專(zhuān)利名稱(chēng)：?jiǎn)螐埻磕ば纬裳b置及單張涂膜形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種單張涂膜形成裝置及單張涂膜形成方法，對(duì)形成于板狀被處理物的表面的覆膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，并將該測(cè)定結(jié)果進(jìn)行反饋，在測(cè)定結(jié)果未達(dá)到預(yù)定的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度時(shí)進(jìn)行預(yù)定的處理。
背景技術(shù)：
一直以來(lái)，要在半導(dǎo)體晶片或玻璃基板等的板狀被處理物表面上涂布抗蝕劑液等，采用的方法是從噴嘴將涂布液滴下并供給到載置于旋轉(zhuǎn)器上的被處理物的中心部，通過(guò)旋轉(zhuǎn)器使被處理物旋轉(zhuǎn)，利用由此產(chǎn)生的離心力使涂布液向外側(cè)擴(kuò)散，其后進(jìn)行烘焙而結(jié)束涂布。在該方法中，可穩(wěn)定地形成均勻的涂布膜，設(shè)定一次涂布條件即可，無(wú)需測(cè)定每一張涂布膜的厚度就可形成均勻的涂布膜。
可是，與供給的涂布液量相比，實(shí)際上作為涂布膜而留在基板上的涂布液量過(guò)少。即、沒(méi)有作為涂布液使用就被原樣浪費(fèi)掉的涂布液量過(guò)多。進(jìn)而，基板的尺寸越大浪費(fèi)掉的涂布液量就越多，其浪費(fèi)的數(shù)量已達(dá)到了不能坐視不管的程度。于是，考慮取代旋轉(zhuǎn)器涂布而在噴嘴本身開(kāi)出預(yù)定寬度的涂布液排出口，通過(guò)移動(dòng)噴嘴來(lái)在被處理物表面上以預(yù)定寬度涂布涂布液。
若使用上述的具有預(yù)定寬度的涂布液排出口的狹縫噴嘴，則雖然可以不浪費(fèi)涂布液地高效進(jìn)行涂布，但因?yàn)椴皇贡惶幚砘逍D(zhuǎn)，所以最初涂布的涂膜的厚度就原封不動(dòng)地成為膜厚。由此，有時(shí)供給的涂布液量也因?yàn)榕涔艿目諝舛煌瑢?dǎo)致涂膜的厚度變得不均勻。又，由于該膜厚的不均勻而產(chǎn)生色度或光學(xué)濃度的不均勻。因此，在以狹縫噴嘴進(jìn)行涂布的情況下，必須進(jìn)行控制，來(lái)檢查涂膜的厚度、色度及/或光學(xué)濃度是否滿(mǎn)足了設(shè)定好的條件，于是，利用來(lái)自配備于狹縫噴嘴下方向附近的排出膜厚尺寸測(cè)定傳感器的信號(hào)，通過(guò)控制機(jī)構(gòu)預(yù)先輸入的排出膜厚尺寸值與帶材行進(jìn)速度兩者的相關(guān)程序而算出帶材表面涂布膜厚尺寸值，送出到操作板的顯示屏上，從而控制狹縫噴嘴的排出膜厚。又，行進(jìn)的帶材表面上的涂布膜厚尺寸通過(guò)涂布膜厚測(cè)定傳感器來(lái)進(jìn)行確認(rèn)，所述涂布膜厚測(cè)定傳感器設(shè)于狹縫噴嘴后方一側(cè)，一邊在帶材的板寬方向上連續(xù)地橫向移動(dòng)一邊進(jìn)行測(cè)定。在確認(rèn)了其設(shè)定誤差的情況下，提出了無(wú)需停止生產(chǎn)線而通過(guò)操作板的運(yùn)轉(zhuǎn)來(lái)進(jìn)行微調(diào)整的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)專(zhuān)利文獻(xiàn)1特開(kāi)平07-204561號(hào)公報(bào)(第2頁(yè)～第3頁(yè)、圖2)可是，上述特開(kāi)平07-204561號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的狹縫噴嘴涂布裝置通過(guò)排出膜厚尺寸測(cè)定傳感器及涂布膜厚測(cè)定傳感器來(lái)一邊使帶材行進(jìn)一邊對(duì)帶材的膜厚進(jìn)行控制，所述排出膜厚尺寸測(cè)定傳感器配備于狹縫噴嘴下方向附近，所述涂布膜厚測(cè)定傳感器設(shè)于狹縫噴嘴后方一側(cè)，一邊在帶材的板寬方向上橫向移動(dòng)一邊進(jìn)行測(cè)定，因此，難于檢測(cè)出在單張涂布中成為問(wèn)題所在的涂膜開(kāi)始位置附近的部分的膜厚變動(dòng)或色度變動(dòng)、及/或光學(xué)濃度變動(dòng)。特別是，若在涂布液供給配管內(nèi)存在氣泡，則又產(chǎn)生了剛剛開(kāi)始涂布后的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度的離散變大的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問(wèn)題而提出，其目的在于提供一種單張涂膜形成裝置以及單張涂膜形成方法，其不會(huì)產(chǎn)生涂膜開(kāi)始位置附近的涂膜厚度的離散，且可以在板狀被處理物上形成預(yù)定厚度的覆膜。
為了解決上述課題，本申請(qǐng)發(fā)明的涂膜形成裝置，包括由狹縫噴嘴向板狀被處理物的表面供給涂布液的涂布裝置、使涂布在前述板狀被處理物的表面上的涂布液在一定程度上干燥(在輸送中不會(huì)波動(dòng)、流動(dòng)的程度)的減壓干燥裝置、使在一定程度上干燥了的該涂布液進(jìn)一步干燥而形成覆膜的加熱裝置，其中，設(shè)置有膜厚測(cè)定裝置，對(duì)由前述加熱而形成的覆膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，并將其測(cè)定結(jié)果反饋給前述涂布裝置。
又.本發(fā)明的單張涂膜形成方法，由狹縫噴嘴向板狀被處理物的表面供給涂布液，接著對(duì)前述板狀被處理物的表面的涂布液進(jìn)行減壓干燥，使得涂布液在一定程度上干燥，然后進(jìn)行加熱，使涂布液進(jìn)一步干燥而形成覆膜，由測(cè)定裝置來(lái)測(cè)定該覆膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度，在該測(cè)定結(jié)果未達(dá)到預(yù)定的值的情況下，暫時(shí)停止前述涂布裝置，從前述狹縫噴嘴進(jìn)行抽氣及/或前端清洗之后，再次起動(dòng)涂布裝置。
發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，對(duì)涂膜形成后的板狀被處理物的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，其結(jié)果，在測(cè)定到與預(yù)定值不同的值時(shí)，停止涂膜形成裝置，進(jìn)行單張涂布液供給用配管內(nèi)的抽氣或噴嘴的前端清洗等必要的處理，由此可快速處理異常情況。


圖1是本發(fā)明的單張涂膜形成裝置的構(gòu)成圖。
圖2是本發(fā)明的單張涂膜形成裝置的流程圖。
具體實(shí)施例方式
以下，基于附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。在此，圖1是本發(fā)明的單張涂膜形成裝置的構(gòu)成圖，圖2是本發(fā)明的單張涂膜形成裝置的流程圖。
如圖1所示，單張涂膜形成裝置包括送入部、涂布裝置、減壓干燥裝置、接收部、加熱裝置及冷卻裝置、輸送部、分配部。在涂布裝置上設(shè)有狹縫噴嘴。涂布液通過(guò)泵A供給該狹縫噴嘴，空氣閥A對(duì)其供給量進(jìn)行控制，此外，該狹縫噴嘴通過(guò)空氣閥B與泵B來(lái)與用狹縫噴嘴抽氣箱連接。另外，空氣閥B除了將狹縫噴嘴的空氣抽出時(shí)以外一直處于關(guān)閉狀態(tài)。
此外，在減壓干燥裝置中，在短時(shí)間內(nèi)從整個(gè)涂布液中除去一定程度的溶劑而作成半干燥狀態(tài)，使得在輸送中不會(huì)產(chǎn)生波動(dòng)或流落的現(xiàn)象。另外，若不減壓干燥就馬上由加熱裝置進(jìn)行加熱，則易于產(chǎn)生僅涂膜的表面凝固的現(xiàn)象，溶劑具有濃度梯度而導(dǎo)致殘留在涂膜中，這是不理想的。
此外，本實(shí)施例的加熱裝置一次可以烘焙3張的板狀被處理物，冷卻裝置一次可以冷卻一張的被處理物。進(jìn)而，在輸送部的后部設(shè)有對(duì)板狀被處理物的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定的測(cè)定裝置。該測(cè)定裝置通過(guò)控制器傳感器來(lái)控制空氣閥A及B的開(kāi)閉。
這樣，從狹縫噴嘴向送到涂布裝置來(lái)的板狀被處理物供給涂布液，然后由減壓干燥裝置進(jìn)行減壓干燥，其后經(jīng)由接收部，通過(guò)自動(dòng)機(jī)械而送到加熱裝置。在加熱裝置中被烘焙了的板狀被處理物由冷卻裝置冷卻后，通過(guò)設(shè)于輸送部的測(cè)定裝置來(lái)測(cè)定膜厚、色度及/或光學(xué)濃度。在本實(shí)施例中使用的膜厚測(cè)定裝置是色度測(cè)定儀。該色度測(cè)定儀利用顏色來(lái)測(cè)定膜厚的厚度。另外，膜厚測(cè)定不限于使用色度測(cè)定儀。又，板狀被處理物的測(cè)定部位沒(méi)有特別的限制，但至少需要包含涂布開(kāi)始位置與基板中央部的各一個(gè)點(diǎn)。作為本發(fā)明的工作例，對(duì)使用以面內(nèi)3點(diǎn)的色度值來(lái)管理紅色的涂膜的膜厚的例子進(jìn)行說(shuō)明。在此，管理標(biāo)準(zhǔn)設(shè)為中心值±7/1000。
如圖2所示，在測(cè)定結(jié)果未超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)中心值±7/1000的情況下，板狀被處理物被原樣送入分配部。另一方面，在測(cè)定結(jié)果超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)中心值±7/1000的情況下，產(chǎn)生報(bào)警信號(hào)，停止板狀被處理物向涂布裝置的送入，狹縫噴嘴在浸漬位置待機(jī)，與此同時(shí)，空氣閥A關(guān)閉，停止涂布液的送入。
接著，打開(kāi)空氣閥B后，開(kāi)始狹縫噴嘴的抽氣。然后，進(jìn)行狹縫噴嘴的清洗，進(jìn)行預(yù)分配之后解除報(bào)警，回到通常動(dòng)作而再次開(kāi)始涂布。
即、雖然向板狀被處理物供給涂布液并烘焙來(lái)形成涂膜，但若在涂布液供給配管內(nèi)存在空氣，則涂布開(kāi)始的膜厚比預(yù)定膜厚要薄。又，供給的涂布液量也由于配管等中的空氣而產(chǎn)生離散，不能連續(xù)地形成穩(wěn)定的涂膜。以往，雖然在涂布液箱與狹縫噴嘴之間添設(shè)除氣裝置，但是在狹縫噴嘴前端反復(fù)進(jìn)行反吸等動(dòng)作時(shí)，配管內(nèi)的空氣會(huì)堆積在狹縫噴嘴中。本發(fā)明通過(guò)自動(dòng)地抽去該空氣，可以抑制涂布開(kāi)始的膜厚比預(yù)定膜厚要薄的現(xiàn)象。
另外，在本實(shí)施方式中，雖然在輸送部上設(shè)置了測(cè)定儀，但是也可以設(shè)置在接收部或輸送帶上。
工業(yè)實(shí)用性對(duì)烘焙之后的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，在與預(yù)定值不同的情況下，暫時(shí)停止涂布裝置，抽去狹縫噴嘴的空氣后，再次開(kāi)始涂布，由此可以形成無(wú)離散的涂布膜厚、色度及/或光學(xué)濃度。
權(quán)利要求
1.一種單張涂膜形成裝置，包括由狹縫噴嘴向板狀被處理物的表面供給涂布液的涂布裝置、使涂布在前述板狀被處理物的表面上的涂布液在一定程度上干燥的減壓干燥裝置、使在一定程度上干燥了的前述涂布液進(jìn)一步干燥而形成覆膜的加熱裝置，其特征在于，設(shè)置有測(cè)定裝置，對(duì)由前述加熱而形成的覆膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，并將其測(cè)定結(jié)果反饋給前述涂布裝置。
2.一種單張涂膜形成方法，其特征在于，由狹縫噴嘴向板狀被處理物的表面供給涂布液，接著對(duì)前述板狀被處理物的表面的涂布液進(jìn)行減壓干燥，使得涂布液在一定程度上干燥，然后進(jìn)行加熱，使涂布液進(jìn)一步干燥而形成覆膜，由測(cè)定裝置來(lái)測(cè)定該覆膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度，在該測(cè)定結(jié)果未達(dá)到預(yù)定的值的情況下，暫時(shí)停止前述涂布裝置，從狹縫噴嘴進(jìn)行抽氣及/或前端清洗之后，再次起動(dòng)涂布裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種單張涂膜形成裝置以及單張涂膜形成方法，其不會(huì)產(chǎn)生涂膜的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度的離散，且可以在板狀被處理物上形成預(yù)定膜厚、色度及/或光學(xué)濃度。本發(fā)明的單張涂膜形成裝置包括由狹縫噴嘴向板狀被處理物的表面供給涂布液的涂布裝置、對(duì)涂布在前述板狀被處理物的表面上的涂布液進(jìn)行干燥的減壓干燥裝置、對(duì)前述干燥后的涂布液進(jìn)行加熱的加熱裝置，在單張涂膜形成裝置中設(shè)置測(cè)定裝置，對(duì)由前述加熱裝置加熱后的前述板狀被處理物的膜厚、色度及/或光學(xué)濃度進(jìn)行測(cè)定，并將其測(cè)定結(jié)果轉(zhuǎn)送給前述涂布裝置。
文檔編號(hào)H01L21/027GK1680045SQ20051000632
公開(kāi)日2005年10月12日 申請(qǐng)日期2005年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月26日
發(fā)明者松本力也, 酒井昭雄 申請(qǐng)人:新Sti科技株式會(huì)社, 東京応化工業(yè)株式會(huì)社