專(zhuān)利名稱(chēng)：用來(lái)消除oled器件中的干涉條紋的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)。具體來(lái)說(shuō)，本發(fā)明涉及用來(lái)消除OLED中的牛頓環(huán)的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
被厚度不定的空氣間隙分隔的具有不同曲率的兩個(gè)玻璃表面之間反射光的組合會(huì)產(chǎn)生被稱(chēng)為牛頓環(huán)的可見(jiàn)干涉圖案。類(lèi)似地，在具有兩個(gè)近似平行的面的玻璃基板中，光線(xiàn)可能通過(guò)第一面進(jìn)入玻璃基板，并且通過(guò)在玻璃基板的第一面反射而產(chǎn)生第一反射。相同的光線(xiàn)還會(huì)在玻璃基板的第二面反射，產(chǎn)生第二反射。當(dāng)?shù)谝环瓷涔夂偷诙瓷涔庖韵嚅L(zhǎng)的方式(即相互一致和疊加，或者相長(zhǎng)干涉)組合的時(shí)候，從玻璃基板的第一面觀察，可以看到產(chǎn)生了由相長(zhǎng)干涉形成的亮區(qū)。當(dāng)?shù)谝环瓷涔夂偷诙瓷涔庖韵嘞姆绞?即相減或相消干涉)組合的時(shí)候，從玻璃基板第一面可以觀察到出現(xiàn)暗區(qū)。當(dāng)環(huán)境光射向玻璃基板的時(shí)候，相長(zhǎng)干涉和相消干涉產(chǎn)生了一系列交替的亮環(huán)和暗環(huán)，在本文中將其統(tǒng)稱(chēng)為牛頓環(huán)。這些環(huán)是兩個(gè)反射表面之間等光程差的輪廓線(xiàn)。
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)器件包括OLED和置于兩個(gè)薄玻璃基板之間的薄透明電極材料(即有源發(fā)光材料)。新開(kāi)發(fā)的一類(lèi)平板顯示器技術(shù)使用OLED器件在顯示器中獲得優(yōu)良的圖像品質(zhì)。所述有源發(fā)光材料(active light emittingmaterial)很容易被包括水和氧氣在內(nèi)的污染物破壞。因此，必須將所述器件的周邊密封起來(lái)，以保持無(wú)水無(wú)氧的環(huán)境，這是因?yàn)樗鲇性窗l(fā)光材料會(huì)被濃度為百萬(wàn)分之一(ppm)的這些污染物破壞。所述密封的環(huán)境經(jīng)常被稱(chēng)為單元。
如果所述密封在顯示器的預(yù)期壽命內(nèi)氣密性不夠，通常會(huì)在單元內(nèi)放置干燥劑?？稍谑袌?chǎng)上購(gòu)得的密封劑體系通常無(wú)法在顯示器的使用壽命內(nèi)自始至終提供密封效果。由于使用不透明的干燥劑，要求OLED發(fā)射的光透射過(guò)電子驅(qū)動(dòng)器的基質(zhì)和電極，從OLED器件的底面射出(即“底部發(fā)射”)。持久的密封將無(wú)需干燥劑，因此透射過(guò)的光可以透過(guò)透明的覆蓋基板(即頂部發(fā)射)，以保持圖像的亮度和清晰度。例如使用無(wú)機(jī)玻璃料的密封件方案使得OLED顯示器可以使用頂部發(fā)射OLED，這是由于密封的OLED無(wú)需使用干燥劑。
環(huán)境光會(huì)在OLED的覆蓋基板上產(chǎn)生牛頓環(huán)。由于從OLED單元內(nèi)表面反射的環(huán)境光的相長(zhǎng)干涉/相消干涉，OLED的覆蓋板上會(huì)出現(xiàn)可見(jiàn)的干涉條紋。在高折射率介質(zhì)和低折射率介質(zhì)的界面處(例如空氣與OLED的界面)反射的光會(huì)發(fā)生180度的相位反轉(zhuǎn)。因此，覆蓋基板的內(nèi)表面反射的光可能會(huì)與OLED表面反射的光組合起來(lái)，產(chǎn)生干涉條紋。
為了使器件盡可能薄，常規(guī)基板之間的間隙設(shè)定為小于100微米，近來(lái)設(shè)定為小于15微米。在這樣的間隙范圍內(nèi)，如果間隙距離不均勻，會(huì)形成牛頓環(huán)干涉圖案，并且在環(huán)境光之下可見(jiàn)。商業(yè)上的壓力不斷地需要制造更薄的器件。隨著空氣間隙的厚度減小，要防止牛頓環(huán)的出現(xiàn)就更加困難。
目前解決干涉條紋問(wèn)題的方法包括在底部發(fā)射器件中不留空氣間隙，以及留下大于熒光相干長(zhǎng)度、大于100微米的更大的空氣間隙。前者會(huì)造成亮度和分辨率降低，后者會(huì)增大器件密封的表面積，從而降低器件的氣密性和使用壽命。因此，如果能夠發(fā)現(xiàn)其它的可以減小或消除OLED器件中的牛頓環(huán)的方法將會(huì)是很有益的。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，將散射層設(shè)置于有機(jī)發(fā)光器件中以消除或削弱牛頓環(huán)。
在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明涉及不會(huì)出現(xiàn)牛頓環(huán)、或顯示出顯著減弱的牛頓環(huán)圖案的發(fā)光顯示器器件。根據(jù)本發(fā)明，將散射層設(shè)置在發(fā)光器件覆蓋基板的內(nèi)表面上，以減少環(huán)境光的內(nèi)部反射和減弱牛頓環(huán)的形成。散射層消除了肉眼可見(jiàn)的等光程的連續(xù)輪廓線(xiàn)，代之以在常規(guī)觀察條件下無(wú)法檢測(cè)到的不連續(xù)小干涉區(qū)。
在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明包括發(fā)光器件，該放光器件包括能夠接收光線(xiàn)的覆蓋基板，該覆蓋基板具有第一表面和與所述第一表面相反的第二表面；支承基板；位于所述覆蓋基板和支承基板之間的發(fā)光元件，所述發(fā)光元件朝向位于第一基板和發(fā)光元件之間的散射層的方向發(fā)光。根據(jù)本發(fā)明，散射層散射入射光，從而減輕或消除了第二表面上的牛頓環(huán)圖案的形成。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方式中，在OLED器件的覆蓋基板中形成了漫反射條件。這種漫反射條件使得發(fā)光元件產(chǎn)生的任意的光發(fā)生漫反射。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式中，提供了一種通過(guò)將散射層設(shè)置在頂部發(fā)射OLED器件中以消除頂部發(fā)射OLED器件產(chǎn)生的牛頓環(huán)，同時(shí)保持器件的亮度和分辨率品質(zhì)的方案。
在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明使內(nèi)部反射和透射的環(huán)境光散射，通過(guò)散射使得OLED器件中的反射角隨機(jī)化，從而干擾了反射光的相干疊加。
在另一個(gè)實(shí)施方式中，通過(guò)使OLED覆蓋基板的內(nèi)、外表面中的一個(gè)或兩個(gè)粗糙化，在OLED中提供散射層。
在一個(gè)實(shí)施方式中，通過(guò)在覆蓋基板的兩個(gè)表面上設(shè)置散射層，消除了OLED中的鏡面反射或炫光。例如在一個(gè)實(shí)施方式中，可以對(duì)OLED的覆蓋基板的兩個(gè)表面進(jìn)行粗糙化。
本發(fā)明的其它方面一部分可見(jiàn)于以下的詳述、附圖和權(quán)利要求書(shū)，一部分可以通過(guò)詳述推知，或者可通過(guò)如下文所述實(shí)施本發(fā)明而獲得。通過(guò)所附權(quán)利要求書(shū)中特別指出的要素和組合可以實(shí)現(xiàn)或達(dá)成下述優(yōu)點(diǎn)。應(yīng)當(dāng)理解以上概述和以下的詳述都僅是示例性的，不對(duì)所述的本發(fā)明構(gòu)成限制。


附圖結(jié)合入說(shuō)明書(shū)中，構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分，圖中顯示了本發(fā)明的一些方面，附圖與說(shuō)明一起用來(lái)解釋本發(fā)明的原理，而不對(duì)其構(gòu)成限制。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，具有散射層()的發(fā)光器件的示意圖。
圖2是圖1所示散射層50的特寫(xiě)圖。
圖3是具有透明顆粒的散射層50的特寫(xiě)圖。
具體實(shí)施例方式
根據(jù)本發(fā)明，為頂部發(fā)射OLED器件提供了散射層，以散射發(fā)光元件產(chǎn)生的光，從而削弱或消除牛頓環(huán)。所述散射層可設(shè)置在OLED的覆蓋表面內(nèi)，設(shè)置在OLED的覆蓋表面外，或者同時(shí)設(shè)置在內(nèi)表面和外表面上。根據(jù)本發(fā)明，設(shè)置所述散射層，使透射過(guò)覆蓋玻璃的光不會(huì)被散射層所削弱。在一個(gè)實(shí)施方式中，對(duì)散射層的表面形貌和散射能力進(jìn)行表征，使散射層具有粗糙的表面。另外，本文揭示了各種設(shè)置粗糙化的表面的方法。根據(jù)本發(fā)明完成的OLED器件可以用于各種用途，例如移動(dòng)電話(huà)、電視等。
根據(jù)本發(fā)明，完成了一種散射層，該散射層可以削弱由環(huán)境光造成的所有干涉條紋。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述散射層是通過(guò)以下方式實(shí)現(xiàn)的將表面糙度控制在可行有效的最低要求，同時(shí)將透射損失和分辨率損失減至最小。由此，OLED覆蓋玻璃的內(nèi)表面的表面糙度定義為能夠得到一種漫反射條件，這種漫反射條件可以消除可觀察到的干涉，同時(shí)不會(huì)減少OLED光的直接透射，也不會(huì)影響圖像的亮度和分辨率。
在一個(gè)實(shí)施方式中，一種對(duì)原始玻璃覆蓋板進(jìn)行處理、以提供一定的表面糙度的方法能夠消除空氣間隙小于或等于60微米的玻璃/玻璃可見(jiàn)干涉條紋的產(chǎn)生，這能夠削弱牛頓環(huán)的形成效果，同時(shí)對(duì)透射的影響最小。
根據(jù)本發(fā)明的定義，能夠消除或削弱牛頓環(huán)的散射層具有以下特征在160微米×120微米的區(qū)域上測(cè)得的糙度(RMS)大于0.02微米，且小于0.5微米；總透射率大于91％，漫透射率小于5％；自相關(guān)/自協(xié)方差寬度為20-300微米。
根據(jù)本發(fā)明，所述散射層的粗糙表面形貌對(duì)透射過(guò)OLED的覆蓋板的環(huán)境光線(xiàn)產(chǎn)生了漫射的效果，還對(duì)來(lái)自器件內(nèi)表面的光產(chǎn)生了漫反射效果。這樣做消除了內(nèi)表面反射光以相長(zhǎng)和相消交替的方式重新組合(、產(chǎn)生連續(xù)干涉條紋的效果)的可能性。另外，通過(guò)在所述覆蓋板的兩個(gè)表面上都設(shè)置散射層，可以更加有益地消除由顯示器外表面射來(lái)的環(huán)境光之反射光的鏡面反射或炫光。
圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的包括散射層的發(fā)光器件。圖中顯示了OLED器件10。所述OLED器件10包括覆蓋基板20。所述覆蓋基板20包括頂面30和底面40。圖中顯示了與覆蓋基板20的底面40相鄰接的散射層50。圖中顯示在散射層50和發(fā)光元件70之間具有空氣間隙60。支承基板80支承著發(fā)光元件70。圖中顯示發(fā)光元件70產(chǎn)生入射光線(xiàn)102，所述入射光線(xiàn)102在覆蓋基板20的頂面和底面、散射層50和空氣間隙60反射的時(shí)候產(chǎn)生反射光線(xiàn)104。圖中顯示了密封件90。所述密封件可以用玻璃料通過(guò)激光密封法制備。美國(guó)專(zhuān)利第6,998,776號(hào)(該專(zhuān)利參考結(jié)合入本文)詳細(xì)描述了可根據(jù)本發(fā)明使用的方法。
圖2是圖1所示的散射層50的特寫(xiě)圖。在圖2中，顯示覆蓋基板20與散射層50相鄰接。入射光102射向散射層50，然后產(chǎn)生反射光104。請(qǐng)注意，由于散射層50的緣故，反射光104朝著向下進(jìn)入OLED器件以及向上背離OLED器件的各種方向分散開(kāi)。應(yīng)當(dāng)注意，幾乎沒(méi)有發(fā)生均勻偏轉(zhuǎn)的光。從理論上來(lái)說(shuō)，反射之后各光束沿不同的路徑傳播。
可以通過(guò)各種方法來(lái)形成散射層50，例如對(duì)玻璃的表面進(jìn)行粗糙化，在覆蓋基板上沉積透明顆粒，添加涂層等。例如，圖3是覆蓋基板20和用透明顆粒形成的散射層50的特寫(xiě)圖。如圖3所示，散射層50是通過(guò)將透明顆?；颉盁熁摇睙Y(jié)到玻璃上而形成的。應(yīng)當(dāng)理解，可以用許多種方法和步驟形成散射層50，任意能夠獲得本發(fā)明所定義的特征的散射層都包括在本發(fā)明范圍之內(nèi)。
圖1，2和3都顯示了散射層50。散射層可定義為能夠削弱或消除表面反射光以相長(zhǎng)和相消的交替方式重新組合的表面。所述散射層50具有粗糙的表面形貌，可以對(duì)透射通過(guò)OLED的覆蓋板的入射光產(chǎn)生漫射效果，而且對(duì)來(lái)自O(shè)LED的內(nèi)表面的光具有漫反射效果。另外，散射層50還有益于通過(guò)使來(lái)自O(shè)LED外表面的環(huán)境光線(xiàn)沿不同的方向重新取向，避免相長(zhǎng)和相消的干涉圖案，從而消除這些光線(xiàn)造成的鏡面反射或炫光。
根據(jù)本發(fā)明，所形成的散射層具有以下特征在160微米×120微米(約λ/4的長(zhǎng)度范圍(length field))的面積上測(cè)得，糙度(RMS)大于0.02微米，且小于0.5微米；總透射率大于91％，漫透射率小于5％(在546納米處測(cè)得)，其中總透射率的光被鏡面反射(即完全反射)；測(cè)得的漫透射率為漫射+霾(haze)(霾是小角散射)；自相關(guān)(即自協(xié)方差)寬度為20-300微米。所述自相關(guān)(即自協(xié)方差)寬度是二維自相關(guān)函數(shù)的第一次歸零交叉，此時(shí)表面波長(zhǎng)的頻率、表面峰和谷，或者粗糙表面上形成的結(jié)構(gòu)都高到足以避免散射，而且低到足以避免被觀察到。
根據(jù)本發(fā)明，所述表面的特征是具有表面糙度。從理論上來(lái)說(shuō)，表面糙度可定義為表面上的特征，其表示峰和谷。這些峰和谷是可以變化的，有些是尖銳的峰和谷，可以想像為一些山峰，或者可以是更緩和的峰和谷，可以想像為一些丘陵。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，在160微米×120微米(約λ/4的長(zhǎng)度范圍)的面積上測(cè)得，形成的散射層的糙度(RMS)大于0.02微米，且小于0.5微米。所述表面糙度使用峰至谷(Peak-to-Valley)(PV)測(cè)量法、糙度平均值(RA)和/或均方根(RMS)衡量。表面的不均勻性質(zhì)(即表面糙度)使光線(xiàn)沿各種方向偏轉(zhuǎn)，削弱或消除了相長(zhǎng)干涉。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述表面糙度可以不是隨機(jī)的。表面具有能夠阻止相長(zhǎng)干涉的表面特征。根據(jù)本發(fā)明，糙度使用干涉法測(cè)量。
PV值是最高的表面特征和最低的表面特征之差。RMS在數(shù)學(xué)上定義為表面偏差的平方的均值的平方根。RMS值提供了與PV相同的信息，但是由于RMS本身對(duì)表面特征取平均，因此可以更精細(xì)地表示出總體的表面質(zhì)量。例如，大部分表面上大體平坦、但是具有一兩個(gè)極高和極低的點(diǎn)的鏡片會(huì)具有高PV值和低RMS值。PV值和RMS值之間的關(guān)系取決于表面結(jié)構(gòu)。RMS通常比PV小四倍，但是會(huì)隨著不同的表面而變化。
根據(jù)本發(fā)明形成的散射層同時(shí)用總透射率和漫透射率來(lái)量度?？偼干渎屎吐干渎实臏y(cè)量使用分光光度計(jì)來(lái)進(jìn)行?？偼干渎适峭高^(guò)介質(zhì)的初始光源的量。在一個(gè)實(shí)施方式中，總透射率大于91％，漫透射率小于5％(例如在546納米測(cè)得)。總透射率是定義散射層處光的全反射的鏡面反射量度。測(cè)得的漫透射為光的漫透射+霾(即霾是小角散射)。
透射率測(cè)量在750-350納米的雙光束分光光度計(jì)上進(jìn)行，用150毫米直徑積分球檢測(cè)器測(cè)定。使用以下設(shè)備參數(shù)光譜帶寬-3.0納米掃描速度-120納米/分孔徑-無(wú)球材料-Spectralon使用的球檢測(cè)器在球的背后具有兩個(gè)口，一個(gè)口用于參比光束，一個(gè)口用于樣品光束。為了進(jìn)行總透射率測(cè)量，這些口保持在球上，所述樣品置于球進(jìn)口處。所有透射過(guò)樣品向前透射的光都被球收集。在進(jìn)行漫透射測(cè)量的時(shí)候，取下樣品口阻擋物，使得沿軸線(xiàn)的光通過(guò)所述口進(jìn)入光陷獲器。任何偏離軸的散射光(即漫透射光)被球收集。所述光陷獲器允許一些光返回球中，以進(jìn)行零點(diǎn)偏移測(cè)量，從樣品的漫透射中減去。
在一個(gè)實(shí)施方式中，所述散射層包括具有高點(diǎn)和低點(diǎn)(即峰和谷)的形貌。這些峰和谷的頻率和強(qiáng)度可以通過(guò)頻率測(cè)量來(lái)表征。在一個(gè)實(shí)施方式中，使用自相關(guān)和自協(xié)方差來(lái)表征散射層的頻率形貌。在一個(gè)實(shí)施方式中，自相關(guān)(即自協(xié)方差)寬度為20-300微米。該寬度是二維自相關(guān)函數(shù)的第一次歸零交叉。其中粗糙表面上形成的結(jié)構(gòu)的頻率高到足以避免散射，又低到足以避免被觀察到。
根據(jù)本發(fā)明，可通過(guò)對(duì)覆蓋板的表面進(jìn)行以下操作而形成散射層(1)沉積小顆粒，(2)通過(guò)噴砂處理對(duì)表面進(jìn)行機(jī)械粗糙化，(3)磨料研磨，或者(4)化學(xué)蝕刻法。另外，(5)可以為所述覆蓋板施涂具有合適的微管織構(gòu)或者包含細(xì)小的散射顆粒的分散體的聚合物光學(xué)膜以獲得相同的結(jié)果。在各個(gè)實(shí)施方式中，散射層具有起伏的形貌，該形貌具有本文所限定的特征。
在一個(gè)實(shí)施方式中，使用化學(xué)蝕刻來(lái)形成散射層?？梢允褂迷S多的方法對(duì)覆蓋板進(jìn)行化學(xué)蝕刻并形成散射層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，使用氟基溶劑形成散射層。例如，以150毫升/容器的量制備氟化氫銨(NH4F-HF)。使用兩種2″×2″的顯示器玻璃樣品，例如1737或Eagle 2000，這些名稱(chēng)均為Corning的商標(biāo)。容器包含28重量％蝕刻劑+72重量％H2O。將這些樣品置于所述容器中，然后在設(shè)定的時(shí)間從容器中抽出。將樣品從容器中取出之后，用H2O將樣品上的薄膜清除。
下表I提供了使用氟化氫銨化學(xué)進(jìn)行蝕刻的各種樣品的數(shù)據(jù)

在第二個(gè)例子中，使用氟化氫(HF)作為化學(xué)蝕刻劑。將尺寸為2″×2″的樣品浸入HF中一段預(yù)定的時(shí)間。制備HF49％+去離子H2O、pH＝1的溶液。如果將玻璃浸沒(méi)30秒以上，表面會(huì)變得無(wú)光澤。然后可將無(wú)光澤的層淋洗除去。
下表II提供了使用氟化氫進(jìn)行化學(xué)蝕刻的各種樣品的數(shù)據(jù)

根據(jù)本發(fā)明，可通過(guò)在基板上沉積小顆粒而形成散射層。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述小顆粒由熱解法二氧化硅顆粒形成。熱解法二氧化硅是通過(guò)火焰水解法形成的致密的二氧化硅產(chǎn)品，具有名義上的球形初級(jí)顆粒，還有次級(jí)顆粒的軸向鏈。通常用每克的表面積來(lái)表征，商用產(chǎn)品中為50-300米2/克。300米2/克的初級(jí)顆粒名義上為直徑10納米的球體，但是實(shí)際上以許多顆粒(約100個(gè))鏈的形式存在。
在一個(gè)實(shí)施方式中，使用熱解法二氧化硅分散體在玻璃表面上提供亞-單層涂層?！胺逯凉取辈诙仍谧钚≈堤幱贸跫?jí)粒度修正，最大值處用次級(jí)粒度/聚集體改良。平均糙度用粒度和表面覆蓋度修正，在理想的涂敷中，在10-90％之間的某覆蓋度可以得到最大的效果。為了達(dá)到這一點(diǎn)，將低濃度的顆粒提供到濕潤(rùn)性強(qiáng)的溶劑中。在一個(gè)實(shí)施方式中，顆粒對(duì)玻璃表面的親合性要大于對(duì)水相的親合性，因此溶劑使顆粒濃縮至粘附在表面。在一個(gè)實(shí)施方式中，可以將水與表面活性劑一起使用。水可能是優(yōu)選的，這是由于可以改良酸堿化學(xué)性質(zhì)，在溶液中提供粘合劑Si(OH)4，以改進(jìn)顆粒的結(jié)合。也可有效地使用助溶劑。一旦膜干燥，便對(duì)其進(jìn)行熱處理以除去任意的表面活性劑，還有可能要通過(guò)燒結(jié)使顆粒結(jié)合在表面上。前者的溫度約為250℃，后者可高達(dá)基板玻璃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg。除了煙塵的分散體以外，還可使用硅膠。根據(jù)本發(fā)明，可通過(guò)對(duì)基板表面進(jìn)行機(jī)械粗糙化而形成散射層。例如，可采用Blanchard研磨、表面研磨和研磨機(jī)技術(shù)。Blanchard研磨使用玻璃樣品。對(duì)圓形金屬板上蠟。在加熱板上涂敷蠟，將基板粘合在熱板上，然后進(jìn)行冷卻。
將所述金屬板連接在磁鐵上，啟動(dòng)磁鐵，使得所述樣品連接在Blanchard臺(tái)上，該Blanchard臺(tái)是圓形的，其半徑大于砂輪。兩個(gè)表面互相平行，都進(jìn)行旋轉(zhuǎn)砂輪沿著與Blanchard臺(tái)相反的方向旋轉(zhuǎn)。在研磨樣品的時(shí)候?qū)⒗鋮s劑噴灑在樣品上。標(biāo)準(zhǔn)輪為粗磨，通常粒度為220。通常必須使用研磨機(jī)對(duì)樣品進(jìn)行精細(xì)加工。砂輪中嵌有不同尺寸的用金屬或樹(shù)脂結(jié)合的金剛石。在另一個(gè)實(shí)施方式中，可采用表面研磨。在進(jìn)行表面研磨的情況下，依照與Blanchard研磨所用樣品相同的樣品。將金屬板固著于臺(tái)子上，當(dāng)砂輪沿著與臺(tái)子呈90°的角度旋轉(zhuǎn)的同時(shí)使臺(tái)子來(lái)回運(yùn)動(dòng)。當(dāng)臺(tái)子橫向移動(dòng)的同時(shí)，砂輪旋轉(zhuǎn)并下降。在砂輪旋轉(zhuǎn)的時(shí)候，將水噴在砂輪上。
在另一個(gè)實(shí)施方式中進(jìn)行精研。精研使用水平旋轉(zhuǎn)的平坦的圓形鋼或鐵表面進(jìn)行，將不同的松散的研磨介質(zhì)(例如與水混合的二氧化鈰(CeO2))插入所述輪和被研磨的表面之間。除了不同的松散的研磨介質(zhì)以外，還有表面精整產(chǎn)品，例如用磨粒和樹(shù)脂浸漬的非織造尼龍網(wǎng)?？梢詫⑦@些產(chǎn)品固定在與玻璃基板相鄰放置的精研輪上，從而在玻璃基板上形成散射層。可以使用不同種類(lèi)的磨料，例如粘合的磨料和涂敷的磨料。例如可使用二氧化鋯氧化鋁。
在另一個(gè)實(shí)施方式中，可以施加具有合適的微觀結(jié)構(gòu)的聚合物光學(xué)薄膜散射膜也可包含細(xì)小的散射顆粒的分散體，它們可以施加到覆蓋板上以獲得相同的結(jié)果。
可以通過(guò)將細(xì)小顆粒沉積到覆蓋板上來(lái)形成散射層。這可通過(guò)以下方式完成將較低軟化點(diǎn)的玻璃顆粒的稀分散體噴灑到基板上，或者可以通過(guò)干態(tài)靜電噴灑來(lái)噴涂粉末，然后將基板加熱至高于沉積的玻璃的軟化點(diǎn)的溫度來(lái)結(jié)合顆粒。
可以將具有合適的微觀結(jié)構(gòu)或者包含細(xì)小顆粒的分散體的聚合物光學(xué)膜施涂到覆蓋基板上，以獲得相同的結(jié)果?？赏ㄟ^(guò)噴灑或噴墨技術(shù)施涂熱凝固、化學(xué)凝固或紫外凝固的聚合物的細(xì)小液體，以獲得所需的表面糙度。包含無(wú)機(jī)顆粒的聚合物連續(xù)膜也可消除干涉條紋。這些膜可通過(guò)噴涂到基板上而形成，或者可以將預(yù)先形成的膜施加到基板上。
包含多個(gè)相的共聚物膜形成了足以削弱和/或消除牛頓環(huán)的結(jié)構(gòu)。這些膜在化學(xué)蝕刻或等離子蝕刻中還表現(xiàn)出非均勻性，會(huì)產(chǎn)生與玻璃化學(xué)蝕刻中類(lèi)似的微觀結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明，進(jìn)行測(cè)試以確定對(duì)粗糙化表面的特征的限制。使用兩種不同的蝕刻條件進(jìn)行測(cè)試，即牛頓環(huán)測(cè)試中的測(cè)試方案A(即目標(biāo)Ra＝0.2微米)，測(cè)試方案B(即目標(biāo)Ra＝0.12微米，其中L表示比標(biāo)稱(chēng)的0.2初始目標(biāo)淺的蝕刻)。使用氫氟化銨和鹽酸制備了兩個(gè)370微米×400微米×0.63微米的樣品，這兩個(gè)樣品都使用美國(guó)專(zhuān)利第6,998,776號(hào)(該專(zhuān)利參考結(jié)合入本文中)所述的玻璃料密封技術(shù)密封在裸的玻璃中。使用熒光源和綠光源觀察這些樣品是否存在牛頓環(huán)。
發(fā)現(xiàn)測(cè)試A蝕刻條件可以消除牛頓環(huán)現(xiàn)象，而測(cè)試B條件似乎處于工藝邊緣(process edge)(即在B條件下，可以在極淺(shallow)的觀察角度觀察到牛頓環(huán))。還利用玻璃與玻璃接觸(glass-to-glass contact)的方法而不使用玻璃料密封件制備了樣品(即370×400×0.63)，這些OLED在Ra＝0.14微米處表現(xiàn)出微弱的牛頓環(huán)，但是在Ra＝0.12微米時(shí)觀察不到牛頓環(huán)。盡管極難在單元上觀察到極亮的牛頓環(huán)，但是牛頓環(huán)位于密封樣品邊緣。如果燒結(jié)的覆蓋玻璃密封在通電的OLED底板上(已知該底板有益于削弱牛頓環(huán))，則將觀察不到牛頓環(huán)。因此，在一個(gè)實(shí)施方式中，標(biāo)稱(chēng)目標(biāo)＝0.2微米將能夠有效地消除牛頓環(huán)。
在本申請(qǐng)中參考了許多公開(kāi)出版物。這些公開(kāi)出版物的內(nèi)容都全文參考結(jié)合入本申請(qǐng)中，以更詳細(xì)地描述本發(fā)明所述的化合物、組合物和方法。
應(yīng)當(dāng)理解盡管已經(jīng)結(jié)合本發(fā)明的某些例子和具體方面對(duì)其進(jìn)行了詳細(xì)描述，但是這些詳述不應(yīng)看作對(duì)本發(fā)明的限制，可以在不背離所附的權(quán)利要求書(shū)所限定的本發(fā)明寬泛范圍的前提下進(jìn)行大量的改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光器件，其包括覆蓋基板，該覆蓋基板能夠接收光；支承基板；發(fā)光元件，位于所述覆蓋基板和支承基板之間；第一散射層，位于所述覆蓋基板和發(fā)光元件之間，該散射層散射光并削弱牛頓環(huán)。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述發(fā)光器件是頂部發(fā)光的有機(jī)發(fā)光器件。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述第一散射層由粗糙化的表面形成。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述發(fā)光器件還包括與覆蓋基板的相反的表面相鄰的第二散射層。
5.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述光由發(fā)光元件產(chǎn)生。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述光是環(huán)境光。
7.如權(quán)利要求3所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板包括朝向有機(jī)發(fā)光器件的第一表面，以及位于與第一表面相反的位置的第二表面，所述覆蓋基板在第一表面和第二表面上粗糙化。
8.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板是玻璃。
9.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板是塑料。
10.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述散射層在160微米×120微米的區(qū)域上具有約0.02-0.5微米的糙度。
11.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述散射層的總透射率大于91％，漫透射率小于5％。
12.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述散射層的自相關(guān)寬度為20-300微米。
13.一種發(fā)光器件，其包括覆蓋基板，其具有頂面和粗糙化的底面；支承基板；有機(jī)發(fā)光二極管，位于所述覆蓋基板和支承基板之間，所述有機(jī)發(fā)光二極管相對(duì)于覆蓋基板的底面定位，其中所述粗糙化的底面在160微米×120微米的區(qū)域內(nèi)具有約0.02-0.5微米的糙度，所述覆蓋基板的總透射率大于91％，漫透射率小于5％，自相關(guān)寬度為20-300微米。
14.如權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述有機(jī)發(fā)光器件是透過(guò)覆蓋基板發(fā)光的頂部發(fā)光二極管。
15.如權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板是玻璃。
16.如權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板是塑料。
17.如權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其特征在于，所述覆蓋基板用減反射涂層處理。
18.一種移動(dòng)電話(huà)，其包括權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件。
19.一種電視機(jī)，其包括權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件。
20.一種操作發(fā)光器件的方法，該方法包括以下步驟由位于有機(jī)發(fā)光器件中的發(fā)光元件產(chǎn)生光；用散射層散射所述的光，所述散射層在160微米×120微米的區(qū)域內(nèi)的糙度約為0.02-0.5微米，所述覆蓋基板的總透射率大于91％，漫透射率小于5％，自相關(guān)寬度為20-300微米；響應(yīng)對(duì)光進(jìn)行散射，削弱牛頓環(huán)。
全文摘要
揭示了一種用來(lái)減少發(fā)光器件中牛頓環(huán)的出現(xiàn)的技術(shù)。發(fā)光器件(10)包括位于與覆蓋基板(20)的內(nèi)表面(40)相鄰接的位置的散射層(50)。通過(guò)使光散射而減少或消除了相長(zhǎng)干涉的機(jī)會(huì)，從而減少或消除了牛頓環(huán)的形成。
文檔編號(hào)H01L51/52GK101091269SQ200680001484
公開(kāi)日2007年12月19日 申請(qǐng)日期2006年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月15日
發(fā)明者H·D·博克, R·A·朗根斯芬 申請(qǐng)人:康寧股份有限公司