專利名稱：圖形的形成方法、圖形形成裝置以及器件的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種通過在基板上配置液體材料的液滴來形成膜圖形的圖形形成方法和圖形形成裝置、器件的制造方法、導電膜布線、光電裝置及電子機器。
背景技術：
以前，多將光刻法用作半導體集成電路等具有細微布線圖形(膜圖形)的器件的制造方法，但使用液滴噴出法的器件的制造方法被注目。該液滴噴出法具有液體材料的浪費少，容易進行配置在基板上的液體材料的量或位置的控制等優(yōu)點。下述專利文獻中公開了關于液滴噴出法的技術。
專利文獻1特開平11-274671號公報專利文獻2特開2000-216330號公報但是，在通過在基板上配置多個液滴來形成多個布線圖形時，若各布線圖形中液滴的配置各不相同，則產生各布線圖形彼此間在外觀上不均的問題。另外，在將布線圖形的線寬拓寬時，有時沿線寬方向排列配置液滴，但在配置用于形成線寬方向兩端部的液滴后，配置用于形成中央部的液滴以插入該兩端部之間的情況、和從形成線寬方向中央部后配置用于形成兩端部的液滴的情況下，存在線寬中產生差異的問題。即，若在形成中央部后配置用于形成兩端部的液滴，則產生該液滴被拉靠到中央部的現象，與在形成兩端部后形成中央部的情況相比，線寬會變細。

發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種在通過在基板上配置液體材料的液滴形成多個膜圖形時，可抑制各膜圖形彼此之間的線寬差異或外觀上的不均的產生的圖形形成方法及圖形形成裝置、器件的制造方法。另外，本發(fā)明的目的在于提供抑制線寬差異的導電膜布線、具有該導電膜布線的光電裝置及使用其的電子機器。
為了解決上述問題，本發(fā)明的圖形形成方法，通過在基板上配置液體材料的液滴來形成膜圖形，其特征在于，具有在所述基板上設定多個形成所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的工序；和在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴后形成所述膜圖形的工序，在依次配置所述液滴時，使所述多個圖形形成區(qū)域的每個中配置所述液滴的配置順序大致相同，配置所述液滴。
根據本發(fā)明，在為了形成膜圖形而依次配置多個液滴時，因為在多個膜圖形的每個中將配置順序設定得大致相同，所以可抑制膜圖形彼此之間的線寬差異或外觀上的不均的產生。
此時，通過在所述基板上設定配置所述液滴的柵格狀的多個單位區(qū)域，對所述多個單位區(qū)域中規(guī)定的單位區(qū)域配置所述液滴，可順利地使各膜圖形各自的形狀或液滴配置順序大致相同。
在本發(fā)明的圖形形成方法中，其特征在于，在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中基本同時配置所述液滴。
根據本發(fā)明，通過具有在多個圖形形成區(qū)域的每個中同時配置液滴的工序，可提高生產率。
在本發(fā)明的圖形形成方法中，其特征在于，所述膜圖形是線狀圖形，在形成該膜圖形的線寬方向側部后，形成中央部，或在形成該膜圖形的線寬方向中央部后，形成側部。
根據本發(fā)明，可使多個線狀圖形各自的線寬大致一致。即，在形成線狀圖形的中央部后配置用于形成側部的液滴時，通過使液滴配置大致相同，產生使該液滴拉靠到中央部的現象，認為在各線狀圖形的線寬中產生差異，但在形成兩側的側部后，通過配置用于形成中央部的液滴以埋入該兩側部之間，可抑制各線狀圖形的線寬差異的產生。
在本發(fā)明的圖形形成方法中，其特征在于，沿規(guī)定方向排列設定多個所述圖形形成區(qū)域，同時，對應于該多個圖形形成區(qū)域的每個來設置多個配置所述液滴的噴出部，邊沿所述圖形形成區(qū)域的排列方向移動所述噴出部，邊配置所述液滴。
根據本發(fā)明，對應于多個排列的圖形形成區(qū)域的每個來設置噴出部(噴出噴嘴)，邊移動該噴出部邊配置液滴，所以可在短時間內形成多個膜圖形(布線圖形)。
在本發(fā)明的圖形形成方法中，其特征在于，所述液體材料是包含導電性微粒子的液體。由此，可形成沒有各膜圖形彼此之間的線寬差異或外觀上的不均的導電膜。
本發(fā)明的圖形形成方法，通過在基板上配置液體材料的液滴來形成線狀膜圖形，其特征在于，具有在所述基板上排列設定多個形成所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的工序；和在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴來形成所述膜圖形的工序，在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中所述液滴的配置大致相同。
根據本發(fā)明，當在基板上配置多個液滴來形成膜圖形時，因為液滴彼此的至少部分重合地配置，所以可抑制膜圖形的不連續(xù)部的產生。另外，在使液滴彼此部分重合地配置時，因為在各膜圖形彼此中大致相同地設定該液滴的配置，所以可抑制多個膜圖形之間在外觀上不均的產生。
本發(fā)明的圖形形成裝置，具備在基板上配置液體材料的液滴的液滴噴出裝置，通過所述液滴來形成膜圖形，其特征在于，所述液滴噴出裝置在所述基板上形成的事先設定的多個所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴，并在依次配置所述液滴時，使在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中配置所述液滴的配置順序大致相同。
根據本發(fā)明，在依次配置多個液滴后形成膜圖形時，因為在多個膜圖形的每個中將配置順序設定得大致相同，所以可抑制線寬差異或外觀上的不均的產生。
本發(fā)明的圖形形成裝置，具備在基板上配置液體材料的液滴的液滴噴出裝置，通過所述液滴來形成線狀膜圖形，其特征在于，所述液滴噴出裝置在所述基板上形成的事先排列設定的多個所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴，使所述多個圖形形成區(qū)域的每個中所述液滴的配置大致相同。
根據本發(fā)明，當在形成膜圖形時，在可抑制膜圖形的不連續(xù)部的產生的同時，可抑制多個膜圖形之間在外觀上不均的產生。
本發(fā)明的具有布線圖形的器件制造方法，其特征在于，具有材料配置工序，通過在所述基板上形成設定的多個所述布線圖形的圖形形成區(qū)域的每個中配置液體材料的液滴，形成所述布線圖形，所述材料配置工序具有在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴來形成所述膜圖形的工序，在依次配置所述液滴時，使在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中配置所述液滴的配置順序大致相同，配置所述液滴。
根據本發(fā)明，在為了形成膜圖形而依次配置多個液滴時，因為在多個膜圖形的每個中將配置順序設定得大致相同，所以可抑制線寬差異或外觀上的不均的產生。
本發(fā)明的具有布線圖形的器件制造方法，其特征在于，具有材料配置工序，通過在所述基板上形成設定的多個所述布線圖形的圖形形成區(qū)域的每個中配置液體材料的液滴，形成所述布線圖形，所述材料配置工序具有在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴來形成所述膜圖形的工序，使在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中所述液滴的配置大致相同。
根據本發(fā)明，當在形成布線圖形時，在可抑制布線圖形的不連續(xù)部的產生的同時，可抑制多個布線圖形之間在外觀上不均的產生。
另外，通過將本發(fā)明的膜圖形的形成方法或布線圖形的制造方法適用于制造配置在例如等離子體型顯示裝置的顯示部中的布線(顯示電極等)的情況，可形成外觀上無不均的布線圖形，所以可得到良好的顯示性及識別性。
另外，例如薄膜晶體管通過層疊包含布線的多個功能層來構成，但通過在制造該薄膜晶體管的各功能層(布線)時適用本發(fā)明，可抑制規(guī)定層中的線寬差異、進而膜厚差異的產生，所以即使在層疊多個功能層的情況下，也可抑制薄膜晶體管的面方向的膜厚差異的產生。
本發(fā)明的導電膜布線，其特征在于，通過上述的圖形形成裝置形成。
根據本發(fā)明，可提供一種均勻線寬、外觀上無不均的導電膜布線。
本發(fā)明的由在基板上排列的多個布線圖形構成的導電膜布線，其特征在于，由部分重合配置的多個液滴形成該多個布線圖形的每個，在所述多個布線圖形的每個中將所述多個液滴的配置設定得大致相同。
根據本發(fā)明，可提供一種外觀上無不均的導電膜布線。
本發(fā)明的光電裝置，其特征在于，具備上述的導電膜布線。另外，本發(fā)明的電子機器，其特征在于，具備上述的光電裝置。根據這些發(fā)明，因為具備具有均勻線寬、外觀上無不均的導電膜布線，所以可得到良好的電特性及顯示性。
這里，作為光電裝置，例如可以舉出等離子體型顯示裝置、液晶顯示裝置及有機場致發(fā)光顯示裝置等。
作為上述液滴噴出裝置(噴墨裝置)的噴出方式，可以是通過壓電體元件的體積變化使液體材料噴出的壓電噴出方式，也可以是通過施加熱來急劇產生蒸氣，由此使液體材料的液滴噴出的方式。
所謂液體材料是指具備可從液滴噴出頭(噴墨頭)的噴出噴嘴噴出的粘度的介質。不管是水性還是油性。只要具備可從噴嘴等噴出的流動性(粘度)即可，最好是即使混入固體物質但作為整體仍為流動體。另外，包含于液體材料中的材料除作為微粒子分散到溶劑中外，也可加熱到熔點以上被熔解，除溶劑外，也可添加染料或顏料等功能性材料。另外，基板除平基板外，也可以是曲面狀基板。并且，圖形形成面的硬度不必硬，除玻璃或塑料、金屬外，也可以是薄膜、紙、橡膠等具有柔性的材料的表面。


圖1是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的流程圖。
圖2是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的模式圖。
圖3是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的模式圖。
圖4是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的模式圖。
圖5是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的模式圖。
圖6是表示根據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖7是表示根據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖8是表示限據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖9是表示根據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖10是表示根據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖11是表示根據設定于基板上的位圖數據來配置液滴的狀態(tài)的模式圖。
圖12是表示本發(fā)明的圖形形成裝置一實施方式的示意立體圖。
圖13是表示本發(fā)明的光電裝置一實施方式的圖，是表示適用于等離子體型顯示裝置中的實例的分解立體圖。
圖14是表示本發(fā)明的光電裝置一實施方式的圖，是表示適用于液晶裝置中的實例的俯視圖。
圖15是表示液晶顯示裝置的其它形態(tài)的圖。
圖16是說明FED的圖。
圖17是表示本發(fā)明的電子機器的一實施方式的圖。
圖中10-液滴噴出頭(液滴噴出裝置)、10A～10J-噴出噴嘴(噴出部)，11-基板，100-圖形形成裝置(液滴噴出裝置)，R1～R7-圖形形成區(qū)域，W1～W7-膜圖形(布線圖形、導電膜布線)，Wa-第1側部圖形(一方的側部)，Wb-第2側部圖形(另一方的側部)，Wc-中央圖形(中央部)。
具體實施例方式下面，參照附圖來說明本發(fā)明的圖形形成方法。圖1是表示本發(fā)明的圖形形成方法一實施方式的流程圖。
這里，在本實施方式中舉例說明在基板上形成導電膜布線圖形的情況。
圖1中，根據本實施方式的圖形形成方法，具有使用規(guī)定溶劑等清洗配置液體材料的液滴的基板的工序(步驟S1)；構成基板表面處理工序一部分的疏液化處理工序(步驟S2)；調整進行疏液化處理后的基板表面的疏液性的、構成表面處理工序一部分的疏液性控制處理工序(步驟S3)；基于液滴噴出法，在表面處理后的基板上配置包含導電膜布線形成用材料的液體材料的液滴，并描繪(形成)膜圖形的材料配置工序(步驟S4)；去除配置在基板上的液體材料的溶劑成分的至少一部分的、包含熱、光處理的中間干燥處理工序(步驟S5)；和燒結描繪了規(guī)定圖形的基板的燒結工序(步驟S7)。另外，在中間干燥處理工序后，判斷規(guī)定的圖形描繪是否結束(步驟S6)，若圖形描繪結束，則進行燒結工序，另一方面，若圖形描繪未結束，則進行材料配置工序。
下面，說明基于作為本發(fā)明特征部分的液滴噴出法的材料配置工序(步驟S4)。
本實施方式的材料配置工序是通過從液滴噴出裝置的液滴噴出頭向基板上噴出包含導電膜布線形成用材料的液體材料的液滴，在基板上排列形成多個線狀膜圖形(布線圖形)的工序。液體材料是將作為導電膜布線形成用材料的金屬等導電性微粒子分散到分散劑中的液狀體。在以下說明中，說明在基板11上形成3個第1、第2及第3膜圖形(線狀圖形)W1、W2及W3的情況。
圖2、圖3及圖4是說明在本實施方式的基板11上配置液滴的順序一例的圖。在這些圖中，在基板11上設定具有作為配置液體材料液滴的柵格狀的多個單位區(qū)域的象素的位圖。這里，將1個象素設定成正方形。另外，對應于這些多個象素中規(guī)定象素來設定形成第1、第2、第3膜圖形W1、W2、W3的第1、第2、第3圖形形成區(qū)域R1、R2、R3。沿X軸方向排列設定這些多個圖形形成區(qū)域R1、R2、R3。另外，圖2-圖4中，圖形形成區(qū)域R1、R2、R3是由灰色表示的區(qū)域。
另外，在基板11上的第1圖形形成區(qū)域R1中，配置從設置在液滴噴出裝置的噴出頭10中的多個噴出噴嘴中的第1噴出噴嘴10A噴出的液體材料的液滴。同樣，在基板11上的第2、第3圖形形成區(qū)域R2、R3中，配置從設置在液滴噴出裝置的噴出頭10中的多個噴出噴嘴中的第2、第3噴出噴嘴10B、10C噴出的液體材料的液滴。即，分別對應于各個第1、第2、第3圖形形成區(qū)域R1、R2、R3來設置噴出噴嘴(噴出部)10A、10B、10C。另外，液滴噴出頭10在設定的多個圖形形成區(qū)域R1、R2、R3每個的多個象素位置依次配置多個液滴。
并且，在第1、第2、第3圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中，從作為線寬方向的一側(-X側)的第1側部圖形Wa形成應形成于這些圖形形成區(qū)域R1、R2、R3中的第1、第2、第3膜圖形W1、W2、W3，接著，形成作為另一側(+X側)的第2側部圖形Wb，并在形成第1、第2側部圖形Wa、Wb后，形成作為線寬方向中央部的中央圖形Wc。
在本實施方式中，各膜圖形(線狀圖形)W1-W3每個、進而各圖形形成區(qū)域R1-R3的每個具有相同線寬L，將線寬L設定成3個象素左右的大小。另外，將各圖形間的各間隙部也設定成相同寬度S，該寬度S也設定成3個象素左右的大小。另外，將作為噴出噴嘴10A-10C彼此間隔的噴嘴間距設定成6個象素大小。
以下說明中，使具有噴出噴嘴10A、10B、10C的液滴噴出頭10邊沿Y軸方向掃描基板11邊噴出液滴。另外，在用圖2-圖4的說明中，向第1次掃描時配置的液滴附加[1]，向第2次、第3次、...、第n次掃描時配置的液滴附加[2]、[3]、...、[n]。
如圖2(a)所示，在第1次掃描時，為了在第1、第2、第3圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中形成第1側部圖形Wa，在第1側部圖形形成預定區(qū)域中間隔1個左右的象素，同時，從第1、第2、第3噴出噴嘴10A、10B、10C同時配置液滴。這里，向基板11配置的液滴通過落在基板11上而在基板11上擴散。即，如圖2(a)中圓所示，落在基板11上的液滴擴散成具有比1個大小大的直徑c。這里，因為液滴在Y軸方向上間隔規(guī)定間隔(1個左右象素)來配置，所以設定成配置在基板11上的液滴彼此不重合。由此，可防止Y軸方向上在基板11上過多設置液體材料，可防止產生凸出。
另外，圖2(a)中，配置在基板11上時的液滴彼此不重合地配置，但也可稍重合地配置液滴。另外，這里間隔1個左右的象素來配置液滴，但也可間隔兩個以上任意個象素大小的間隔來配置液滴。此時，最好增加液滴噴出頭10對基板11的掃描動作及配置動作(噴出動作)，插入基板上的液滴彼此之間。
另外，由于基板11的表面事先通過步驟S2及S3加工成期望的疏液性，所以可抑制配置在基板11上的液滴過多擴散。因此，在可將圖形形狀確實控制成良好狀態(tài)的同時，厚膜化也變容易。
圖2(b)是通過第2次掃描從液滴噴出頭10向基板11配置液滴時的模式圖。另外，圖2(b)中，向第2次掃描時配置的液滴附加[2]。在第2次掃描時，從各噴出噴嘴10A、10B、10C同時配置液滴，以插入第1次掃描時配置的液滴[1]之間。另外，通過第1次及第2次掃描及配置動作，液滴彼此連續(xù)，在第1、第2、第3圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中形成第1側部圖形Wa。這里，液滴[2]也落在基板11上，由此擴散，液滴[2]的一部分與在先配置在基板11上的液滴[1]的一部分重合。具體而言，液滴[2]的一部分重合在液滴[1]上。
這里，在基板11上配置用于形成第1側部圖形Wa的液滴后，為了去除分散劑，必要時可進行中間干燥處理(步驟S5)。
中間干燥處理除使用例如加熱板、電爐及熱風發(fā)生機等加熱裝置等的一般熱處理外，也可以是使用燈退火的光處理。
接著，液滴噴出頭10與基板11沿X軸方向相對移動兩個象素大小。這里，液滴噴出頭10相對基板11沿+X方向步進移動兩個象素大小。與此同時，噴出噴嘴10A、10B、10C也移動。
之后，液滴噴出頭10進行第3次掃描。由此，如圖3(a)所示，從各噴出噴嘴10A、10B、10C相對第1側部圖形Wa、沿X軸方向間隔開地在基板11上同時配置用于形成構成膜圖形W1、W2、W3各自一部分的第2側部圖形Wb的液滴[3]。這里也沿Y軸方向隔開1個象素大小來配置液滴[3]。
圖3(b)是通過第4次掃描從液滴噴出頭10向基板11配置液滴時的模式圖。另外，圖3(b)中，向第4次掃描時配置的液滴附加[4]。在第4次掃描時，從各噴出噴嘴10A、10B、10C同時配置液滴，以插入第3次掃描時配置的液滴[3]之間。另外，通過第3次及第4次掃描及配置動作，液滴彼此連續(xù)，在圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中形成第2側部圖形Wb。這里，液滴[4]的一部分與在先配置在基板11上的液滴[3]的一部分重合。具體而言，液滴[4]的一部分重合在液滴[3]上。
這里，在基板11上配置用于形成第2側部圖形Wb的液滴后，為了去除分散劑，必要時可進行中間干燥處理。
接著，液滴噴出頭10相對于基板沿-X軸方向進步移動1個象素大小。與此同時，噴出噴嘴10A、10B、10C也沿-X方向移動1個象素大小。之后，液滴噴出頭10進行第5次掃描。由此，如圖4(a)所示，在基板上同時配置用于形成構成膜圖形W1、W2、W3各自一部分的中央圖形Wc的液滴[5]。這里也沿Y軸方向隔開1個象素大小來配置液滴[5]。這里，液滴[5]的一部分與在先配置在基板11上的液滴[1]、[3]的一部分重合。具體而言，液滴[5]的一部分重合在液滴[1]、[3]上。
圖4(b)是通過第6次掃描從液滴噴出頭10向基板11配置液滴時的模式圖。另外，圖4(b)中，向第6次掃描時配置的液滴附加[6]。在第6次掃描時，從各噴出噴嘴10A、10B、10C同時配置液滴，以插入第5次掃描時配置的液滴[5]之間。另外，通過第5次及第6次掃描及配置動作，液滴彼此連續(xù)，在圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中形成中央圖形Wc。這里，液滴[6]的一部分與在先配置在基板11上的液滴[5]的一部分重合。具體而言，液滴[6]的一部分重合在液滴[5]上。進而，液滴[6]的一部分重合在在先配置在基板11上的液滴[2]、[4]上。
由此，在各圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個中形成膜圖形W1、W2、W3。
如上所述，當在圖形形成區(qū)域R1、R2、R3中依次配置多個液滴后形成彼此大致相同形狀的膜圖形W1、W2、W3時，因為將對各圖形形成區(qū)域R1、R2、R3的每個的多個象素配置液滴的配置順序設定得相同，所以即使在部分重合地配置各液滴[1]-[6]的情況下，其重合形態(tài)在各膜圖形W1、W2、W3中相同，所以可使各膜圖形W1、W2、W3的外觀相同。因此，可抑制各膜圖形W1、W2、W3彼此之間在外觀上不均的產生。
另外，因為各膜圖形W1、W2、W3每個中液滴的配置順序相同，所以各膜圖形W1、W2、W3每個中液滴的配置(液滴彼此的重合形態(tài))相同，故可抑制外觀上不均的產生。
另外，因為將膜圖形W1、W2、W3每個中液滴彼此的重合狀態(tài)設定得相同，所以可使各膜圖形的膜厚分布大致相同。因此，在該膜圖形是在基板的面方向上重復的重復圖形的情況下，具體而言是例如對應于顯示裝置的象素設置的多個圖形的情況下，各象素具有相同的膜厚分布。因此，基板的面方向的各位置可發(fā)揮相同的功能。
另外，因為在形成第1、第2側部圖形Wa、Wb后配置用于形成中央圖形Wc的液滴[5]、[6]，以便埋入其間，所以可大致均勻地形成各膜圖形W1、W2、W3的線寬。即，在基板11上形成中央圖形Wc后配置用于形成側部圖形Wa、Wb的液滴[1]、[2]、[3]、[4]的情況下，因為產生這些液滴被拉靠到在先形成于基板11中的中央圖形Wc的現象，所以有時難以控制各膜圖形W1、W2、W3的線寬，但如本實施方式所示，因為在基板11上先形成側部圖形Wa、Wb后才埋入其間地配置用于形成中央圖形Wc的液滴[5]、[6]，所以可高精度地進行各膜圖形W1、W2、W3的線寬控制。
另外，也可在形成中央圖形Wc后形成側部圖形Wa、Wb。此時，通過對各膜圖形W1-W3每個設定相同的液滴配置順序，可抑制各圖形彼此之間的外觀上的不均的產生。
在本實施方式中，對應于各圖形形成區(qū)域(膜圖形)的每個來配置噴出噴嘴，通過從該噴出噴嘴噴出的液滴來形成膜圖形。因此，如本實施方式所示，為了對應于各圖形形成區(qū)域的每個來配置噴出噴嘴，在將圖形形成區(qū)域(膜圖形)的X軸方向的象素數(或線寬)設為S、將間隙部的X軸方向的象素數(或線寬)設為L、將作為噴出噴嘴的配置間隔的噴嘴間距設為Np的情況下，必需滿足關系Np＝S+(n×L)。
圖5是模式表示形成線狀側部圖形Wa、Wb及中央圖形Wc的步驟的側面圖。
如圖5(a)所示，空出規(guī)定間隔在基板11上依次配置從液滴噴出頭10噴出的液滴L1。即，液滴噴出頭10配置成在基板11上液滴L1彼此不重疊。本例中，設定液滴L1的配置間距P1比剛配置在基板11上之后的液滴L1的直徑大。由此，剛配置在基板11上之后的液滴L1彼此不重疊(不接觸)，防止液滴L1彼此合在一起后在基板11上擴散。另外，將液滴L1的配置間距P1設定成剛配置在基板11上之后的液滴L1的直徑的2倍以下。
這里，在基板11上配置液滴L1后，為了去除分散劑，必要時進行中間干燥處理(步驟S5)。中間干燥處理除使用例如加熱板、電爐及熱風發(fā)生機等加熱裝置等的一般熱處理外，也可以是使用燈退火的光處理。
接著，如圖5(b)所示，重復上述液滴配置動作。即，與圖5(a)所示的上次一樣，從液滴噴出頭10噴出液體材料，作為液滴L2，在基板11上每隔一定距離配置該液滴L2。此時，液滴L2的體積(每1個液滴的液體材料量)及其配置間距P2與上次的液滴L1一樣。另外，液滴L2的配置位置從上次的液滴L1位移1/2間距，在配置于基板11上的上次液滴L1彼此的中間位置上配置這次的液滴L2。
如上所述，基板11上的液滴L1的配置間距P1比剛配置在基板11上之后的液滴L1的直徑大，并且為該直徑的2倍以下。因此，通過在液滴L1的中間位置配置液滴L2，液滴L2部分重疊在液滴L1上，填埋液滴L1彼此間的間隙。此時，這次的液滴L2與上次的液滴L1接觸，但由于上次的液滴L1已完全或某種程度上去除了分散劑，所以很少兩者合在一起后在基板11上擴散。
另外，圖5(b)中，設開始配置液滴L2的位置為與上次相同的一側(圖5(a)所示左側)，但也可以是相反側(右側)。通過在往復動作向各方向移動時配置液滴，可減少液滴噴出頭10與基板11的相對移動距離。
當在基板11上配置液滴L2后，為了去除分散劑，必要時與上述一樣進行干燥處理。
通過反復多次上述一系列液滴配置動作，填埋配置在基板11上的液滴彼此的間隙，如圖5(c)所示，在基板11上形成作為線狀連續(xù)圖形的中央圖形Wc及側部圖形Wa、Wb。此時，通過增加液滴配置動作的重復次數，液滴依次重合在基板11上，線狀圖形Wa、Wb、Wc的膜厚、即距基板11表面的高度(厚度)增加。
對應于最終的膜圖形所需的期望膜厚來設定線狀圖形Wa、Wb、Wc的高度(厚度)，對應于該設定的膜厚來設定上述液滴配置動作的重復次數。
另外，線狀圖形的形成方法不限于圖5(a)-(c)所示。
例如，可任意設定液滴的配置間距或重復時的位移量等，也可將形成圖形Wa、Wb、Wc時的液滴在基板P上的配置間距設定為各不相同的值。例如，在形成中央圖形Wc時的液滴間距為P1的情況下，將形成側部圖形Wa、Wb時的液滴間距P設為比P1寬的間距。不用說，也可設為比P1窄的間距。另外，也可將形成圖形Wa、Wb、Wc時的液滴體積設定為各不相同的值?；蛘?，將作為各噴出動作中配置基板11或液滴噴出頭10的氣氛的液滴噴出氣氛(溫度或濕度等)設定成各不相同的條件。
另外，本實施方式中，每次1條地形成各線狀圖形Wa、Wb、Wc，但也可同時形成多條(例如同時形成圖形Wb、Wc這兩條)。另外，在每次1條地形成多個圖形Wa、Wb、Wc的情況與同時形成多條的情況下，干燥處理的次數總計可能不同，所以最好設定干燥條件，以不損害基板11的疏液性。
下面，參照圖6-圖11來說明圖形形成方法的其它實施例。這里，設噴出噴嘴有10A-10J等10個，噴嘴間距設定成4個象素大小。換言之，1個噴出噴嘴在X軸方向上的對應格子數(對應象素數)為4個。即，在基板上，1個噴出噴嘴可配置液滴的范圍(即1個噴出噴嘴的負責的圖形可形成區(qū)域)在X軸方向上為4個象素大小(4列)。例如，第1噴出噴嘴10A在圖6中，可對第1列-第4列的象素范圍配置液滴，第2噴出噴嘴10B可對第5列-第8列的象素范圍配置液滴。同樣，噴出噴嘴10C可對第9列-第12列、噴出噴嘴10D可對第13列-第16列、...、噴出噴嘴10H可對第29列-第32列、噴出噴嘴10I可對第33列-第36列、噴出噴嘴10J可對第37列-第40列配置液滴。另外，在本實施方式中，形成設計值上具有2個象素大小線寬的布線圖形(膜圖形)W1-W7。即，將形成布線圖形的圖形形成區(qū)域R1-R7設定在圖6的灰色所示區(qū)域中。
另外，如圖6所示，圖形形成區(qū)域R1-R7(即膜圖形W1-W7)各自間的間隙部幅度中、圖形形成區(qū)域R1、R2間的間隙部幅度為4個象素大小，圖形形成區(qū)域R2、R3間的間隙部幅度為4個象素大小。下面一樣，圖形形成區(qū)域R3、R4間為5個象素大小，圖形形成區(qū)域R4、R5間為4個象素大小，圖形形成區(qū)域R5、R6間為3個象素大小，圖形形成區(qū)域R6、R7間為4個象素大小。這樣，作為本實施方式的各布線圖形的布線間隔的布線間距(即各間隙部)被設定得不均勻。
另外，在本實施方式中，在具有兩個象素大小的線寬的各膜圖形的每個中，在形成一側(-X側)的第1側部圖形Wa后，形成另一側(+X側)的第2側部圖形Wb。
圖6中，使噴出噴嘴10A與圖形形成區(qū)域R1的第1側部圖形形成預定區(qū)域(即第1列)位置一致，使噴出噴嘴10D與圖形形成區(qū)域R3的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第13列)位置一致，使噴出噴嘴10J與圖形形成區(qū)域R7的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第37列)位置一致。因此，就圖形形成區(qū)域R1、R3、R7而言，為可配置液滴狀態(tài)。另一方面，沒有與圖形形成區(qū)域R2、R5、R6位置一致的噴出噴嘴。因此，就圖形形成區(qū)域R2、R5、R6而言，為液滴配置休止狀態(tài)。另外，就圖形形成區(qū)域R4而言，雖然使噴出噴嘴10F位置一致，但使該噴出噴嘴10F定位于第2側部圖形形成預定區(qū)域(第21列)。因此，就圖形形成區(qū)域R4而言，也為液滴配置休止狀態(tài)。
下面，按與參照圖2-圖5說明的步驟一樣的步驟，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10A、10D、10J同時噴出液滴。之后，通過第1、第2次掃描，如圖6的[1]、[2]所示，在圖形形成區(qū)域R1、R3、R7中同時配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R1、R3、R7中形成第1側部圖形Wa。
接著，如圖7所示，液滴噴出頭10沿X軸方向步進移動。這里，液滴噴出頭10沿+X方向步進移動兩個象素大小。另外，伴隨液滴噴出頭10的移動，噴出噴嘴10A-10J也移動。
圖7中，使噴出噴嘴10B與圖形形成區(qū)域R2的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第7列)位置一致，使噴出噴嘴10H與圖形形成區(qū)域R6的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第31列)位置一致。因此，就圖形形成區(qū)域R2、R6而言，為可配置液滴狀態(tài)。另一方面，沒有與圖形形成區(qū)域R1、R3、R4、R7位置一致的噴出噴嘴。因此，就圖形形成區(qū)域R1、R3、R4、R7而言，為液滴配置休止狀態(tài)。另外，就圖形形成區(qū)域R5而言，雖然使噴出噴嘴10G位置一致，但使該噴出噴嘴10G定位于第2側部圖形形成預定區(qū)域(第27列)，而不定位于第1側部圖形形成預定區(qū)域(第26列)。因此，就圖形形成區(qū)域R5而言，也為液滴配置休止狀態(tài)。
之后，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10B、10H同時噴出液滴。之后，通過第3、第4次掃描，如圖7的[3]、[4]所示，在圖形形成區(qū)域R2、R6中同時配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R2、R6中形成第1側部圖形Wa。
接著，如圖8所示，液滴噴出頭10沿X軸方向步進移動。這里，液滴噴出頭10沿-X方向步進移動1個象素大小。圖8中，使噴出噴嘴10A與圖形形成區(qū)域R1的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第2列)位置一致，使噴出噴嘴10D與圖形形成區(qū)域R3的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第14列)位置一致，使噴出噴嘴10G與圖形形成區(qū)域R5的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第26列)位置一致，使噴出噴嘴10J與圖形形成區(qū)域R7的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第38列)位置一致。另一方面，沒有與圖形形成區(qū)域R2、R4、R6位置一致的噴出噴嘴。因此，就圖形形成區(qū)域R2、R4、R6而言，為液滴配置休止狀態(tài)。
之后，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10A、10D、10G、10J同時噴出液滴。之后，通過第5、第6次掃描，如圖8的[5]、[6]所示，在圖形形成區(qū)域R1、R3、R5、R7中同時配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R1、R3、R5、R7中形成第2側部圖形Wb，同時，在圖形形成區(qū)域R5中形成第1側部圖形Wa。另外，圖形形成區(qū)域R1、R3、R7每個中完成膜圖形W1、W3、W7。這里，在完成的膜圖形W1、W3、W7中，在形成第1側部圖形Wa后，形成第2側部圖形Wb，各圖形區(qū)域R1、R3、R7中液滴的配置順序相同。
接著，如圖9所示，液滴噴出頭10沿X軸方向步進移動。這里，液滴噴出頭10沿+X方向步進移動2個象素大小。圖9中，使噴出噴嘴10B與圖形形成區(qū)域R2的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第8列)位置一致，使噴出噴嘴10E與圖形形成區(qū)域R4的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第20列)位置一致，使噴出噴嘴10H與圖形形成區(qū)域R6的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第32列)位置一致。另一方面，沒有與圖形形成區(qū)域R1、R3、R5、R7位置一致的噴出噴嘴。因此，就圖形形成區(qū)域R1、R3、R5、R7而言，為液滴配置休止狀態(tài)。
之后，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10B、10E、10H同時噴出液滴。之后，通過第7、第8次掃描，如圖9的[7]、[8]所示，在圖形形成區(qū)域R2、R4、R6中同時配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R4中形成第1側部圖形Wa，同時，在圖形形成區(qū)域R2、R6中形成第2側部圖形Wb，圖形形成區(qū)域R2、R6每個中完成膜圖形W2、W6。這里，在完成的膜圖形W2、W6中，在形成第1側部圖形Wa后，形成第2側部圖形Wb，各膜圖形W2、W6每個中液滴的配置順序相同，同時，對已形成的膜圖形W1、W3、W7而言液滴的配置順序也相同。
接著，如圖10所示，液滴噴出頭10沿X軸方向步進移動。這里，液滴噴出頭10沿+X方向步進移動1個象素大小。圖10中，使噴出噴嘴10E與圖形形成區(qū)域R4的第2側部圖形形成預定區(qū)域(第21列)位置一致。另一方面，沒有與圖形形成區(qū)域R1、R2、R5、R6位置一致的噴出噴嘴。因此，就圖形形成區(qū)域R1、R2、R5、R6而言，為液滴配置休止狀態(tài)。另外，雖然噴出噴嘴10C、10I定位于就圖形形成區(qū)域R3和R7的第1側部圖形形成預定區(qū)域(第20列和第37列)，但其中已配置液滴[1]、[2]，所以就圖形形成區(qū)域R3、R7而言，也為液滴配置休止狀態(tài)。
之后，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10E噴出液滴。之后，通過第9、第10次掃描，如圖10的[9]、[10]所示，在圖形形成區(qū)域R4中配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R4中形成第2側部圖形Wb，完成膜圖形W4。該膜圖形W4中也在形成第1側部圖形Wa后，形成第2側部圖形Wb，對已形成的膜圖形W1、W2、W3、W6、W7而言液滴的配置順序相同。
接著，如圖11所示，液滴噴出頭10沿X軸方向步進移動。這里，液滴噴出頭10沿+X方向步進移動1個象素大小。圖11中，使噴出噴嘴10F與圖形形成區(qū)域R5的第2側部圖形形成預定區(qū)域(27列)位置一致。
之后，液滴噴出頭10對基板11進行掃描，并從噴出噴嘴10F噴出液滴。之后，通過第11、第12次掃描，如圖11的[11]、[12]所示，在圖形形成區(qū)域R5中配置液滴。由此，在圖形形成區(qū)域R5中形成第2側部圖形Wb，完成膜圖形W5。該膜圖形W5中也在形成第1側部圖形Wa后，形成第2側部圖形Wb，對已形成的膜圖形W1、W2、W3、W4、W6、W7而言液滴的配置順序相同。
如上所述，形成第1-第7膜圖形W1-W7。另外，如本實施方式所示，即使在噴嘴間距與布線間距不一致的狀態(tài)下，也可通過邊沿圖形形成區(qū)域R1-R7的排列方向(X軸方向)移動具有多個噴出噴嘴的液滴噴出頭10邊配置液滴，使各圖形形成區(qū)域R1-R7的每個中配置液滴的配置順序相同，且高效形成圖形。
另外，通過圖6-圖9所示圖形形成方法，在以下說明的關系成立的情況下，配置液滴。這里，在以下說明中，作為對位圖上的各象素(列)事先設定的指令，設
指令的情況不配置液滴[1]指令的情況配置液滴。
另外，將用位圖各列的序號n(1-40)除以噴出噴嘴的對應象素數4時余數為1的列(第1、第5、...、第37列)設為N1，余數為2的列(第2、第6、...、第38列)為N2，余數3的列(第3、第7、...、第39列)為N3，余數為0的列(第4、第8、...、第40列)為N0。即，圖6中為將噴出噴嘴配置在各N1列上的狀態(tài)，圖8中為將噴出噴嘴配置在各N2列上的狀態(tài)，圖7中為將噴出噴嘴配置在各N3列上的狀態(tài)，圖9中為將噴出噴嘴配置在各N0列上的狀態(tài)。另外，N1中，關系a(n-1)＝0，a(n)＝1；N2中，關系a(n)＝1，b(n)＝1，b(n-1)＝0，b(n)＝1；N3中，關系b(n)＝1，c(n)＝1，c(n-1)＝0，c(n)＝1；N4中，關系c(n)＝1，d(n)＝1，d(n-1)＝0，d(n)＝1成立。這里，a是與噴出噴嘴的4個對應象素數中第1象素(列)有關的函數(是否噴出液滴的輸出數據)，b、c及d是與第2、第3、及第4象素(列)有關的函數(是否噴出液滴的輸出數據)。
參照圖6來說明N1，例如在n＝13時，事先在位圖數據上設定a(13-1)＝0，即，不在第12列上配置液滴的指令，事先設定a(13)＝1，即在第13列上配置液滴的指令，識別此時的指令與上述關系一致的控制液滴噴出頭10的后述控制裝置，經噴出噴嘴10D將液滴配置在第13列(即對應于第1側部圖形Wa的列)上。另一方面，例如n＝21時，a(20)＝1，a(21)＝0，因為這與上述關系不一致，所以控制裝置不在第21列上配置液滴。同時，例如n＝9時，a(8)＝1，a(9)＝0，因為與上述關系不一致，所以控制裝置不在第9列上配置液滴。
參照圖8來說明N2，例如在n＝14時，事先設定作為過去履歷的a(13)＝1，即在第13列上配置液滴的指令，事先設定b(14)＝1，即在第14列上也配置液滴的指令，識別此時的指令與上述關系一致的控制裝置，經噴出噴嘴10D將液滴配置在第14列(即對應于第2側部圖形Wb的列)上。另外，例如n＝26時，b(25)＝0，b(26)＝1，因為這與上述關系一致，所以控制裝置經噴出噴嘴10G在第26列上配置液滴。另一方面，例如n＝22時，b(21)＝1，b(22)＝0，因為不滿足上述關系，所以控制裝置不在第22列上配置液滴。
參照圖7來說明N3，例如在n＝7時，c(6)＝0，c(7)＝1，因為滿足上述關系，所以控制裝置經噴出噴嘴10B在第7列上配置液滴。另一方面，例如n＝19時，c(18)＝0，c(19)＝0，因為不滿足上述關系，所以控制裝置不在第19列上配置液滴。
參照圖9來說明N4，例如在n＝8時，事先設定作為過去履歷的c(7)＝1，即在第7列上配置液滴的指令，事先設定d(8)＝1，即在第8列上也配置液滴的指令，識別此時的指令與上述關系一致的控制裝置經噴出噴嘴10B將液滴配置在第8列上。另外，n＝20時，c(19)＝0，d(20)＝1，因為這也與上述關系一致，所以控制裝置經噴出噴嘴10E在第20列上配置液滴。另一方面，例如n＝28時，d(27)＝1，d(28)＝0，因為不滿足上述關系，所以控制裝置不在第28列上配置液滴。
另外，在上述實施方式中，作為導電膜布線用基板，可使用玻璃、石英玻璃、Si晶片、塑料膜、金屬板等各種基板。另外，還包含在這些各種原料基板的表面上形成半導體膜、金屬膜、電介質膜、有機膜等作為襯底層。
作為導電膜布線用液體材料，在本例中使用使導電性微粒子分散到分散劑中的分散液(液狀體)，無論它是水性還是油性。這里使用的導電性微粒子除含有金、銀、銅、鈀及鎳中之一的金屬微粒子外，還使用導電性聚合物或超導電體的微粒子等。這些導電性微粒子也可為了提高分散性而在表面涂布有機物等來使用。作為涂布在導電性微粒子表面的涂布材料，例如二甲苯、甲苯等有機溶劑或檸檬酸等。
導電性微粒子的粒徑最好為5nm以上、0.1μm以下。若大于0.1μm，則擔心上述液滴噴出頭的噴嘴中會產生堵塞。另外，若小于5nm，則涂布劑相對導電性微粒子的體積變大，得到的膜中的有機物的比例過高。
作為含有導電性微粒子的液體的分散劑，最好在室溫下的蒸氣壓為0.001mmHg以上、200mmHg以下(約0.133Pa以上、26600Pa以下)。在蒸氣壓高于200mmHg的情況下，配置后分散劑急劇蒸發(fā)，難以形成良好的膜。另外，分散劑的蒸氣壓最好為0.001mmHg以上、50mmHg以下(約0.133Pa以上、6650Pa以下)。在蒸氣壓高于50mmHg的情況下，當用噴墨法噴出液滴時，容易由于干燥引起噴嘴堵塞。另一方面，在室溫下的蒸氣壓比0.001mmHg低的分散劑的情況下，干燥慢，膜中易殘留分散劑，在后工序的熱、光處理后，難以得到好的導電膜。
作為上述分散劑，只要可分散上述導電性微粒子，難以引起凝聚，則不特別限定。例如，除水外，可示例甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇類、正庚烷、正辛完、癸烷、甲苯、二甲苯、異丙基甲苯、均四甲苯、茚、二戊烯、四氫萘、十氫萘、環(huán)己基苯等烴類化合物；或乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、聚乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、雙(2-甲氧基乙基)醚、p-二噁烷等的醚類化合物；以及碳酸丙烯酯、γ-丁內酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、環(huán)己酮等極性化合物。其中，從微粒子的分散性與分散液的穩(wěn)定性、或對噴黑法的適用難易性出發(fā)，最好是水、醇類、烴類化合物、醚類化合物，作為更優(yōu)選的分散劑，可舉出水、烴類化合物。這些分散劑既可單獨使用，也可作為兩種以上的混合物來使用。
將上述導電性微粒子分散到分散劑中的情況下的分散質濃度為1質量％以上80質量％以下，最好對應于期望的導電膜膜厚進行調整。若超過80質量％，則易引起凝聚，難以得到均勻的膜。
上述導電性微粒子的分散液的表面張力最好在0.02N/m以上0.07N/m以下的范圍內。當由噴墨法噴出液體時，若表面張力不足0.02N/m，則由于墨水組合物對噴嘴面的浸濕性增大，所以容易產生飛行彎曲，若超過0.07N/m，則噴嘴前端的彎月型形狀不穩(wěn)定，所以難以控制配置量或配置定時。
為了調整表面張力，最好在不使與基板的接觸角過大降低的范圍內，在上述分散液中添加微量氟類、硅酮類、非離子類等表面張力調節(jié)劑。
非離子類表面張力調節(jié)劑使液體對基板的浸濕性提高，改良膜的水平性，可防止膜的細微凹凸的產生等。上述分散液必要時也可包含醇、醚、酯、酮等有機化合物。
上述分散液的粘度最好在1mPa·s以上、50mPa·s以下。在使用噴墨法將液體材料作為液滴噴出時，在粘度小于1mPa·s的情況下，噴嘴周圍由于墨水的流出而容易被污染，另外，在粘度大于50mPa·s的情況下，噴嘴孔的堵塞頻度變高，難以順利地配置液滴。
下面，說明圖1所示表面處理工序S2、S3。在表面處理工序中，將形成導電膜布線的基板表面加工成對液體材料具有疏液性(步驟S2)。
具體而言，對基板實施表面處理，使相對含有導電性微粒子的液體材料的規(guī)定接觸角在60[deg]以上，最好在90[deg]以上110[deg]以下。作為控制表面疏液性(浸濕性)的方法，例如可采用在基板表面形成自組織化膜的方法、等離子體處理法等。
在自組織膜形成法中，在應形成導電膜布線的基板表面中形成由有機分子膜等構成的自組織化膜。用于處理表面的有機分子膜，具備可與基板耦合的官能團、在其相反側將親液基或疏液基等基板的表面性改質的(控制表面能量)的官能團、和連結這些官能團的碳的直鏈或局部分支的碳鏈，耦合在基板上后，進行自組織化，形成分子膜、例如單分子膜。
這里，所謂自組織化膜，由可與基板的襯底層等的構成原子反應的耦合性官能基和其外的直鏈分子構成，是通過直鏈分子的相互作用而使具有極高取向性的化合物取向后所形成的膜。由于該自組織化膜使單分子取向后形成，所以可將膜厚變得極薄，并且可形成分子級的均勻膜。即，因為相同分子位于膜表面，所以可向膜表面賦予均勻且好的疏液性或親液性。
作為上述具有高取向性的化合物，通過使用例如氟代烷基硅烷，取向各化合物，使氟代烷基位于膜表面上，形成自組織化膜，向膜表面賦予均勻的疏液性。
作為形成自組織化膜的化合物，示例十七氟-1，1，2，2-四氫癸基三乙氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2-四氫癸基三甲氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2-四氫癸基三氯硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氫辛基三乙氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氫辛基三甲氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氫辛基三氯基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷等的氟代烷基硅烷(下面稱為[FAS])。這些化合物可單獨使用，也可組合兩種以上來使用。另外，通過使用FAS，可得到與基板的緊貼性和良好的疏液性。
FAS一般以結構式RnSiX(4-n)來表示。這里，n表示1以上3以下的整數，X是甲氧基、乙氧基、鹵原子等水解基團。另外，R是氟代烷基基，具有(CF3)(CF2)x(CH2)y的(這里x表示0以上10以下的整數，y表示0以上4以下的整數)結構，在多個R或X與Si耦合的情況下，R或X既可彼此相同，也可不同。由X表示的水解基團通過水解形成硅醇，與基板(玻璃、硅)的基底羥基反應后，通過硅氧烷鍵與基板耦合。另一方面，由于R在表面具有(CF3)等氟代基，所以將基板的底表面改質成不浸濕(表面能量低)的表面。
將上述原料化合物和基板一起封入相同的密閉容器中，在室溫下放置2-3天左右的時間，由此在基板上形成由有機分子膜等構成的自組織化膜。另外，通過將整個密閉容器保持在100℃下3小時左右，在基板上形成。這些是氣相的形成法，也可由液相來形成自組織化膜。例如，將基板浸漬在包含原料化合物的溶液中，清洗、干燥，由此在基板上形成自組織化膜。另外，期望在形成自組織化膜之前，向基板表面照射紫外線，或由溶劑清洗，實施基板表面的預處理。
在實施FAS處理后，必要時進行處理成期望疏液性的疏液性降低處理(步驟S3)。即，當作為疏液化處理實施FAS處理時，疏液性的作用過強，基板與形成于該基板上的膜圖形容易剝離。
因此，進行降低(調整)疏液性的處理。作為降低疏液性的處理，例如波長為170-400nm左右的紫外線(UV)照射處理。通過向基板照射規(guī)定時間的規(guī)定功率的紫外線，降低FAS處理后的基板的疏液性，基板具有期望的疏液性?；蛘?，也可通過將基板曝露在臭氧氣氛下，控制基板的疏液性。
另一方面，在等離子體處理法中，在常壓或真空中對基板進行等離子體照射。用于等離子體處理中的氣體種類可以考慮應形成導電膜布線的基板的表面材質等選擇各種氣體。作為處理氣體，示例4氟甲烷、全氟己烷、全氟癸烷等。
另外，將基板表面加工成疏液性的處理也可通過例如將4氟乙烯加工后的聚酰亞胺膜等貼在基板表面上來進行。另外，也可將疏液性高的聚酰亞胺膜原樣用作基板。
下面，說明圖1中所示的中間干燥工序S5。在中間干燥工序(熱、光處理工序)中，去除配置在基板上的液滴中包含的分散劑或涂布材料。即，配置在基板上的導電膜形成用的液體材料為了更好地進行微粒子間的電接觸，必需完全去除分散劑。另外，為了提高分散性而在導電性微粒子表面涂布有機物等涂布材料的情況下，也必需去除該涂布材料。
熱、光處理通常在大氣中進行，但必需時也可在氮、氬、氦等惰性氣氛中進行。熱/光處理的處理溫度考慮分散劑的沸點(蒸氣壓)、氣氛氣體的種類或壓力、微粒子的分散性或氧化性等熱運動、涂布材料的有無或數量、基材的耐熱溫度等來適當決定。例如，為了去除由有機物構成的涂布材料，必需在約300度下進行燒結。另外，在使用塑料等基板的情況下，最好在室溫以上100度以下進行。
在熱處理中可使用加熱板、電爐等加熱裝置。在光處理中可使用燈退火。作為用于燈退火中的光的光源，不特別限定，可使用紅外線燈、氙燈、YAG激光器、氬氣激光器、碳酸氣體激光器、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArCl等激元激光器等。這些光源一般使用輸出在10W以上5000W以下范圍的光源，但在本實施方式中在100W以上1000W以下的范圍內就足以。通過上述熱、光處理，確保微粒子間的電接觸，變換為導電膜。
此時，不僅去除分散劑，即使提高加熱或光照射程度直至將分散液變換為導電膜也無妨。其中，導電膜的變換從全部液體材料的配置結束開始，在熱處理、光處理工序中一并進行即可，所以這里只要能一定程度去除分散劑即可。例如，在熱處理的情況下，通常只要進行數分鐘的100度左右的加熱即可。另外，也可與液體材料的噴出并行同時進行干燥處理。例如，事先加熱基板，在液滴噴出頭冷卻的同時使用沸點低的分散劑，由此可在基板上配置液滴之后，進行該液滴的干燥。
下面，說明本發(fā)明的圖像形成裝置的一例。圖12是表示本實施方式的圖形形成裝置的示意立體圖。如圖12所示，圖像形成裝置100具備液滴噴出頭10、沿X方向驅動液滴噴出頭10的X方向引導軸2、使X方向引導軸2旋轉的X方向驅動電機3、裝載基板11的裝載臺4、使沿Y方向驅動裝載臺4的Y方向引導軸5、使Y方向引導軸5旋轉的Y方向驅動電機6、清潔機構部14、加熱器15及統(tǒng)一控制這些部件的控制裝置8等。X方向引導軸2及Y方向引導軸5分別被固定在基臺7上。圖12中，液滴噴出頭10被配置成與基板11的前進方向成直角，但也可調整液滴噴出頭10的角度，與基板11的前進方向交叉。由此，通過調整液滴噴出頭10的角度，可調節(jié)噴嘴間的間距。另外，也可任意調節(jié)基板11與噴嘴面的距離。
液滴噴出頭10從噴出噴嘴中噴出由含有導電性微粒子的分散液所構成的液體材料，液滴噴出頭10固定在X方向引導軸2上。X方向驅動電機3是步進電機等，若從控制裝置8提供X軸方向的驅動脈沖信號，則使X方向引導軸2旋轉。通過X方向引導軸2的旋轉，液滴噴出頭10相對基臺7沿X軸方向移動。
作為液滴噴出方式，可適用使用作為壓電體元件的壓電元件使墨水噴出的壓電方式、加熱液體材料并通過產生的氣泡(發(fā)泡)使液體材料噴出的發(fā)泡方式等公知的各種技術。其中，壓電方式由于不對液體材料加熱，所以具有不會對材料的組成等造成影響的優(yōu)點。另外，本例中，從液體材料選擇的自由度高、及液滴的控制性好出發(fā)，使用上述壓電方式。
裝載臺4固定在Y方向引導軸5上，在Y方向引導軸5上連接Y方向驅動電機6、16。Y方向驅動電機6、16是步進電機等，若從控制裝置8提供Y軸方向的驅動脈沖信號，則使Y方向引導軸5旋轉。通過Y方向引導軸5的旋轉，裝載臺4相對基臺7沿Y軸方向移動。清潔機構部14清潔液滴噴出頭10，防止噴嘴堵塞等。清潔機構部14在上述清潔時，通過Y方向驅動電機16沿Y方向引導軸5移動。加熱器15使用燈退火等加熱手段熱處理基板11，在進行配置到基板11上的液體的蒸發(fā)、干燥的同時，進行變換成導電膜的熱處理。
在本實施方式的圖形形成裝置100中，邊從液滴噴出頭10噴出液體材料，邊經X方向驅動電機3及Y方向驅動電機6使基板11與液滴噴出頭10相對移動，從而在基板11上配置液體材料。液滴從液滴噴出頭10的各噴嘴的噴出量由從控制裝置8提供給所述壓電元件的電壓控制。另外，配置在基板11上的液滴間距由上述相對移動的速度、及液滴噴出頭10的噴出頻率(對壓電元件的驅動電壓的頻率)控制。另外，在基板11上開始滴液的位置由上述相對移動的方向、及上述相對移動時的液滴噴出頭10的液滴噴出開始定時控制等控制。由此，在基板11上形成上述布線用的導電膜圖形。
下面，說明等離子體型顯示裝置，作為本發(fā)明的光電裝置的一例。圖13表示本實施方式的等離子體型顯示裝置500的分解立體圖。等離子體型顯示裝置500包含彼此相對配置的基板501、502及形成于其間的放電顯示部510。放電顯示部510聚合多個放電室516。多個放電室516中，紅色放電室516(R)、綠色放電室516(G)、藍色放電室516(B)等3個放電室516成對配置，構成1象素。
在基板501的上面以規(guī)定間隔形成帶狀尋址電極511，形成電介質層519，覆蓋尋址電極511與基板501的上面。
在電介質層519上，位于尋址電極511、511之間并且沿各尋址電極511地形成隔壁515。隔壁515包含鄰接于尋址電極511的寬度方向左右兩側的隔壁、和沿與尋址電極511正交的方向延伸設置的隔壁。另外，對應于隔壁515分割的長方形狀的區(qū)域，形成放電室516。另外，在由隔壁515區(qū)分的長方形狀的區(qū)域內側配置熒光體517。熒光體517發(fā)光紅、綠、藍之一的熒光，分別在紅色放電室516(R)的底部配置紅色熒光體517(R)，在綠色放電室516(G)的底部配置綠色熒光體517(G)，在藍色放電室516(B)的底部配置藍色熒光體517(B)。
另一方面，在基板502中沿與在先的尋址電極511正交的方向以規(guī)定間隔形成帶狀的多個顯示電極512。并且，覆蓋這些電極地形成電介質層513及由MgO等構成的保護膜514?；?01與基板502相對彼此緊貼，使所述尋址電極511...與顯示電極512...彼此正交。上述尋址電極511與顯示電極512連接于未圖示的交流電源上。通過向各電極通電，在放電顯示部510中熒光體517激勵發(fā)光，可進行彩色顯示。
在本實施方式中，上述尋址電極511及顯示電極512分別使用在先的圖12所示的圖形形成裝置，根據在先的圖1-圖11所示圖形形成方法形成。因此，可提供可使上述各布線類的線寬均勻、并且各布線間具有外觀上無不均的良好識別性的顯示裝置。
下面說明液晶裝置，作為本發(fā)明的光電裝置的另一例。圖14表示本實施方式的液晶裝置第1基板上的信號電極等的平面布置。本實施方式的液晶裝置大致由該第1基板、設置掃描電極等的第2基板(未圖示)、和封入第1基板與第2基板之間的液晶(未圖示)構成。
如圖14所示，在第1基板300上的象素區(qū)域303中，將多個信號電極310...設置成多重矩陣狀。具體而言，各信號電極310...由對應于各象素設置的多個象素電極部分310a...、和將這些象素電極部分連接成多重矩陣狀的信號布線部分310b...構成，沿Y方向延伸。另外，符號350是單芯片結構的液晶驅動電路，該液晶驅動電路350與信號布線部分310b...的一端側(圖中下側)經第1繞回布線331...連接。另外，符號340...是上下導通端子，該上下導通端子340...與未圖示的設置在第2基板上的端子由上下導通材料341連接。另外，上下導通端子340...與液晶驅動電路350經第2繞回布線332...連接。
在本實施方式中，設置在上述第1基板300上的信號布線部分310b...、第1繞回布線331...及第2繞回布線332...分別使用在先的圖12所示的圖形形成裝置，根據用在先的圖1-圖11所示的圖形形成方法形成。因此，可形成具有均勻線寬的布線。另外，即使在適用于大型化的液晶用基板的制造的情況下，也可有效使用布線用材料，實現低成本化。另外，本發(fā)明可適用的器件不限于這些光電裝置，例如也可適用于形成導電膜布線的電路基板、或半導體安裝布線等其它器件制造。
下面，說明作為本發(fā)明的光電裝置的液晶顯示裝置的另一形態(tài)。
圖15所示液晶顯示裝置(光電裝置)901大體上具備彩色的液晶面板(光電面板)902、和連接于液晶面板902上的電路基板903。另外，必要時，在液晶面板902中附設背景燈等照明裝置等附帶機器。
液晶面板902具有由密封材料904粘接的一對基板905a及基板905b，在形成于這些基板905a及基板905b之間的間隙、所謂的單元間隙中封入液晶。這些基板905a及基板905b一般由透光性材料、例如玻璃、合成樹脂等形成。在基板905a及基板905b的外側表面粘貼偏振光板906a及偏振光板906b。另外，圖15中省略偏振光板906b的圖示。
另外，在基板905a的內側表面形成電極907a，在基板905b的內側表面形成電極907b。這些電極907a、907b形成為帶狀或文字、數字等適宜圖形狀。另外，這些電極907a、907b例如由ITO(Indium Tin Oxide銦錫氧化物)等透光性材料形成?；?05a具有相對基板905b伸出的伸出部，在該伸出部形成多個端子908。在基板905a上形成電極907a的同時，與電極907a同時形成這些端子908。因此，這些端子908例如由ITO形成。這些端子908中包含從電極907a一體延伸的端子、和經導電材料(未圖示)連接于電極907b上的端子。
在電路基板903中，在布線基板909上的規(guī)定位置上安裝作為液晶驅動用IC的半導體元件900。另外，雖然省略圖示，但也可在安裝半導體元件900的部位以外的部位的規(guī)定位置上安裝阻抗、電容等芯片部件。布線基板909例如通過對在聚酰亞胺等具有柔性的基體基板911上形成的Cu等金屬膜進行圖形化而形成布線圖形912來制造。
在本實施方式中，通過上述器件制造方法來形成液晶面板902中的電極907a、907b及電路基板903中的布線圖形912。
根據本實施方式的液晶顯示裝置，可得到消除電氣特性不均勻的高質量液晶顯示裝置。
另外，上述實例是無源型液晶面板，但也可是有源矩陣型液晶面板。即，在一個基板上形成薄膜晶體管(TFT)，對各TFT形成象素電極。另外，如上所述可使用噴墨技術，形成電連接于各TFT上的布線(柵極布線、源極布線)。另一方面，在相對的基板上形成相對電極等。本發(fā)明也可適用于這種有源矩陣型液晶面板。
下面，說明具備場致發(fā)射元件(放電元件)的場致發(fā)射顯示器(FieldEmission Display，下面稱為FED。)，作為光電裝置的其它實施方式。
圖16是說明FED的圖，圖16(a)是表示構成FED的陰極基板與陽極基板的配置的示意結構圖，圖16(b)是FED中陰極基板具備的驅動電路的模式圖，圖16(c)是表示陰極基板主要部分的立體圖。
如圖16(a)所示，FED(光電裝置)200為相對配置陰極基板200a與陽極基板200b的結構。陰極基板200a如圖16(b)所示，具備柵極線201、發(fā)射極線202和連接于這些柵極線201與發(fā)射極線202上的場致發(fā)射元件203，即為所謂的簡單矩陣驅動電路。在柵極線201中提供柵極信號V1、V2、...Vm，在發(fā)射極線202中提供發(fā)射極信號W1、W2、...Wn。另外，陽極基板200b具備由RGB構成的熒光體，該熒光體具有通過電子沖擊而發(fā)光的性質。
如圖16(c)所示，場致發(fā)射元件203具備連接于發(fā)射極線202上的發(fā)射極電極203a、和連接于柵極線201上的柵極電極203b。并且，發(fā)射極電極203a具備從發(fā)射極電極203a側向柵極電極203b直徑變小的被稱為發(fā)射極錐面205的突起部，在與該發(fā)射極錐面205對應的位置上，于柵極電極203b中形成孔部204，在孔部204內配置發(fā)射極錐面205的前端。
在這種FED200中，通過控制柵極線201的柵極信號V1、V2、...Vm及發(fā)射極線202的發(fā)射極信號W1、W2、...Wn，向發(fā)射極電極203a與柵極電極203b之間提供電壓，電子210由于電解的作用而從發(fā)射極錐面205向孔部204移動，從發(fā)射極錐面205的前端發(fā)射電子210。這里，由于該電子210與陰極基板200b的熒光體通過沖擊而發(fā)光，所以可期望地驅動FED200。
在如此構成的FED中，例如通過上述器件制造方法來形成發(fā)射極電極203a或發(fā)射極線202、及柵極電極203b或柵極線201。
根據本實施方式的FED，可得到消除電氣特性不均勻的高質量FED。
下面，說明本發(fā)明的電子機器。圖17是表示具備上述實施方式的顯示裝置的移動型個人計算機(信息處理裝置)的結構的立體圖。圖中，個人計算機1100由具備鍵盤1102的主體部1104、和具備上述光電裝置1106的顯示裝置單元構成。因此，可提供具備發(fā)光效率高的亮的顯示部的電子機器。
另外，除上述實例外，作為其它實例，例如便攜電話、手表型電子機器、液晶電視、取景器型或監(jiān)視器直視型磁帶錄像機、汽車導航裝置、尋呼機、電子計算器、電腦、文字處理器、工作站、電視電話、POS終端、電子報紙、具備觸板的設備等。本發(fā)明的光電裝置也可適用為電子機器的顯示部。另外，本實施方式的電子機器具備液晶裝置，也可以是具備有機場致發(fā)光顯示裝置、等離子體型顯示裝置等其它光電裝置的電子機器。
上面，參照附圖來說明根據本發(fā)明的最佳實施方式，但本發(fā)明不限于此。上述示例所示的各結構部件的諸形狀或組合等是一例，在不脫離本發(fā)明的技術構思的范圍下，可根據設計要求等進行各種變更。
權利要求
1.一種圖形形成方法，通過在基板上配置液體材料的液滴，形成膜圖形，其特征在于，具有在所述基板上設定多個形成所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的工序；和在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴而形成所述膜圖形的工序，在依次配置所述液滴時，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，使配置所述液滴的配置順序大致相同來配置所述液滴。
2.根據權利要求1所述的圖形形成方法，其特征在于，在所述基板上設定配置所述液滴的柵格狀的多個單位區(qū)域，對所述多個單位區(qū)域中規(guī)定的單位區(qū)域配置所述液滴。
3.根據權利要求1或2所述的圖形形成方法，其特征在于，在所述多個圖形形成區(qū)域的每個中大致同時配置所述液滴。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的圖形形成方法，其特征在于，所述膜圖形是線狀圖形，在形成該膜圖形的線寬方向側部后，形成中央部。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的圖形形成方法，其特征在于，沿規(guī)定方向排列設定多個所述圖形形成區(qū)域，同時，對應于該多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域來設置多個配置所述液滴的噴出部，沿所述圖形形成區(qū)域的排列方向邊移動所述噴出部，邊配置所述液滴。
6.根據權利要求1～5中任一項所述的圖形形成方法，其特征在于，所述液體材料是含有導電生微粒子的液狀體。
7.一種圖形形成方法，通過在基板上配置液體材料的液滴，形成線狀膜圖形，其特征在于，具有在所述基板上排列設定多個形成所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的工序；和在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴而形成所述膜圖形的工序，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，所述液滴的配置大致相同。
8.一種圖形形成裝置，具備在基板上配置液體材料的液滴的液滴噴出裝置，通過所述液滴來形成膜圖形，其特征在于，所述液滴噴出裝置，在所述基板上形成事先設定的多個所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴，并在依次配置所述液滴時，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，使配置所述液滴的配置順序大致相同。
9.一種圖形形成裝置，具備在基板上配置液體材料的液滴的液滴噴出裝置，通過所述液滴來形成線狀膜圖形，其特征在于，所述液滴噴出裝置，在所述基板上形成事先排列設定的多個所述膜圖形的圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，使所述液滴的配置大致相同。
10.一種器件制造方法，所述器件具有布線圖形，其特征在于，具有材料配置工序，通過在所述基板上形成設定的多個所述布線圖形的圖形形成區(qū)域的每個中配置液體材料的液滴，形成所述布線圖形，所述材料配置工序，具有在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中依次配置多個液滴而形成所述膜圖形的工序，在依次配置所述液滴時，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，使配置所述液滴的配置順序大致相同來配置所述液滴。
11.一種器件制造方法，所述器件具有布線圖形，其特征在于，具有材料配置工序，通過在所述基板上形成設定的多個所述布線圖形的圖形形成區(qū)域的每個中配置液體材料的液滴，形成所述布線圖形，所述材料配置工序，具有在所述設定的多個圖形形成區(qū)域的每個中部分重合地配置多個液滴而形成所述膜圖形的工序，對于所述多個圖形形成區(qū)域的每個區(qū)域，使所述液滴的配置大致相同。
12.一種導電膜布線，其特征在于，通過權利要求8或9所述的圖形形成裝置形成。
13.一種導電膜布線，由在基板上排列的多個布線圖形構成，其特征在于，由以部分重合的方式配置的多個液滴形成該多個布線圖形的每個圖形，對于所述多個布線圖形的每個圖形，將所述多個液滴的配置設定為大致相同。
14.一種光電裝置，其特征在于，具備權利要求12或13所述的導電膜布線。
15.一種電子機器，其特征在于，具備權利要求14所述的光電裝置。
全文摘要
一種圖形形成方法，通過在基板(11)上配置液體材料的液滴來形成膜圖形(W1)－(W3)，其特征在于具有在基板(11)上設定多個形成膜圖形的圖形形成區(qū)域(R1)－(R3)的工序；和在設定的多個圖形形成區(qū)域(R1)－(R3)的每個中依次配置多個液滴后形成膜圖形(W1)－(W3)的工序，在依次配置液滴時，多個圖形形成區(qū)域(R1)－(R3)的每個中配置液滴的配置順序大致相同。根據本發(fā)明的圖形形成方法，在形成多個膜圖形時，可抑制膜圖形彼此的線寬差異或外觀上的不均的產生。
文檔編號H01L51/40GK1536949SQ20041003178
公開日2004年10月13日 申請日期2004年3月25日 優(yōu)先權日2003年3月27日
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