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      過電壓抑制器材料的制作方法及其過電壓抑制器的制作方法

      文檔序號:6851055閱讀:270來源:國知局
      專利名稱:過電壓抑制器材料的制作方法及其過電壓抑制器的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明關于一種過電壓抑制器材料的制作方法及其過電壓抑制器。
      背景技術
      隨著各式電子產(chǎn)品的小型輕量化、多功能及可攜帶式的需求,其內(nèi)部線路制作的密度也隨之日益提高,以提升單位體積的電路功能。然而,由于線路的寬度與間距不斷縮小,以及集成電路(IC)芯片設計朝向細線路、高密度及高速傳輸?shù)内厔莅l(fā)展,再加上電磁干擾(EMI)、電磁兼容性(EMC)等實際需求背景下,將屬于過電壓抑制或放電保護特性的元件與其它被動元件模塊化,或是整合于IC封裝基板中也是必然的發(fā)展趨勢。
      目前已商品化的過電壓抑制器結(jié)構,是將一種可變阻抗材料設計于元件結(jié)構中,透過可變阻抗材料將訊號導電電極(signal electrode)與接地導電電極(ground electrode)作電性連接。當過電壓抑制器處于正常工作電壓的范圍內(nèi)時,可變阻抗材料是處于高阻抗狀態(tài),此時,訊號導電電極上的電壓與電流不會被導入接地導電電極。只是,當訊號導電電極上出現(xiàn)異常的過電壓突波時,利用可變阻抗材料的特性會轉(zhuǎn)變成低阻抗狀態(tài),此時,突波能量會由訊號導電電極經(jīng)過可變阻抗材料導入接地導電電極而排入接地端(ground)。因此,藉由可變阻抗材料的特性,可將訊號導電電極上的電壓維持于不會損壞電路的范圍內(nèi),進而達到保護電路的目的。
      已知過電壓抑制器為陶瓷氧化鋅變阻器,此一元件的陶瓷材料及結(jié)構是以氧化鋅為主體,添加Bi、Sb、Co、Mn、Cr、Ni、B、Al或稀土元素等金屬的氧化物或化合物所構成,是一種極為常見的過電壓抑制器商品。只是,由于此氧化鋅變阻器陶瓷元件材料本身就具有高的介電特性,所以從另一角度來看陶瓷氧化鋅變阻器也屬于一種電容器。
      在較高頻率的一般情況下,運用陶瓷氧化鋅變阻器抑制過電壓的電子電路,常會發(fā)生訊號因陶瓷氧化鋅變阻器所具有的電容,產(chǎn)生訊號變形而無法使用。再加上,隨著近年來高頻無線通訊與寬頻通訊蓬勃發(fā)展,使得此陶瓷氧化鋅變阻器具有更高的電容性,這更顯現(xiàn)出用在高頻電路上是一項重大缺點。
      為解決上述問題,美國專利第5,068,634號提出另一種材料,其材料結(jié)構是導電顆粒均勻混合在絕緣性的黏結(jié)基體中,此絕緣層的厚度要控制25~350原子徑內(nèi),其崩潰機制是利用在一電壓下兩導體中隔有一非常薄絕緣層,當電壓過高時會有量子穿隧現(xiàn)象而崩潰,但要控制絕緣層厚度的制程是相當困難,當絕緣層太薄時,易造成此電壓抑制器元件短路,相反的當絕緣層太厚,又會提高崩潰電壓。
      先前發(fā)表過電壓抑制器的材料,已被多篇美國專利揭露,其專利號碼如下3,685,026、3,685,0283、4,726,991、4,977,357、5,260848、5,294,374、5,393,596、5,807,509。這些都利用各種導電粉體或半導性粉體與非導電粉體及結(jié)合劑充分均勻混合。基本上這些形成的材料結(jié)構都是以一非常薄的絕緣體包覆導電粉體或半導性粉體的組合體,而達到低電壓時有高電阻低漏電流特性,并于一定電壓下其非常薄的絕緣體會崩潰,但被披覆的厚度將影響元件的崩潰電壓,固此披覆厚度的均勻性是十分重要。
      臺灣第469188公開號專利則提出一種過電壓保護元件材料,其具有P-N界面的粉體與玻璃均勻分布形成一多孔P-N-P與絕緣體或空氣的結(jié)構,崩潰電壓(Vbt)是兩個電極間存在的最小P-N-P粉體崩潰電壓總合(∑Vb2)再加上此路徑上絕緣體玻璃或空氣的崩潰電壓總合(∑Vs),但此結(jié)構的電子特性要控制較小的崩潰電壓是較為困難,而且承受能量非常小都是其缺點。所以,469188公開號專利是改善上篇專利崩潰電壓太高的缺點,又提出在上述材料組成中加入金屬粉體以降低其崩潰電壓,但此材料元件承受能量并未能改善。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明目的在提供一種過電壓抑制器的材料與結(jié)構,本發(fā)明的過電壓抑制器的材料,是一種提供會形成連續(xù)接通開孔的多孔非導體物質(zhì),因這種材料連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構存在,其絕緣阻抗非常大,使得本身具有非常低的漏電流,當電子電路系統(tǒng)中突然有過電壓突波現(xiàn)象發(fā)生,電壓會急遽上升,電壓升至空間放電崩潰電壓,本發(fā)明的材料提供的連續(xù)接通開孔多孔結(jié)構的空間信道,會產(chǎn)生電弧放電而瞬間導通,將此過電壓突波抑制消除,而能當作過電壓抑制器的材料,此為本發(fā)明的主要目的。本發(fā)明同時利用外加金屬顆粒的方式縮短空間放電信道的距離,藉以控制放電崩潰電壓的大小,請參閱圖1(b)的示意圖。
      已知的過電壓抑器材料,都以絕緣材料披覆導體或半導體為過電壓抑制器材料所構成,這些絕緣材料的厚度直接影響過電壓抑器的崩潰電壓。也有以P-N-P粉體混合金屬為過電壓抑制器材料,P-N-P界面與金屬粉體量也是此類過電壓抑制器的崩潰電壓主要控制因素,本發(fā)明的過電壓抑制器材料,無如上述問題,因此過電壓抑制器的崩潰電壓極易被控制,此為本發(fā)明的另一目的。
      此連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料所制作的過電壓抑器,可適用于多種的過電壓抑制器元件結(jié)構;請參閱第3圖(a)、第3圖(b)所示,為本發(fā)明的可行的過電壓抑制器元件結(jié)構實施例。以絕緣材質(zhì)基板做為基材,再利用印刷、轉(zhuǎn)印、切割及熱處理等相關技術,將過電壓抑制器的材料形成于金屬電極之間,即可得到兩種過電壓抑制器元件結(jié)構。另一種可行的元件結(jié)構,請參閱圖3(c)所示,是以本發(fā)明的材料為主體,經(jīng)成型成塊狀,再將材料的相對兩面金屬化形成所需的電極,即是另一種過電壓抑制器元件結(jié)構。最后本發(fā)明也利用積層共燒陶瓷制作技術,將連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料與共燒陶瓷中的金屬導體及陶瓷生胚一起燒結(jié)熱處理,以得到內(nèi)埋過電壓抑制器于積層共燒陶瓷中。
      為使對本發(fā)明的目的、構造特征及其功能有進一步的了解,茲配合圖標詳細說明如下,茲以下實施進一步說明本發(fā)明,唯并不意味本發(fā)明緊促限于此等實施例所揭示的內(nèi)容。


      圖1(a)為本發(fā)明的過電壓抑制器連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料的微觀結(jié)構說明1(b)為本發(fā)明的過電壓抑制器連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料的另一微觀結(jié)構說明2為本發(fā)明的過電壓抑制器制作流程3(a)、(b)、(c)為本發(fā)明的過電壓抑制器的實施例圖4(a)、(b)為本發(fā)明的過電壓抑制器的另一組實施例圖5為本發(fā)明的過電壓抑制器TLP測試的電流電壓反應曲線。
      其中100連續(xù)接通開孔200非導體250導體300金屬導電電極400具有連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料500絕緣基板600陶瓷生胚基板700通孔金屬導體電極具體實施方式
      請參閱圖1(a),圖1(a)為本發(fā)明過電壓抑制器材料的示意圖。其結(jié)構如圖1(a)所示,本發(fā)明過電壓抑制器材料主要為具有連續(xù)接通開孔100的多孔非導體200。本發(fā)明過電壓抑制器材料具有非常低的電容特性、漏電流及較高的過電壓抑制能力,因此能適用于高頻的電子電路上的過電壓抑制與靜電消除。下面,將更進一步以4個實施例,來具體說明本發(fā)明的技術特征。
      實施例1.
      請參閱圖2,圖2為本發(fā)明過電壓抑制器制作流程圖。稱取如下表一所示組成配方,并依圖2方法步驟將為粉體顆粒的非導體200(非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì))加入有機溶劑與黏度調(diào)整劑,并利用旋轉(zhuǎn)攪拌混合機與三滾筒混合機進行混合,而制成適合印刷的膏狀材料(用來形成如圖3(a)的具有連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料400),然后利用印刷方式制作具有連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料400于兩金屬電極(如圖3(a)的金屬導電電極300)之間,再經(jīng)熱處理程序之后完成過電壓抑制器的制作。為粉體顆粒的非導體200于室溫25℃的電阻系數(shù),范圍從108~1017Ω-cm,且可為高分子聚合體、陶瓷、金屬氧化物及玻璃。
      請參閱圖3(a)~3(b),圖3(a)~3(b)為本發(fā)明的過電壓抑制器的實施例。圖3(a)為本發(fā)明其中一種過電壓抑制器結(jié)構,此結(jié)構是利用厚膜印刷或是薄膜鍍層的方式,在絕緣性氧化鋁絕緣基板500上制作一層金屬導電電極300,并將如上所述的膏狀材料覆蓋于此金屬導電電極300上,并經(jīng)500~1100℃的熱處理,以得到具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400(厚度約3~20μm)。最后在此多孔結(jié)構材料400上,再制作一層金屬導電電極300。
      由表二得知,只要是可以制作出非導體200物質(zhì)具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400,即可提供過電壓波抑器于過電壓突波時空間放電的信道。而上述的厚膜印刷方法包含有網(wǎng)板印刷、移印、轉(zhuǎn)印、雷射轉(zhuǎn)印、噴墨印刷等方法。
      表一

      表二

      實施例2第二個具體實施例是將非導體Al2O3掛上500ppm Pt金屬點(Al2O3-Pt),再稱取如表三所示組成配方,再就圖2所示的方法步驟將經(jīng)預處理的(Al2O3-Pt)作為粉體顆粒的非導體200加入有機溶劑與黏度調(diào)整劑,利用旋轉(zhuǎn)攪拌混合機與三滾筒混合機進行混合,調(diào)制成適合印刷的膏狀材料。
      如圖3(b)所示,此乃以相似于具體實施例1的制作流程所形成的過電壓波抑器,亦即多孔結(jié)構材料400是于形成兩端的金屬導電電極300的后才于其上形成的。圖3(c)則是將非導體粉體混合,加入有機溶劑與黏度調(diào)整劑,利用旋轉(zhuǎn)攪拌混合制成漿料,經(jīng)刮刀成型制成薄片,之后裁切、熱處理,再利用厚膜印刷或是薄膜鍍層的方式,于此具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400兩面制作金屬導電電極300。
      由表四可見利用不同元件結(jié)構,其多孔結(jié)構材料400厚度不同,均可制作過電壓抑制器。隨著厚度增加,空間放電崩潰電壓上升。配方1與配方5比較,Al2O3掛上Pt金屬點,有助于降低空間放電崩潰電壓。
      表三

      *G1=玻璃粉1表四

      實施例3請參閱圖4(a)、(b),圖4(a)、(b)為本發(fā)明的過電壓抑制器的另一組實施例。第三個具體實施例是利用積層共燒陶瓷制作技術,并利用配方1制作出如圖4(a)及圖4(b)所示的過電壓抑制器元件。過電壓抑制器元件的制作步驟中,首先,將一層共燒陶瓷生胚基板600的表面分別以厚膜印刷或是薄膜鍍層的方式制作一層金屬導電電極300以及一層具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400。同時,并將另一層共燒陶瓷生胚基板600相對應的表面以厚膜印刷或是薄膜鍍層的方式,制作另一層金屬導電電極300,如圖4(a)所示?;蛘呷鐖D4(b)所示,將此層改利用通孔(via)填充導電金屬膏的方式連接導通至其它層或表面,以與其它線路或元件的導電電極連接,成為通孔金屬導體電極700。
      金屬導電電極300系互相重疊一特定面積的區(qū)域,其中一端系為接地導電電極,而另一端系為訊號導電電極,以與其它電路或是元件的導電電極相連接。而具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400是夾置于金屬導電電極300之間,且與金屬導電電極300構成電性連接,之后,如圖4(a)及圖4(b)所示,將共燒陶瓷生胚基板600依序堆棧,再將堆棧完成的結(jié)構進行共燒制程,即可形成積層共燒陶瓷過電壓抑制器。
      表五為圖4(a)和4(b)所示的過電壓抑制器的崩潰電壓、漏電流、反應時間、電容等特性值,從此表中可知圖4(a)和4(b)所示的過電壓抑制器也有不錯效果。
      表五

      實施例4請參閱圖1(b)的示意圖,圖1(b)為本發(fā)明的過電壓抑制器連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料的另一微觀結(jié)構說明圖。第四個具體實施例是將非導體Al2O3及G1等非導體200粉體顆粒加上Pt金屬導體250粉體顆粒,稱取如表六所示組成配方,再就圖2所示的方法步驟加入有機溶劑與黏度調(diào)整劑,利用旋轉(zhuǎn)攪拌混合機與三滾筒混合機進行混合,調(diào)制成適合印刷的膏狀材料。并以如具體實施例1的方法制作成如圖3(a)的過電壓抑制器。配方1與配方8、9比較,具有連續(xù)接通開孔100的多孔結(jié)構材料400中加入Pt金屬顆粒,有助于降低空間放電崩潰電壓。上述Pt金屬導體250粉體顆粒的大小為0.005μm~100μm,且其重量百分比為40%以下。
      表六

      *G1=玻璃粉1表七

      請參閱圖5,圖5為本發(fā)明的過電壓抑制器TLP測試的電流電壓反應曲線。如圖5所示,本發(fā)明的過電壓抑制器經(jīng)由TLP測試,確實可以借著產(chǎn)生電弧放電而瞬間導通,將此過電壓突波抑制消除,而能當作過電壓抑制器的材料。
      以上所述,僅為本發(fā)明其中的較佳實施例而已,并非用來限定本發(fā)明的實施范圍;即凡依本發(fā)明申請專利范圍所作的均等變化與修飾,皆為本發(fā)明專利范圍所涵蓋。
      權利要求
      1.一種過電壓抑制器材料的制作方法,該方法包含將一種或一種以上一非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì)充分混合,而形成具有一連續(xù)接通開孔的一多孔結(jié)構材料。
      2.根據(jù)權利要求1所述的過電壓抑制器材料的制作方法,其中該非導體粉體顆粒或物質(zhì)于室溫25℃的電阻系數(shù),范圍從108~1017Ω-cm。
      3.根據(jù)權利要求1所述的過電壓抑制器材料的制作方法,其中該非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì)為高分子聚合體、陶瓷、金屬氧化物及玻璃。
      4.根據(jù)權利要求1所述的過電壓抑制器材料的制作方法,其中在形成該多孔結(jié)構材料的過程中,加入40wt%以下的導體材料,此導體的材質(zhì)為金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、釕(Ru)、鋁(Al)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鐵(Fe)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、錫(Sn)、鎢(W)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉻(Cr)中的任一元素或以上任意兩種或任意兩種以上的合金。
      5.根據(jù)權利要求1所述的過電壓抑制器材料的制作方法,其中在形成該多孔結(jié)構材料的過程中,加入顆粒大小為0.005μm~100μm的導體顆粒。
      6.一種過電壓抑制器,包含一組導體電極,該組導體電極中之一是接地導電電極,而另一則是其它電路或是元件的導電電極相連接;以及具有一連續(xù)接通開孔之一多孔結(jié)構材料,具有該連續(xù)接通開孔的該多孔結(jié)構材料設置于該組導體電極之間。
      7.根據(jù)權利要求6所述的過電壓抑制器,其中該組導體電極的材質(zhì)為金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、釕(Ru)、鋁(Al)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鐵(Fe)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、錫(Sn)、鎢(W)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉻(Cr)中的任一元素或以上任意兩種或任意兩種以上的合金。
      8.根據(jù)權利要求6所述的過電壓抑制器,其中該多孔結(jié)構材料的形成方法包含將一種或一種以上一非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì)充分混合。
      9.根據(jù)權利要求8所述的過電壓抑制器,其中該非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì)于室溫25℃的電阻系數(shù),范圍從108~1017Ω-cm。
      10.根據(jù)權利要求8所述的過電壓抑制器,其中該非導體粉體顆?;蛭镔|(zhì)為高分子聚合體、陶瓷、金屬氧化物及玻璃。
      11.根據(jù)權利要求8所述的過電壓抑制器,其中在形成該多孔結(jié)構材料的過程中,加入40wt%以下的導體材料,此導體的材質(zhì)為金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、釕(Ru)、鋁(Al)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鐵(Fe)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、錫(Sn)、鎢(W)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉻(Cr)中的任一元素或以上任意兩種或任意兩種以上的合金。
      12.根據(jù)權利要求8所述的電壓抑制器法,其中在形成該多孔結(jié)構材料的過程中,加入顆粒大小為0.005μm~100μm的導體顆粒。
      全文摘要
      一種過電壓抑制器的材料、結(jié)構及制造方法,此材料主要是將一種或一種以上非導體顆粒粉體或非導體物質(zhì)充分混合后經(jīng)熱處理,使其形成連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料。制作成的過電壓抑制器結(jié)構特征,是將連續(xù)接通開孔的多孔結(jié)構材料設置于兩導體電極間。此過電壓抑制器具備有快的反應速度、低漏電流、低電容量、制作容易及高穩(wěn)定性的優(yōu)點。
      文檔編號H01C7/105GK1862716SQ20051006937
      公開日2006年11月15日 申請日期2005年5月13日 優(yōu)先權日2005年5月13日
      發(fā)明者鄧圣明 申請人:威瑞科技有限公司
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