專利名稱：光刻裝置和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻裝置和制造器件的方法。
背景技術(shù)：
光刻裝置是將期望的圖案施加到基底上(通常是基底靶部上)的一種裝置。光刻裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構(gòu)圖部件(或者稱為掩?；蚍謩澃?可用于產(chǎn)生在IC的一個(gè)單獨(dú)層上形成的電路圖案。該圖案可以被轉(zhuǎn)印到基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一部分，一個(gè)或者多個(gè)芯片模)。通常這種圖案的轉(zhuǎn)印是通過(guò)成像在涂敷于基底的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。一般地，單一的基底將包含被相繼構(gòu)圖的相鄰靶部的網(wǎng)格。常規(guī)的光刻裝置包括所謂的步進(jìn)器，其中通過(guò)將整個(gè)圖案一次曝光到靶部上而輻射每一靶部，以及所謂的掃描器，其中通過(guò)在輻射光束下沿給定的方向(“掃描”方向)掃描所述圖案并同時(shí)沿與該方向平行或者反平行的方向同步掃描基底來(lái)輻射每一靶部。還可以通過(guò)將圖案壓印到基底上把圖案從構(gòu)圖部件轉(zhuǎn)印到基底上。
在已知的光刻裝置中，構(gòu)圖部件交換裝置用于在靜止的構(gòu)圖部件站(如裝載站、檢查站、清潔站或掩模庫(kù))與構(gòu)圖部件支撐件之間交換構(gòu)圖部件，在對(duì)基底上構(gòu)圖部件的圖案進(jìn)行投影的過(guò)程中，構(gòu)圖部件支撐在所述構(gòu)圖部件支撐件上。該已知的構(gòu)圖部件交換裝置包括具有一個(gè)裝載位置的自動(dòng)機(jī)械和具有兩個(gè)保持位置的轉(zhuǎn)動(dòng)架。該自動(dòng)機(jī)械配置成交換在裝載站與轉(zhuǎn)動(dòng)架的這些保持位置中的一個(gè)位置之間的構(gòu)圖部件，反之亦然。該轉(zhuǎn)動(dòng)架配置成與構(gòu)圖部件支撐件交換構(gòu)圖部件。交換構(gòu)圖部件支撐件上的構(gòu)圖部件所需的時(shí)間中至少包括使構(gòu)圖部件支撐件上的構(gòu)圖部件升離盒孔的時(shí)間，其中在投影階段中該構(gòu)圖部件被支撐成使得轉(zhuǎn)動(dòng)架能夠從構(gòu)圖部件支撐件接收構(gòu)圖部件。之后，轉(zhuǎn)動(dòng)架必須轉(zhuǎn)動(dòng)180度，使得已經(jīng)處于轉(zhuǎn)動(dòng)架的另一個(gè)保持位置的新構(gòu)圖部件處于一個(gè)位置，在該位置中，該轉(zhuǎn)動(dòng)架能夠與構(gòu)圖部件支撐件進(jìn)行交換。接著，將新的構(gòu)圖部件放置在升起的構(gòu)圖部件支撐件的銷柱上，然后降低進(jìn)入到該盒孔內(nèi)。當(dāng)構(gòu)圖部件定位在盒孔中時(shí)，構(gòu)圖部件支撐件能夠移回到透鏡列上方的一個(gè)位置，接著開(kāi)始投影階段。
在已知光刻裝置中，構(gòu)圖部件的交換要花費(fèi)相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間。這樣長(zhǎng)的交換時(shí)間對(duì)光刻裝置的處理能力具有直接的影響。
已經(jīng)有人建議使用具有超過(guò)兩個(gè)保持位置的轉(zhuǎn)動(dòng)架，以便盡可能快地交換構(gòu)圖部件。此外，已經(jīng)提出了構(gòu)圖部件交換裝置的其它實(shí)施例來(lái)減少所需的時(shí)間。然而，沒(méi)有一個(gè)構(gòu)圖部件交換裝置的可替換實(shí)施例能夠證明將交換構(gòu)圖部件所需的交換時(shí)間大大減少到令人滿意的水平。
此外，新的投影技術(shù)如利用四個(gè)或多個(gè)構(gòu)圖部件或多重(兩重)曝光的拼接需要多個(gè)不同的構(gòu)圖部件以對(duì)圖案快速地進(jìn)行投影，這些技術(shù)使得對(duì)構(gòu)圖部件的較少交換時(shí)間的要求相對(duì)光刻裝置的處理能力的增大而更加重要。

發(fā)明內(nèi)容
期望的是提供一種光刻裝置和器件制造方法，利用該光刻裝置和器件制造方法可以大量減少交換構(gòu)圖部件支撐件中的構(gòu)圖部件所需的交換時(shí)間。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供一種光刻裝置，其包括配置成調(diào)節(jié)輻射光束的照明系統(tǒng)；配置成將構(gòu)圖部件支撐在投影平面中的構(gòu)圖部件支撐件，該構(gòu)圖部件配置成在該輻射光束的橫截面中賦予圖案，從而形成圖形化的輻射光束；配置成保持基底的基底臺(tái)；配置成將該圖形化輻射光束投影到該基底的靶部的投影系統(tǒng)。其中，該光刻裝置包括一交換裝置，其配置成與可交換對(duì)象支撐件交換可交換對(duì)象，該可交換對(duì)象支撐件配置成在對(duì)該圖形化輻射光束進(jìn)行投影的過(guò)程中保持所述可交換對(duì)象，所述交換裝置包括裝載單元和卸載單元，所述裝載單元和所述卸載單元每一個(gè)都具有用于保持可交換對(duì)象的保持裝置，這些保持裝置定位成基本上彼此相鄰，并配置成將可交換對(duì)象保持在這樣的平面中，該平面基本上平行于在對(duì)圖形化輻射光束進(jìn)行投影的過(guò)程中保持在該可交換對(duì)象支撐件中的可交換對(duì)象所處的平面，所述可交換對(duì)象支撐件配置成與每一所述保持裝置交換可交換對(duì)象。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供一種器件制造方法，其包括將圖案從構(gòu)圖部件轉(zhuǎn)印到基底上，其中使用一交換裝置來(lái)交換可交換對(duì)象，在投影階段中轉(zhuǎn)印所述圖案的過(guò)程中，所述可交換對(duì)象被支撐在支撐件上。其中，在交換階段過(guò)程中，通過(guò)沿基本上垂直于所述可交換對(duì)象的主平面的方向移動(dòng)所述卸載單元，從而將可交換對(duì)象從所述支撐件轉(zhuǎn)移到所述卸載單元的保持位置；之后，將所述支撐件定位在裝載單元上方，該裝載單元保持有要被裝載到所述支撐件上的可交換對(duì)象，所述裝載單元與卸載單元基本相鄰地定位；將所述裝載單元沿基本上垂直于所述支撐件的主平面的方向朝著所述支撐件移動(dòng)，從而在裝載單元和支撐件之間進(jìn)行交換。


僅僅作為示例，現(xiàn)在將參考隨附的示意圖描述本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例，其中相同的參考標(biāo)記表示相同的部件，其中圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光刻裝置；圖2示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的構(gòu)圖部件交換裝置的頂視圖；圖3示出了圖2的實(shí)施例的側(cè)視圖；圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的構(gòu)圖部件交換裝置的頂視圖；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的構(gòu)圖部件交換裝置的頂視圖；圖6示出了根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的構(gòu)圖部件交換裝置的頂視圖；圖7示出了圖6的實(shí)施例的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
圖1示意性地表示了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻裝置。該裝置包括照明系統(tǒng)(照明器)IL，其配置成調(diào)節(jié)輻射光束B(niǎo)(例如UV輻射或任何其它合適的輻射)；掩模支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺(tái))MT，其構(gòu)造成可支撐構(gòu)圖部件(例如掩模)MA，并與配置成依照某些參數(shù)將該構(gòu)圖部件精確定位的第一定位裝置PM連接。該裝置還包括基底臺(tái)(例如晶片臺(tái))WT或“基底支撐件”，其構(gòu)造成保持基底(例如涂敷有抗蝕劑的晶片)W，并與配置成依照某些參數(shù)將該基底精確定位的第二定位裝置PW連接。該裝置還包括投影系統(tǒng)(例如折射投影透鏡系統(tǒng))PS，其配置成將通過(guò)構(gòu)圖部件MA賦予給輻射光束B(niǎo)的圖案投影到基底W的靶部C上，該靶部C例如包括一個(gè)或多個(gè)芯片模(die)。
該照明系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件來(lái)引導(dǎo)、成形或者控制輻射，這些光學(xué)部件諸如是折射光學(xué)部件、反射光學(xué)部件、磁性光學(xué)部件、電磁光學(xué)部件、靜電光學(xué)部件或其它類型的光學(xué)部件，或者它們的任意組合。
該掩模支撐結(jié)構(gòu)支撐該構(gòu)圖部件，也就是承受該構(gòu)圖部件的重量。它對(duì)該構(gòu)圖部件的保持方式取決于該構(gòu)圖部件的朝向、光刻裝置的設(shè)計(jì)以及其它條件，例如構(gòu)圖部件是否保持在真空環(huán)境中。該掩模支撐結(jié)構(gòu)可以使用機(jī)械、真空、靜電或其它夾緊技術(shù)來(lái)保持該構(gòu)圖部件。該掩模支撐結(jié)構(gòu)可以是框架或者工作臺(tái)，例如所述結(jié)構(gòu)可根據(jù)需要而是固定的或者是可移動(dòng)的。該掩模支撐結(jié)構(gòu)可以確保構(gòu)圖部件例如相對(duì)于該投影系統(tǒng)位于期望的位置。在這里，術(shù)語(yǔ)“分劃板”或者“掩?！钡娜魏问褂镁烧J(rèn)為與更上位的術(shù)語(yǔ)“構(gòu)圖部件”同義。
這里所使用的術(shù)語(yǔ)“構(gòu)圖部件”應(yīng)廣義地解釋為能夠向輻射光束的截面中賦予圖案從而在基底的靶部中形成圖案的任何裝置。應(yīng)該注意，賦予給該輻射光束的圖案可以并不與基底靶部中的期望圖案精確一致，例如如果該圖案包括相移特征或所謂的輔助特征。一般地，賦予給該輻射光束的圖案與在靶部中形成的器件(如集成電路)的特定功能層相對(duì)應(yīng)。
該構(gòu)圖部件可以是透射型的或者反射型的。構(gòu)圖部件的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列、以及可編程LCD面板。掩模在光刻中是公知的，它包括如二元型、交替相移型、和衰減相移型的掩模類型，以及各種混合掩模類型。可編程反射鏡陣列的一個(gè)示例采用小型反射鏡的矩陣排列，每個(gè)反射鏡能夠獨(dú)立地傾斜，從而沿不同的方向反射入射的輻射光束。傾斜的反射鏡可以在被反射鏡矩陣反射的輻射光束中賦予圖案。
這里使用的術(shù)語(yǔ)“投影系統(tǒng)”應(yīng)廣義地解釋為包含各種類型的投影系統(tǒng)，包括折射光學(xué)系統(tǒng)，反射光學(xué)系統(tǒng)、反射折射光學(xué)系統(tǒng)、磁性光學(xué)系統(tǒng)、電磁光學(xué)系統(tǒng)和靜電光學(xué)系統(tǒng)，或其任何組合，這適合于所用的曝光輻射，或者適合于其他方面，如浸液的使用或真空的使用。在這里，術(shù)語(yǔ)“投影透鏡”的任何使用均可以認(rèn)為與更上位的術(shù)語(yǔ)“投影系統(tǒng)”同義。
如這里所指出的，該裝置是透射型(例如采用透射掩模)?？商鎿Q地，該裝置也可以是反射型(例如采用上面提到的可編程反射鏡陣列，或采用反射掩模)。
該光刻裝置可以具有兩個(gè)(雙平臺(tái))或者多個(gè)基底臺(tái)或“基底支撐件”(和/或兩個(gè)或者多個(gè)掩模臺(tái)或“掩模支撐件”)。在這種“多平臺(tái)式”裝置中，可以并行使用這些附加的臺(tái)或支撐件，或者可以在一個(gè)或多個(gè)臺(tái)或支撐件上進(jìn)行準(zhǔn)備步驟，而一個(gè)或者多個(gè)其它臺(tái)或支撐件用于曝光。
該光刻裝置還可以是這樣一種類型，其中，至少部分基底由具有相對(duì)高的折射率的液體(例如水)覆蓋，從而填充投影系統(tǒng)和基底之間的空間。浸液也可以應(yīng)用于光刻裝置中的其他空間，例如應(yīng)用于掩模和投影系統(tǒng)之間。浸液技術(shù)可以用于增大投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這里使用的術(shù)語(yǔ)“浸液”并不表示諸如基底的結(jié)構(gòu)必須浸沒(méi)在液體中，而是表示液體在曝光期間位于投影系統(tǒng)和基底之間。
參考圖1，照明器IL接收來(lái)自輻射源SO的輻射光束。輻射源和光刻裝置可以是分立的機(jī)構(gòu)，例如當(dāng)該輻射源是準(zhǔn)分子激光器時(shí)。在這種情況下，不認(rèn)為輻射源構(gòu)成了該光刻裝置的一部分，輻射光束借助于光束輸送系統(tǒng)BD從輻射源SO傳輸?shù)秸彰髌鱅L，所述光束輸送系統(tǒng)BD包括例如合適的定向反射鏡和/或擴(kuò)束器。在其它情況下，該輻射源可以是光刻裝置的組成部分，例如當(dāng)該輻射源是汞燈時(shí)。該輻射源SO和照明器IL(如果需要可以連同光束輸送系統(tǒng)BD一起)可以被稱作輻射系統(tǒng)。
照明器IL可以包括調(diào)節(jié)裝置AD，其配置成調(diào)節(jié)輻射光束的角強(qiáng)度分布。一般地，至少可以調(diào)節(jié)在照明器光瞳平面上強(qiáng)度分布的外徑向范圍和/或內(nèi)徑向范圍(通常分別稱為σ-外和σ-內(nèi))。此外，照明器IL可以包括各種其它部件，如積分器IN和聚光器CO。該照明器可以用于調(diào)節(jié)輻射光束，從而使該光束在其橫截面上具有期望的均勻度和強(qiáng)度分布。
該輻射光束B(niǎo)入射到保持在掩模支撐結(jié)構(gòu)(如掩模臺(tái)MT)上的構(gòu)圖部件(如掩模MA)上，并由構(gòu)圖部件進(jìn)行構(gòu)圖。穿過(guò)該掩模MA后，輻射光束B(niǎo)通過(guò)該投影系統(tǒng)PS，該投影系統(tǒng)將光束聚焦在基底W的靶部C上。在第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如干涉測(cè)量器件、線性編碼器或電容傳感器)的輔助下，可以精確地移動(dòng)該基底臺(tái)WT，從而例如將不同的靶部C定位在輻射光束B(niǎo)的光路中。類似地，例如在從掩模庫(kù)中機(jī)械取出掩模MA后或在掃描期間，可以使用第一定位裝置PM和另一位置傳感器(圖1中未明確示出)來(lái)相對(duì)于輻射光束B(niǎo)的光路精確定位該掩模MA。一般地，借助于長(zhǎng)行程模塊(粗略定位)和短行程模塊(精細(xì)定位)，可以實(shí)現(xiàn)掩模臺(tái)MT的移動(dòng)，所述長(zhǎng)行程模塊和短行程模塊構(gòu)成第一定位裝置PM的一部分。類似地，利用長(zhǎng)行程模塊和短行程模塊也可以實(shí)現(xiàn)基底臺(tái)WT或“基底支撐件”的移動(dòng)，其中該長(zhǎng)行程模塊和該短行程模塊構(gòu)成第二定位裝置PW的一部分。在步進(jìn)器的情況下(與一掃描裝置相對(duì))，掩模臺(tái)MT可以只與短行程致動(dòng)裝置連接或者可以被固定?？梢允褂醚谀?duì)準(zhǔn)標(biāo)記M1、M2和基底對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2來(lái)對(duì)準(zhǔn)掩模MA與基底W。盡管如所示出的基底對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記占據(jù)了指定的靶部，但是它們也可以設(shè)置在各個(gè)靶部之間的空間中(這些空間被稱為劃片線對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)。類似地，在有超過(guò)一個(gè)的芯片模設(shè)在掩膜MA上的情況下，可以將該掩膜對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)在各個(gè)芯片模之間。
所示的裝置可以按照下面模式中的至少一種使用1.在步進(jìn)模式中，掩模臺(tái)MT或“掩模支撐件”和基底臺(tái)WT或“基底支撐件”保持基本不動(dòng)，而賦予輻射光束的整個(gè)圖案被一次投影到靶部C上(即單次靜態(tài)曝光)。然后沿X和/或Y方向移動(dòng)該基底臺(tái)WT或“基底支撐件”，使得可以曝光不同的靶部C。在步進(jìn)模式中，曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了在單次靜態(tài)曝光中成像的靶部C的尺寸。
2.在掃描模式中，掩模臺(tái)MT或“掩模支撐件”和基底臺(tái)WT或“基底支撐件”被同步掃描，同時(shí)，賦予輻射光束的圖案被投影到靶部C上(即單次動(dòng)態(tài)曝光)?；着_(tái)WT或“基底支撐件”相對(duì)于掩模臺(tái)MT或“掩模支撐件”的速度和方向通過(guò)投影系統(tǒng)PS的放大(縮小)和圖像反轉(zhuǎn)特性來(lái)確定。在掃描模式中，曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了在單次動(dòng)態(tài)曝光中靶部的寬度(沿非掃描方向)，而掃描運(yùn)動(dòng)的長(zhǎng)度確定了靶部的長(zhǎng)度(沿掃描方向)。
3.在其他模式中，掩模臺(tái)MT或“掩模支撐件”保持基本不動(dòng)，并且支撐一可編程構(gòu)圖部件，而基底臺(tái)WT或“基底支撐件”被移動(dòng)或掃描，同時(shí)，賦予輻射光束的圖案被投影到靶部C上。在該模式中，一般采用脈沖輻射源，并且，在每次移動(dòng)基底臺(tái)WT或“基底支撐件”之后，或者在掃描期間兩個(gè)相繼的輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新該可編程構(gòu)圖部件。這種操作模式可以容易地應(yīng)用于采用可編程構(gòu)圖部件的無(wú)掩模光刻中，所述可編程構(gòu)圖部件例如是上面提到的可編程反射鏡陣列類型。
還可以采用上述使用模式的組合和/或變化，或者也可以采用完全不同的使用模式。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的構(gòu)圖部件交換裝置，其總體上用參考數(shù)字1表示。該構(gòu)圖部件交換裝置1配置成在構(gòu)圖部件支撐件2和一個(gè)或多個(gè)構(gòu)圖部件站4之間交換構(gòu)圖部件，在對(duì)構(gòu)圖部件的圖案進(jìn)行投影的過(guò)程中，該構(gòu)圖部件被支撐在所述構(gòu)圖部件支撐件2上。這些構(gòu)圖部件站4包括在構(gòu)圖部件沒(méi)有在投影過(guò)程中實(shí)際使用時(shí)用來(lái)保持該構(gòu)圖部件的各個(gè)站。這種構(gòu)圖部件站4例如是(靜止的)裝載站、構(gòu)圖部件庫(kù)、構(gòu)圖部件檢查和/或清潔站、和/或任何其它用來(lái)保持構(gòu)圖部件的靜止站或半靜止站。
構(gòu)圖部件交換裝置1包括自動(dòng)機(jī)械(robot)5、線型傳輸單元6、裝載單元7和卸載單元8。該構(gòu)圖部件交換裝置的這些部件被相繼使用，以便將構(gòu)圖部件從構(gòu)圖部件站4傳輸?shù)綐?gòu)圖部件支撐件2上以及從構(gòu)圖部件支撐件2傳輸回至該構(gòu)圖部件站4。
該自動(dòng)機(jī)械5配置成與一個(gè)或多個(gè)構(gòu)圖部件站4以及與線型傳輸裝置6交換構(gòu)圖部件。該自動(dòng)機(jī)械5可以是任何一種合適的機(jī)械手，從而能夠?qū)崿F(xiàn)在裝載站4和線型傳輸裝置6之間交換構(gòu)圖部件。這種自動(dòng)機(jī)械/機(jī)械手對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員是已知的。
線型傳輸裝置6配置成與自動(dòng)機(jī)械5以及與裝載單元7和卸載單元8交換構(gòu)圖部件。為了能夠?qū)崿F(xiàn)這種交換，該線型傳輸裝置6包括承載裝置11，該承載裝置11能夠在多個(gè)位置之間成線型移動(dòng)，其在一個(gè)位置中與自動(dòng)機(jī)械5交換構(gòu)圖部件3，在一個(gè)位置中與裝載單元7交換構(gòu)圖部件3，并且在一個(gè)位置中與卸載單元8交換構(gòu)圖部件3。在圖2所示的實(shí)施例中，該線型傳輸裝置6設(shè)計(jì)成輸送軌道，由此該承載裝置支撐在該輸送軌道上。但是，可以應(yīng)用任何其它合適的裝置來(lái)沿線路徑傳輸構(gòu)圖部件。
通過(guò)使用一種線型傳輸裝置，該構(gòu)圖部件僅沿一條線路徑移動(dòng)，這樣就能夠使用相對(duì)簡(jiǎn)單的馬達(dá)和定位測(cè)量系統(tǒng)。該承載裝置11可以沿該線路徑移動(dòng)，該線路徑優(yōu)選是直線，但是該線路徑也可以具有曲線。
為了使構(gòu)圖部件3相對(duì)于構(gòu)圖部件支撐件2以及構(gòu)圖部件站4適當(dāng)定位，期望的是使構(gòu)圖部件旋轉(zhuǎn)180°。為此，該自動(dòng)機(jī)械5可以配置成使構(gòu)圖部件旋轉(zhuǎn)。例如，該自動(dòng)機(jī)械5的夾緊裝置是可旋轉(zhuǎn)的。但是，在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，該線型傳輸裝置6能夠使構(gòu)圖部件旋轉(zhuǎn)。為此，該承載裝置11具有兩個(gè)相對(duì)于彼此可旋轉(zhuǎn)的部分，第一部分支撐在支撐軌道上，第二部分配置成可承載該構(gòu)圖部件。
該裝載單元7配置成與線型傳輸裝置6和構(gòu)圖部件支撐件2交換構(gòu)圖部件3。為了能夠與該線型傳輸裝置6交換構(gòu)圖部件，裝載單元7可以沿垂直于線型傳輸裝置6的輸送方向的方向移動(dòng)。在一個(gè)備選實(shí)施例中，該線型傳輸裝置6的承載裝置11可以沿朝向裝載單元7的方向移動(dòng)。該卸載單元8在線型傳輸裝置6的輸送方向上與裝載單元7相鄰布置，使得卸載單元8也能夠與線型傳輸裝置6交換構(gòu)圖部件。為了能夠在線型傳輸裝置6和卸載單元8之間進(jìn)行交換，卸載單元8可以沿垂直于線型傳輸裝置6的輸送方向的方向移動(dòng)，或者該線型傳輸裝置6的承載裝置11可以沿朝向卸載單元8的方向移動(dòng)。承載裝置11和卸載單元8的聯(lián)合運(yùn)動(dòng)也是可能的。
裝載單元7和卸載單元8分別包括一保持裝置9和10。這些保持裝置9和10配置成將構(gòu)圖部件保持在基本相同的平面內(nèi)。而且，保持裝置9和10彼此相鄰地布置，使得當(dāng)裝載單元7和卸載單元8各自保持一構(gòu)圖部件3時(shí)，這些構(gòu)圖部件3布置在大體相鄰的位置中?！跋噜彙痹诒旧暾?qǐng)中的意思是該保持裝置9和10之間的距離較短，優(yōu)選是盡可能地短，從而在交換過(guò)程中，使得從卸載位置(構(gòu)圖部件支撐件2與卸載單元8在該卸載位置中交換構(gòu)圖部件3)和從裝載位置(構(gòu)圖部件支撐件2與裝載單元7在該裝載位置中交換構(gòu)圖部件)必須移動(dòng)的距離比較短，優(yōu)選盡可能地短。該距離實(shí)際上例如是大約150-200mm，但是主要取決于構(gòu)圖部件3在移動(dòng)方向上的尺寸。
在本實(shí)施例中，裝載單元7和卸載單元8是獨(dú)立的單元。但是，在一個(gè)備選實(shí)施例中，裝載單元7和卸載單元8可以組合成單一的裝載/卸載單元。此外，在本實(shí)施例中，裝載單元專用于將構(gòu)圖部件裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上，而卸載單元專用于從構(gòu)圖部件支撐件2上卸載構(gòu)圖部件。但是，也可以使用裝載單元從構(gòu)圖部件支撐件2上卸載構(gòu)圖部件，而使用卸載單元8將構(gòu)圖部件裝載到構(gòu)圖部件支撐件上。這樣，盡管為了清楚的原因，在本申請(qǐng)中使用了術(shù)語(yǔ)裝載單元和卸載單元，但是裝載單元7和卸載單元8都可以認(rèn)為是裝載/卸載單元。
保持裝置9和保持裝置10的布置如圖3清楚所示。在該附圖中，在支撐在構(gòu)圖部件支撐件2中的該構(gòu)圖部件3的圖案的投影階段已經(jīng)完成之后，裝載單元7保持著一個(gè)待裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件3。然而，在可將裝載單元7上的構(gòu)圖部件3裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上之前，必須將支撐在構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件3卸載到卸載單元8上?，F(xiàn)在用一個(gè)實(shí)施例來(lái)說(shuō)明將構(gòu)圖部件支撐件上的構(gòu)圖部件3與裝載單元7上的構(gòu)圖部件3進(jìn)行交換的步驟。
完成投影階段后，將構(gòu)圖部件支撐件2移動(dòng)到卸載單元8上方的一個(gè)位置。之后，卸載單元8的保持裝置10將向上朝構(gòu)圖部件支撐件2移動(dòng)，使得該保持裝置10可以從構(gòu)圖部件支撐件2上接收該構(gòu)圖部件3。之后，保持裝置10將再次向下移動(dòng)，以便能夠使該構(gòu)圖部件支撐件2朝著裝載單元7移動(dòng)。當(dāng)構(gòu)圖部件支撐件2處于裝載單元7上方的一個(gè)位置時(shí)，裝載單元7的保持裝置9將向上移動(dòng)至該構(gòu)圖部件支撐件，以將構(gòu)圖部件3裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上。當(dāng)將該新的構(gòu)圖部件3裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上，且隨后該保持裝置9向下移動(dòng)時(shí)，該構(gòu)圖部件支撐件2可以移回到投影區(qū)域(用虛線表示)，并可以在此處開(kāi)始用新的圖案開(kāi)始該投影階段。之后，通過(guò)該線型傳輸裝置6和自動(dòng)機(jī)械5將卸載單元8上的構(gòu)圖部件3傳輸?shù)綐?gòu)圖部件站4。并且，將新的構(gòu)圖部件3傳輸?shù)窖b載單元8，使得在完成所述投影階段之后，新的構(gòu)圖部件3已經(jīng)準(zhǔn)備好要裝載到構(gòu)圖部件支撐件上。
在一個(gè)備選實(shí)施例中，在構(gòu)圖部件3從構(gòu)圖部件支撐件2卸載到卸載單元8上之后，該構(gòu)圖部件3保持在該卸載單元8上，而并不傳輸回到該構(gòu)圖部件站4。在新的投影階段之后，將支撐在構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件3卸載到裝載單元7上，隨后將卸載站8上的構(gòu)圖部件3再次裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上。通過(guò)這種方式，兩個(gè)構(gòu)圖部件3可以在構(gòu)圖部件支撐件2上多次快速地進(jìn)行交換。
很明顯，構(gòu)圖部件支撐件2從保持裝置10到保持裝置9所必須移動(dòng)的距離相對(duì)較小(基本上對(duì)應(yīng)于構(gòu)圖部件3的尺寸)。因此，該移動(dòng)所需的時(shí)間也很短。由于該移動(dòng)是該交換過(guò)程的關(guān)鍵時(shí)間路徑的一部分，因此減少了構(gòu)圖部件的總交換時(shí)間，從而增大了光刻裝置的總處理能力。
在上面的交換過(guò)程中，構(gòu)圖部件支撐件2從卸載單元8上方的一個(gè)位置移動(dòng)到裝載單元7上方的一個(gè)位置。由于構(gòu)圖部件支撐件2能夠以高的速度和高的加速度移動(dòng)，因此該構(gòu)圖部件支撐件2非常適合于進(jìn)行這些移動(dòng)。但是，在一個(gè)備選實(shí)施例中，也可以是構(gòu)圖部件支撐件2保持在同一位置，而裝載單元7和卸載單元8在構(gòu)圖部件支撐件2下方移動(dòng)，以便在將該構(gòu)圖部件卸載到卸載單元8上之后使裝載單元7位于構(gòu)圖部件支撐件2的下方。但是在這種實(shí)施例中，需要為裝載單元7和卸載單元8提供具有高速度和高加速度的馬達(dá)，從而獲得與移動(dòng)構(gòu)圖部件支撐件2的實(shí)施例相同的交換時(shí)間。構(gòu)圖部件支撐件2與裝載單元7和卸載單元8的聯(lián)合移動(dòng)也是可能的。
在上述交換過(guò)程中，保持裝置9和10沿豎直方向朝向和遠(yuǎn)離構(gòu)圖部件支撐件2移動(dòng)，以便能夠交換構(gòu)圖部件3。這種豎直移動(dòng)是所期望的，以便一方面能夠交換構(gòu)圖部件，另一方面可以使得構(gòu)圖部件支撐件2能夠相對(duì)于該裝載單元7和卸載單元8在與構(gòu)圖部件的平面基本平行的方向上安全地移動(dòng)。高位和低位之間的距離通常實(shí)際上是大約1-5mm，例如大約2mm。在本申請(qǐng)中，保持在高位或低位的構(gòu)圖部件3均可以認(rèn)為是保持在基本相同的平面中。
在上述實(shí)施例中，保持裝置9和保持裝置10沿豎直方向移動(dòng)，以便能夠與構(gòu)圖部件支撐件2進(jìn)行交換。但是，也可以沿豎直方向移動(dòng)構(gòu)圖部件支撐件2，以便能夠交換構(gòu)圖部件并使得該構(gòu)圖部件支撐件2能夠沿基本平行于構(gòu)圖部件的方向安全地移動(dòng)。并且，裝載單元7和卸載單元8以及構(gòu)圖部件支撐件的聯(lián)合移動(dòng)也是可能的。
在圖2和3的實(shí)施例中，構(gòu)圖部件3保持在構(gòu)圖部件支撐件2的下側(cè)。因此，裝載單元7和卸載單元8必須定位在構(gòu)圖部件支撐件2下方，以便能夠在構(gòu)圖部件支撐件2和裝載單元7以及卸載單元8之間進(jìn)行交換。在備選實(shí)施例中，構(gòu)圖部件3可以保持在構(gòu)圖部件支撐件2的側(cè)面或頂部。很清楚，在這種情況下，裝載單元7和卸載單元8必須布置成與構(gòu)圖部件支撐件2中的用于支撐構(gòu)圖部件3的的側(cè)面相對(duì)。例如，對(duì)于上述的備選實(shí)施例來(lái)說(shuō)，它們分別位于構(gòu)圖部件支撐件的側(cè)面處和上方。
正如圖2清楚所示，裝載單元7與投影區(qū)域相鄰地布置，正如上面已經(jīng)論述過(guò)的，卸載單元8與裝載單元7相鄰地布置。因此，為了在交換階段中交換構(gòu)圖部件3，該構(gòu)圖部件支撐件2必須移動(dòng)一最短距離，以便到達(dá)裝載單元7和卸載單元8。由于這些移動(dòng)對(duì)于構(gòu)圖部件的交換來(lái)說(shuō)也是關(guān)鍵時(shí)間路徑的一部分，因此移動(dòng)到裝載單元7和卸載單元8以及移離裝載單元7和卸載單元8所需的時(shí)間相對(duì)較短。
而且，保持裝置9和10將構(gòu)圖部件保持在的平面基本上對(duì)應(yīng)于在投影過(guò)程中構(gòu)圖部件被保持在的平面(也就是投影平面)。通過(guò)這種方式，構(gòu)圖部件支撐件2不必沿豎直方向移動(dòng)(除了上述的為了能夠進(jìn)行交換而進(jìn)行的小移動(dòng))，或者不必當(dāng)其移動(dòng)至卸載單元8和裝載單元7來(lái)交換構(gòu)圖部件3時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。這樣就能夠快速有效地交換構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件3。概括來(lái)說(shuō)，由于使用如上所述的特征減少了交換構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件所需的時(shí)間，因此，明顯增大了該光刻裝置的處理能力。
應(yīng)該注意，在圖2和其它附圖中所示的系統(tǒng)也可以用作一用于交換投影系統(tǒng)的可交換部件的交換系統(tǒng)，這些可交換部件例如是透鏡光瞳濾光器和/或透鏡元件。該交換裝置1可以象附圖中一樣地進(jìn)行設(shè)計(jì)，由此，該構(gòu)圖部件3可以是該投影系統(tǒng)的一種可交換部件，而構(gòu)圖部件支撐件2可以是用于保持投影系統(tǒng)的可交換部件的支撐件。而且，同一交換裝置既可以用于構(gòu)圖部件3的交換，也可以用于投影系統(tǒng)中的可交換部件的交換。
圖4示出了構(gòu)圖部件交換裝置1的備選實(shí)施例，其特別適用于具有兩個(gè)構(gòu)圖部件支撐件2和2a的光刻裝置。具有兩個(gè)(或多個(gè))構(gòu)圖部件支撐件的光刻裝置特別適用于密集地使用多個(gè)不同構(gòu)圖部件的投影處理，例如雙重曝光或拼接(stitching)，其中在雙重曝光中，基底相繼暴露于兩個(gè)(或多個(gè))不同構(gòu)圖部件的圖案下。為了能夠與兩個(gè)構(gòu)圖部件支撐件2和2a有效地交換構(gòu)圖部件3，圖4的構(gòu)圖部件交換裝置1除了包括上文關(guān)于圖2和圖3所描述的部件之外，還包括第二裝載單元7a和第二卸載單元8a。第二裝載單元7a和第二卸載單元8a配置成與線型傳輸裝置6和第二構(gòu)圖部件支撐件2a交換構(gòu)圖部件3。
第二裝載單元7a和第二卸載單元8a布置在投影區(qū)域(用虛線示出)的與裝載單元7和卸載單元8相對(duì)的一側(cè)上。通過(guò)這種方式，既能夠與線型傳輸裝置6進(jìn)行交換，并且，對(duì)于第一和第二構(gòu)圖部件支撐件2和2a來(lái)說(shuō)，保持了從投影區(qū)域到裝載單元和卸載單元的最短距離。對(duì)于該構(gòu)圖部件交換過(guò)程來(lái)說(shuō)，該移動(dòng)對(duì)于時(shí)間很關(guān)鍵；通過(guò)這種方式，這些移動(dòng)的距離保持很短，優(yōu)選是盡可能的短，這樣使得這些移動(dòng)所需的時(shí)間在構(gòu)圖部件的交換過(guò)程中盡可能地短。
第二裝載單元7a和第二卸載單元8a彼此相鄰地定位，使得裝載單元7a和卸載單元8a的保持裝置配置成可將構(gòu)圖部件保持成大體上相鄰且基本上處于同一平面(優(yōu)選是投影平面)中。構(gòu)圖部件支撐件2a上的構(gòu)圖部件的裝載和卸載可以如上文對(duì)于圖2和圖3所描述的那樣進(jìn)行，從而通過(guò)第二裝載單元7a和第二卸載單元8a來(lái)交換該構(gòu)圖部件3。
在本實(shí)施例中，該線型傳輸裝置6包括一個(gè)承載裝置11。在一個(gè)備選實(shí)施例中，可以在該線型傳輸裝置6上布置兩個(gè)或多個(gè)承載裝置，從而在構(gòu)圖部件的交換方面獲得進(jìn)一步的靈活性。這種靈活性在雙重曝光或拼接作業(yè)的情況下是特別合適的。
提供兩個(gè)構(gòu)圖部件支撐件2、2a通常就有可能實(shí)現(xiàn)兩種交換構(gòu)思。在第一種構(gòu)思中，當(dāng)將第一構(gòu)圖部件支撐件2上的構(gòu)圖部件3的圖案投影到基底上時(shí)，交換第二構(gòu)圖部件支撐件2a上的構(gòu)圖部件，反之亦然。在另一種構(gòu)思中，例如在雙重曝光作業(yè)中，基本上同時(shí)交換第一和第二構(gòu)圖部件支撐件中的構(gòu)圖部件，使得在兩個(gè)構(gòu)圖部件都被交換之后，這兩個(gè)構(gòu)圖部件可以快速地先后用來(lái)對(duì)它們的圖案進(jìn)行曝光。
在圖5中示出了用于交換光刻裝置中的構(gòu)圖部件3的構(gòu)圖部件交換裝置1的備選實(shí)施例，其具有兩個(gè)構(gòu)圖部件支撐件2和2a。在該實(shí)施例中，該構(gòu)圖部件交換裝置1包括自動(dòng)機(jī)械5、第一和第二線型傳輸裝置6和6a、第一和第二裝載單元7和7a，以及第一和第二卸載單元8和8a。
該自動(dòng)機(jī)械5配置成與構(gòu)圖部件站4以及第一、第二線型傳輸裝置6和6a交換構(gòu)圖部件3。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，第一線型傳輸裝置6用于將構(gòu)圖部件3傳輸?shù)窖b載單元7和7a，同時(shí)第二線型傳輸裝置6a用于將構(gòu)圖部件3從卸載單元8和8a傳輸?shù)綐?gòu)圖部件站4。通過(guò)這種方式，可以獲得非常實(shí)用且良好組織的邏輯系統(tǒng)。但是，如前所述，裝載和卸載單元可以分別用作卸載和裝載單元，由此還可以改變?cè)摼€型傳輸裝置6和6a的功能。
如在圖5中所布置的那樣使用兩個(gè)線型傳輸裝置6和6a是有益的，這是因?yàn)檠b載單元7、7a和卸載單元8、8a都能夠直接布置在投影區(qū)域(用虛線示出)附近，使得構(gòu)圖部件支撐件2、2a沿兩個(gè)方向移動(dòng)的距離均保持較短；而且，裝載單元7、7a和卸載單元8、8a還都可以布置在線型傳輸裝置6、6a附近，以便能夠在裝載和卸載單元與線型傳輸裝置6之間進(jìn)行交換。這樣，利用第二線型傳輸裝置6a，可以進(jìn)一步減少交換構(gòu)圖部件所需的時(shí)間。裝載單元7、7a和卸載單元8、8a還可以設(shè)計(jì)如在圖2、3和4的實(shí)施例中所描述的那樣。當(dāng)裝載單元7、7a和卸載單元8、8a配置成將構(gòu)圖部件保持在相應(yīng)的裝載/卸載單元附近，并且保持在基本相同平面(優(yōu)選是投影平面)中時(shí)，與已知的光刻裝置相比，可以大量減少卸載一構(gòu)圖部件并隨后將一構(gòu)圖部件裝載到構(gòu)圖部件支撐件2上所需的時(shí)間。
圖6描述了交換裝置1的另一個(gè)實(shí)施例，其用于在具有兩個(gè)構(gòu)圖部件支撐件2和2a的光刻裝置中交換構(gòu)圖部件3。在該實(shí)施例中，構(gòu)圖部件交換裝置1包括自動(dòng)機(jī)械5、線型傳輸裝置6、第一和第二裝載單元7和7a，以及第一和第二卸載單元8和8a。第一裝載單元7和第一卸載單元8以及第二裝載單元7a和第二卸載單元8a分別集成為單個(gè)裝載/卸載單元7/8和7a/8a。
該自動(dòng)機(jī)械5配置成與構(gòu)圖部件站4和線型傳輸裝置6交換構(gòu)圖部件3。盡管該交換裝置僅包括一個(gè)線型傳輸裝置6，但是裝載單元7、7a和卸載單元8、8a都直接布置在投影區(qū)域(用虛線示出)附近，使得構(gòu)圖部件支撐件2、2a沿兩個(gè)方向移動(dòng)的距離均保持較短。為了能夠與相應(yīng)的構(gòu)圖部件支撐件2、2a和承載裝置11交換該裝載/卸載單元7/8、7a/8a之一的保持裝置中的構(gòu)圖部件，該裝載/卸載單元7/8、7a/8a沿垂直于該傳輸裝置6的傳輸方向的方向在四個(gè)位置之間移動(dòng)，所述四個(gè)位置將在圖7中進(jìn)一步說(shuō)明。
此外在該實(shí)施例中，與已知的光刻裝置相比，由于裝載單元7、7a和卸載單元8、8a的保持裝置配置成將構(gòu)圖部件保持在相應(yīng)的裝載/卸載單元附近，因此大量減少了將構(gòu)圖部件卸載以及隨后將構(gòu)圖部件裝載到構(gòu)圖部件支撐件上所需的時(shí)間。該裝載/卸載單元7/8和7a/8a還可以設(shè)計(jì)成如在圖2、3和4的實(shí)施例中所描述的那樣。
圖7示出了圖6中部分構(gòu)圖部件交換裝置1的側(cè)視圖。很清楚的是，在該實(shí)施例中，裝載單元7和卸載單元8集成在單個(gè)裝載/卸載單元7/8中。但是保持裝置9和10布置在不同的高度。在圖7中，還示出了該線型傳輸裝置6?？梢钥闯觯休d裝置11和構(gòu)圖部件支撐件的底部也布置在不同的高度。這樣，為了能夠在裝載/卸載單元7/8和構(gòu)圖部件支撐件以及承載裝置11之間進(jìn)行所有的交換，裝載/卸載單元7/8必須沿水平方向在四個(gè)位置之間移動(dòng)，由此保持裝置9、10也必須布置在不同的高度。
這樣，在承載裝置11和卸載保持裝置10之間交換構(gòu)圖部件3的過(guò)程中，裝載/卸載單元7/8將處于其最低位置。在承載裝置11和裝載保持裝置9之間交換構(gòu)圖部件3的過(guò)程中，裝載/卸載單元7/8處于第二低的位置。此外，在構(gòu)圖部件支撐件2和裝載保持裝置9之間交換構(gòu)圖部件3的過(guò)程中，裝載/卸載單元7/8處于其最高位置。在構(gòu)圖部件支撐件2和卸載保持裝置10之間交換構(gòu)圖部件3的過(guò)程中，裝載/卸載單元7/8處于第二高的位置。因此當(dāng)裝載/卸載單元7/8從圖4的左側(cè)移動(dòng)到右側(cè)時(shí)其高度增加。
在本申請(qǐng)中，構(gòu)圖部件所被布置的不同高度都被認(rèn)為是處于基本相同的平面中。
在上文中，構(gòu)圖部件交換裝置被描述成在構(gòu)圖部件支撐件上交換構(gòu)圖部件。這種交換裝置也可以用于其它可動(dòng)對(duì)象，其中，用于交換所需的時(shí)間是非常重要的，例如在光刻裝置的時(shí)間路徑中是關(guān)鍵的。該交換裝置例如可以用于在基底站和基底支撐件之間交換基底。這樣的實(shí)施例認(rèn)為是落入本發(fā)明的范圍中。
在該申請(qǐng)中描述的交換裝置還特別適用于交換該投影系統(tǒng)中的可交換部件，如透鏡光瞳濾光器和/或透鏡元件。該投影系統(tǒng)的這些部件可以在支撐件(用于在光束投影過(guò)程中支撐該部件)和站(其中保持有其它可交換部件)之間進(jìn)行交換，可以通過(guò)交換這些可交換部件來(lái)獲得不同特性的投影系統(tǒng)。本發(fā)明的交換裝置還可以用作光刻裝置中的單個(gè)裝置，其既用于交換構(gòu)圖部件也用于交換投影系統(tǒng)中的可交換部件。
盡管在本申請(qǐng)中可以具體參考該光刻裝置在IC制造中的使用，但是應(yīng)該理解這里描述的光刻裝置可能具有其它應(yīng)用，例如，用于制造集成光學(xué)系統(tǒng)、用于磁疇存儲(chǔ)器的引導(dǎo)和檢測(cè)圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，在這種可替換的用途范圍中，這里任何術(shù)語(yǔ)“晶片”或者“芯片模(die)”的使用應(yīng)認(rèn)為分別可以與更上位的術(shù)語(yǔ)“基底”或“靶部”同義。在曝光之前或之后，可以在例如勻膠顯影機(jī)(track，通常將抗蝕劑層施加于基底上并將已曝光的抗蝕劑顯影的一種工具)、計(jì)量工具和/或檢驗(yàn)工具中對(duì)這里提到的基底進(jìn)行處理。在可應(yīng)用的地方，這里的公開(kāi)內(nèi)容可應(yīng)用于這種和其他基底處理工具。另外，例如為了形成多層IC，可以對(duì)基底進(jìn)行多次處理，因此這里所用的術(shù)語(yǔ)基底也可以指已經(jīng)包含多個(gè)已處理的層的基底。
盡管本發(fā)明的實(shí)施例的使用在上文中已經(jīng)具體參考了光學(xué)光刻情景，但是應(yīng)該理解本發(fā)明可以用于其它應(yīng)用，例如壓印光刻法，在本申請(qǐng)?jiān)试S的地方，本發(fā)明不限于光學(xué)光刻法。在壓印光刻法中，構(gòu)圖部件中的外形限定了在基底上形成的圖案。構(gòu)圖部件的外形還可以擠壓到施加于基底上的抗蝕劑層中，并在基底上通過(guò)施加電磁輻射、熱、壓力或上述方式的組合使抗蝕劑固化。在抗蝕劑固化之后，可以將構(gòu)圖部件從抗蝕劑中移出而在其中留下圖案。
這里使用的術(shù)語(yǔ)“輻射”和“光束”包含所有類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如具有大約365，248，193，157或者126nm的波長(zhǎng))和遠(yuǎn)紫外(EUV)輻射(例如具有5-20nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng))，以及粒子束，例如離子束或電子束。
在本申請(qǐng)?jiān)试S的地方，術(shù)語(yǔ)“透鏡”可以表示各種類型的光學(xué)部件中的任意一種或組合，包括折射光學(xué)部件、反射光學(xué)部件、磁性光學(xué)部件、電磁光學(xué)部件和靜電光學(xué)部件。
盡管上面已經(jīng)描述了本發(fā)明的具體實(shí)施例，但是應(yīng)該理解，可以以不同于所述的其它方式來(lái)實(shí)施本發(fā)明。例如，本發(fā)明可以采取計(jì)算機(jī)程序的形式，該計(jì)算機(jī)程序包含描述了上面所公開(kāi)方法的一個(gè)或多個(gè)序列的機(jī)器可讀指令，或者包含其中存儲(chǔ)有這種計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)(例如半導(dǎo)體存儲(chǔ)器、磁盤(pán)或光盤(pán))。
上面的描述是為了說(shuō)明性的而非限制性的。因此，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)顯而易見(jiàn)的是，在不脫離下面描述的權(quán)利要求的范圍的條件下，可以對(duì)所描述的發(fā)明進(jìn)行各種修改。
權(quán)利要求
1.一種光刻裝置，包括配置成調(diào)節(jié)輻射光束的照明系統(tǒng)；配置成將構(gòu)圖部件支撐在投影平面中的構(gòu)圖部件支撐件，該構(gòu)圖部件配置成在該輻射光束的橫截面中賦予圖案，從而形成圖形化的輻射光束；配置成保持基底的基底臺(tái)；配置成將該圖形化輻射光束投影到該基底的靶部的投影系統(tǒng)；和交換裝置，其配置成與可交換對(duì)象支撐件交換可交換對(duì)象，該可交換對(duì)象支撐件配置成在對(duì)該圖形化輻射光束進(jìn)行投影的過(guò)程中保持所述可交換對(duì)象，所述交換裝置包括裝載單元和卸載單元，所述裝載單元和所述卸載單元每一個(gè)都具有用于保持可交換對(duì)象的保持裝置，所述裝載單元的保持裝置和所述卸載單元的保持裝置定位成基本上彼此相鄰，并配置成將可交換對(duì)象保持在這樣的平面中，該平面基本上平行于在對(duì)圖形化輻射光束進(jìn)行投影的過(guò)程中保持在該可交換對(duì)象支撐件中的可交換對(duì)象所處的平面；其中，所述可交換對(duì)象支撐件配置成與每一所述保持裝置交換可交換對(duì)象。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述可交換對(duì)象是構(gòu)圖部件，所述可交換對(duì)象支撐件是所述構(gòu)圖部件支撐件。
3.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述可交換對(duì)象是該投影系統(tǒng)的可交換部件，所述可交換部件包括透鏡光瞳濾光器或透鏡元件，所述可交換對(duì)象支撐件是用于投影系統(tǒng)的所述部件的支撐件。
4.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置配置成交換所述構(gòu)圖部件支撐件中的構(gòu)圖部件，以及交換在投影系統(tǒng)的所述部件的支撐件中的所述投影系統(tǒng)的可交換部件。
5.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述裝載單元的保持裝置和所述卸載單元的保持裝置配置成將所述可交換對(duì)象保持在基本相同的平面中。
6.如權(quán)利要求5所述的光刻裝置，其中，所述平面與所述投影平面基本一致。
7.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述可交換對(duì)象支撐件配置成從所述卸載單元上方的位置移動(dòng)到所述裝載單元上方的位置，所述裝載單元和所述卸載單元均配置成在垂直于要交換的可交換對(duì)象的主平面的方向上至少是移動(dòng)所述保持裝置。
8.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置配置成使所述卸載單元和所述裝載單元從所述卸載單元定位在可交換對(duì)象支撐件下方時(shí)的位置移動(dòng)到所述裝載單元定位在所述可交換對(duì)象支撐下方時(shí)的位置，所述裝載單元和所述卸載單元均配置成在垂直于要交換的可交換對(duì)象的主平面的方向上至少是移動(dòng)所述保持裝置。
9.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述裝載單元和卸載單元集成在單個(gè)裝載/卸載單元中。
10.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置包括第二裝載單元和第二卸載單元。
11.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置包括線型傳輸單元，其配置成將一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象傳輸?shù)剿鲅b載單元和/或卸載單元以及從所述裝載單元和/或卸載單元傳輸一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象。
12.如權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置包括第二裝載單元和第二卸載單元，所述交換裝置包括傳輸單元，該傳輸單元配置成將一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象傳輸?shù)剿鲅b載單元和卸載單元中的至少一個(gè)，并且從所述裝載單元和卸載單元中的至少一個(gè)傳輸一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象，以及將一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象傳輸?shù)剿龅诙b載單元和卸載單元中的至少一個(gè)，并且從所述第二裝載單元和卸載單元中的至少一個(gè)傳輸一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象。
13.如權(quán)利要求12所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置包括第二線型傳輸單元，其配置成將一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象傳輸?shù)剿鲅b載單元和卸載單元中的至少一個(gè)，并且從所述裝載單元和卸載單元中的至少一個(gè)傳輸一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象，以及將一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象傳輸?shù)剿龅诙b載單元和卸載單元中的至少一個(gè)，并且從所述第二裝載單元和卸載單元中的至少一個(gè)傳輸一個(gè)或多個(gè)可交換對(duì)象。
14.如權(quán)利要求11所述的光刻裝置，其中，所述交換裝置包括自動(dòng)機(jī)械，用于在所述傳輸單元和一個(gè)或多個(gè)站之間交換可交換對(duì)象。
15.如權(quán)利要求11所述的光刻裝置，其中，所述傳輸單元包括配置成使可交換對(duì)象以期望的方向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)單元。
16.一種器件制造方法，包括將圖案從構(gòu)圖部件轉(zhuǎn)印到基底上，使用交換裝置交換可交換對(duì)象，在投影階段中轉(zhuǎn)印所述圖案的過(guò)程中，所述可交換對(duì)象被支撐在支撐件上，所述交換過(guò)程包括沿基本上垂直于所述可交換對(duì)象的主平面的方向移動(dòng)卸載單元；將所述可交換對(duì)象從所述支撐件轉(zhuǎn)移到所述卸載單元的保持位置；在所述轉(zhuǎn)移過(guò)程之后，將所述支撐件定位在裝載單元上方，該裝載單元保持有要被裝載到所述支撐件上的可交換對(duì)象，所述裝載單元與卸載單元基本相鄰地定位；以及將所述裝載單元沿基本上垂直于所述支撐件的主平面的方向朝著所述支撐件移動(dòng)，從而在裝載單元和支撐件之間交換要被裝載到所述支撐件上的所述可交換對(duì)象。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，通過(guò)將所述支撐件從所述卸載單元上方的位置移動(dòng)到所述裝載單元上方的位置，從而將所述支撐布置在所述裝載單元上方。
18.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，通過(guò)將所述卸載單元和裝載單元從所述卸載單元定位在所述支撐件下方時(shí)的位置移動(dòng)到所述裝載單元定位在所述支撐件下方時(shí)的位置，從而將所述支撐件布置在所述裝載單元上方。
全文摘要
一種光刻裝置，包括配置成調(diào)節(jié)輻射光束的照明系統(tǒng)，將構(gòu)圖部件支撐在投影平面中的構(gòu)圖部件支撐件，該構(gòu)圖部件對(duì)輻射光束構(gòu)圖，保持基底的基底臺(tái)；將圖形化光束投影到基底上的投影系統(tǒng)，和交換裝置，該交換裝置用于在投影過(guò)程中與保持可交換對(duì)象的可交換對(duì)象支撐件交換可交換對(duì)象。該交換裝置包括裝載單元和卸載單元，每一裝載單元和卸載單元都具有保持可交換對(duì)象的保持裝置。該保持裝置大體上彼此相鄰地定位并配置成使可交換對(duì)象保持在與一平面大體上平行的平面中，其中可交換對(duì)象在投影過(guò)程中保持在可交換對(duì)象支撐件中。該可交換對(duì)象支撐件與每一保持裝置交換可交換對(duì)象。
文檔編號(hào)H01L21/027GK1987662SQ200610170159
公開(kāi)日2007年6月27日 申請(qǐng)日期2006年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月23日
發(fā)明者E·R·盧普斯特拉, B·A·J·盧蒂克休斯 申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司