散射體材料之后反向的金屬鍵帽。
[0043]圖是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了反向的金屬鍵帽，其中圖標符號散射體材料被拉入，以占用通過激光切割被打開的體積；
[0044]圖5E是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了被加工成基本上與反向的金屬鍵帽的底表面共面的圖標符號散射體材料；
[0045]圖5F是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了在圖標符號散射體材料被應(yīng)用、固化并加工之后的金屬鍵帽；
[0046]圖6A是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕之前的金屬鍵帽；
[0047]圖6B是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕之后的金屬鍵帽；
[0048]圖6C是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕并且從圖6B的視圖反轉(zhuǎn)之后的金屬鍵帽；
[0049]圖6D是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕、反轉(zhuǎn)之后并且在圖標符號散射體材料被應(yīng)用并拉入通過激光燒蝕定義的體積之后的金屬鍵帽；
[0050]圖6E是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了在圖標符號散射體材料被應(yīng)用、固化并加工之后的金屬鍵帽；
[0051]圖7A是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕和激光蝕刻之前的金屬鍵帽；
[0052]圖7B是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕和激光切割之后的金屬鍵帽；
[0053]圖7C是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了被反轉(zhuǎn)并在激光燒蝕和激光切割之后的金屬鍵帽；
[0054]圖7D是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了被反轉(zhuǎn)、在激光燒蝕和切割之后并且在應(yīng)用圖標符號散射體材料之后的金屬鍵帽；
[0055]圖7E是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了被反轉(zhuǎn)、在激光燒蝕和切割之后并且在圖標符號散射體材料被應(yīng)用并拉入由激光燒蝕和激光切割定義的體積中之后的金屬鍵帽；
[0056]圖7F是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了圖標符號散射體材料被應(yīng)用、固化和加工之后的金屬鍵帽；
[0057]圖7G是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示鍵帽的特寫側(cè)視圖，示出了從處理表面被除去的金屬鍵帽；
[0058]圖8A是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于關(guān)狀態(tài)下的周界部分、字形部分和背景部分的照明；
[0059]圖SB是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于關(guān)狀態(tài)下的周界部分和背景部分的照明，其中字形部分的照明處于開狀態(tài)；
[0060]圖SC是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于關(guān)狀態(tài)下的背景部分的照明，其中周界部分和字形部分的照明處于開狀態(tài)；以及
[0061]圖9是說明用于制造受照輸入裝置的樣本方法的操作的流程圖。
[0062]相同標號在不同圖中的使用指示相似、相關(guān)或完全相同的項。

【具體實施方式】
[0063]本文所描述的實施例可以涉及或采取具有配置為接收用戶輸入的受照表面的背光照亮輸入裝置的形式。特別地，某些實施例可以采取完全或部分被照亮的具有金屬鍵帽的鍵盤、輔助鍵盤或個別按鍵的形式。在某些實施例中，金屬鍵帽由鋁制成。這種按鍵可以結(jié)合個人計算設(shè)備使用，諸如膝上型計算機或臺式計算機，作為或者集成或者外圍輸入設(shè)備。某些其它實施例可以采取完全或部分被照亮的按鈕的形式，按鈕具有與諸如電視機、便攜式媒體播放器、蜂窩電話、平板計算機等其它電子設(shè)備一起使用的金屬外表面。
[0064]一種實施例可以是與鍵盤關(guān)聯(lián)的背光照亮的按鍵。該實施例可以包括主要由鋁構(gòu)成的金屬鍵帽。金屬鍵帽沿著平面頂表面可以具有斜切的或以別的方式拋光的邊緣。金屬鍵帽可以薄，具有小于一毫米的厚度。金屬鍵帽可以受過陽極化處理或者以別的方式被加工，以提供耐用性以及，可選地，特定的外觀和/或紋理。
[0065]金屬鍵帽可以包括可以被照亮的圖標符號區(qū)域。圖標符號可以采取適當?shù)剡m于鍵盤的任何語言的任何數(shù)字、符號或字母的形式。例如，在一種實施例中，圖標符號可以是一個或多個英文字母或符號，或者圖標符號可以是一個或多個簡體中文字符。在進一步的實施例中，圖標符號可以采取功能符號的形式，諸如電源符號、彈出符號，或者播放/暫停符號?？梢哉J識到，圖標符號可以包括任何符號、字符、字形、字母、藝術(shù)圖(artwork)或者其它信息傳達圖像。
[0066]圖標符號可以包括一個或多個字谷(counter)?！白止取笔亲中沃芙鐑?nèi)被包住的陰性空間。例如，英文字母“W”或“T”的字形不包含任何字谷，而英文字母“B”的字形包含兩個字谷，并且字母“Q”的字形包含一個字谷。字谷的個數(shù)、大小、朝向和位置可以依賴于圖標符號本身的類型。例如，對于某些字形設(shè)計(對應(yīng)于特定的字體)，阿拉伯數(shù)字“4”可以有一個字谷，而對于其它字形設(shè)計，可以沒有。據(jù)此，可以認識到，一個字谷或多個字谷對特定圖標符號的存在或不存在可以從實施例到實施例有所不同。
[0067]在許多實施例中，圖標符號可以在激光切割工藝、激光燒蝕工藝或者其任意順序或同時的組合中從金屬鍵帽切割、切入或者切穿。在備選實施例中，可以使用金屬沖壓工藝、掩模和浸泡化學蝕刻工藝或者任何其它合適的工藝或者工藝的組合。
[0068]激光切割可以涉及把聚焦的光束指向金屬鍵帽的表面。作為結(jié)果，金屬鍵帽的材料會被熔化、燒焦、燒蝕或以別的方式汽化。加熱的材料可以被氣體或液體噴嘴吹散或者可以汽化?？梢哉J識到，激光的焦點可以沿著金屬鍵帽的頂表面或者金屬鍵帽的底表面或者在之間的任何地方設(shè)置。在進一步的實施例中，圖標符號的一部分可以從頂表面切割出來，并且另一部分可以從底表面切割出來。
[0069]激光燒蝕可以涉及聚焦到金屬鍵帽表面上的脈動或持續(xù)激光，以便以受控的方式從金屬鍵帽除去材料，而不完全切穿金屬鍵帽的表面。
[0070]在以沒有字谷的圖標符號為特征的實施例中，金屬鍵帽的激光切割會足以把圖標符號切穿金屬鍵帽的頂表面和背面，在金屬鍵帽中以期望的字形形狀打開孔。
[0071]在以具有一個或多個字谷的圖標符號為特征的另一種實施例中，金屬鍵帽的激光切割會既除去字形的外部周界，也除去一個或多個字谷。在一種實施例中，分離的字谷可以被收集起來，在隨后的工藝中附連到金屬鍵帽。
[0072]在以具有一個或多個字谷的圖標符號為特征的還有一種實施例中，可以使用激光切割和激光燒蝕的組合。激光切割工藝可以用來切割圖標符號的主要部分，留下把一個或多個字谷連接到圖標符號外部周界的選定數(shù)量的材料，使得字谷被保留在合適的位置。在這種實施例中，剩余的字谷可以被稱為“孤島”并且可以通過一個或多個橋保留在合適的位置?？梢哉J識到，依賴于圖標符號的形狀和字谷部分的個數(shù)或尺寸，會需要或期望任何數(shù)量的孤島或任何數(shù)量的橋。另外，個別橋的位置、寬度、朝向和幾何形狀可以從實施例到實施例有所不同。
[0073]在補充或附加工藝中，激光燒蝕可以用來減小一個或多個橋的深度。在第一實施例中，一個或多個橋可以從金屬鍵帽的頂表面燒蝕。通過燒蝕橋的一部分深度，與金屬鍵帽的頂表面相交的圖標符號的橫截面可以不被橋打斷，如以下更具體描述的。
[0074]在圖標符號或孔被切割到金屬鍵帽的頂表面中之后，可以應(yīng)用圖標符號散射體材料，以填充金屬鍵帽中由圖標符號定義的體積。在第一示例實施例中，金屬鍵帽可以反轉(zhuǎn)并沿著平坦的處理表面放置。接下來，圖標符號散射體材料可以作為液體應(yīng)用到金屬鍵帽的背面。圖標符號散射體材料可以由摻雜了玻璃珠或另一種散射摻雜劑的半透明材料構(gòu)成。在某些實施例中，圖標符號散射體材料還可以包括特定顏色的顏料或墨水。例如，在某些實施例中，氧化鈦粉末可以用來使圖標符號散射體材料，并且因此可選地使鍵帽的至少一部分成為白色。白色可以只在光透射通過時被看到，或者可以甚至在鍵帽不被照亮的時候被看到。
[0075]在圖標符號散射體材料應(yīng)用到鍵帽的過程中，氣囊會留在圖標符號的體積內(nèi)。例如，這種氣囊會由于圖標符號散射體材料的應(yīng)用而被俘獲。在其它情況下，不想要的氣囊會留在由燒蝕后的橋和平坦處理表面定義的體積內(nèi)。為了除去不想要的氣囊，使得圖標符號散射體材料占用由圖標符號和燒蝕后的橋定義的整個體積，具有圖標符號和圖標符號散射體的金屬鍵帽可以放在真空室中，使得氣囊和真空之間的差壓造成氣囊的除去。在另一種實施例中，金屬鍵帽和圖標符號散射體可以放在高壓釜或其它高壓室中，以方便壓力差除去氣囊。在后續(xù)的工藝中，金屬鍵帽和圖標符號散射體可以固化，使得圖標符號散射體材料可以以基本上永久性的方式被硬化和/或粘到金屬鍵帽。依賴于為圖標符號散射體選擇的材料、為摻雜劑或顏料選擇的材料和/或其它因素，固化條件會不同。例如，固化條件可以包括暴露給特定波長的紫外線光、暴露給熱或者暴露給壓力。
[0076]在固化之后，圖標符號散射體材料可以在后續(xù)工藝中被平滑或拋光成平面，使得圖標符號散射體材料的外表面基本上與金屬鍵帽的頂表面平行。一旦被拋光，金屬鍵帽就可以附連到可以包括定位成當被按下時激活電氣開關(guān)電路系統(tǒng)的剪刀機構(gòu)或其它按鈕機構(gòu)的子框架。在某些實施例中，圖標符號散射體材料可以被拋光成使得該層的外表面與金屬鍵帽的底部共面。在其它例子中，圖標符號散射體材料可以被拋光成使得該層的外表面與金屬鍵帽的底部構(gòu)成基本上連續(xù)的表面。
[0077]例如，圖標符號散射體材料可以被平滑成遵循鍵帽的任意曲率，從而與鍵帽的頂表面構(gòu)成基本上連續(xù)的表面。在其它實施例中，圖標符號散射體材料可以被拋光成使得該層的外表面與金屬鍵帽的底表面平行，但是被間隙或隔片隔開。在進一步的實施例中，圖標符號散射體材料的頂表面可以被拋光或者以別的方式加工使得它基本上與金屬鍵帽的頂表面共面。在其它例子中，圖標符號散射體材料的頂表面可以被拋光或者以別的方式加工使得材料的外表面與金屬鍵帽的底部構(gòu)成基本上連續(xù)的表面。
[0078]在進一步的實施例中，圖標符號散射體材料可能沒必要單獨地應(yīng)用到激光切割之后的金屬鍵帽。例如，激光切割之后的金屬鍵帽可以放成與塑料載體的頂表面相鄰或者在其上面。其后，該組裝可以放到回流爐中，使得來自塑料載體的塑料材料熔化并流到由金屬鍵帽中的激光切口定義的空穴中。在其它實施例中，可以使用用于把塑料流入由金屬鍵帽中的激光切口定義的空穴中的其它機制。
[0079]包括在鍵帽中、在其下面或與其相鄰的可以是定位成發(fā)射光通過金屬鍵帽的圖標符號的一個或多個光源。在某些實施例中，光源可以包括或者耦合到諸如有機發(fā)光二極管(“OLED”)、基于半導(dǎo)體的發(fā)光二極管(“LED”)或任何其它合適光源的光源。在第一實施例中，光源可以定位成使光透射通過圖標符號散射體材料。因而，當從上面看金屬鍵帽時，圖標符號可以從其背側(cè)被照亮，使得光通過圖標符號發(fā)光。
[0080]在進一步的實施例中，光源可以定位成在金屬鍵帽的周界周圍透射光。以這種方式，當從上面看金屬鍵帽時，按鍵的周界可以看起來被照亮。作為一個例子，金屬鍵帽可以看起來具有圍繞其外圍的暈輪。
[0081]圖1是用于和電子設(shè)備一起使用的受照鍵盤100的樣本實施例的透視圖。鍵盤100可以是臺式計算系統(tǒng)的外圍組件，或者在其它實施例中，它可以是膝上型計算系統(tǒng)的組成部分。鍵盤100可以具有一個或多個按鍵110以及完全或部分包住鍵盤100的內(nèi)部組件的外罩120。在某些實施例中，相比圖示的，鍵盤100可以具有更多數(shù)量的按鍵110，或者更少數(shù)量的按鍵110。按鍵可以按不同的次序布置。一個或多個按鍵110中的一些或全部按鍵可以具有與其關(guān)聯(lián)的圖標符號圖像130。如所說明的，所述一個或多個按鍵110可以具有不同尺寸并且可以沿鍵盤100的表面位于不同位置。
[0082]圖2是沿圖1的線2-2取得的受照鍵盤100的按鍵200的特寫與分解側(cè)剖視圖。按鍵200可以定位成至少部分地位于鍵盤100 (未示出)的外罩220中。通過外罩220可以定義按鍵孔225，按鍵孔225可以在橫截面的兩側(cè)都出現(xiàn)并且如所說明的。按鍵孔225的大小可以設(shè)計成使得在按鍵200和外罩220之間存在周界間隙230。周界間隙230可以基于按鍵200的尺寸選擇性地確定大小。在某些實施例中，按鍵孔225可能不需要。相反，一個或多個按鍵110(圖2中未示出)可以基本上彼此相鄰地布置，使得每個按鍵的周界間隙230由與所述按鍵200相鄰的按鍵來定義。
[0083]如在本文中所使用的，除非另外指出，否則術(shù)語“水平的”定義為位于與鍵盤100的外罩120和220的表面平行的平面中。如在本文中所使用的，除非另外指出，否則術(shù)語“垂直的”定義為與水平面垂直的方向。如在本文中所使用的，類似的方向性術(shù)語(例如，“之上”或“之下”或“頂部”或“底部”)是相對于水平面定義的。
[0084]按鍵200可以具有金屬鍵帽240。在某些實施例中，金屬鍵帽240可以由硅金屬、藍寶石金屬或者其他類似的基本上透明并抗刮擦的材料組成。金屬鍵帽240可以包括基本上平坦的頂表面。在某些實施例中，金屬鍵帽240可以具有稍凹的形狀，從而在被用戶壓下時增強按鍵的感覺。
[0085]位于金屬鍵帽240中的可以是圖標符號孔260。雖然在橫截面中示出，但是可以認識到，當從上面看時，圖標符號孔260可以采取適當?shù)剡m于鍵盤100的任何語言的任何數(shù)字、圖標符號或字母或者傳達信息的任何符號、圖標或圖形的形式。例如，圖標符號孔260可以采取一個或多個英文字母的形式，或者在其他實施例中，圖標符號可以采取一個或多個簡體中文字符的形式。
[0086]圖標符號孔260可以從散射體材料270中形成。在某些實施例中，圖標符號散射體材料270可以摻雜特定顏色的顏料。例如，氧化鈦可以給予圖標符號散射體材料270白色的外觀。圖標符號散射體材料270將從金屬鍵帽240的頂表面到金屬鍵帽240的底表面填充圖標符號孔260。以這種方式，圖標符號散射體材料270可以占用背景金屬鍵帽240中圖標符號孔260的體積。
[0087]在散射體層270下面可以是定位成當被按下時激活電氣開關(guān)電路系統(tǒng)的垂直可壓縮的分層支撐結(jié)構(gòu)。結(jié)構(gòu)的第一層可以是金屬鍵帽接收墊280。金屬鍵帽接收墊280可以具有基本上平坦的頂表面，使得它可以粘到或者附連到圖標符號散射體材料270的底表面和金屬鍵帽240的底表面，盡管在有些實施例中，這個接收墊可以被略去。
[0088]位于金屬鍵帽接收墊280下面的可以是隔膜282，諸如穹頂開關(guān)。隔膜282可以由可變形的聚合物材料構(gòu)造，諸如橡膠或硅，并且可以包括一個或多個電氣觸點，盡管為了簡化起見這些觸點從圖2中略去了。在有些實施例中，為隔膜282選擇的材料可以是基本上透明的。
[0089]與隔膜282相鄰的可以是可壓縮剪刀機構(gòu)284，當金屬鍵帽240被用戶按下時，該剪刀機構(gòu)折疊起來。折疊鍵帽還可以折疊穹頂開關(guān)或者鍵帽下面的任何其它隔膜。
[0090]在隔膜282下面可以是第一觸點布線層286。電氣觸點(未示出)可以位于第一觸點布線層286的頂表面上，使得當隔膜282和可壓縮剪刀機構(gòu)284壓縮超過某個點時，隔膜282的電氣觸點和第一觸點布線層286的電氣觸點完成電路。這可以啟動信號來指示按鍵200已經(jīng)被用戶按下。
[0091]在有些實施例中，第一觸點布線層286可以位于向按鍵200提供結(jié)構(gòu)性支撐的第一襯底層288上。襯底層288可以由透明或基本透明的材料組成。在襯底層288下面可以是包括發(fā)光元件292的照明層290，其中發(fā)光元件292在金屬鍵帽240下面居中。發(fā)光元件292可以是LED、OLED、或者任何其它合適的光源。雖然示為單個光源，但是可以認識到，可以使用多個光源。例如，發(fā)光元件292可以位于照明層290上，從而指引或?qū)⒐馔干渫ㄟ^周界間隙230。以這種方式，發(fā)光元件292可以照亮按鍵200的周界，從而當從上面看時產(chǎn)生圍繞按鍵200的暈輪效果。
[0092]在另一種實施例中，發(fā)光元件292可以定位成指引光只通過圖標符號孔260。以這種方式，發(fā)光元件292可以照亮圖標符號孔260，從而當從上面看時在按鍵200的表面上產(chǎn)生受照圖標符號的效果。
[0093]還可以認識到，多個發(fā)光元件292可以位于光發(fā)射層290之上或其中。以這種方式，按鍵200的多個部分可以選擇性地或者共同被照亮。
[0094]應(yīng)當認識到，發(fā)光元件可以相對于圖2中所示的層和元件基本上位于任何地方。例如，發(fā)光元件可以位于隔膜和鍵帽或鍵帽接收墊之間。作為另一個例子，光管或其它光透射結(jié)構(gòu)可以至少部分地嵌在鍵盤100的外罩220中，使得光透射通過光管并且照亮圖標符號。
[0095]在可選的光發(fā)射層290下面可以安置對按鍵200提供結(jié)構(gòu)性支撐的第二襯底層294。
[0096]可以認識到，圖2不是按比例繪制的。為了清晰，每個所說明的項的相對高度在有些情況下被大幅度夸大了，以示出構(gòu)成按鍵200的幾層中每一層之間的關(guān)系。例如，可以認識到，金屬鍵帽240的高度可以小于一毫米。
[0097]圖3A是金屬鍵帽300的頂部平面圖，示出了作為圖1所示實施例一部分的圖標符號。金屬鍵帽可以包括至少背景區(qū)域310和圖標符號區(qū)域315，如所說明的，該圖標符號區(qū)域示出了英文字母“A”。金屬鍵帽300可以位于鍵盤100 (見例如圖1)的外罩320中。金屬鍵帽300可以位于在鍵盤中定義的按鍵孔325中。按鍵孔325的水平表面積可以稍大于金屬鍵帽300的水平表面積，使得鍵帽周界間隙380得以形成。
[0098]圖3A中還示出了兩個橋部分390和一個孤島部分395。橋部分390以點線示出，以指示被隱藏的幾何形狀?？梢哉J識到，從圖3A中所示的頂部平面圖，該橋部分不可見。
[0099]圖3B-3F是分別沿橫截面3B-3F取得的圖3A所示實施例的特寫側(cè)視圖。在圖3B-3F所示全部橫截面中可見的是金屬鍵帽340。金屬鍵帽340位于鍵盤外罩320中暴露周界間隙330的按鍵孔(未示出)中。如關(guān)于圖2所說明的實施例指出的，金屬鍵帽340可以由金屬組成。
[0100]圖3A的線3B-3B未與圖3A的圖標符號區(qū)域315的任何部分相交。因此，在圖3B所示的橫截面中，沒有給出或說明圖標符號的部分。
[0101]圖3A的線3C-3C與圖3A的圖標符號區(qū)域315的一部分相交。具體而言，線3C-3C與圖3A中所說明的“A”圖標符號的頂部相交。因此，在圖3C所示的橫截面中，示出了圖標符號區(qū)域315的一部分。因為線3C-3C只與圖標符號相交一次，所以圖3C只說明了圖標符號315的單個部分。
[0102]圖3D是圖3A的線3D-3D的橫截面，其中線3D-3D與圖3A的圖標符號315的一部分、孤島395的一部分以及橋區(qū)域390相交。橋部分390延伸成把鍵帽340的外部連接到孤島部分390。如所說明的，橋部分390具有比金屬鍵帽340剩余部分更小的厚度。
[0103]圖3A的線3E-3E與圖3A的圖標符號區(qū)域315的一部分相交。具體而言，線3E-3E與“A”圖標符號的延長的腿部相交，如圖3A中所說明的。因此，在圖3E所示的橫截面中，示出了圖標符號區(qū)域315的一部分。因為線3E-3E與圖標符號相交兩次，所以圖3E說明了圖標符號區(qū)域315的兩個部分。
[0104]類似于圖3B，圖3F未與圖3A的圖標符號區(qū)域315的任何部分相交，并且因此，沒有給出或說明圖標符號的部分。
[0105]圖4A是鍵帽的頂部平面圖，示出了支撐中央孤島部分的橋的被隱藏的幾何形狀。在圖4A中說明的是金屬鍵帽440中的圖標符號區(qū)域415。圖標符號區(qū)域415示為英文字母“Q”的字形。如前面所指出的，英文字母Q包括單個字谷，作為在該字母外部周界中定義的封閉孤島。該字谷可以被識別為孤島495。孤島495可以由一個或多個橋490連接到金屬鍵帽440。從如圖4A所示的頂部視圖，所述一個或多個橋490示為隱藏的幾何形狀。
[0106]圖4B是如圖4A所示鍵帽的底部平面圖，示出了支撐中央孤島部分的橋的幾何形狀。在圖4B中所說明的是金屬鍵帽440中的圖標符號孤島區(qū)域415。圖標符號孤島區(qū)域415示為沿著中部翻轉(zhuǎn)的英文字母“Q”的字形。可以認識到，從鍵帽440的底部視圖，該圖標符號反轉(zhuǎn)。在圖4B中可見的是由一個或多個橋490連接到金屬鍵帽440的孤島495。應(yīng)當注意，從金屬鍵帽440的底部視圖，橋部分是可見的。
[0107]關(guān)于圖5A-5F，除非關(guān)于個別的圖另外指出，否則術(shù)語“水平的”定義為與金屬鍵帽的表面平行的平面。關(guān)于圖4A-4D，除非關(guān)于個別的圖另外指出，否則術(shù)語“垂直的”定義為與水平面垂直的方向。如在本文中所使用的，類似的方向性術(shù)語(例如，“之上”或“之下”或“上”或“下”)是相對于水平面定義的。
[0108]現(xiàn)在將討論圖標符號的創(chuàng)建，包括可選的橋、孤島等。
[0109]圖5A是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光切割之前的金屬鍵帽540。在金屬鍵帽540下面放置處理表面545。作為一個例子，處理表面545可以是激光切割床或燒蝕裝置的床，或者支撐按鍵的另一個襯底。在某些實施例中，處理表面可以由金屬、陶瓷或其它材料組成。應(yīng)當認識到，在有些實施例中，處理表面可以被略去，并且按鍵可以被保持或以別的方式懸掛。
[0110]圖5B是沿水平線5-5取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光切割之后的金屬鍵帽?？昭▍^(qū)域(例如，圖標符號孔560)可以由激光切割工藝暴露。在其它實施例中，圖標符號孔560可以經(jīng)掩模與化學蝕刻工藝切割。例如，掩?？梢詰?yīng)用到金屬鍵帽540之上。掩?？梢愿采w應(yīng)當在蝕刻之后剩下的金屬鍵帽540的部分，但是可以暴露應(yīng)當被除去的金屬鍵帽540的所有部分，以便暴露圖標符號孔560。在應(yīng)用掩模之后，金屬鍵帽540可以浸入，或者暴露給蝕刻溶液，所述蝕刻溶液溶解或以別的方式與為金屬鍵帽540選擇的材料反應(yīng)，但是不與為掩模選擇的材料反應(yīng)。在指定的一段時間后，金屬鍵帽540可以從蝕刻溶液中除去并且掩?？梢员怀?。
[0111]圖5C是圖5B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了圖標符號散射體材料570應(yīng)用到金屬鍵帽540和圖標符號孔560的暴露部分之上之后金屬鍵帽540的樣本橫截面。在某些實施例中，在圖標符號散射體材料570應(yīng)用期間，不想要的氣囊505會留在圖標符號560中。不想要的氣囊505會在圖標符號中造成不期望的可視偽像。
[0112]為了除去不想要的氣囊505，金屬鍵帽540和圖標符號散射體材料570可以放在真空室(未示出)當中，使得負壓差形成，以消除氣囊505?？梢哉J識到，氣囊505會在大氣壓或接近大氣壓產(chǎn)生。因此，當放在真空環(huán)境中時，氣囊505和外部真空之間的壓力差會變得相等，這會把散射體層570拉進來，以填充圖標符號孔560的整個體積，如圖中所示。
[0113]在另一種實施例中，金屬鍵帽540和圖標符號散射體材料570可以放在高壓釜或者其它高壓室中，以便于正壓力差以除去氣囊505。如以上所指出的，氣囊505會在大氣壓或接近大氣壓產(chǎn)生。當放在高壓環(huán)境中時，壓力差會推動散射體層570填充字形窗口 560的整個體積，如圖?中所示。
[0114]圖5E是圖所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了其中圖標符號散射體材料570被加工成與金屬鍵帽540的頂平面共面的平滑平面的鍵帽540的樣本橫截面。在某些實施例中，以這種方式平滑圖標符號散射體材料可以提供極薄的整體鍵帽厚度。在其它實施例中，圖標符號散射體材料570可以被加工成與金屬鍵帽540的頂表面形成基本連續(xù)表面的平滑表面。例如，金屬鍵帽540的頂表面可以是部分凸起的，從而與打字員的手指輪廓相合。
[0115]一旦被拋光或者以別的方式平滑，鍵帽就可以從處理表面除去、垂直翻轉(zhuǎn)并附連到按鍵堆棧，諸如圖2所示的一些或整個堆棧。圖標符號散射體材料570可以被平滑，以便在所說明的實施例中的剪刀機構(gòu)和金屬鍵帽540的頂表面之間提供基本平行的關(guān)系。
[0116]圖6A是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕之前的金屬鍵帽640。在金屬鍵帽640下面放置處理表面645。在某些實施例中，處理表面可以由金屬、陶瓷或其它材料構(gòu)成。
[0117]圖6B是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕之后的金屬鍵帽。減小的區(qū)域或者橋690，可以被激光燒蝕工藝暴露。激光燒蝕可以涉及聚焦到金屬鍵帽640表面上的脈動或持續(xù)的激光，以便以受控的方式從金屬鍵帽除去材料，而不完全切穿金屬鍵帽的表面。橋690可以被減小到某個選定的深度。
[0118]在其它實施例中，橋690可以經(jīng)掩模和化學蝕刻工藝蝕刻，類似于前面所描述的。
[0119]圖6C是沿水平線6-6取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕之后反轉(zhuǎn)的金屬鍵帽640。金屬鍵帽640可以被任何合適的過程反轉(zhuǎn)。金屬鍵帽640可以被反轉(zhuǎn)，使得當應(yīng)用圖標符號散射體材料670 (圖6C中未示出)時，與處理表面645的頂表面接口的圖標符號散射體材料670的一部分可以固化成處理表面645的形狀。例如，在所說明的實施例中，圖標符號散射體材料會喜歡平坦的表面。
[0120]反轉(zhuǎn)的結(jié)果是不想要或不期望的氣囊605會留在由處理表面645和橋690定義的體積當中。不想要的氣囊605會在圖標符號中造成不期望的可視偽像。在進一步的實施例中，氣囊605對于散射或者其它光學或結(jié)構(gòu)特征可能是期望的。在這種實施例中，氣囊605不需要在固化之前被除去。
[0121]對于其中不想要的氣囊605應(yīng)當被除去的實施例，金屬鍵帽640和圖標符號散射體材料670(未示出)可以放在真空室(未示出)當中，使得負壓差形成以消除氣囊605?？梢哉J識到，氣囊605會在大氣壓或接近大氣壓產(chǎn)生。因此，當放在真空環(huán)境中時，氣囊605和外部真空之間的壓力差會變得相等，這會把散射體層670拉進來，以填充由處理表面645和橋690定義的整個體積，如圖6E中所示。
[0122]在另一種實施例中，金屬鍵帽640和圖標符號散射體材料670可以放在高壓釜或者其它高壓室中，以便于正壓力差除去氣囊605。如以上所指出的，氣囊605會在大氣壓或接近大氣壓產(chǎn)生。當放在高壓環(huán)境中時，壓力差會推動散射體層670，以填充由處理表面645和橋690定義的整個體積，如圖6D中所示。
[0123]圖6E是圖6D所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了鍵帽640的樣本橫截面，其中圖標符號散射體材料670被加工成與金屬鍵帽640的頂平面共面的平滑平面。如以上關(guān)于這里所描述的其它實施例所指出的，圖標符號散射體材料670可以作為選擇或者附加地被加工成與鍵帽640的頂表面形成基本連續(xù)的表面。在某些實施例中，以這種方式平滑圖標符號散射體材料可以提供極薄的整體鍵帽厚度。
[0124]一旦被拋光或者以別的方式平滑，鍵帽就可以從處理表面除去、垂直翻轉(zhuǎn)并附連到定位成當被按下時激活電氣開關(guān)電路系統(tǒng)的剪刀機構(gòu)(未示出)或者其它按鈕機構(gòu)。圖標符號散射體材料670可以被平滑，以便在剪刀機構(gòu)和金屬鍵帽640的頂表面之間提供基本平行的關(guān)系。
[0125]圖7A是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕或激光切割之前位于處理表面745之上的金屬鍵帽740。
[0126]圖7B是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕和激光切割之后的金屬鍵帽740。在金屬鍵帽740中打開的是圖標符號孔760。就像關(guān)于圖5A-5H，圖標符號孔760可以在激光切割工藝中在金屬鍵帽740中打開。還示出了橋部分790的垂直橫截面，其中橋部分790可以通過激光燒蝕工藝形成。
[0127]圖7C是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕和激光切割之后反轉(zhuǎn)的金屬鍵帽740。如關(guān)于圖7B所描述的，反轉(zhuǎn)的結(jié)果會是不想要的氣囊705留在由處理表面745和橋790定義的體積內(nèi)。不想要的氣囊705會造成圖標符號中不期望的可視偽像。
[0128]圖7D是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了激光燒蝕和切割之后并且在應(yīng)用圖標符號散射體材料770之后反轉(zhuǎn)的金屬鍵帽740。就像關(guān)于以上所述的實施例，為了除去不想要的氣囊705，金屬鍵帽740和圖標符號散射體材料770可以放在真空室(未示出)當中，使得負壓差形成，以消除氣囊705。
[0129]圖7F是沿垂直線7-7取得的圖4A-4B中所示實施例的特寫側(cè)視圖，示出了在圖標符號散射體材料770被應(yīng)用、固化和加工之后的金屬鍵帽740。圖7G說明了在從處理表面除去之后的金屬鍵帽740。
[0130]可以認識到，圖5A-5H、6A-6E和7A-7G不一定是按比例繪制的。為了清晰，每個所說明的項的相對高度在有些情況下從根本上被夸大了，以示出構(gòu)成所說明按鍵的幾層中每一層之間的關(guān)系。另外，可以認識到，圖標符號散射體材料的應(yīng)用可以任何各種方式應(yīng)用。如在每個相關(guān)實施例中所說明的，可以認識到，圖標符號散射體材料應(yīng)用到鍵帽的底表面。在其它實施例中，圖標符號散射體材料可以應(yīng)用到鍵帽的頂表面。在還有進一步的實施例中，圖標符號散射體材料可以選擇性地應(yīng)用。例如，可以應(yīng)用圖標符號散射體材料的個別部分以選擇激光切割或激光燒蝕后定義特定圖標符號的區(qū)域的部分。在其它實施例中，圖標符號散射體材料可以以其它方式沉積。例如，圖標符號材料可以印刷或以別的方式分層到由激光切割和激光燒蝕定義的體積中。在其它例子中，切割和/或燒蝕后的鍵帽可以浸入圖標符號散射體材料中。
[0131]圖8A是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于關(guān)狀態(tài)下的周界間隙部分880、處于關(guān)狀態(tài)下的圖標符號區(qū)域部分818 (未示出)以及背景區(qū)域部分810的選擇性照明。在所說明的實施例中可以指出，圖標符號部分818不可見。在某些實施例中，當圖標符號區(qū)域部分818處于關(guān)狀態(tài)時，背景部分810和圖標符號區(qū)域部分818之間的邊界是不可區(qū)分的。因此，圖8A是在圖標符號區(qū)域不可見的情況下說明的。在其它實施例中，即使當圖標符號或鍵帽未被照亮時，圖標符號也在鍵帽上可見。
[0132]圖8B是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于關(guān)狀態(tài)下的周界間隙部分880和處于開狀態(tài)下的圖標符號區(qū)域部分818的照明。與圖8A相反，圖標符號區(qū)域部分818是可見的并且可以與背景區(qū)域810區(qū)分。圖SC是鍵帽的頂部平面圖，示出了處于開狀態(tài)下的周界間隙部分880和圖標符號區(qū)域部分818的照明。
[0133]雖然圖8A-8C說明了鍵帽受照部分的各種組合，但是可以認識到，附加的或者更少的組合是預(yù)期的。還可以認識到，同一鍵盤上的各個按鍵可以單獨地、順序地、以不同亮度、以變化的持續(xù)時間、以不同或相似的顏色等被照亮。
[0134]圖9是說明用于制造受照輸入裝置的樣本方法的操作的流程圖。該過程可以通過選擇被釋放的(liberated)鍵帽在操作900開始。在某些實施例中，操作900可能需要在單獨的工藝中選擇從母板釋放的鍵帽，或者作為選擇，操作900可能需要從母板釋放鍵帽。
[0135]接下來，該過程可以繼續(xù)到操作910，以確定期望的圖標符號形狀。如以上所指出的，圖標符號可以采取適于所使用的鍵盤的任何語言的任何數(shù)字、符號或字母的形式。例如，在一種實施例中，圖標符號可以采取英文字母或符號的形式，或者，圖標符號可以采取簡體中文的字符的形式。在進一步的實施例中，圖標符號可以采取諸如電源符號、彈出符號或播放/暫停符號的功能符號的形式。可以認識到，圖標符號可以包括任何符號、字符、字形或藝術(shù)圖。
[0136]接下來，過程可以繼續(xù)到操作920，以確定是否需要橋或孤島來考慮適當說明910中選定的圖標符號所需的一個或多個字谷。如以上所指出的，字谷是字形周界中被包住的陰性空間。一旦確定了橋和孤島的數(shù)量，操作920的過程就可以通過選擇性定位橋來繼續(xù)，以便最高效地支撐孤島。
[0137]接下來，如果按照操作920至少一個橋和孤島對操作910中選定的圖標符號是需要的，則過程可以繼續(xù)到操作930，其中激光切割設(shè)備切穿在操作910中選定的金屬鍵帽。激光切割器可以留下用于橋和孤島的區(qū)域。
[0138]接下來，過程可以繼續(xù)到操作940，其中激光燒蝕裝置減小在操作930中留下的橋的厚度。橋應(yīng)當減小到的厚度可以從實施例到實施例有所不同。
[0139]返回操作920，如果操作確定不需要橋或孤島(即，在操作910中選定的圖標符號不包含字谷)，則過程可以繼續(xù)到操作950，其中激光切割器可以用來切割在操作910中選定的圖標符號的整個形狀。
[0140]從操作950或者操作940，過程可以繼續(xù)到操作960，其中圖標符號散射體材料可以應(yīng)用到鍵帽。如以上所指出的，材料可以以任何數(shù)量的方式應(yīng)用。
[0141]一旦圖標符號散射體材料應(yīng)用到鍵帽，過程就可以繼續(xù)到操作970，其中過多的氣囊被除去。如以上所指出的，不想要的氣囊可以在真空室、高壓釜室或者任何其它合適的工藝中被除去。
[0142]其后，過程可以繼續(xù)到操作980，其中圖標符號散射體材料被固化。在操作980，金屬鍵帽和圖標符號散射體可以放到固化條件下，使得圖標符號散射體材料可以以基本永久性的方式硬化和/或粘到金屬鍵帽。固化條件可以依賴于為圖標符號散射體選定的材料、為金屬鍵帽選定的材料或者其它因素而不同。例如，固化條件可以包括特定波長的紫外線光、暴露給熱或者暴露給壓力。該過程可以在操作980結(jié)束。
[0143]可以認識到，雖然以上公開了許多實施例，但是圖9中給出的操作是示例性的并且因此不是詳盡的。還可以認識到，備選的操作次序或者附加的或更少的操作可以用來完成這里預(yù)期的方法。
[0144]當本實用新型的組件或模塊完全或部分地利用軟件實現(xiàn)時，在一種實施例中，這些軟件元件可以實現(xiàn)為與能夠執(zhí)行關(guān)于其所述的功能性的計算或處理模塊一起操作。
[0145]雖然以上公開內(nèi)容是就各種示例性實施例和實現(xiàn)來描述的，但是應(yīng)當理解，在一個或多個個別實施例中描述的各種特征、方面和功能性就其適應(yīng)性而言不限于關(guān)于其描述它們的特定實施例，而是可以單獨地或者以各種組合應(yīng)用到本實用新型的一個或多個其它實施例，不管這種實施例是否已描述以及這種特征是否作為所述實施例的一部分給出。因此，本實用新型的廣度和范圍不應(yīng)當由以上所述的任何示例性實施例限制而是由這里給出的權(quán)利要求來限定。
【權(quán)利要求】
1.一種用于和計算設(shè)備一起使用的受照輸入裝置，其特征在于，所述受照輸入裝置包括: 多個按鍵，每個按鍵都包括: 具有頂表面的金屬鍵帽； 在金屬鍵帽中形成的圖標符號孔； 圖標符號孔中的圖標符號散射體材料； 配置為支撐鍵帽的可壓縮剪刀機構(gòu)；以及 具有開狀態(tài)和關(guān)狀態(tài)的光源，所述光源定向為將光透射通過圖標符號孔。2.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，開狀態(tài)包括鍵帽周界照明模式，在所述鍵帽周界照明模式中，光源在金屬鍵帽周界附近發(fā)射光。3.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，開狀態(tài)包括圖標符號照明模式，在所述圖標符號照明模式中，光源將光透射通過圖標符號散射體材料并通過圖標符號孔。4.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，金屬鍵帽由鋁材料形成。5.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，圖標符號散射體材料配置為散射透射通過圖標符號孔的光。6.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，金屬鍵帽被陽極化處理。7.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，圖標符號孔是利用激光切割工藝在金屬鍵帽中形成的。8.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，圖標符號孔是利用激光燒蝕工藝在金屬鍵帽中形成的。9.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，光源包括發(fā)光二極管。10.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，圖標符號散射體材料的一部分與頂表面共面。11.如權(quán)利要求1所述的受照輸入裝置，其特征在于，圖標符號孔部分地由連接到孤島部分的至少一個橋部分定義。12.如權(quán)利要求11所述的受照輸入裝置，其特征在于，至少一個橋部分具有比金屬鍵帽厚度小的厚度。13.如權(quán)利要求12所述的受照輸入裝置，其特征在于，至少一個橋部分是利用激光燒蝕工藝形成的。14.一種鍵盤，其特征在于，所述鍵盤包括: 多個按鍵，每個按鍵都包括鍵帽，所述按鍵包括: 具有均勻厚度的金屬頂層； 金屬頂層中定義圖標符號的孔；以及 沉積在金屬頂層的底表面上的散射體填充物； 所述多個按鍵下面的光發(fā)射層；以及 包括多個電氣開關(guān)的電氣開關(guān)層，所述多個電氣開關(guān)中的每個電氣開關(guān)在所述多個按鍵中的對應(yīng)一個按鍵下面。15.如權(quán)利要求14所述的鍵盤，其特征在于，光發(fā)射層包括多個發(fā)光二極管。16.如權(quán)利要求14所述的鍵盤，其特征在于，孔部分地通過激光切割工藝并且部分地 通過激光燒蝕工藝打開。
【文檔編號】H01H13-83GK204270948SQ201420525409
【發(fā)明者】H·T·科萬, J·L·耶恩, C·C·利翁, J·J·牛, K·J·漢德恩, 袁艷陽, 趙鋒, 李宛珊, D·T·朱, 洪澤 [申請人]蘋果公司