專利名稱：平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于平板顯示器(Flat Panel Display，以下簡稱“FPD”)生產(chǎn)設(shè)備的基板支撐裝置，尤其是裝配適合支撐玻璃基板邊緣以及中心的升降樞軸，從而保證上下移動玻璃基板時(shí)玻璃基板不彎曲。
背景技術(shù)：
干式蝕刻器(Dry Etcher)、化學(xué)氣相淀積器(Chemical Vapor DepositionApparatus)以及濺射器(Sputter)等FPD生產(chǎn)設(shè)備一般包括三個(gè)真空室。上述三個(gè)真空室指的是真空鎖室、處理腔、傳遞室。真空鎖室(LoadlockChamber)用以接送基板，即從外部接收要處理的基板，或者向外送出處理完的基板。處理腔(Process Chamber)利用等離子或熱能沉積膜或者進(jìn)行蝕刻等作業(yè)。傳遞室(TransferChamber)把基板從真空鎖室送到處理腔或者向反方向送出。
圖1是說明現(xiàn)有FPD生產(chǎn)設(shè)備結(jié)構(gòu)的平面圖。
見圖1，傳遞室(20)內(nèi)有機(jī)械手(robot，22)。上述機(jī)械手(22)配手柄，以便抬起玻璃基板(glass substrate，40)。上述機(jī)械手把基板放在上述手柄上，把上述基板從真空鎖室(10)送到處理腔(30)或者向反方向送出。
在處理腔(30)中，基板(40)放在基板支座(substrate supporting plate，36)上開始處理。而上述基板(40)憑借升降樞軸(32)或者升降條(34)從基板支座(36)被抬起或者放到基板支座(36)上。
上述升降樞軸(32)雖然位于基板支座中上述基板(40)的位置上，但是上述升降條(34)卻位于上述基板支座中上述基板(40)位置的外側(cè)。由于上述升降條(34)的上端水平彎曲，因此，如果彎曲部位面向基板(40)，則上述彎曲部位的長度充分伸展，以使基板(40)置于上述升降條(34)上面。
圖2a或圖2f是說明上述現(xiàn)有FPD生產(chǎn)設(shè)備操作方法的截面圖。
在處理腔(30)結(jié)束規(guī)定處理，處理完的基板(40b)置于基板支座(36)上暫時(shí)等待，此時(shí)傳遞室(20)和處理腔(30)之間的門被打開，機(jī)械手(22)帶著待處理的基板(40a)進(jìn)入處理腔(30)內(nèi)。然后，升降條(34)會上升并支撐已進(jìn)入的基板(40a)，機(jī)械手(22)從處理腔(30)脫離出來回到傳遞室(20)中(見圖2a、圖2b)。
機(jī)械手(22)進(jìn)入傳遞室(20)，升降樞軸(32)即刻上升，并抬起基板支座(36)上的已處理完的基板(40b)。然后，置于傳遞室(20)內(nèi)的機(jī)械手(22)重新進(jìn)入處理腔(30)內(nèi)。此時(shí)，升降樞軸(32)下降，使基板(40b)置于機(jī)械手手柄上面。機(jī)械手(22)帶著處理完的基板(40b)重新回到傳遞室(20)內(nèi)(見圖2c、圖2d)。
處理腔(30)和傳遞室(20)之間的門被關(guān)閉的同時(shí)，升降樞軸(32)和升降條(34)下降，把待處理的基板(40a)置于基板支座(36)上，進(jìn)行規(guī)定處理(見圖2e)。
傳遞室(20)內(nèi)的機(jī)械手(22)把處理完的基板(40b)放在真空鎖室(10)內(nèi)的基板保管處(未圖示)，并把保存在真空鎖室(10)，置于另外一個(gè)基板保管處(未圖示)的等待中的基板(40c)放在手柄上，180度旋轉(zhuǎn)后在傳遞室(20)等待，直到處理腔(30)的工作結(jié)束為止(見圖2f)。
這一期間，真空鎖室(10)和傳遞室(20)之間的門被關(guān)閉，處理完的基板(40b)排向真空鎖室(10)外，另一塊需要處理的基板(未圖示)送入真空鎖室(10)中，從而執(zhí)行基板更替。此時(shí)，在處理腔(30)工作的過程中，最好使上述基板更替結(jié)束，而且要迅速進(jìn)行真空鎖室(10)的通風(fēng)(venting)以及抽水(pumping)。
圖3a及圖3b是說明圖1的FPD生產(chǎn)設(shè)備存在的問題的附圖。
上述現(xiàn)有FPD生產(chǎn)設(shè)備如圖3a所示，升降樞軸(32)置于離基板支座中放基板(40)的邊緣處約有15mm的內(nèi)側(cè)。即，在基板(40)中心位置沒有裝配升降樞軸(32)。
如圖3b所示，當(dāng)基板(40)置于基板支座(36)上時(shí)，在有升降樞軸(32)之處(A)和無升降樞軸之處產(chǎn)生溫差或電位差，在進(jìn)行蝕刻等作業(yè)后，由于在A處和其它處的蝕刻速度的快慢不同，刻蝕后基板(40)上形成斑點(diǎn)(45)，所以，升降樞軸(32)不能置于基板(40)中心，而是如圖所示，只能置于邊緣部分。
最近，基板的大小擴(kuò)大至2m×2m左右，因此像過去一樣，基板的輸送過程中只抬起基板(40)邊緣，這樣基板(40)中心過多出現(xiàn)彎曲現(xiàn)象，導(dǎo)致基板(40)破裂或者機(jī)械手無法進(jìn)入基板(40)底下，無法回送基板。
另外，如圖3b所示，在上述升降樞軸(32)和基板支座上形成的垂直通孔31之間出現(xiàn)縫隙，在做特定處理時(shí)，處理腔中的氣體等污染物流入上述縫隙中殘存，待進(jìn)行另外工程時(shí)被排出，污染處理腔，有可能導(dǎo)致工程精確度產(chǎn)生誤差。
上述升降樞軸(32)和上述垂直通孔(31)之間形成縫隙，將會出現(xiàn)從中流入的污染物污染、腐蝕上述升降樞軸(32)等問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)課題是，提供裝配升降樞軸的FPD生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置。當(dāng)基板被抬起或放下時(shí)，這一升降樞軸適當(dāng)支撐基板的邊緣以及中心，以免基板被彎曲。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的為了解決上述技術(shù)課題，如本發(fā)明所述，F(xiàn)PD生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置包括基板支座、升降樞軸。其特征是，基板支座上水平放置玻璃基板，其上形成多個(gè)上端呈倒錐形柱狀的垂直通孔。升降樞軸插入到上述垂直通孔且能上下移動，還形成多個(gè)升降樞軸，以便把上述基板從上述基板支座上抬起或者放在上述基板支座上，該升降樞軸的上端具有一個(gè)呈倒錐形柱狀端頭，其與上述垂直通孔上端相匹配。
在上述基板支座或者上述升降樞軸中，如果任何一個(gè)的表面做了絕緣處理，則上述升降樞軸和上述基板支座以人為的方法電連接，通過另設(shè)構(gòu)件電連接，或者最好是在升降樞軸的錐形柱狀下端和與其相連的基板支座部位的絕緣膜中，剝開部分絕緣膜并自然緊貼在一起而電連接。


下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
圖1是說明現(xiàn)有FPD生產(chǎn)設(shè)備的平面圖；圖2a至圖2f是說明圖1的FPD生產(chǎn)設(shè)備操作方法的截面圖；圖3a及圖3b是圖1的FPD生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置存在的問題示意圖；圖4a及圖4b是說明本發(fā)明FPD生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置的截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照本發(fā)明實(shí)施例的附圖進(jìn)行詳細(xì)的說明。為了避免與現(xiàn)有技術(shù)之間的說明被重復(fù)，只圖示本發(fā)明的特征部位。
圖4a及圖4b是說明如本發(fā)明所述的FPD生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置的截面圖。
首先，如圖4a所述，玻璃基板(40)水平放在基板支座(36)上，上述基板支座(36)上形成多個(gè)垂直通孔(31)。多個(gè)升降樞軸(32)插在上述垂直通孔(31)中，以便進(jìn)行上下移動。而上述玻璃基板(40)根據(jù)上述升降樞軸(32)的上下移動，從基板支座(36)抬起或者放在基板支座(36)上。
為了防止在有升降樞軸(32)的部分(A)和無升降樞軸的部分之間產(chǎn)生溫差及電位差，最好使上述升降樞軸(32)和上述基板支座(36)進(jìn)行熱連接或電連接。為此如圖4b所示，使上述垂直通孔(31)的頂端呈倒錐形柱狀，上述升降樞軸(32)的上端也呈倒錐形柱狀，其與垂直通孔(31)頂端匹配，以便對準(zhǔn)上述垂直通孔(31)的頂端。這樣，當(dāng)上述升降樞軸(32)下降時(shí)，其幾何結(jié)構(gòu)與上述垂直通孔(31)的錐形柱狀一致，升降樞軸(32)和上述垂直通孔(31)緊貼在一起，無一縫隙。從而使上述升降樞軸(32)和上述基板支座(36)也在熱連接和電連接。
當(dāng)上述升降樞軸(32)下降時(shí)，上述升降樞軸(32)完全填補(bǔ)上述垂直通孔(31)，上述基板支座(36)上面和上述升降樞軸(32)上面無一縫隙，連續(xù)地連接在一起。由于上述基板支座(36)和上述升降樞軸(32)之間無縫隙，所以不會流入處理過程中產(chǎn)生的氣體等污染物，在進(jìn)行其他工程時(shí)不會污染處理腔或者腐蝕升降樞軸。
一般情況下，此時(shí)的上述升降樞軸(32)和基板支座(36)最好用金屬材質(zhì)制成。因?yàn)?，上述升降樞軸(32)和基板支座(36)采用金屬材質(zhì)，其導(dǎo)熱性及導(dǎo)電性能優(yōu)秀。因此如上所述，緊貼在一起會因?yàn)槠浣佑|而完成熱連接以及電連接，兩者之間不會發(fā)生溫差及電位差。為了擴(kuò)大這種效果，最好用同一材質(zhì)制作上述升降樞軸(32)和基板支座(36)。
本發(fā)明的升降樞軸(32)的體積比現(xiàn)有升降樞軸更大，熱容量也大，所以對基板(40)的溫度變化不會產(chǎn)生敏感的反應(yīng)。基板支座(36)中，有升降樞軸之處和無升降樞軸之處之間的溫差不大。
只是，基板支座(36)或升降樞軸(32)中，任何一個(gè)的表面做了絕緣處理，則升降樞軸(32)和基板支座(36)之間不通電而達(dá)不到等電位。此時(shí)最好采用人為的附加手段方法電連接。
例如，基板支座(36)一般采用金屬材質(zhì)，但如果是采用等離子的工程設(shè)備，主要以陽極化(anodizing)方式進(jìn)行絕緣處理。此時(shí)最好通過適當(dāng)?shù)姆椒?，即部分剝開陽極化處理部位中的絕緣處理物質(zhì)，或者另設(shè)電源連接線(38)等，對升降樞軸(32)和基板支座(36)進(jìn)行電連接，使它們達(dá)到等電位。
如本發(fā)明所述的升降樞軸(32)，即使裝配升降樞軸，也不會在基板支座上產(chǎn)生溫差或電位差，由于與玻璃基板(40)的接觸面廣，與上述升降樞軸(32)接觸的玻璃基板的單位面積所受的壓力小，所以其變形可能性也不大。如本發(fā)明所述的升降樞軸(32)是適合支撐基板(40)邊緣，更適合支撐基板(40)中心。
如上所述，本發(fā)明的升降樞軸(32)呈非條狀的錐形柱狀，緊貼著基板支座(36)，所以升降樞軸(32)的溫度和電位與基板支座(36)相同。因此，基板(40)不會產(chǎn)生斑點(diǎn)，均勻地成膜或者蝕刻。
如本發(fā)明所述的升降樞軸，其上部面積大，能夠支撐基板的寬部位，所以盡管基板做到大型化，升降樞軸就不必增加數(shù)量。
如本發(fā)明所述的升降樞軸的優(yōu)點(diǎn)是，與上述基板支座上的通孔完美結(jié)合，不污染升降樞軸。
如本發(fā)明所述的升降樞軸的另外一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是，適合支撐基板中心，故能夠支撐大型化的基板中心并輸送基板，以免大型化的基板中心被彎曲。
本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例，在本發(fā)明的技術(shù)思想范圍內(nèi)，由該領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對此進(jìn)行更多的變化。
權(quán)利要求
1.一種平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，包括基板支座和升降樞軸，所述基板支座上可水平放置玻璃基板，其特征是，所述基板支座形成多個(gè)上端呈倒錐形柱狀的垂直通孔；所述升降樞軸插在上述垂直通孔中，從而在所述基板支座上形成多個(gè)升降樞軸，其能上下移動，以便把上述基板從上述基板支座抬起或者放在上述基板支座上，該升降樞軸的上端具有一個(gè)呈倒錐形柱狀端頭，其與上述垂直通孔上端相匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸與上述基板支座采用同一材質(zhì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸和上述基板支座均采用金屬材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸與上述基板支座電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸和上述基板支座被另設(shè)的連接線電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸和上述基板支座在其外部形成絕緣物質(zhì)的基板支座中，解除其中一部分絕緣物質(zhì)而電連接。
7.如權(quán)利要求1所述的平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備基板支撐裝置，其特征在于上述升降樞軸還布置在能夠支撐上述基板中心的部位上。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于平板顯示器生產(chǎn)設(shè)備的基板支撐裝置，由基板支座、升降樞軸組成，其特征如下，基板支座(36)上有多個(gè)上端呈倒錐形柱狀的垂直通孔，并水平放在玻璃基板上(40)。升降樞軸(32)插在上述通孔，形成多個(gè)升降樞軸，其上端與上述通孔上端一致，呈倒錐形柱狀，從而控制基板(40)從基板支座(36)上抬起或降至基板支座(36)上，還能上下移動。如本發(fā)明所述，升降樞軸(32)呈非條狀的錐形柱狀，緊貼著基板支座(36)，因此可以防止升降樞軸(32)部位(A)和無升降樞軸的部位產(chǎn)生溫差及電位差。這樣基板(40)不會產(chǎn)生斑點(diǎn)，均勻地成膜或者蝕刻(etching)。
文檔編號H01L21/677GK1511690SQ200310116858
公開日2004年7月14日 申請日期2003年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月2日
發(fā)明者許光虎, 崔浚泳, 李哲源 申請人:愛德牌工程有限公司