專利名稱：用于清潔襯底的方法和材料的制作方法
用于清潔襯底的方法和材料駄領域在制備半導體設備(例如集成電路、存儲單元等)中，實施一系列帝媳操 作以在半導體晶片("晶片")上限定特征。晶片包括限定在硅襯底上的多層 結構形式的集成電路器件。在襯底層面上，形成具有擴散區(qū)的晶體管器件。在 接下來的層面中，將互連的金屬化線圖案化和電連接到晶體管器件上以限定理 想的集成電路器件。同樣，圖案化的導電層可以通過絕緣材料與其它導電層絕 緣。
背景技術：
在一系列制纖作期間，晶片表面暴露于各類污鄉(xiāng)中?；旧纤性谥?^作中存在的材料都是潛在的污染源。例如，污染源可以包括過程氣體、化 學品、沉積材料和液體以及其它物質。各種污染物可以以顆粒形式沉積到晶片 表面。如娜粒狀污染物未被去除，那么在污染物附近的器件可能不會跪行。 因此，必需以基本完全地方式從晶片表面清潔污染物而不損害限定在晶片上的 特征。然而，顆粒污染物的尺寸通常與在晶片上制造的特征的臨界尺寸大小類 似。去除這些小顆粒污染物而不對晶片上的特征造成負面影響可能是相當困難 的。常規(guī)的晶片清潔方法很大程度上,于機械力以從晶片表面去除顆粒污染 物。隨著特征尺寸持續(xù)下降并變得更易損壞，由于向晶片表面施加機械力而損 壞特征的可能性增加。例如，具有高的長寬比的特征在數促夠的機械力沖擊 時易于倒塌或者破裂。進一步使該清潔問題復雜化的是，減小特征尺寸的趨勢 同樣導致了顆粒污染物尺寸的減小。足夠小尺寸的顆粒污染物能夠鉆到晶片表 面上難以至噠的區(qū)域，例如鉆至U被高長寬比特征圍繞的溝道中。因此，在現代 半導體制造期間有效并無損地去除污染物f^著在晶片清潔技術的不斷進步中 一直遇到的挑戰(zhàn)。應當理解的是，平板顯示器的制造操作中遭受著和上面討論 的集成電路制造相同的缺陷。鑒于前文所述，需要用于清潔晶片表面的更有效和較少磨損的清辯才料和方法。鵬概fefcfe說，本發(fā)明通過提供清潔晶片表面的改良方法和材料來滿足這些需 要。應該理解可以以多種方式實施本發(fā)明，包含裝置、方法和系統(tǒng)。在下面描 述本發(fā)明的幾個發(fā)明性實施方案。在一個實施方案中，公開了清潔的方法。提供具有沉積于其上的顆粒的襯底。生成具有固體部分、液體部分、和氣體部分的三態(tài)體(tri-state body)。將 力施加在三態(tài)體上以在固體部分和顆粒之間傳播相互作用。從襯底的表面與顆 粒一起除去三態(tài)體。在固體部分和顆粒之間的相互作用弓胞顆粒與三態(tài)體一起 被從襯底上除去。在另一個實戯案中，公開了用于帝隨襯底的清洗材料。該清洗材料具有 液體組分、固體組分、和氣體組分。固體組分被定義為分散在液體組分內的多 個固體。用液體組分和固體組分摻合氣體組分以將清洗材料限定在施加于襯底 的狀態(tài)。在另一個實 案中，公開了另一清洗方法。麟襯底，其中襯底具有沉 積在其上面的顆粒。在施加于襯底之前，生成由基本固相的表面活性抓液相 的液體部分、禾卩氣相的氣體部分限定的三態(tài)體。用表面活性劑與襯底表面上的 顆粒相互作用的方式將三態(tài)體施加到襯底表面上。然后從襯底表面除去三態(tài) 體，其中表面活性齊訴卩顆ftt間的相互作用導i^粒與三態(tài)體一起被除去。附閨說明M31結合附圖的下面詳細說明容易地了解本發(fā)明，相似的附圖標記指示相 似的結構元件。

圖1是根據本發(fā)明的一個實施方案與污染物顆粒相互作用的三態(tài)體的例圖。圖2是根據本發(fā)明的一個實施方絲第二三態(tài)體上方施加力以在第二三態(tài) 體的固體部分和污^tl顆粒之間產生相互作用的第一三態(tài)體的例圖。圖3是根據本發(fā)明的一個實駄餘施加到襯驗面之前形成的三態(tài)鵬 洗材料的例圖。圖4是根據本發(fā)明的一個實施方M襯底的表面除去污染物顆粒的三M 的例圖。圖5是根據本發(fā)明的一個實施方案^ffl三^S潔襯皿面的方法的mii圖。圖6是根據本發(fā)明的一個實施方案使用具有固相形式表面活性劑的三^ 清潔襯底表面的方法的流程圖。
具體實施方式
發(fā)明描述了用于清潔晶片表面的方法和材料。然而，很明顯對本領域的技 術人員來說沒有一些或者全部細節(jié)也可以實施本發(fā)明。在其它的情況下，為了 不<，本發(fā)明產生不必要的模糊，沒有詳細描寫眾所周知的工，作。如在這里頓的，三態(tài)鵬洗材料包含多個三態(tài)體，該三態(tài)體包含氣相、 液相和固相。在一個實施方案中，氣相和液相提供中介物以使固相與襯底表面 上污鄉(xiāng)顆粒102緊密iW^0為了進一步說明三態(tài)鵬洗材料的組戯咜的 機理，見U.S.專利申請(11/346,894)(代理號No. LAM2P546)，該申請于2006 年2月3曰提交，標題為"Method for removing contamination from a substrate and for making a cleaning solution";美國專利申請11/347,154 (代理號No. LAM2P547)，該申請于2006年2月3日提交，標題為"Cleaning compound and method and system for using the cleaning compound";禾卩美國專禾U申請 (11/336,215)(代理號No.LAM2P545)，于2006年1月20日提交，標題為 "Method and Apparatus for removing contamination from a substrate"。在清潔游呈 中固相與顆粒102相互作用以實現去除。作為在這里使用的實例而非限制，襯 驗示半導體晶片、硬磁盤機、光學磁盤、玻璃襯底、和平板顯示器表面、液 晶顯示器表面等等，其在制造或魏卸作業(yè)期間可能被污染。取決于實際襯底， 表面可能被以不同方式污染，可接受的污染水平由在其中處理襯底的具體工業(yè) 限定。圖1是根據本發(fā)明的一個實施方案與污，顆粒相互作用的三態(tài)體的例 圖。在該圖示中，三態(tài)體110包含氣體部分104、液體部分106、和固體部分108。 當施加力將三態(tài)體110壓向襯底112的表面時，隨著三態(tài)體110更te地向顆 粒102移動，三態(tài)體110與位于襯底112的表面上的污繊顆粒102相互作用。 在一個實 案中，通過和所t態(tài)體110相鄰的三態(tài)體110施加力(F)、 或者F的法向分量，使其向污染物顆粒102移動并與污染物顆粒102相互作用。在另一個實 案中，M:流體(例如氣體或液體)向三態(tài)體iio施加F使其
朝向襯底112表面。在另一個實齢案中，艦力學提供器例如刀片施加F。 應該理解可以使用任何裝置施力口 F，只要在施加F期間三態(tài)體110的襯底112 清潔性能基本上沒有被該裝置損害即可。在一個實施方案中，流體是氣體例如 空氣、氮氣(N2) 、 二氧化碳(C02)和氬氣(Ar)。在另一個實施方案中， 流體是與三態(tài)體110的液體部分106不互溶的液體。如圖1所述,力用來使固體部分108向襯底112和襯底上的污,顆粒102 移動。在一個實施方案中，當固體部分108被強制足夠地接近污鵬顆粒102 時，發(fā)生固體部分108和污染物顆粒102之間的相互作用?？梢訫:包含粘合 (例如，化學的或者物理的)、碰撞(即，動量或者動能的傳遞)、吸引力(例 如，空間力、靜電力等等)、物理和化學鍵合(例如，共#!1合、氫鍵合等等) 的一種或斜種幾理在固體部分108和污,顆粒102之間產生相互作用。在固 體部分108和污 顆粒102之間的相互作用必須足以刻艮在污染物顆粒102 和襯底112之間的任何粘著力，以及在固體部分108和污染物顆粒102之間的 任何排斥力。因此，當固體部分108離開襯底112時，與固體部分108相互作 用的污染物顆粒102同樣離開或者遠離襯底112。在一個實施方案中，限定氣體部分104占據三態(tài)體110清洗材料體積的5% 至99.9%。限定氣體部分104的一種氣體或者多種氣體可以或者是隋性的，例 如，氮氣(N2)、氬氣(Ar)等等，或者反應性的，例如，氧氣(02)、臭氧 (03)、過氧化氫(H202)、空氣、氫氣(H2)、氨氣(NH3)、氫氟酸(HF)、 氫氯酸(HC1)等等。在一個實施方案中，氣體部分104包含僅僅單一類型的 氣體，例如，氮氣(N2)。在另一個實施方案中，氣體部分104是包含不同類 型的氣體的混和物的氣術昆合物，例如臭氧(03)、氧氣(02) 、 二氧化碳(C02)、 氫氯酸(HC1)、氫氟酸(HF)、氮氣(N2)、和氬氣(Ar);臭氧(03) 和氮氣(N2);臭氧(03)和氬氣(Ar);臭氧(03)、氧氣(02)和氮氣(N2); 臭氧(03)、氧氣(02)和氬氣(Ar);臭氧(03)、氧氣(02)、氮氣(N2)、 和氬氣(Ar);和氧氣(02)、氬氣(Ar)、和氮氣(N2)。應該理解氣體部 分104可以主要包含氣皿型的任何組合，只要最終的氣體混合物可以與液體 部分106和固體部分108結合以形成可以用于襯底112清潔或者制,作的三 態(tài)體110即可。仍參照圖1，應該SIMI據具體的實施方案，三態(tài)體110的固體部分108 可以具有主要表示任何次狀態(tài)的物理性能，其中固體部分108定義為除了液體 106或者氣體部分104的部分。例如，物理性能例如彈性和塑性可以在三態(tài)體 110內的不同，固體部分108之中改變。另外，應該 在不同的實施方案 中，固體部分108可以定義為結晶固體或者非結晶固體。不管它們具體的物理 性能，三態(tài)體110的固體部分108在定位于緊密W^者^M到襯底112表面時應該育,避免粘著到襯底112表面，或者會辦容易地除去(例如，ma漂綱水力學去除)。另外，在清洗處理期間，固體部分108的物理性肖鵬該不 會引艦襯底112表面的損害。而且，固體部分108在定位于或者緊密地te 或者接角 粒102時應該育鏃^1與存在于襯底112表面上的污染物顆粒102 的相互作用。在一個實驗案中，固體部分108具有抑制鵬性能。在另一個 實施方案中，固體部分108具有泡沫增強性能。根據用于處理三態(tài)體的應用和 裝置，可以調整泡沫增強或者抑制性能，所述調整或者用分步方式或者根據制 法。在一個實航案中，固體部分108避免溶解入液體部分106和氣體部分104 中并具有肖娜在^^液體部分106中分散的表面功能。在另一個實 案中， 固體部分108不具有肖,^^液體部分106中分散的表面功能，因此在固體 部分108可以分散到齡液體部分106之前，需要化學分散劑被加到液體部分 106中。在一個實施方案中，通過沉淀鵬形成固體部分108，其中液相106 中的溶解組分通過增加一種或多種組分而發(fā)生反應以形^激七合物。在一個 實駄案中，當働卩到液體部分106中(g卩，fflil改變zeta電位)時，固體部 分108懸浮在液體部分106中。根據它們具體的化學特性和它們與周圍液體部 分106的相互作用，固體部分108可以采用一個或多個不同的形式。例如，在不同的實船案中，固體部分108可以形成聚集體、膠體、？鵬、 聚結球、或者基本上任何其它鄉(xiāng)的 麟、凝結、絮凝、結±央、或者聚結。應 該理解上文識別的固體部分108形式的示范列表并不是內含性列，落入公開實 案的精神內的替換#擴充是可能的。還應當理解固體部分108可以定義 為基本上任何能夠以前面就它與襯底112和污^tl顆粒102相互作用方面描述 的方式行使功能的任何固#^才料。繼續(xù)參照圖1 ，用于艦固體部分108的一些示范鄉(xiāng)的材料包含脂族酸、 羧酸類、石蠟、蠟、聚合物、聚苯乙烯、縮多氨酸、和其它的粘彈性材料。固 體部分108材料應當以超過它在液體部分106內的溶解度極限的濃度存在。同 時，應該理解與具體的固體部分108材茅將關的清洗有效性隨ag、 pH、和其 它的環(huán)境^f牛而變。 、月旨族臟要 ^艦其中碳原子形成灘的有機化合物限定的任何酸。脂 肪酸是可以用作三態(tài)體110清洗材料內的固體部分108的脂族酸的實例。可以 用作固體部分108柳旨肪酸的實例包含月桂酸、棕櫚酸、硬脂酸、油酸、亞油 酸、亞麻酸、花生四烯酸、順-9-二十 酸、芥酸、丁酸、己酸、辛酸、肉豆 蔻酸、十七烷酸、山崳酸、二十四烷酸、肉豆蔻腦酸、棕淑油酸、神經酸、十 八碳四烯酸、二十碳五烯酸、巴西烯酸、4,7,1 l-二十二碳三烯-18炔酸、二十 四烷酸、蠟酸和它們的混合物等。在一個實施方案中，固體部分108可以表示 艦由C-l到約C-26的不同的繊長度限定棚旨肪酸的混合物。羧酸類是主 要通過包含一個或多個羧基(COOH)的任何有機酸限定。當用作三態(tài)體110 的固體部分108時，羧麟可以包含從C-1至大約C-100的不同繊長度的混 合物。同樣，羧酸類可以包含長鏈醇、醚、和/或酮，超出在三態(tài)體110的液體 部分106中的溶解度極限。在一個實船案中，當用于固體部分108中的脂肪 酸與污染物顆粒102接觸時，月旨肪,作表面活性劑。仍參照圖1，液體部分106可以^含7K或者無水。在一個實 案中， M單獨的水(去離子水或者其它)限定含水液體部分106。在另一個實施方 案中，通過與和水相溶的其它組分結合的水限定含水液體部分106。在另一個 實施方案中，通過麟化，、碳氟化合物、礦物油、或者醇及其它限定非水 液體部分106。不管液體部分106是含7K或者無水，應該理解可以改變液體部 分106以包含離子或者非離子溶劑和其它化學添加劑。例如，液體部分106的 化學添加劑可以包含共自U、 pH改性劑(例如，酸和堿)、螯合劑、極性溶 劑、表面活性劑、氫氧化氯、過氧化氫、氫氟酸、氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧 化四甲銨、和流變改性劑例如聚合物、顆粒和縮多氨酸。圖2是根據本發(fā)明的一個實施方案在第二三態(tài)體上方施加力以在第二三態(tài) 體和污染物顆粒之間產生相互作用的第一三態(tài)體的例圖。在該圖示中，包含氣 體部分104、液體部分106和固體部分108的第一三態(tài)體110定位在具有相同組成的第二三態(tài)體110之上方和上面。所示第一三態(tài)體110向第二三態(tài)體110 施加向下的力，促使固體部分108和襯底112表面上的污鄉(xiāng)顆粒102之間相互作用。所述向下的力導致當第一三恭體110的氣體部分104、液體部分106 和固體部分108 ^二三態(tài)體110的相同部分時動能雄一三態(tài)體110向第 二三態(tài)體110傳遞。該傳遞引起第二三態(tài)體110向污，顆粒102移動因而在 第二三態(tài)體110的固體部分108和顆粒102之間產生相互作用。正如以上的討 論，可以M5i包含粘著、沖擊、和吸引力的一個或多個機理^相互作用。同 樣，在這里提至啲術語是'向下"，然而，可以從任何角度或者方向施加力。因 此，可以提出"向上的"、"側向的"或者其它方向的力，并且當將力施加于不在 平面位置的襯底時方向性可能是重要的，但是可以是以某一角度，或者垂直地 布置赫保持。在一個實施方案中，通過流體施壓(即，力)引起第一三態(tài)體110向第二 三態(tài)體110施加力。應該理解流體就可以是液體或者氣體，只要流體可用于向 三態(tài)體110 (g卩，可 的液滴和氣泡)施加壓力并且沒有明顯溶AH態(tài)體llO 的氣體部分104、液體部分106、和固體部分108中即可。在另一個實施方案 中，誕瓶觸第一三態(tài)體110的三態(tài)體110對第一三態(tài)體110施加力從而和 第二三態(tài)體110約聯并向第二三態(tài)體110施加力。圖3是根據本發(fā)明的一個實施方案在施加到襯驗面之前形成的三態(tài)條 洗材料的例圖。在該圖示中，三態(tài)體清洗材料302包含每一個具有氣體部分 104、液體部分106、和固體部分108的多個三態(tài)體110。由于在每一個三態(tài)體 110的液體部分106之間的化學鍵合(例如，共{條合、氫鍵合等等)，多個 三態(tài)體110聚集在一起作為統(tǒng)一三態(tài)，洗材料302。如此，M三態(tài)體110 的物理邊界流動的定常態(tài)。在一個實駄案中，三態(tài)鵬洗材料302是泡沫形 式。泡沫是由氣體的分散相和液體的,相組成的材料。在一個實驗案中，在施加到襯底112之前，j頓施加器生成三態(tài)鵬洗 材料302。施加器采用組成三態(tài)體110的氣體部分104、液體部分106、和固體 部分108的組分并處理(艦提供適當的攪動和/充氣)它們以形成三態(tài)鵬洗 材料302?？捎糜谛纬扇龖B(tài)Wf^t才料302的施加^M的實例包含近貼頭、 歧管、噴霧器、混合器等等。應該理解可以使用任何施加器類型以形成三態(tài)體 清洗材料302，只要該施加器可以經配置以提供必要的攪動和/或充氣以生成三 態(tài)體清洗材料302即可。在另一個實施方案中，在通M加器分配到襯底112 表面之前，在儲存器中生成三態(tài)條洗材料302。配置儲存器以向三態(tài)體110
的開始材料卿B足夠的攪動和/或充氣，以產生三態(tài)Wt^t才料302。圖4是根據本發(fā)明的一個實施方m襯底的表面除去污,顆粒的三態(tài)體 的例圖。在該圖示中，顯示的三態(tài)體110包含氣體部分104、液體部分106和 固體部分108。三態(tài)體110的固體部分108和污染物顆粒102之間的相互作用 導致當從襯底112的表面除去三態(tài)體110時顆粒102從襯底112的表面被除去。 在一個實施方案中，通過用液，洗襯底112的表面除去三態(tài)體110。液 體直皿角4H態(tài)體110以從襯底112表面?zhèn)魉秃统ト龖B(tài)體110。在另一個實 案中，由于三態(tài)體110和自身處于正從襯底112表面除去的過程中的相鄰 三態(tài)體110之間的吸引力，而除去所^H態(tài)體110。在另一個實施方案中，使 用經配置以機械地從襯底112的表面掃除三態(tài)體110的裝置除去三態(tài)體110。 應該理解可以使用任何方法從襯底112表面除去三態(tài)體110，只要除去的結果 不損壞襯底112即可。圖5是根據本發(fā)明的一個實施方割OT三態(tài)^t潔襯;^面的方法的流程圖。圖l、 2、和4顯示三態(tài)體的圖示和在該方法中如何j柳它們。方法500始于提供表面沉積顆粒的襯底的操作502。如前所述，襯底可以是半導體晶片或者任何污染表面。方法500移到生成包含固體部分、液體部分、和氣體部分的三態(tài)體的操作504。在一個實施方案中，使用分配裝置生成三態(tài)體，該分配裝置經配置以在分R^前^^供給所述裝置的原料材料處理(經振動/充氣)成三縱。在另一個實 案中，在傳送到分配體進行分lit前，三態(tài)體生成在存儲三態(tài)，洗材料的儲存器中。在另一個實施方案中，當從分配，分配三 態(tài)體原材料時，自動發(fā)生的一系列化學反應在施加的時候生成三態(tài)體。方法500繼續(xù)到操作506，其中在三態(tài)體上方施加力以iSt在三態(tài)體的固 體部分和污染物顆粒之間的相互作用。如前所述，經由設置在三態(tài)體上方的流 體或者相鄰的三態(tài)體供給的壓力或者接觸力施加朝向襯底表面的力。做為選 擇，在一個實施方案中，ilil經設計以向三態(tài)體施加朝向襯底表面的機械力的 裝置施加力。繼續(xù)圖5，方法500進行到操作508，其中，與顆粒一起從襯底表面除去 三態(tài)體以便三態(tài)體的固體部分和污,顆粒之間的相互作用弓l起所^粒與三 態(tài)體一起除去。如前所述，可以通過包含粘合、沖擊、吸引力、和化學鍵合的 一個或多個機理Ml三態(tài)體的固體部分和污染物顆粒之間的相互作用。 圖6是根據本發(fā)明的一個實施方案i柳具有固相形式的表面活性齊啲三態(tài)Wt潔襯，面的方法的,圖。圖l、 2、和4顯示三態(tài)體的圖示和在該方法 中如何^頓它們。方法600始于麟表面有沉積灝粒的襯底的操作602。繼續(xù) 方法600至l據作604，其中，生^131基本上固相的表面活性劑、液相的液體 部分、和氣相的氣體部分限定的三態(tài)體。在一個實施方案中，使用產生三態(tài)體 并將其施加到晶片表面上的分配施加器施加三態(tài)體。在另一個實施方案中，在 M分配施加器分配之前，在儲存器中生成三態(tài)體。在另一個實施方案中，當 從分配裝置分配三態(tài)體原材料時，通過自動發(fā)生的一系列化學反應在施加的時 候生成三態(tài)體。在一個實驗案中，表面活性劑分布在齡液體部分106中以限定具有粘 接到處于懸浮狀態(tài)的多個皿的每一個的一端的羧基的多個烴鏈。多個烴鏈不 利于絮凝。在一個實施方案中，M向三態(tài)體施加堿來鵬表面活性齊啲分散。仍參照圖6，然后繼續(xù)方法600至U操作606，其中三M施加于襯底的表 面以使該表面活性劑與晶片表面上的顆粒相互作用。在一個實施方案中，向三 鄉(xiāng)施加力，因而移動表面活性齊似使其緊鄰或者接角鵬粒。經由設置在三態(tài) 體上方的流體或者相鄰的三態(tài)體供給的壓力來施力潮向襯底表面的力。在另一 個實施方案中，通M^設計以向三態(tài)體施加朝向襯底表面的機械力的裝置施力口 力。然后，繼續(xù)方法600到操作608，其中，三態(tài)體與顆粒一起從襯底的表面 除去以使表面活性齊訴B顆粒之間的相互作用引，粒與三態(tài)體一起被除去。可 以通過包含粘合、沖擊、吸引力、和化學鍵合的一個或多個機理來^5^面活 性劑和污^顆粒之間的相互作用。盡管在這里已經詳細描寫本發(fā)明的一些實驗案，但本領域的技術人員應 該了解在不脫離本發(fā)明的精神或者范圍的情況下本發(fā)明可以以許多其它的具體 形式體現。因此，本實例和實施方案被認為是說明性的并不是限制性的，本發(fā) 明不限于在其中提供的細節(jié)，但是在所述權利要求的范圍內可以改變和實施。
權利要求
1.一種清洗方法，包括提供具有表面的襯底，該表面上具有顆粒；生成包括固體部分、液體部分、和氣體部分的三態(tài)體；將力施加在三態(tài)體上方以在固體部分和顆粒之間產生相互作用；和將三態(tài)體從襯底的表面與顆粒一起去除，以使與顆粒的相互作用導致通過三態(tài)體除去顆粒。
2. 如權利要求1所述的清潔方法，其中相互作用限定為頓粒和三態(tài)體 的固體部分之間的動量 或者傳遞之一。
3. 如權利要求1所述的清潔方法，其中連接是粘著或者排斥之一。
4. 如權利要求1所述的清潔方法，其中液體部分和氣體部分限定密封傳 送，氣體部分另外基本上填充所述密封傳送。
5. 如權利要求4所述的清潔方法，其中氣體部分是下列氣體混，之一 臭氧(03)、氧氣(02)、氫氯酸(HC1)、氫氟酸(HF)、氮氣(N2)、和氬氣(Ar);臭氧(03)和氮氣(N2);臭氧(03)和氬氣(Ar);臭氧(03)、氧氣(02)和氮氣(N2);臭氧(03)、氧氣(02)和氬氣(Ar);臭氧(03)、氧氣(02)、氮氣(N2)和氬氣(Ar);禾口氧氣(02)、氬氣(Ar)和氮氣(N2)。
6. 如權利要求4的清;訪法，其中所述密封傳送與其它的密封傳送結合 以限定泡沫，密封傳送施加弓胞固相接娜粒的力以便于與固體部分和襯驗 面上的顆粒相互作用。
7. 如權禾腰求1所述的清潔方法，其中固體部分限定在氣相和液相之外。
8. 如權利要求7所述的清潔方法，其中固體部分包含脂肪酸。
9. 如豐又利要求1所述的清潔方法，其中設置在三皿上方的相鄰的三態(tài) 體施加力。
10. 如權利要求1所述的清;訪法，其中在固體部分之間的潤滑層衝共流體動力學阻力以除去污染物。
11. 一種用于制備襯底的清^t才料，該清、^^才料包括 液體組分；M分散在液體組分內的多個固體限定的固體組分；禾口 與液體組分和固體組分摻合的氣體組分，以將清洗材料限定在待施加到襯 底上的狀態(tài)。
12. 如權利要求ll所述的用于庫恪襯底的清洗材料，其中液體組她含堿。
13. 如豐又利要求12所述的用于制備襯底的清洗材料，其中堿，自氫氧 化氨、氫氧化鉀、iiM化鈉、和氫氧化四甲銨的含7K堿。
14. 如權利要求ll所述的用于制備襯底的清洗材料，其中固體組分是脂 肪酸或者脂肪酸鹽。
15. 如權利要求ll所述的用于制備襯底的清洗材料，其中固體作為泡沫 綱劑。
16. 如權利要求14所述的用于制備襯底的清洗材料，其中脂肪酸用作表 面活性劑。
17. 如權利要求14所述的用于制備襯底的清洗材料，其中脂肪,自硬 月旨酸(CH3 (CH2) 16COOH) 、 ！^1萄酸、和油酸。
18. 如權利要求ll所述的用于制備襯底的清淑才料，其中固體組分通過 液體組分離子化以形成多個固體。
19. 如權利要求ll所述的用于制備襯底的清洗材料，其中固體組分具有 羧酸、磺酸、或者膦酸部分。
20. —種清潔的方法，包括 提供具有表面的襯底，該表面上具有顆粒；在施力倒襯底之前，生 31 本上為固相的表面活性劑、液相的液體部分、和氣相的氣體部分限定的三絲；禾口向襯底的表面施加三態(tài)體以使表面活性齊,顆粒相互作用； 與顆粒一起從襯底的表面除去三態(tài)體，以使在表面活性齊訴卩顆粒之間的相互作用導i^粒與三態(tài)體一起被除去。
21. 如權利要求20所述的清i訪法，其中液體部分和氣體部分限定密封傳送，氣體部分另夕卜基本上填充戶脫密封傳送。
22. 如權利要求20所述的清t訪法，其中相互作用娜粒和三態(tài)體的表 面活性劑之間限定3^接。
23. 如權利要求21的清潔方法，其中所述密封傳送與其它的密封傳送結 合以限定泡沫，泡沫的密封傳送向表面活性劑施加弓l起表面活性劑被OT成接 ifi^粒的力，以便在表面活性劑和襯，面上的顆粒之間弓I發(fā)相互作用。
24. 如權利要求23所述的清t訪法，其中表面活性劑分布在液體部分中 以限定具有,到多個纟 的每一個的一端的羧基的多個徑鏈，所述多個大， 處于懸浮態(tài)并不利于多個纟，之間的絮凝。
25. 如權利要求24所述的清^^法，還包括 ffiil向三態(tài)體施加堿促進表面活性劑的懸浮。
全文摘要
公開使用三態(tài)體的清潔方法。提供具有沉積于其上的顆粒的襯底。生成具有固體部分、液體部分、和氣體部分的三態(tài)體。將力施加在三態(tài)體上方以促進固體部分和顆粒之間相互作用。從襯底的表面與顆粒一起除去三態(tài)體。在固體部分和顆粒之間的相互作用引起顆粒與三態(tài)體一起被除去。
文檔編號H01L21/306GK101114569SQ200610063948
公開日2008年1月30日 申請日期2006年12月29日 優(yōu)先權日2005年12月30日
發(fā)明者E·M·弗里爾, F·C·雷德克, J·M·德拉里奧斯, K·米克海利岑科, M·拉夫金, M·科羅利克 申請人:蘭姆研究有限公司