專利名稱:自振蕩放大后向拉曼池的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及準分子激光,特別是一種用于壓縮準分子激光脈沖的自振蕩放大后向拉曼池。
背景技術:
后向拉曼壓縮可以獲得很高的激光功率,用于準分子激光的后向拉曼壓縮一般需要有一個短脈沖的種子光源,其波長正好是準分子激光受激拉曼散射的一階斯托克斯波長。種子激光與泵浦激光相向同軸進入充有氣體介質具有石英平板窗口的不銹鋼管,即拉曼池。種子激光在與泵浦激光從相遇到分離的相互作用過程中,從泵浦激光獲取能量得到放大,而脈沖波形和寬度保持不變,這就是一般而言的后向拉曼壓縮放大。其難度主要在于種子光的獲得、光路調整及其同步要求比較高。本發(fā)明采用的自振蕩放大拉曼池裝置,不需要種子光,更避免了了光路的同步合調整,結構上更為簡單緊湊,拉曼轉換效率高。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術的不足,提供一種自振蕩放大后向拉曼池,本發(fā)明裝置不需要種子光,更避免了光路的同步和調整,結構上更為簡單緊湊,拉曼轉換效率高。適用于短脈沖高功率準分子激光系統(tǒng)。
本發(fā)明的目的通過以下技術方案來實現(xiàn)的一種用于壓縮準分子激光脈沖的自振蕩放大后向拉曼池,其特征在于該拉曼池的構成如下在充有工作氣體的拉曼池即不銹鋼管輸入窗口之外依次設有石英聚焦透鏡和石英雙色片,該石英雙色片與不銹鋼管的主軸成45度,該石英透鏡的焦點位于拉曼池的中間位置,一泵浦激光入射到石英雙色片,該石英雙色片對泵浦激光全反射,對268nm的一階斯托克斯激光高透射。
所述的該石英雙色片對泵浦激光全反射,對268nm的一階斯托克斯激光透射90%。
所述的泵浦激光以45度入射角入射到石英雙色片。
本發(fā)明的技術效果是石英雙色片具有很高的功率破壞閾值,可以承受很高的激光功率密度。與在先技術相比,本發(fā)明的自振蕩放大后向拉曼池不需要額外的種子光,避免了復雜的后向拉曼放大光路調整和同步,具有高轉換效率。
圖1為本發(fā)明自振蕩放大后向拉曼池實施案的示意圖。
具體實施例方式
先請參閱圖1,圖1為本發(fā)明自振蕩放大后向拉曼池實施案的示意圖。由圖可見,本發(fā)明自振蕩放大后向拉曼池結構是在充有工作氣體的拉曼池4輸入窗口5之外依次設有石英聚焦透鏡3和石英雙色片2,該石英雙色片2與不銹鋼管4的主軸成45度,該石英透鏡3的焦點位于拉曼池4的中間位置,一泵浦激光1入射到石英雙色片2,該石英雙色片2對泵浦激光1全反射,對268nm的一階斯托克斯激光透射90%。
所述的泵浦激光1是能量10焦耳,波長248nm的KrF準分子激光,以45度入射角入射到石英雙色片2,雙色片2與拉曼池4的光軸成45度角放置。雙色片2對入射的248nm泵浦激光全反射,而對268nm的一階斯托克斯激光投射約90%。泵浦光1經雙色片2反射后再經石英透鏡3聚焦到拉曼池4中,焦點位置在7,拉曼池的窗口5和6均為石英玻璃。在焦點7處產生的后向一階斯托克斯光與泵浦光的脈沖后續(xù)部分作用得到放大,并透過石英雙色片2輸出8,輸出能量約1.7焦耳。剩余的泵浦激光為9。
本發(fā)明自振蕩放大后向拉曼池不需要種子光,避免了復雜的后向拉曼放大光路調整和同步,轉換效率達到約17%。
權利要求
1.用于壓縮準分子激光脈沖的自振蕩放大后向拉曼池,其特征在于該拉曼池的構成如下在充有工作氣體的拉曼池(4)輸入窗口(5)之外依次設有石英聚焦透鏡(3)和石英雙色片(2),該石英雙色片(2)與拉曼池(4)的主軸成45度,該石英透鏡(3)的焦點位于拉曼池(4)的中間位置,一泵浦激光(1)入射到石英雙色片(2),該石英雙色片(2)對泵浦激光(1)全反射,對268nm的一階斯托克斯激光高透射。
2.根據(jù)權利要求1所述的自振蕩放大后向拉曼池,其特征在于所述的該石英雙色片(2)對泵浦激光(1)全反射,對268nm的一階斯托克斯激光透射約90%。
3.根據(jù)權利要求1所述的自振蕩放大后向拉曼池,其特征在于所述的泵浦激光(1)以45度入射角入射到石英雙色片(2)。
全文摘要
一種用于壓縮準分子激光脈沖的自振蕩放大后向拉曼池,該拉曼池的構成是在充有工作氣體的拉曼池即不銹鋼管輸入窗口之外依次設有石英聚焦透鏡和石英雙色片,該石英雙色片與拉曼池的主軸成45度,該石英透鏡的焦點位于拉曼池的中間位置,一泵浦激光入射到石英雙色片,該石英雙色片對泵浦激光全反射,對268nm的一階斯托克斯激光高透射。所述的泵浦激光以45度入射角入射到石英雙色片。本發(fā)明的自振蕩放大后向拉曼池不需要額外的種子光,避免了復雜的后向拉曼放大光路調整和同步,具有高轉換效率。
文檔編號H01S3/00GK1564392SQ20041001787
公開日2005年1月12日 申請日期2004年4月22日 優(yōu)先權日2004年4月22日
發(fā)明者葉震寰, 樓祺洪, 董景星, 魏運榮, 凌磊 申請人:中國科學院上海光學精密機械研究所